技術總結
本發(fā)明涉及一種硅基液晶微顯示驅動芯片制備工藝，其包括：硅襯底及集成電路器件制備；PECVD(等離子增強化學氣相淀積)方法生長介質；CMP(化學機械拋光)；鋁布線步驟；刻通孔；濺射Ti/TiN和鎢，反刻鎢，形成鎢塞；制備鏡面反射電極；制備薄盒，灌裝液晶；優(yōu)選地，所述鏡面反射電極采用氧化鋅來制作。本發(fā)明的方法用氧化鋅代替鋁制備鏡面反射電極，提高了鏡面反射電極反射率和抗氧化性。

技術研發(fā)人員：杜寰
受保護的技術使用者：杜寰
文檔號碼：201510161390
技術研發(fā)日：2015.04.08
技術公布日：2016.11.23