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一種穩(wěn)壓二極管及其制作方法與流程

文檔序號:11836796閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種穩(wěn)壓二極管,包括:第一導(dǎo)電類型的襯底,形成于所述襯底表層的第二導(dǎo)電類型的第一摻雜區(qū),在所述襯底上依次形成的第一氧化層、第二氧化層,以及形成于所述第一摻雜區(qū)中有源區(qū)的第一導(dǎo)電類型的第二摻雜區(qū)和第二導(dǎo)電類型的第三摻雜區(qū),其特征在于:

所述第一摻雜區(qū)和所述第二摻雜區(qū)構(gòu)成PN結(jié);

所述第二摻雜區(qū)和所述第三摻雜區(qū)之間的距離小于所述PN結(jié)發(fā)生雪崩擊穿時的耗盡層寬度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的穩(wěn)壓二極管,其特征在于,所述第一導(dǎo)電類型和所述第二導(dǎo)電類型為N型或P型,且所述第一導(dǎo)電類型與所述第二導(dǎo)電類型相反。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的穩(wěn)壓二極管,其特征在于,所述第一氧化層位于所述第一摻雜區(qū)的場區(qū)表面,所述第一氧化層的厚度為2000埃至20000埃。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的穩(wěn)壓二極管,其特征在于,所述第二氧化層位于所述第一摻雜區(qū)的有源區(qū)表面,所述第二氧化層的厚度為50埃至1000埃。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的穩(wěn)壓二極管,其特征在于,所述第一摻雜區(qū)為輕摻雜區(qū),摻雜濃度為1E12至5E13原子/平方厘米。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的穩(wěn)壓二極管,其特征在于,所述第二摻雜區(qū)為重?fù)诫s區(qū),摻雜濃度為5E14至1E16原子/平方厘米。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的穩(wěn)壓二極管,其特征在于,所述第三摻雜區(qū)為重?fù)诫s區(qū),摻雜濃度為5E14至1E16原子/平方厘米。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的穩(wěn)壓二極管,其特征在于,所述N型的摻雜元素為磷、砷或者銻;所述P型的摻雜元素為硼。

9.一種穩(wěn)壓二極管的制作方法,包括:

在第一導(dǎo)電類型的襯底的表層之中形成第二導(dǎo)電類型的第一摻雜 區(qū);

在所述第一摻雜區(qū)的預(yù)設(shè)場區(qū)表面形成第一氧化層;

在所述第一摻雜區(qū)的預(yù)設(shè)有源區(qū)表面形成第二氧化層;

在所述第一摻雜區(qū)的預(yù)設(shè)有源區(qū)形成第一導(dǎo)電類型的第二摻雜區(qū)和第二導(dǎo)電類型的第三摻雜區(qū),其特征在于:

所述第一摻雜區(qū)和所述第二摻雜區(qū)構(gòu)成PN結(jié);

所述第二摻雜區(qū)和所述第三摻雜區(qū)之間的距離小于所述PN結(jié)發(fā)生雪崩擊穿時的耗盡層寬度。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述第一導(dǎo)電類型和所述第二導(dǎo)電類型為N型或P型,且所述第一導(dǎo)電類型與所述第二導(dǎo)電類型相反。

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