本發(fā)明涉及一種輸送機(jī)構(gòu)，尤其是一種實(shí)現(xiàn)晶圓在反應(yīng)腔室內(nèi)的自動(dòng)取放的輸送機(jī)構(gòu)，屬于半導(dǎo)體薄膜沉積應(yīng)用及制備技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

為了滿(mǎn)足國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體、太陽(yáng)能、LED、光波導(dǎo)等行業(yè)的生產(chǎn)及科研需求，各設(shè)備制造商相繼研發(fā)設(shè)計(jì)了有單個(gè)或多個(gè)反應(yīng)腔室的沉積膜設(shè)備。在現(xiàn)有單腔結(jié)構(gòu)形式的半導(dǎo)體沉積膜設(shè)備中，在沒(méi)有晶圓輸送機(jī)構(gòu)的情況下，需要手動(dòng)進(jìn)行晶圓輸送過(guò)程，將晶圓向腔室內(nèi)放置及從腔室內(nèi)取出。如此，在晶圓薄膜沉積應(yīng)用中，需要消耗很多時(shí)間來(lái)進(jìn)行晶圓的輸送。而且，如果是高溫的晶圓沉積應(yīng)用，沉積結(jié)束后，反應(yīng)腔室內(nèi)部溫度很高，晶圓表面溫度也很高，需要晶圓在腔室內(nèi)部冷卻一定時(shí)間后才能進(jìn)行晶圓取出工作?？傊?，整個(gè)應(yīng)用過(guò)程中，人員的工作量很大，操作復(fù)雜，需要很長(zhǎng)時(shí)間，高溫對(duì)操作人員也有危險(xiǎn)因素。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種晶圓輸送機(jī)構(gòu)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種晶圓輸送 機(jī)構(gòu)，包括無(wú)塵氣缸，直線滑軌，傳片槳和晶圓存放托盤(pán)。傳片槳的一端與無(wú)塵氣缸連接，晶圓存放托盤(pán)放置在傳片槳的的另一端。傳片槳在直線滑軌上滑動(dòng)。

本發(fā)明的有益效果及特點(diǎn)：通過(guò)采用此晶圓輸送機(jī)構(gòu)，在整個(gè)沉積應(yīng)用過(guò)程中，可以很好的實(shí)現(xiàn)晶圓在反應(yīng)腔室內(nèi)的自動(dòng)取放，減輕操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度，操作便捷，節(jié)約時(shí)間，大大降低高溫對(duì)操作人員的危險(xiǎn)因素。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清晰、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

如圖1所示：一種晶圓輸送機(jī)構(gòu)，包括無(wú)塵氣缸1，直線滑軌2，傳片槳3和晶圓存放托盤(pán)4。傳片槳3的一端與無(wú)塵氣缸1連接，晶圓存放托盤(pán)4放置在傳片槳3的的另一端。傳片槳3在直線滑軌2上滑動(dòng)。

在真空無(wú)塵氣缸1上安裝傳送槳3，傳送槳3前端放置晶圓存放托盤(pán)4，通過(guò)控制氣缸活塞的水平移動(dòng)帶動(dòng)傳送槳3及晶圓存放托盤(pán)4一起移動(dòng)實(shí)現(xiàn)晶圓自動(dòng)輸送。

上述機(jī)構(gòu)的使用方法，將晶圓存放托盤(pán)放置在傳送槳前端半圓弧凹槽內(nèi)，通過(guò)控制氣缸活塞的水平移動(dòng)帶動(dòng)傳送槳及晶圓存放托盤(pán)一起移動(dòng)。向腔室內(nèi)放置晶圓時(shí)，將晶圓放置在晶圓存放托盤(pán)上，根據(jù)沉積要求，調(diào)整晶圓方向標(biāo)識(shí)于指定方位。啟動(dòng)無(wú)塵氣缸，隨著活塞移動(dòng)，傳送槳將承載著晶圓的托盤(pán)送至反應(yīng)腔沉積位置，反應(yīng)腔沉積承載裝置升起，將晶圓存放托盤(pán)頂起。托盤(pán)脫離傳送槳后，反應(yīng)腔沉積承載裝置停止運(yùn)動(dòng)，控制無(wú)塵氣缸，活塞帶動(dòng)無(wú)托盤(pán)的傳送槳從反應(yīng)腔室退出，回到原始位置。