技術(shù)特征：

1.一種應(yīng)用于半導(dǎo)體等離子體處理裝置的陶瓷環(huán)，其特征在于，所述陶瓷環(huán)位于載物臺(tái)上，陶瓷環(huán)上設(shè)有承載待處理晶圓的凹槽，所述凹槽的高度邊相對(duì)于水平面不垂直。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于半導(dǎo)體等離子體處理裝置的陶瓷環(huán)，其特征在于，所述凹槽的高度邊相對(duì)于水平面的角度大于90°，小于180°。