具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型有關(guān)于一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，其包括：外蓋本體；以及保護(hù)層。外蓋本體并具有多個(gè)刻蝕孔，在干刻蝕工藝中，外蓋本體用以遮蓋多個(gè)干刻蝕目標(biāo)物，并自每一個(gè)刻蝕孔露出一個(gè)干刻蝕目標(biāo)物。借由本實(shí)用新型的實(shí)施，可以避免干刻蝕工藝中使用的刻蝕藥劑與外蓋本體的材質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)而降低了刻蝕效率。
【專利說明】具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，特別是涉及一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來由于LED的應(yīng)用與日俱增，LED的半導(dǎo)體工藝也有越來越受重視的趨勢。其中在半導(dǎo)體刻蝕工藝中，由于干刻蝕工藝可以省略多個(gè)濕刻蝕工藝必須進(jìn)行的步驟(例如烘干)，其使用量增加的幅度最為明顯。
[0003]然而，干刻蝕工藝中，卻也經(jīng)常遇到因?yàn)楣に囀褂玫目涛g藥劑，與干刻蝕使用的外蓋(蓋體)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，而搶奪資源(刻蝕藥劑)，降低了干刻蝕工藝的刻蝕效率的情形?，F(xiàn)有習(xí)知的干刻蝕技術(shù)，對于這種效率降低的不便，又應(yīng)經(jīng)常予以忽略而不加處理。
[0004]另一方面，現(xiàn)有習(xí)知的干刻蝕技術(shù)對于外蓋(蓋體)的改進(jìn)，又大多只專注于凹槽的分布及形狀改良，或增加外蓋的接觸來改善其散熱功能等方面著眼，對于外蓋形成保護(hù)層以提升干刻蝕效率方面，卻仍甚少著墨。
[0005]因此，若能對干刻蝕工藝中使用的外蓋結(jié)構(gòu)加以創(chuàng)新，采用重量輕、價(jià)錢便宜、容易制造，且能夠避免與干刻蝕工藝中使用的刻蝕藥劑產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，而不致降低刻蝕效率的設(shè)計(jì)，則必定可以大幅增加干刻蝕工藝的整體產(chǎn)出，對于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)與制造業(yè)者來說，都能提供甚大的節(jié)省成本與增加產(chǎn)能的貢獻(xiàn)。
[0006]有鑒于上述現(xiàn)有的干刻蝕工藝存在的問題，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)知識，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，能夠解決現(xiàn)有的干刻蝕工藝存在的問題，使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本實(shí)用新型。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有的干刻蝕工藝存在的不足而提供一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)。
[0008]本實(shí)用新型的目的是采用以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。本實(shí)用新型一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，其包括:外蓋本體，其具有多個(gè)刻蝕孔，該外蓋本體遮蓋在多個(gè)干刻蝕目標(biāo)物上方，并自每一個(gè)該刻蝕孔露出一個(gè)該干刻蝕目標(biāo)物；以及保護(hù)層，形成于該外蓋本體的表面及每一個(gè)該刻蝕孔的孔壁。
[0009]本實(shí)用新型的目的還可以采用以下的技術(shù)措施來進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0010]較佳的，前述的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，其中所述的該外蓋本體為金屬、合金或金屬化合物。
[0011]較佳的，前述的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，其中所述的該外蓋本體進(jìn)一步具有凸出部，自該外蓋本體對著承載該干刻蝕目標(biāo)物的拖盤的方向延伸。
[0012]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果:
[0013]一、容易制造且成本低廉；
[0014]二、增加的重量和體積極為微小，不影響干刻蝕工藝；
[0015]三、有效隔離外蓋本體與干刻蝕工藝使用的刻蝕藥劑；
[0016]四、提高干刻蝕工藝的刻蝕效率。
[0017]上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)的立體示意圖。
[0019]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。
[0020]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例的另一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。
[0021]【主要元件符號說明】
[0022]100:具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)
[0023]200:具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)
[0024]10:外蓋本體
[0025]10’:外蓋本體
[0026]11:刻蝕孔
[0027]12:凸出部
[0028]20:保護(hù)層
[0029]30:干刻蝕目標(biāo)物
[0030]40:托盤

【具體實(shí)施方式】
[0031]為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)其【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
[0032]如圖1所示，本實(shí)施例為一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)100，其是使用作為干刻蝕工藝中干刻蝕目標(biāo)物30的蓋體，具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)100包括有:外蓋本體10 ;以及保護(hù)層20。
[0033]如圖1及圖2所示，外蓋本體10，其可以為質(zhì)輕堅(jiān)固的材質(zhì)所形成，外蓋本體10并具有多個(gè)刻蝕孔11，在干刻蝕工藝中外蓋本體10是用以遮蓋設(shè)置于托盤40上的至少一個(gè)干刻蝕目標(biāo)物30，并自刻蝕孔11露出干刻蝕目標(biāo)物30，每個(gè)刻蝕孔11露出一個(gè)干刻蝕目標(biāo)物30。而所述的外蓋本體10的材質(zhì)，可以是金屬、合金或金屬化合物材質(zhì)所制成。
[0034]同樣如圖1及圖2所示，保護(hù)層20，形成于外蓋本體10的表面及每一個(gè)刻蝕孔11的孔壁。在進(jìn)行干刻蝕工藝時(shí)，保護(hù)層20可以將干刻蝕工藝中使用的刻蝕藥劑與外蓋本體10的表面隔離，使它們之間不產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，避免因外蓋本體10與干刻蝕目標(biāo)物30搶奪刻蝕藥劑而降低了干刻蝕工藝的效率。
[0035]形成保護(hù)層20的方式可選用金屬材質(zhì)或非金屬材質(zhì)，且可以使用物理性反應(yīng)、化學(xué)性反應(yīng)或以表面批覆技術(shù)來形成，舉例來說，前述的表面批覆技術(shù)，可以為濺鍍或噴涂。
[0036]另一方面，除上述的材質(zhì)外，形成保護(hù)層20的材質(zhì)亦可以選擇其他種類的與干刻蝕工藝所使用的刻蝕藥劑不易產(chǎn)生或不會產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)的材質(zhì)來形成。
[0037]接著，請參閱圖3所示，本實(shí)施例為另一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)200，其亦是使用作為干刻蝕工藝中干刻蝕目標(biāo)物30的蓋體，具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)200包括有:外蓋本體10’ ；以及保護(hù)層20。
[0038]如圖2及圖3所示，具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)200的外蓋本體10’實(shí)施例，與具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)100的外蓋本體10實(shí)施例，兩者技術(shù)特征的差別，僅在于外蓋本體10’在未遮蓋干刻蝕目標(biāo)物30的部分，是具有對著承載干刻蝕目標(biāo)物30的托盤40方向延伸的凸出部12，而外蓋本體10則不具有凸出部12。
[0039]而如圖3所示，具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)200的保護(hù)層20，是形成于外蓋本體10’的表面及每一個(gè)刻蝕孔11的孔壁。在進(jìn)行干刻蝕工藝時(shí)，保護(hù)層20可以將干刻蝕工藝中使用的刻蝕藥劑與外蓋本體10’的表面及刻蝕孔11的孔壁相隔離，使它們之間不產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，避免因外蓋本體10’與干刻蝕目標(biāo)物30搶奪刻蝕藥劑而降低了干刻蝕工藝的效率。
[0040]再者，形成如圖3所示的保護(hù)層20的材質(zhì)，可選用金屬材質(zhì)或非金屬材質(zhì)或其他與干刻蝕工藝所使用的刻蝕藥劑不易產(chǎn)生或不會產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)的材質(zhì)，且可以為物理性反應(yīng)、化學(xué)性反應(yīng)或以表面批覆技術(shù)來形成。
[0041]總而言之，不管是具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)100或是具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)200，其外蓋本體10或外蓋本體10’的表面及每一個(gè)刻蝕孔11的孔壁，所形成的保護(hù)層20可以將外蓋本體10或外蓋本體10’隔離,有效避免外蓋本體10或外蓋本體10’與干刻蝕工藝所使用的刻蝕藥劑產(chǎn)生反應(yīng)，而能確保干刻蝕工藝的效率。
[0042]以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對本實(shí)用新型作任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種具有保護(hù)層的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，其特征在于包括: 外蓋本體，其具有多個(gè)刻蝕孔，該外蓋本體遮蓋在多個(gè)干刻蝕目標(biāo)物上方，并自每一個(gè)該刻蝕孔露出一個(gè)該干刻蝕目標(biāo)物；以及 保護(hù)層，形成于該外蓋本體的表面及每一個(gè)該刻蝕孔的孔壁。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，其特征在于該外蓋本體為金屬、合金或金屬化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干刻蝕外蓋結(jié)構(gòu)，其特征在于該外蓋本體進(jìn)一步具有凸出部，自該外蓋本體對著承載該干刻蝕目標(biāo)物的拖盤的方向延伸。
【文檔編號】H01L33/00GK203941940SQ201420375228
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年7月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月8日
【發(fā)明者】林士青, 黃繡智, 陳宜杰, 羅世欣 申請人:聚昌科技股份有限公司