本發(fā)明涉及一種用于大寬度的基板（substrat）的激光退火的裝置，其由在沒(méi)有特別限制的情況下可并置的多個(gè)激光模塊形成。

背景技術(shù)：
已知的是實(shí)現(xiàn)被沉積在平坦基板上的涂層的局部且快速的激光退火（激光閃速加熱）。為此，使具有待退火的涂層的基板在激光線下方進(jìn)給（défiler），又或使激光線在承載了涂層的基板上方進(jìn)給。激光退火使得能夠?qū)⒈〉耐繉蛹訜岬礁邷?，大約是幾百度，而同時(shí)保護(hù)在下面的基板。很好理解的是進(jìn)給的速度優(yōu)選為盡可能地高，有利地至少為每分鐘幾米。本發(fā)明尤其感興趣的是使用激光二極管的激光器。這實(shí)際上構(gòu)成從其價(jià)格及其功率的觀點(diǎn)來(lái)看最引人注目的激光源。為了獲得對(duì)于實(shí)施具有高進(jìn)給速度的過(guò)程而言所必要的單位長(zhǎng)度（linéique）的功率，合期望的是將來(lái)自非常大量的激光二極管的輻射聚焦于唯一的激光線處。在承載了待退火的涂層的基板處，該激光線的功率密度通常應(yīng)當(dāng)盡可能地均勻，以使得將基板的所有點(diǎn)暴露于相同的退火能量。此外將合期望的是能夠以高速度來(lái)處理具有大寬度的基板，諸如出自浮法過(guò)程的“巨大（jumbo）”尺寸（6m×3.21m）的平坦玻璃片材。對(duì)于獲得非常長(zhǎng)的激光線而言的問(wèn)題是實(shí)現(xiàn)一種激光模塊并置的系統(tǒng)，其使得能夠隨意地延長(zhǎng)線的長(zhǎng)度，而不必制造與線本身一樣長(zhǎng)的單片光學(xué)器件。已經(jīng)設(shè)想了模塊化激光裝置。因此，專利US6717105描述了一種概念非常簡(jiǎn)單的模塊化激光裝置。在該激光裝置中，每個(gè)模塊（激光振蕩器1a、1b、1c）生成激光束，所述激光束在成形之后被鏡面（4a、4b、4c）反射并且以激光線的形式、按直角而投射在基板（5）上。激光束成形構(gòu)件（3a、3b、3c）被設(shè)計(jì)使得在與基板的相交處形成激光線，所述激光線呈現(xiàn)具有“頂帽”（英語(yǔ)為“top-hat”）形狀的功率密度剖面圖（profil），其具有非常寬廣的中央部分，在所述中央部分中功率密度強(qiáng)并且恒定，以及，在該平臺(tái)的兩側(cè)，以陡峭斜率下降的旁側(cè)（flanc）（參見(jiàn)US6717105的圖5）。剖面圖通過(guò)疊合傾斜的旁側(cè)而被組合以便產(chǎn)生具有盡可能均勻的功率密度分布的經(jīng)組合的唯一線。然而，生成具有“頂帽”剖面圖的該類型激光線的激光模塊對(duì)于模塊相對(duì)于彼此的可能的定位誤差非常敏感。事實(shí)上，在疊合的側(cè)邊區(qū)處的斜率的高陡峭度造成：模塊的太大間隔容易導(dǎo)致在接合處的功率密度的不足，而相反，太靠近的模塊將導(dǎo)致在該處功率密度過(guò)度高的接合區(qū)。申請(qǐng)人觀察到顯著降低模塊化激光裝置對(duì)激光模塊的相應(yīng)定位誤差的敏感性是有可能的，這通過(guò)向裝置的模塊配備基于微透鏡的用于激光線成形的光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)不產(chǎn)生在現(xiàn)有技術(shù)中通常尋求的“頂帽”類型的功率密度剖面圖，而是“尖帽（chapeaupointu）”類型的剖面圖，也就是說(shuō)接近于三角形的剖面圖，其具有從中心向端部下降的規(guī)則斜面。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于一種包括各自在工作平面處生成激光線的多個(gè)激光模塊的激光裝置，所述激光模塊被并置使得由模塊所生成的激光線組合成唯一的激光線，每一個(gè)激光模塊包括：-至少一個(gè)激光線生成構(gòu)件，優(yōu)選地是激光二極管的線性排列（alignement），以及-激光線成形構(gòu)件，所述裝置的特征在于，所述激光線成形構(gòu)件包括微透鏡的第一線性排列、會(huì)聚透鏡、以及置于會(huì)聚透鏡的聚焦平面中的微透鏡的第二線性排列，使得最終激光線在工作平面處呈現(xiàn)一種功率密度剖面圖，所述功率密度剖面圖具有在最大功率密度的90%處的寬度（L90）和在最大功率密度的10%處的寬度（L10），比率L90/L10被包括在1/15和1/5之間，優(yōu)選地在1/12和1/7之間，并且特別地在1/10和1/8之間。因此，與現(xiàn)有技術(shù)相反，在本發(fā)明中并不尋求制造這樣的激光模塊：所述激光模塊各自發(fā)射具有包括盡可能寬的有效功率平臺(tái)的功率密度剖面圖的激光線。相反，尋求將強(qiáng)功率的中央?yún)^(qū)的范圍（L90）縮減至小于模塊的激光線的總長(zhǎng)度的20%、優(yōu)選地小于其15%并且特別地小于其10%，并且還減小最大功率區(qū)兩側(cè)的斜率的值。事實(shí)上，由每個(gè)模塊所發(fā)射的功率的密度剖面圖的兩個(gè)旁側(cè)的斜率越小，模塊的定位誤差在通過(guò)模塊的線性排列所形成的組合功率密度剖面圖上將造成的影響越小。由每個(gè)模塊所生成的線的功率剖面圖的理想形狀因此是三角形，所述三角形呈現(xiàn)等于最大功率的高度（h）和等于激光線長(zhǎng)度的底（b）。理想地，功率密度剖面圖的旁側(cè)的斜率因此等于該三角形的斜率（2h/b）。然而，功率密度的實(shí)際剖面圖可以稍微偏離嚴(yán)格的三角形形狀。優(yōu)選地，由每個(gè)激光模塊所生成的最終激光線在工作平面處呈現(xiàn)這樣的功率密度剖面圖：所述剖面圖具有位于激光線的中心處的功率密度最大值以及功率密度從中心向線的端部的規(guī)律下降，下降的斜率從相同的L10和L90的完美三角形剖面圖的斜率偏離至多20%、優(yōu)選地至多10%。術(shù)語(yǔ)“下降斜率”在此指明在等于激光線的長(zhǎng)度的1/50的長(zhǎng)度上所觀察到的平均斜率。激光模塊被并置使得所組合的激光線的功率密度剖面圖，其產(chǎn)生于單獨(dú)功率密度剖面圖的全部的總計(jì)，是頂帽（top-hat）形狀的剖面圖，其具有的中央?yún)^(qū)表現(xiàn)了所述裝置的組合激光線的總長(zhǎng)度的至少90%，其中功率密度變化至多10%、優(yōu)選地至多5%、并且特別有利地至多1%。每個(gè)模塊的三角形剖面圖的有效功率區(qū)的小寬度（L90）在本發(fā)明的裝置中通過(guò)由兩個(gè)相鄰模塊所生成的單獨(dú)激光線的非常大的重疊所補(bǔ)償。事實(shí)上，為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)“尖帽”類型的三角形的單獨(dú)剖面圖而產(chǎn)生頂帽類型的組合剖面圖，必不可少的是最終剖面圖的幾乎全部的點(diǎn)產(chǎn)生...