本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體元件及其制造方法,且特別是涉及一種具有肋條結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體元件及其制造方法。
背景技術(shù):
扇出晶片等級封裝(Fan-out Wafer level Package,FOWLP)為近年全球封裝大廠投入大量資源開發(fā)的主軸技術(shù)。然而,此封裝常面臨模封后晶片(molded wafer)管芯移位(die shift)和翹曲變形(warpage)的問題。較大的管芯位移會影響重布層(redistribution layer,RDL)在產(chǎn)量制作工藝中與管芯上的電極(die pad)的對位。此外,進(jìn)行封裝時(shí)的各種設(shè)備,如進(jìn)行光蝕刻圖案鈍化層或光致抗蝕劑制作工藝、濺射金屬沉積制作工藝等使用的設(shè)備,無法接受模封晶片翹曲得太嚴(yán)重。
因此,如何提升模封后晶片的整體抗彎曲強(qiáng)度,以降低不同熱膨脹系數(shù)(coefficient of thermal expansion,CTE)的材料,在制作工藝中收縮程度不同所引發(fā)的變形,改善扇出晶片等級封裝制作工藝中管芯移位和翹曲變形的問題,為本領(lǐng)域的重要課題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種半導(dǎo)體元件及其制造方法,通過在半導(dǎo)體元件中增加肋條結(jié)構(gòu)(rib structure),能有效降低不同熱膨脹系數(shù)的材料,在制作工藝中收縮程度不同所引發(fā)的變形,進(jìn)而改善扇出晶片等級封裝制作工藝中管芯移位和翹曲變形的問題。
根據(jù)本發(fā)明,提出一種半導(dǎo)體元件,包括至少一第一管芯、一肋條結(jié)構(gòu)以及一封膠層。肋條結(jié)構(gòu)圍繞此至少一第一管芯,且肋條結(jié)構(gòu)由一第一材料所形成。封膠層覆蓋此至少一第一管芯,且封膠層由一第二材料所形成。第一材料的楊氏模數(shù)大于第二材料的楊氏模數(shù)。
根據(jù)本發(fā)明,提出一種半導(dǎo)體堆疊結(jié)構(gòu),包括多個(gè)半導(dǎo)體元件,半導(dǎo)體 元件彼此上下堆疊,且每個(gè)半導(dǎo)體元件包括至少一第一管芯、一肋條結(jié)構(gòu)、一封膠層、一重布層以及多個(gè)錫球。肋條結(jié)構(gòu)圍繞此至少一第一管芯,且肋條結(jié)構(gòu)由一第一材料所形成。封膠層覆蓋此至少一第一管芯,且封膠層由一第二材料所形成。重布層電連接此至少一第一管芯。錫球電連接重布層。第一材料的楊氏模數(shù)大于第二材料的楊氏模數(shù),且此些半導(dǎo)體元件通過肋條結(jié)構(gòu)、重布層及錫球彼此電連接。
根據(jù)本發(fā)明,提出一種半導(dǎo)體元件的制造方法,包括以下步驟。形成一第一粘膠層于一載體上。形成一肋條結(jié)構(gòu)與至少一第一管芯于第一粘膠層上,肋條結(jié)構(gòu)圍繞此至少一第一管芯。填充一封膠層于此至少一第一管芯上,且封膠層填滿此至少一第一管芯與肋條結(jié)構(gòu)之間的空隙。硬化封膠層。移除第一粘膠層與載體。形成一重布層與多個(gè)錫球電連接于此至少一第一管芯。肋條結(jié)構(gòu)由一第一材料所形成,封膠層由一第二材料所形成,且第一材料的楊氏模數(shù)大于第二材料的楊氏模數(shù)。
為了對本發(fā)明的上述及其他方面有更佳的了解,下文特舉實(shí)施例,并配合所附的附圖,作詳細(xì)說明如下:
附圖說明
圖1A為本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件的剖面示意圖;
圖1B為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件的剖面示意圖;
圖1C為本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件的部分俯視圖;
圖2A為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件的剖面示意圖;
圖2B為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件的部分俯視圖;
圖3為本發(fā)明一實(shí)施例的肋條結(jié)構(gòu)的剖面示意圖;
圖4為本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體堆疊結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖5為本發(fā)明又一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件的部分俯視圖;
圖6A至圖6H為本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的一制造實(shí)施例的示意圖;
圖7A-1至圖7F為本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的另一制造實(shí)施例的示意圖;
圖8A至圖8H為本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的一制造實(shí)施例的示意圖;
圖9A-1至圖9H為本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的另一制造實(shí)施例的示意圖;
圖10為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件的剖面示意圖。
符號說明
100、100’、101、102、103、104:半導(dǎo)體元件
10、10’:介電層
11、11’:第一介電層
12、12’:第二介電層
21:第一管芯
22:第二管芯
23:第三管芯
30、31、31’:肋條結(jié)構(gòu)
301:肋條結(jié)構(gòu)的頂表面
30-1:第一肋條
30-2:第二肋條
311、402:貫孔
312:導(dǎo)電材料
40:封膠層
401:封膠層的頂表面
50:重布層
51:第一重布層
52:第二重布層
60:錫球
71:載體
73、73’:粘膠層
75:蓋層
105:第一孔洞
105’:第二孔洞
105”、106、107:孔洞
A-A’:剖面線
B-B’:剖面線
C1、C2、C3、C4、C5、C6:線段
X、Y、Z:坐標(biāo)軸
具體實(shí)施方式
以下是參照所附的附圖詳細(xì)敘述本發(fā)明的實(shí)施例。附圖中相同的標(biāo)號用以標(biāo)示相同或類似的部分。需注意的是,附圖已簡化以利清楚說明實(shí)施例的內(nèi)容,附圖上的尺寸比例并非按照實(shí)際產(chǎn)品等比例繪制,因此并非作為限縮本發(fā)明保護(hù)范圍之用。
圖1A繪示本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件100的剖面示意圖。如圖1A所示,半導(dǎo)體元件100包括一介電層(dielectric layer)10、一第一管芯(die)21、一肋條結(jié)構(gòu)(rib structure)30以及一封膠層(molding layer)40。第一管芯21設(shè)置于介電層10上,舉例來說,介電層10可為一粘膠層(adhesive tape),第一管芯21可直接粘貼于介電層10。肋條結(jié)構(gòu)30圍繞第一管芯21。封膠層40覆蓋第一管芯21。
在本發(fā)明實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)30由一第一材料所形成,而封膠層40由一第二材料所形成,第一材料的楊氏模數(shù)(Young’s modulus)大于第二材料的楊氏模數(shù)。在一實(shí)施例中,第一材料為硅(silicon)、金屬、金屬合金、或陶瓷材料,而第二材料為模封材料(molding material),例如為環(huán)氧樹脂成型膠(Epoxy molding compound)。
在材料力學(xué)中,彈性材料承受正向應(yīng)力時(shí)會產(chǎn)生正向應(yīng)變,在形變量沒有超過對應(yīng)材料的一定彈性限度時(shí),正向應(yīng)力與正向應(yīng)變的比值即定義為這種材料的楊氏模量。也就是說,肋條結(jié)構(gòu)30的剛性,大于封膠層40的剛性。因此,肋條結(jié)構(gòu)30可做為半導(dǎo)體元件100的補(bǔ)強(qiáng)結(jié)構(gòu),防止在制造過程中,由于各層結(jié)構(gòu)的熱膨脹系數(shù)不同,造成管芯偏移、錯(cuò)位,或整體翹曲的問題。
如圖1A所示,本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體元件100可進(jìn)一步包括一重布層(redistribution layer)50與多個(gè)錫球(solder ball)60。重布層50位于介電層10內(nèi),且電連接第一管芯21。錫球60電連接重布層50。在一實(shí)施例中,重布層50可直接接觸并電連接于肋條結(jié)構(gòu)30。
本實(shí)施例的半導(dǎo)體元件100為一面向下型(face down)結(jié)構(gòu),如圖1A所示,介電層10(以及重布層50與錫球60)設(shè)置于第一管芯21之下。然而,本發(fā)明并未限定于此。
圖1B繪示本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件100’的剖面示意圖。圖1B所繪示的半導(dǎo)體元件100’為一面向上型(face up)結(jié)構(gòu),介電層10’(以及重布層50與錫球60)設(shè)置于封膠層40上。其他類似于圖1A的半導(dǎo)體元件100之處,在此不多加贅述。
圖1C繪示本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件100的部分俯視圖。圖1A的俯視圖可例如為沿著圖1C中的A-A’剖面線所繪示的剖視圖。如圖1C所示,肋條結(jié)構(gòu)30可由多個(gè)第一肋條30-1與第二肋條30-2交叉所形成,這些第一肋條30-1的延伸方向不同于與第二肋條30-2的延伸方向。舉例來說,多個(gè)第一肋條30-1可沿著平行X軸的方向排列,而多個(gè)第二肋條32可沿著平行Y軸的方向排列,也就是說,第一肋條30-1可垂直第二肋條30-2,因而形成類似網(wǎng)狀的肋條結(jié)構(gòu)30。
然而,本發(fā)明并未限定于此。在本發(fā)明其他實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)30也可由多個(gè)第三肋條所形成(未繪示),這些第三肋條呈同心圓排列,而第一管芯21可形成于兩個(gè)第三肋條之間。
在圖1A中,半導(dǎo)體元件100的肋條結(jié)構(gòu)30僅圍繞單一個(gè)第一管芯21,因此其俯視圖可如圖1C所示,也就是說,第一肋條30-1與第二肋條30-2所圍成的單一網(wǎng)格內(nèi)僅包括單一個(gè)第一管芯21,而每個(gè)第一管芯21都被肋條結(jié)構(gòu)30(第一肋條30-1或第二肋條30-2)所分開。然而,本發(fā)明并未限定于此。
圖2A繪示本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件101的剖面示意圖。圖2B繪示本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件101的部分俯視圖。圖2A的俯視圖可例如沿著圖2B中的B-B’剖面線所繪示的剖視圖。在圖2A所繪示的實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)30圍繞多個(gè)第一管芯21,因此其俯視圖可如圖2B所示,第一肋條30-1與第二肋條30-2所圍成的單一網(wǎng)格內(nèi)包括多個(gè)(在此例如為四個(gè))第一管芯21。
在多芯片模塊(multi-chip module,MCM)中,由于芯片體積較小,更容易產(chǎn)生管芯偏移、錯(cuò)位,或整體翹曲等問題,而通過本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu),即可有效解決。
類似地,圖2A所繪示的半導(dǎo)體元件101為一面向下型結(jié)構(gòu),介電層10、重布層50與錫球60設(shè)置于第一管芯21之下。然而,半導(dǎo)體元件101也可設(shè)計(jì)為一面向上型結(jié)構(gòu),在此不多加贅述。
此外,雖然在圖1A、圖2A中繪示封膠層40的頂表面401與肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301對齊(共平面),但本發(fā)明并未限定于此。在某些實(shí)施例中,封膠層40的頂表面401也可低于或高于肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301,端看設(shè)計(jì)需求而定。
在前述實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)30可例如為單一材料的結(jié)構(gòu)。但本發(fā)明并未限定于此。圖3繪示本發(fā)明一實(shí)施例的肋條結(jié)構(gòu)31的剖面示意圖。在本實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)31包括一貫孔311及一導(dǎo)電材料312,導(dǎo)電材料312可填滿貫孔311。在一實(shí)施例中,導(dǎo)電材料可為金屬、金屬合金或氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO),例如銅、銅合金。
一般來說,肋條結(jié)構(gòu)31為非導(dǎo)體,可通過貫孔311及導(dǎo)電材料312電連接肋條結(jié)構(gòu)31上下兩側(cè)的元件。舉例來說,貫孔311及導(dǎo)電材料312可電連接于重布層50,以形成堆疊的封裝型態(tài)(如后方圖4所示)。
相對地,當(dāng)肋條結(jié)構(gòu)30的單一材料為導(dǎo)體(例如金屬)或半導(dǎo)體,可直接電連接肋條結(jié)構(gòu)30上下兩側(cè)的元件。舉例來說,肋條結(jié)構(gòu)30可直接與重布層50電連接并形成通路,作為屏蔽。
圖4繪示本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體堆疊結(jié)構(gòu)200的示意圖。半導(dǎo)體堆疊結(jié)構(gòu)200可包括多個(gè)半導(dǎo)體元件100,在本實(shí)施例中例如為兩個(gè)半導(dǎo)體元件100彼此上下堆疊。如圖4所示,半導(dǎo)體元件100包括肋條結(jié)構(gòu)31與多個(gè)錫球60,可通過錫球60、重布層50及肋條結(jié)構(gòu)31的導(dǎo)電材料312,將兩個(gè)上下堆疊的半導(dǎo)體元件100導(dǎo)通,以電連接兩個(gè)半導(dǎo)體元件100。在其他實(shí)施例中,可以肋條結(jié)構(gòu)30取代肋條結(jié)構(gòu)31,由于肋條結(jié)構(gòu)30為單一材料的導(dǎo)體(或半導(dǎo)體),可直接電連接兩個(gè)半導(dǎo)體元件100,而不需要額外的貫孔311及導(dǎo)電材料312。
要注意的是,在半導(dǎo)體堆疊結(jié)構(gòu)200中,半導(dǎo)體元件100的堆疊數(shù)量、方式,以及第一管芯21的數(shù)量等參數(shù),并未限定于圖4所繪示的結(jié)構(gòu)。
圖5繪示本發(fā)明又一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件102的部分俯視圖。在本實(shí)施例中,半導(dǎo)體元件102包括第一管芯21、第二管芯22以及第三管芯23,第一管芯21、第二管芯22與第三管芯23彼此相鄰,且肋條結(jié)構(gòu)31’分隔第一管芯21、第二管芯22與第三管芯23。
在此,第一管芯21、第二管芯22與第三管芯23可例如為三種具有不同功能的管芯。舉例來說,第一管芯21可為射頻(radio frequency,RF)芯片、第二管芯22可為數(shù)字(digital)芯片、第三管芯23可為一種被動元件(passive element),例如天線等表面粘著元件(surface-mounted devices,SMD)。然而,本發(fā)明并未限定于此。第一管芯21、第二管芯22與第三管芯23的數(shù)量、功能與大小,都可視設(shè)計(jì)需求調(diào)整。
圖5所繪示的肋條結(jié)構(gòu)31’的形狀不同于前述各實(shí)施例,而第一管芯21、第二管芯22與第三管芯23通過肋條結(jié)構(gòu)31’彼此分隔。在此,肋條結(jié)構(gòu)31’可包括貫孔311及導(dǎo)電材料312。
在某些實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)31’可為金屬,且不具有貫孔311及導(dǎo)電材料312。當(dāng)肋條結(jié)構(gòu)31’為金屬(或半導(dǎo)體),可用以作為第一管芯21與第二管芯22、第一管芯21與第三管芯23、或第二管芯22與第三管芯23之間的屏蔽(shielding)。舉例來說,當(dāng)?shù)谝还苄?1、第二管芯22與第三管芯23為高頻芯片時(shí),須以金屬材料的肋條結(jié)構(gòu)31’作為屏蔽;當(dāng)?shù)谝还苄?1、第二管芯22與第三管芯23為低頻芯片時(shí),可以半導(dǎo)體材料的肋條結(jié)構(gòu)31’作為屏蔽。
圖6A至圖6H繪示本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的一制造實(shí)施例的示意圖。要注意的是,為了更清楚各元件之間的關(guān)系,以下說明可能省略了某些元件與制造流程。
如圖6A所示,首先,提供一載體71,并于載體71上形成一粘膠層(adhesive tape)73。接著,如圖6B所示,形成肋條結(jié)構(gòu)30與第一管芯21于粘膠層73上。在此,肋條結(jié)構(gòu)30圍繞第一管芯21,且第一管芯21以面向下(face down)的形式,形成于粘膠層73上。
如圖6C所示,填充一封膠層40于第一管芯21上。在此,肋條結(jié)構(gòu)30由一第一材料所形成,封膠層40由一第二材料所形成,且第一材料的楊氏模數(shù)大于第二材料的楊氏模數(shù)。
封膠層40填滿第一管芯21與肋條結(jié)構(gòu)30之間的空隙,且封膠層40的頂表面401與肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301對齊(共平面)。然而,本發(fā)明并未限定于此,封膠層40的頂表面401也可高于或低于肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301。接著,預(yù)硬化(pre-curing)封膠層40。
如圖6D所示,通過另一粘膠層73’,將一蓋層(cover layer)75形成于肋條結(jié)構(gòu)30與封膠層40上。接著,對封膠層40進(jìn)行二次硬化(post curing)。在二次硬化封膠層40后,如圖6E所示,移除蓋層75、載體71與粘膠層73、73’。
需注意的是,此處是通過蓋層75加強(qiáng)防止半導(dǎo)體元件發(fā)生管芯錯(cuò)位與翹曲的問題,也就是說,在某些實(shí)施例中,圖6D所繪示的步驟可以省略。
接著,如圖6F所示,形成一第一介電層11,使肋條結(jié)構(gòu)30與第一管芯 21位于第一介電層11上。在此,第一介電層11可通過曝光顯影蝕刻或激光等制作工藝形成第一孔洞105及第二孔洞105’,第一孔洞105可曝露出第一管芯21的電極,以作為后續(xù)形成的重布層50(見圖6G)與第一管芯21連接的通道。第二孔洞105’可曝露出肋條結(jié)構(gòu)30,以作為后續(xù)形成的重布層50與肋條結(jié)構(gòu)30連接的通道。
如圖6G所示,形成一重布層50于第一介電層11相對于第一管芯21的另一側(cè)上。在本實(shí)施例中,重布層50可通過第一孔洞105電連接第一管芯21,并通過第二孔洞105’電連接肋條結(jié)構(gòu)30。接著,形成一第二介電層12,使重布層50位于第一介電層11與第二介電層12之間。類似地,第二介電層12可包括孔洞106,孔洞106可曝露出部分重布層50。
如圖6H所示,形成多個(gè)錫球60于孔洞106中,錫球60電連接重布層50。最后,沿著線段C1切割圖6H所示的結(jié)構(gòu),即可形成如圖1A所繪示的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100。在某些實(shí)施例中,也可沿著線段C2切割圖6H所示的結(jié)構(gòu),如此得到的半導(dǎo)體元件,將不具有肋條結(jié)構(gòu)30。
圖7A-1至圖7F繪示本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的另一制造實(shí)施例的示意圖。類似地,為了更清楚各元件之間的關(guān)系,以下說明可能省略了某些元件與制造流程。
如圖7A-1所示,首先,形成一第一介電層11,第一介電層11包含第一孔洞105及第二孔洞105’,第一孔洞105對應(yīng)后續(xù)形成的第一管芯21(見圖7B)的電極位置,第二孔洞105’對應(yīng)后續(xù)形成的肋條結(jié)構(gòu)30(見圖7B)的位置。接著如圖7A-2所示,通過一粘膠層73于第一介電層11上形成一重布層50。重布層50可填滿第一孔洞105及第二孔洞105’。
如圖7B所示,形成肋條結(jié)構(gòu)30與第一管芯21于粘膠層73上。此時(shí)需施加適當(dāng)?shù)臏囟葔毫?,使第一管?1通過第一孔洞105與重布層50電連接,使肋條結(jié)構(gòu)30通過第二孔洞105’與重布層50電連接,且肋條結(jié)構(gòu)30圍繞第一管芯21。此處,第一管芯21與肋條結(jié)構(gòu)30并未電性導(dǎo)通。在本實(shí)施例中,第一管芯21以面向下(face down)的形式,形成于第一介電層11上。在本實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)30與第一管芯21位于第一介電層11上相對于重布層50的另一側(cè)。
如圖7C所示,填充一封膠層40于第一管芯21上。在本實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)30由一第一材料所形成,封膠層40由一第二材料所形成,且第一材 料的楊氏模數(shù)大于第二材料的楊氏模數(shù)。
封膠層40填滿第一管芯21與肋條結(jié)構(gòu)30之間的空隙,且封膠層40的頂表面401與肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301對齊(共平面)。然而,本發(fā)明并未限定于此,封膠層40的頂表面401也可高于或低于肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301。接著,預(yù)硬化封膠層40。
如圖7D所示,通過一粘膠層73’,將一蓋層75形成于肋條結(jié)構(gòu)30與封膠層40上。需注意的是,此處通過蓋層75加強(qiáng)防止半導(dǎo)體元件發(fā)生管芯錯(cuò)位與翹曲的問題,也就是說,在某些實(shí)施例中,圖7D所繪示的步驟可以省略。接著,對封膠層40進(jìn)行二次硬化。
在二次硬化封膠層40后,如圖7E所示,移除蓋層75與粘膠層73’,并形成一第二介電層12,使重布層50位于第一介電層11與第二介電層12之間。第二介電層12可包括孔洞106,孔洞106可曝露出部分重布層50。接著,形成多個(gè)錫球60于孔洞106中,錫球60可通過孔洞106電連接重布層50。
最后,如圖7F所示,沿著線段C1切割圖7F所示的結(jié)構(gòu),即可形成如圖1A所繪示的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100。在某些實(shí)施例中,也可沿著線段C2切割圖7F所示的結(jié)構(gòu),如此得到的半導(dǎo)體元件,將不具有肋條結(jié)構(gòu)30。
雖然圖6A至圖7F的實(shí)施例以制造圖1A、圖1C的半導(dǎo)體元件100進(jìn)行說明,然而,本發(fā)明并未限定于此。相對地,本發(fā)明實(shí)施例的其他的半導(dǎo)體元件(例如半導(dǎo)體元件101、102)也可以類似的制作工藝步驟制造,在此不多加贅述。
此外,圖6A至圖7F的實(shí)施例是用以制造面向下型結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體元件100,但本發(fā)明并未限定于此。以下是描述制造面向上型結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體元件(如圖1B的半導(dǎo)體元件100’)的方法。
圖8A至圖8H繪示本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的一制造實(shí)施例的示意圖。要注意的是,為了更清楚各元件之間的關(guān)系,以下說明可能省略了某些元件與制造流程。
圖8A~圖8E的步驟類似于圖6A~圖6E,不同之處在于第一管芯21以面向上(face up)的形式,形成于于粘膠層73上,其余相同之處,在此不多加贅述。
類似地,在某些實(shí)施例中,圖8D所繪示的步驟可以省略,也就是說, 可不形成粘膠層73’與蓋層75于肋條結(jié)構(gòu)30與封膠層40上。
如圖8F所示,形成多個(gè)孔洞107于封膠層40,使孔洞107可曝露出第一管芯21的電極。
如圖8G所示,形成一重布層50于封膠層40上。在本實(shí)施例中,重布層50可通過孔洞107電連接第一管芯21。接著,形成一介電層10’于重布層50上。在此,介電層10’可包括孔洞108,孔洞108可曝露出部分重布層50。
如圖8H所示,形成多個(gè)錫球60于孔洞108中,錫球60電連接重布層50。最后,沿著線段C3切割圖8H所示的結(jié)構(gòu),即可形成如圖1B所繪示的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100’。在某些實(shí)施例中,也可沿著線段C4切割圖8H所示的結(jié)構(gòu),如此得到的半導(dǎo)體元件,將不具有肋條結(jié)構(gòu)30。
圖9A-1至圖9H繪示本發(fā)明的半導(dǎo)體元件的另一制造實(shí)施例的示意圖。類似地,為了更清楚各元件之間的關(guān)系,以下說明可能省略了某些元件與制造流程。
如圖9A-1所示,首先,形成一第一介電層11’,第一介電層11包含孔洞105”,孔洞105”對應(yīng)后續(xù)形成的肋條結(jié)構(gòu)30(見圖9B)的位置。接著如圖9A-2所示,通過一粘膠層73于第一介電層11’上形成一第一重布層51。第一重布層51可填滿孔洞105”。
如圖9B所示,形成肋條結(jié)構(gòu)30與第一管芯21于粘膠層73上。肋條結(jié)構(gòu)30圍繞第一管芯21,且需施加適當(dāng)?shù)臏囟葔毫κ估邨l結(jié)構(gòu)30通過孔洞105”與第一重布層51電連接。第一管芯21與肋條結(jié)構(gòu)30并未電性導(dǎo)通,且第一管芯21以面向上(face up)的形式,形成于粘膠層73與第一介電層11’上。在本實(shí)施例中,肋條結(jié)構(gòu)30與第一管芯21位于第一介電層11’上相對于第一重布層51的另一側(cè)。
如圖9C所示,填充一封膠層40于第一管芯21上。類似地,肋條結(jié)構(gòu)30由一第一材料所形成,封膠層40由一第二材料所形成,且第一材料的楊氏模數(shù)大于第二材料的楊氏模數(shù)。
封膠層40填滿第一管芯21與肋條結(jié)構(gòu)30之間的空隙,且封膠層40的頂表面401與肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301對齊(共平面)。然而,本發(fā)明并未限定于此,封膠層40的頂表面401也可高于或低于肋條結(jié)構(gòu)30的頂表面301。接著,預(yù)硬化封膠層40。
如圖9D所示,通過一粘膠層73’,將一蓋層75形成于肋條結(jié)構(gòu)30與封膠層40上。需注意的是,此處通過蓋層75加強(qiáng)防止半導(dǎo)體元件發(fā)生管芯錯(cuò)位與翹曲的問題,也就是說,在某些實(shí)施例中,圖9D所繪示的步驟可以省略。接著,對封膠層40進(jìn)行二次硬化。
在二次硬化封膠層40后,如圖9E所示,移除蓋層75與粘膠層73’,并形成多個(gè)孔洞107于封膠層40,使孔洞107可曝露出第一管芯21的電極。
如圖9F所示,形成一第二重布層52于封膠層40上。在本實(shí)施例中,第二重布層52可通過孔洞107電連接第一管芯21。接著,形成一介電層10”于第二重布層52上。要注意的是,雖然此處繪示第二重布層52直接接觸肋條結(jié)構(gòu)30封膠層40,但本發(fā)明并未限定于此。在某些實(shí)施例中,介電層10”也可位于第二重布層52與封膠層40之間,且通過在介電層10”上形成孔洞,使第二重布層52電連接至第一管芯21與肋條結(jié)構(gòu)30。
如圖9G所示,形成一第二介電層12’,使第一重布層51位于第一介電層11’與第二介電層12’之間。第二介電層12’可包括孔洞106,孔洞106可曝露出部分第一重布層51。接著,形成多個(gè)錫球60于孔洞106中,錫球60可通過孔洞106電連接第一重布層51,并通過肋條結(jié)構(gòu)30與第二重布層52電連接第一管芯21。
最后,如圖9H所示,沿著線段C5切割圖9H所示的結(jié)構(gòu),即可形成本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件103。在某些實(shí)施例中,也可沿著線段C6切割圖9H所示的結(jié)構(gòu),如此得到的半導(dǎo)體元件,將不具有肋條結(jié)構(gòu)30。
要注意的是,雖然上述實(shí)施例的半導(dǎo)體元件103的錫球60通過孔洞106電連接第一重布層51,并通過肋條結(jié)構(gòu)30與第二重布層52電連接第一管芯21,但本發(fā)明并未限定于此。
圖10繪示本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體元件104的剖面示意圖。類似于半導(dǎo)體元件103,半導(dǎo)體元件104為另一種面向上型結(jié)構(gòu)。在本實(shí)施例中,可于半導(dǎo)體元件104的封膠層40與第一介電層11’中形成貫孔402,并于貫孔402中填入導(dǎo)電材料,使封膠層40上下兩側(cè)的第二重布層52與第一重布層51電連接。也就是說,半導(dǎo)體元件104的錫球60電連接第一重布層51,并通過貫孔402內(nèi)的導(dǎo)電材料與第二重布層52電連接第一管芯21,而不需要通過肋條結(jié)構(gòu)30。
下表一記錄不同制作工藝所制造的半導(dǎo)體元件,其管芯位移的結(jié)果。制 作工藝一完全不加入肋條結(jié)構(gòu)與蓋層,制作工藝二加入肋條結(jié)構(gòu),制作工藝三加入肋條結(jié)構(gòu)與厚度0.2mm的蓋層,制作工藝四加入肋條結(jié)構(gòu)與厚度0.5mm的蓋層,制作工藝五加入肋條結(jié)構(gòu)與厚度0.775mm的蓋層。由晶片中心,依序徑向朝外量測四個(gè)管芯的位移量,并將結(jié)果紀(jì)錄于表一中。
表一
由表一的結(jié)果可知,無論是經(jīng)由何種制作工藝,距離晶片中心越遠(yuǎn)的管芯,其位移量越大。比較每個(gè)制作工藝中距離晶片中心最遠(yuǎn)的管芯(即管芯四)的位移量,可明顯看出制作工藝二、制作工藝三、制作工藝四、制作工藝五相較于制作工藝一都有明顯的下降。也就是說,在制作工藝中加入肋條結(jié)構(gòu)與蓋層,對于改善管芯偏移有明顯的幫助。此外,由制作工藝三、制作工藝四、制作工藝五的結(jié)果可知,加入的蓋層越厚,其改善管芯偏移的效果越顯著。
承上述實(shí)施例與實(shí)驗(yàn)可知,本發(fā)明制造半導(dǎo)體元件的方法,可通過在制作工藝中加入肋條結(jié)構(gòu)或蓋層,有效降低不同熱膨脹系數(shù)的材料,在制作工藝中收縮程度不同所引發(fā)的變形,進(jìn)而改善扇出晶片等級封裝制作工藝中管芯移位和翹曲變形的問題。
雖然結(jié)合以上實(shí)施例公開了本發(fā)明,然而其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),可作各種的更動與潤飾。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以附上的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。