用于處理微電子工件的設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種用于處理微電子工件的設(shè)備，包括：a)噴射機構(gòu)，其將噴射物分配在微電子工件上；以及b)定位在微電子元件上方的遮擋板，所述遮擋板包括至少一個孔口，噴射物通過該孔口被朝著微電子工件分配，其中所述噴射機構(gòu)和遮擋板為單獨的部件。
【專利說明】用于處理微電子工件的設(shè)備
[0001]本申請是國際申請日為2007年6月20日、國際申請?zhí)枮镻CT/US2007/014325、國家申請?zhí)枮?00780025698.0、發(fā)明名稱為“用于處理微電子工件的設(shè)備和方法以及遮擋結(jié)構(gòu)”的發(fā)明專利申請的分案申請。
[0002]優(yōu)先權(quán)聲明
[0003]本非臨時專利申請根據(jù)35USC§ 119(e)要求了 2006年7月7日提交60/819，133的題目為 “BARRIER STRUCTURE AND NOZZLE DEVICE FOR USE IN TOOLS USED TO PROCESSMICROELECTRONIC WORKPIECES WITH ONE OR MORE TREATMENT FLUIDS” 的美國臨時專利申請的優(yōu)先權(quán)，其中所述臨時專利申請的全部內(nèi)容在這里被引用作為參考。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0004]本發(fā)明涉及用于利用一種或多種處理流體包括液體和氣體處理微電子工件的工具的擋板和分配組件。更具體地說，本發(fā)明涉及這樣一種工具，它包括其流體流、流體容納、熱適應(yīng)和/或干燥能力得到改善的擋板和分配組件。

【背景技術(shù)】
[0005]微電子工業(yè)依靠多種不同方法來制造微電子器件。許多方法涉及一系列處理，其中根據(jù)所期望的方式讓不同種類的處理流體接觸工件。這些流體可以為流體、氣體或其組合。在一些處理中，固體可以懸浮或溶解在液體中或夾雜在氣體中。由于多種原因例如適當(dāng)廢棄、循環(huán)利用、煙氣收集、處理監(jiān)測、處理控制或其它操作，最好收集并且回收這些處理流體。
[0006]一種收集技術(shù)涉及使用適當(dāng)設(shè)置的管道來收集處理流體。例如，在微電子工業(yè)中的典型制造工具涉及將在處理腔室中的一個或多個工件支撐在合適的支撐件例如固定臺、旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤或可旋轉(zhuǎn)卡盤上。一個或多個管道至少部分設(shè)置在支撐件的外周邊周圍。在將處理流體導(dǎo)入到處理腔室中時，可以使用排氣來幫助將處理流體吸入到一個或多個管道中。對于旋轉(zhuǎn)支撐件而言，離心力使得在旋轉(zhuǎn)工件和/或支撐表面上的流體從旋轉(zhuǎn)軸線徑向向外流并且進入管道。
[0007]—般來說，工具可以包括單個用來收集不同處理流體的管道。但是，像這樣使用單個管道并不在所有情況中都理想。例如，一些處理流體在存在其它處理材料中會太活潑。其它時候，最好使用不同收集條件來收集不同的流體。還有，例如在期望循環(huán)利用時，最好在專用管道中收集流體以避免被其它流體污染。
[0008]因此，已經(jīng)采用包含有多個相對于彼此固定的層疊管道的工具。工件支撐件和/或?qū)盈B管道自身上升和下降以便使得適當(dāng)?shù)墓艿肋M入到適當(dāng)位置。該普通方法存在嚴(yán)重缺陷。層疊管道使得高密度工具裝配更加困難。不同的管道還會交叉污染，因為它們總是向工件打開和/或排氣沒有受到單獨控制。一些普通管道系統(tǒng)還可能沒有使排出流的液體和氣體組分分離的能力。在其中管道結(jié)構(gòu)自身可以運動的一些工具中，通向外部管道的排泄和排氣連接部分也必須運動，由此給工具設(shè)計、制造、使用和維護增加了不必要的復(fù)雜性。
[0009]在受讓人的共同未決美國專利申請N0.US-2007/0022948 — Al (下面被稱為共同未決申請N0.1);以及在受讓人的共同未決美國專利申請序列號11/376996 (Collins等人于 2006 年 3 月 15 日提交，題目為 “BARRIER STRUCTURE AND NOZZLE DEVICE FOR USE INTOOLS USED TO PROCESS MICROELECTRONIC WORKPIECES WITH ONE OR MORE TREATMENTFLUIDS”，代理卷號N0.FS1I66US)(下面被稱為共同未決申請N0.2)中描述了結(jié)合有柔性管道系統(tǒng)的新型工具。這些共同未決美國專利申請的全部內(nèi)容在此被引用作為參考。共同未決美國專利申請的“處理部分11”包括嵌套管道部分，它們使得一個或多個管道通道能夠選擇地打開和關(guān)閉。例如，在這些結(jié)構(gòu)相對分離運動時，管道通道打開并且在這些結(jié)構(gòu)之間擴大。在這些結(jié)構(gòu)相向運動時，在這些管道之間的管道被堵塞并且尺寸減小。在優(yōu)選實施例中，根據(jù)如何設(shè)置這些可動管道結(jié)構(gòu)，在相同的空間體積中可以存在多個管道。因此，多個管道可以占據(jù)最小大于由單個管道所占據(jù)的體積的體積。這些管道用來收集各種處理流體，例如液體和/或氣體，以便循環(huán)使用、廢棄或進行其它處理?？梢栽诓煌膯为毠艿乐谢厥詹煌奶幚砹黧w以減小交叉污染和/或?qū)τ诓煌黧w采用獨特的收集方案。因為管道結(jié)構(gòu)的嵌套特征，所以該管道系統(tǒng)也非常緊湊。
[0010]這些共同未決美國專利申請還描述了一種新型的噴射噴嘴/遮擋結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)包括用于按照多種方式例如通過噴射、中央分配和噴頭來分配處理材料的能力。遮擋結(jié)構(gòu)疊置在下面工件上方。遮擋結(jié)構(gòu)的下表面如此成形，從而它在工件上形成錐形流動通道。該方法具有許多好處。錐形流動通道幫助促進從工件中央向外的徑向流同時減小的再循環(huán)區(qū)域。該錐體還用有助于平滑地會聚和增大靠近工件外緣的流動流體的速度。這有助于降低液體飛濺效應(yīng)。下表面的傾角還幫助在下表面上的液體朝著外周邊排出。該錐形結(jié)構(gòu)還有助于減少顆粒物再循環(huán)回到工件上。該結(jié)構(gòu)通過更好地容納流體從而有助于化學(xué)品回收利用效率。
[0011]盡管存在所有這些好處，但是仍然期望作出進一步的改進。首先，在處理工件的過程中，遮擋結(jié)構(gòu)的下表面會承載在處理期間所使用的液滴或液體膜。最好找到一種能夠迅速有效清潔和/或干燥遮擋結(jié)構(gòu)的下表面并且不會對周期時間造成不利影響的方法。
[0012]作為另一個問題，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)工件的中央?yún)^(qū)域在用只是大體上橫跨下面工件的半徑的噴射桿進行處理時容易受到程度更小的處理。使用橫跨半徑的噴射桿而不是使用全直徑的噴射桿對于制造方便而言或者在期望在工件的中央附近進行流體分配時是理想的。因此，最好改善半徑式噴射桿的處理均勻性。
[0013]還有以前公知的遮擋結(jié)構(gòu)將噴射桿機構(gòu)結(jié)合為整體構(gòu)件。該整體部件具有相對較大的熱質(zhì)。在受熱材料通過噴射桿機構(gòu)分配時，整體部件的較大熱質(zhì)的散熱器作用會使所分配的材料冷卻并且影響接觸工件的材料的溫度均勻性。這會對處理性能造成不利影響。因此，需要減小這種不期望的熱影響。
[0014]另外，存在涉及在處理腔室容納霧氣的問題。遮擋結(jié)構(gòu)的中央?yún)^(qū)域即使在處理期間也通常是打開的。中央?yún)^(qū)域允許空氣流動并且向煙囪一樣作用，通過它將管件等導(dǎo)向到分配部件。在處理尤其是噴射處理期間，一些分配材料容易通過煙?向上逸出。非常期望在仍然讓氣流通道打開的同時將這些材料容納在處理腔室中。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0015]本發(fā)明提供了一種用于使用一種或多種處理材料包括液體、氣體、流化固體、分散體、其組合物等處理微電子工件的工具。本發(fā)明提供了一種用于迅速有效沖洗和/或干燥潤濕表面的方法，并且在用于干燥可動遮擋結(jié)構(gòu)例如按照在工件上形成錐形流動通道這樣一種方式覆在所處理工件上的擋板的下表面時尤為有利。在代表性實施例中，遮擋結(jié)構(gòu)的下表面設(shè)有多個特征部分(包括在該表面中的凹槽或其它凹部或者從該表面伸出的凸緣、凸起或其它突出部)，它們有助于將液體收集和/或包含在下表面上。然后采用抽吸和/或燈芯抽吸技術(shù)來去除所收集或包含的液體，例如以便幫助干燥該表面。該技術(shù)尤其在與用來接觸所述表面的干燥氣體等結(jié)合使用時尤為快速有效?？梢园凑崭鞣N方式來吸取所抽吸的流體。例如，可以在遮擋結(jié)構(gòu)的下表面上、在外緣上或者在設(shè)置成與遮擋結(jié)構(gòu)流體連通的單獨部件上設(shè)置抽吸入口。
[0016]本發(fā)明還提供了用于減小在噴射機構(gòu)和擋板之間的熱作用的策略。盡管受讓人的共同未決申請Nos.1和2描述了其中噴射機構(gòu)和擋板為單個整體相對較大的熱質(zhì)部件，但是本發(fā)明的一些方面涉及將這些部件設(shè)置成單獨部件。相對較低的熱質(zhì)噴射機構(gòu)將更迅速并且更均勻地加熱。換句話說，減小了擋板用作噴射桿的散熱器的程度。將噴射機構(gòu)和遮擋結(jié)構(gòu)設(shè)置成單獨部件使得每個部件能夠由更多適用目的的材料單獨構(gòu)造出。認(rèn)識到不同材料可以具有不同的熱膨脹率，則本發(fā)明的優(yōu)選方面以有助于協(xié)調(diào)在這些部件之間在熱膨脹率方面的差異這樣一種方式將噴射機構(gòu)連接在擋板上。
[0017]本發(fā)明還提供了一種有助于將霧包含在處理腔室中的簡單容易實施的方法，從而噴射材料從在處理腔室中的開口逸出的趨勢大大降低。在代表性實施例中，將文氏管狀通道設(shè)置在開口的上游或下游。由于在使得氣流流動穿過文氏管并且進入處理腔室時導(dǎo)致的壓降，所以很容易將材料包含在處理腔室中。由于在處理過程中，廣泛采用了彌補氣體、惰性氣體、載氣等，所以該方法可以與許多不同的處理方法兼容。
[0018]本發(fā)明還提供了一種有助于確保工件的中央?yún)^(qū)域在使用徑向噴射機構(gòu)來將處理材料噴射到工件上時接受適當(dāng)處理的方法。已經(jīng)觀察到，在噴射物到達工件時，產(chǎn)生噴射物的噴嘴覆蓋區(qū)域沒有與噴射物在工件上覆蓋區(qū)域相匹配。在工件上的覆蓋區(qū)域小于預(yù)期的覆蓋區(qū)域。具體地說，在使用噴射機構(gòu)例如噴射桿178利用氣體使得液體霧化時，噴射物在工件上的覆蓋區(qū)域小于從中分配出分配材料的噴嘴陣列的跨距。因此，如果噴嘴口的覆蓋區(qū)域主要是從工件中心到外緣，則根據(jù)旋轉(zhuǎn)速度、排出流速、在工件上的噴射桿高度等，所得到的噴射物實際上不會有效到達中央或外緣。分配氣體的高速度是由于柏努利效應(yīng)而形成更低壓力區(qū)域。下面將對如圖20a至20c中所示的變得向內(nèi)回收的噴射物末端處的分配陣列部分進行進一步說明。
[0019]因此，朝著工件中央的至少一些材料不會到達中心，而是更朝著外周撞擊工件。因為工件在大多數(shù)處理期間旋轉(zhuǎn)，并且因為旋轉(zhuǎn)使得材料通常在工件表面上徑向向外流動，所以結(jié)果導(dǎo)致工件中央看起來其處理材料少于所期望的量。因此在那里容易受到比所期望更少的處理。
[0020]例如，根據(jù)一個實施例，在進行蝕刻處理時在中央會出現(xiàn)更少的蝕刻。作為另一個實施例，在粒子去除過程中觀察到更少的顆粒去除效率。本發(fā)明在構(gòu)造徑向噴射桿時明顯認(rèn)識到并且解決了這種效果，從而所分配出的噴射物即使在由于柏努利效應(yīng)而收縮的情況下也將仍然具有足夠的跨距以按照更加均勻的方式有效處理整個工件表面。
[0021]在一個方面中，本發(fā)明提供了用于處理微電子工件的設(shè)備，該設(shè)備包括其中在處理期間布置有工件的處理腔室、包括在處理期間覆蓋并且至少部分覆蓋工件的下表面的遮擋結(jié)構(gòu)以及以用來讓在下表面上的液體能夠從擋板的下表面回吸的方式與遮擋結(jié)構(gòu)流體連通的抽吸通道。
[0022]在另一個方面中，本發(fā)明提供了用于處理微電子工件的設(shè)備，該設(shè)備包括其中在處理期間布置有工件的處理腔室、包括具有外周邊的下表面的遮擋結(jié)構(gòu)、按照有助于將液體吸附或包含在遮擋結(jié)構(gòu)的下表面上的方式設(shè)置在該設(shè)備中的特征部分以及具有以用來使得所包含或吸附的液體從擋板的下表面回收的方式位于特征部分附近的流體入口的抽吸通道。所述下表面在處理期間疊置在工件上方和至少覆蓋一部分工件的下表面。
[0023]在另一個方面中，本發(fā)明提供一種處理微電子工件的方法，該方法包括以下步驟:將工件放置在設(shè)備的處理腔室中；使得遮擋結(jié)構(gòu)疊置在工件上方，對所覆蓋的工件進行處理，所述處理包括將液體導(dǎo)入到所述處理腔室中；以及抽吸或燈芯抽吸去除收集在所述遮擋結(jié)構(gòu)下表面上的一部分液體。所述遮擋結(jié)構(gòu)包括在處理期間覆蓋所述工件的至少一部分的下表面。
[0024]在另一個方面中，本發(fā)明提供了一種遮擋結(jié)構(gòu)，其包括其下表面與主體軸線不垂直的環(huán)狀主體和/或與下表面流體連通以使得在下表面上的液體能夠回收的抽吸通道。
[0025]在另一個方面中，本發(fā)明提供了一種處理微電子工件的設(shè)備，該設(shè)備包括其中在處理期間布置有工件的處理腔室、用來將至少一種處理材料噴射物導(dǎo)入到處理腔室中的至少一個噴嘴以及用來將至少一種氣體導(dǎo)入到處理腔室中的文氏管狀通道。
[0026]在另一個方面中，本發(fā)明提供了一種處理微電子工件的方法，該方法包括將工件設(shè)置在設(shè)備的處理腔室中、使得遮擋結(jié)構(gòu)覆蓋工件、將處理材料噴射到工件上、使得文氏管狀通道與通孔流體連通，并且在噴射步驟的至少一部分期間，使得至少一種氣體按照有助于將霧包含在處理腔室中的方式流經(jīng)文氏管狀通道。該遮擋結(jié)構(gòu)包括疊置在工件中央部分上方的打開的通孔。噴射產(chǎn)生出霧。
[0027]在另一個方面中，本發(fā)明提供了一種處理微電子工件的方法，該方法包括以下步驟:在將所述工件設(shè)置在具有在噴射期間打開的孔道的腔室中期間將至少一種液體噴射到工件上；設(shè)置與開口孔道流體連通的文氏管狀通道；并且利用通過文氏管狀通道加速的氣流來幫助將噴射的液體包含在腔室中。
[0028]在另一個方面中，本發(fā)明提供了用于處理微電子工件的方法，該方法包括以下步驟:在將所述工件設(shè)置在具有在分配期間打開的孔道的腔室中期間將至少一種液體噴射到工件上；設(shè)置與開口孔道流體連通的文氏管狀通道；并且利用通過文氏管狀通道加速的氣流來幫助將噴射的液體包含在腔室中。
[0029]在另一個方面中，本發(fā)明提供了一種處理微電子工件的設(shè)備，該設(shè)備包括其中在處理期間布置有具有一半徑的工件的處理腔室和噴射機構(gòu)，該噴射機構(gòu)包括用來分配氣體的至少第一組噴嘴開口和用來分配液體的至少第二組噴嘴開口。第一組噴嘴開口以用來使得分配的氣體和液體能夠在位于第一和第二組噴嘴開口外面的開放空間中霧化撞擊以提供接觸工件的噴射物。第一和第二組噴嘴開口中的至少一個的噴嘴覆蓋區(qū)域以提供在工件上的覆蓋區(qū)域跨過大體上從工件中心至少部分到工件外周的工件半徑的噴射物的方式延伸越過工件中心。噴射物在工件上的覆蓋區(qū)域的跨度小于第一和第二組噴嘴開口的所述至少一個的噴嘴覆蓋區(qū)域的跨度。
[0030]在另一個方面中，本發(fā)明提供了一種處理微電子工件的方法，該方法包括以下步驟:使得氣流從第一組噴嘴開口分配出并且使得液體流從第二組噴嘴開口分配出；使得氣體和液體流在用來產(chǎn)生出接觸工件的噴射物的條件下霧化撞擊。工件具有一中心和一半徑。噴射物的在工件上覆蓋區(qū)域與工件的半徑大體上對應(yīng)。第一和第二組噴嘴開口中的至少一個的分配覆蓋區(qū)域大于噴射物在工件上的覆蓋區(qū)域。分配覆蓋區(qū)域延伸越過工件中心。
[0031]在另一個方面中，本發(fā)明提供了用于處理微電子工件的設(shè)備，該設(shè)備包括用來將噴射物分配到工件上的相對較低熱質(zhì)噴射機構(gòu)和覆蓋工件的相對較高熱質(zhì)的擋板。擋板包括至少一個孔道，用來將噴射物朝著工件分配。
[0032]在另一個方面中，本發(fā)明提供了用于處理微電子工件的方法，該方法包括使用這種設(shè)備來將材料分配到工件上的步驟。
[0033]在另一個方面中，本發(fā)明提供了用于處理微電子工件的設(shè)備，該設(shè)備包括:噴射機構(gòu)，其具有至少一個用來將流體材料朝著工件分配的組噴嘴開口 ；擋板，其具有至少一個用來將流體材料朝著工件分配的孔道；以及彈性元件，其以用來幫助協(xié)調(diào)在噴射機構(gòu)和擋板之間的熱膨脹率差異的方式插入在噴射機構(gòu)和擋板之間。噴射機構(gòu)具有第一熱膨脹率，并且擋板具有與第一熱膨脹率不同的第二熱膨脹率。
[0034]在另一個方面中，本發(fā)明提供了一種處理微電子工件的方法，該方法包括使用這種設(shè)備來將材料分配到工件上的步驟。
[0035]在另一個方面中，本發(fā)明提供了用于處理微電子工件的設(shè)備，該設(shè)備包括處理腔室、遮擋結(jié)構(gòu)、用來分配液體的噴射機構(gòu)、用來幫助吸附或包含液體的部分、抽吸或燈芯抽吸通道以及文氏管狀通道。工件在處理期間設(shè)置在處理腔室中。遮擋結(jié)構(gòu)包括在處理期間覆蓋并且至少部分地蓋著所述工件的下表面。遮擋結(jié)構(gòu)具有覆蓋工件的中央部分的第一孔道。第一孔道是開口的并且貫通的。噴射機構(gòu)包括用來分配氣體的至少第一組噴嘴開口和用來分配液體的至少第二組噴嘴開口。第一組噴嘴開口相對于第二組噴嘴開口以用來使得所分配的氣體和液體在位于第一和第二組噴嘴開口外面的打開空間中霧化撞擊的方式設(shè)置，以便提供接觸工件的噴射物。第一和第二組噴嘴開口中的至少一個的噴嘴覆蓋區(qū)域以提供在工件上的覆蓋區(qū)域跨過大體上從工件中心至少部分到工件外周的工件半徑的噴射物的方式延伸越過工件中心。噴射物的工件上覆蓋區(qū)域的跨度小于第一和第二組噴嘴開口的所述至少一個的噴嘴覆蓋區(qū)域的跨度。部件以有助于吸附或者幫助包含位于遮擋結(jié)構(gòu)的下表面上的液體的方式設(shè)置在設(shè)備中。抽吸或燈芯抽吸通道以用來使得位于下表面上的液體能夠從遮擋結(jié)構(gòu)的下表面回收的方式與遮擋結(jié)構(gòu)流體連通。通過文氏管狀通道將至少一種氣體導(dǎo)入到處理腔室中。文氏管狀通道與遮擋結(jié)構(gòu)的第一孔道流體連通。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0036]圖1示意性地顯示出結(jié)合有本發(fā)明的原理的設(shè)備。
[0037]圖2為在圖1中示意性所示的遮擋/分配部分的透視圖，其中一些部件用剖面顯示出。
[0038]圖3為在圖1中示意性所示的遮擋/分配部分的透視圖，其中一些部件用剖面顯示出。
[0039]圖4為在圖1中示意性所示的遮擋/分配部分的透視圖，其中一些部件用剖面顯示出。
[0040]圖5為朝著擋板頂部看用在圖2的遮擋/分配部分中的擋板的透視圖。
[0041]圖6為朝著擋板底部看用在圖2的遮擋/分配部分中的擋板的透視圖。
[0042]圖7為朝著擋板頂部看用在圖2的遮擋/分配部分中的擋板的透視圖。
[0043]圖8為大體上朝著擋板底部看用在圖2的遮擋/分配部分中的擋板的透視圖。
[0044]圖9顯示出圖5的擋板的一部分，其中與以剖面顯示出的一些相關(guān)部件和元件一起可以看到抽吸槽。
[0045]圖10為用來覆蓋在圖9中所示的抽吸槽的密封環(huán)的頂視圖。
[0046]圖11為在圖10中所示的密封環(huán)的側(cè)剖視圖。
[0047]圖12為用在圖2的遮擋-分配部分中的噴射桿的示意性剖面圖，顯示出可以用來通過噴射桿的噴嘴開口分配材料的流體通道。
[0048]圖13為大體上朝著噴射桿的頂部看用在圖2的遮擋-分配部分中的噴射桿的透視圖。
[0049]圖14為大體上朝著噴射桿的底部看用在圖2的遮擋-分配部分中的噴射桿的透視圖。
[0050]圖15為透視圖，顯示出包括設(shè)置到圖5的擋板凹穴中就位的圖14的噴射桿的組件。
[0051]圖16為用來將圖13的噴射桿保持在圖15所示的擋板凹穴中的緊固夾的透視圖。
[0052]圖17為用來將圖13的噴射桿保持在圖15所示的擋板凹穴中的緊固夾的頂視圖，其中一些部分用陰影線顯示出。
[0053]圖18為朝著過濾部件的底部看用在圖2的遮擋-分配部分中的過濾部件的透視圖。
[0054]圖19為朝著過濾部件的頂部看用在圖2的遮擋-分配部分中的過濾部件的透視圖。
[0055]圖20a、20b和20c示意性地顯示出柏努利效應(yīng)如何能夠影響霧化噴射物在工件上的覆蓋區(qū)域。
[0056]圖21為大體上在凸緣頂部處看到的用在圖2的遮擋-分配部分中的進氣凸緣的透視圖。
[0057]圖22為大體上在凸緣頂部處看到并且用剖面顯示出的用在圖2的遮擋-分配部分中的進氣凸緣的透視圖。
[0058]圖23為大體上在凸緣的頂部處看到的用在圖2的遮擋/分配部分中的進氣凸緣的頂視圖。
[0059]圖24為大體上朝著頂部看的用在圖2的遮擋/分配部分中的噴頭間隔件的透視圖；
[0060]圖25為大體上朝著底部看的用在圖2的遮擋/分配部分中的噴頭間隔件的透視圖；
[0061]圖26為用在圖2的遮擋/分配部分中的噴頭間隔件的頂視圖；
[0062]圖27為用在圖2的遮擋/分配部分中的噴頭間隔件的側(cè)剖視圖；
[0063]圖28為用在圖2的遮擋/分配部分的噴頭組件中的底座的透視圖；
[0064]圖29為用在圖2的遮擋/分配部分的噴頭組件中的底座的頂視圖；
[0065]圖30為用在圖2的遮擋/分配部分的噴頭組件中的底座的側(cè)剖視圖；
[0066]圖31為用在圖2的遮擋/分配部分的噴頭組件中的蓋子的透視圖；
[0067]圖32為用在圖2的遮擋/分配部分的噴頭組件中的底座的側(cè)剖視圖；
[0068]圖33為用在圖2的遮擋/分配部分的噴頭組件中的蓋子的底視圖；
[0069]圖34為透視圖，其中用陰影線顯示出用在圖2的遮擋/分配部分中的中央分配噴嘴緊固件的一些部件；
[0070]圖35為用在圖2的遮擋/分配部分中的中央分配噴嘴緊固件的頂視圖。
[0071]圖36為用來幫助夾著在圖34和35中的中央分配噴嘴緊固件的緊固件的頂視圖；
[0072]圖37為用在圖2的遮擋-分配部分中的沖洗管支架的透視圖。

【具體實施方式】
[0073]下面所述的本發(fā)明實施例不是意圖進行窮舉或是將本發(fā)明限制于在下面詳細(xì)說明書中所披露的具體形式。而是這些實施例被如此選擇并且說明，從而本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以意識到并且理解本發(fā)明的原理和實踐。雖然將在基于流體的微電子基板清潔系統(tǒng)的具體上下文中對本發(fā)明進行說明，但是本發(fā)明的原理同樣可以適用于其它微電子處理系統(tǒng)。
[0074]圖1 一 37顯示出結(jié)合了本發(fā)明原理的示例性工具10。為了便于說明，工具10為這樣一種類型，其中在任一時刻將單個工件18容納在工具10中并且對它進行一種或多種處理，在處理中使得液體、氣體和/或其它處理介質(zhì)接觸工件18。在微電子工業(yè)中，例如工具10可以指代單個圓晶處理工具。工件18通常為半導(dǎo)體圓晶或其它微電子基板。
[0075]作為主組件，工具10通?；撞糠?2和遮擋/分配部分14。在圖1中，示意性地顯示出基底部分12和遮擋/分配部分14。在圖2 — 37中，更詳細(xì)顯示出遮擋/分配部分14及其組成部件的細(xì)節(jié)。在實際使用中，基底部分12和遮擋/分配部分14可以安裝在框架(未示出)并且封裝在工具10的外殼(未示出)內(nèi)?？梢园凑杖我夥绞嚼缤ㄟ^螺釘、螺栓、鉚釘、粘接劑、焊接、夾具、托架以及這些手段的組合等來進行這種安裝。理想的是，這些部分12和14和/或其組成部件單獨并且可拆卸地安裝以便于保養(yǎng)、維護、升級和/或更換。
[0076]基底部分12和遮擋/分配部分14幫助形成處理腔室16，其中在處理期間安放有工件18?；撞糠?2和/或遮擋/分配部分14包括一個或多個特征部分或能力以使得工件18能夠裝載到處理腔室16中并且從中取出。這些特征部分和能力例如可以包括門，它可以打開或關(guān)閉以提供所期望的出口?？蛇x的是，如在優(yōu)選實施方式中所預(yù)期的一樣，基底部分12和遮擋/分配部分14可以相對于彼此運動以形成該出口。一般來說，這種相對運動是通過在使基底部分12保持固定在周圍框架(未示出)上的同時使得遮擋/分配部分14上升和下降來進行的。
[0077]如在圖1中示意性地所示一樣，基底部分12通常包括外殼17、卡盤20、馬達22和背面的分配頭24。在處理腔室16內(nèi)，工件18由卡盤20支撐并且保持著。理想地，卡盤20為圓柱形并且包括上表面26、下表面28、環(huán)形基底30、中央通孔32以及位于外周邊的側(cè)壁34?？ūP20可以為固定的或者它可以繞著中央軸線36轉(zhuǎn)動。為了便于說明，這些附圖顯示出工具10的實施例，其中卡盤20由馬達22可轉(zhuǎn)動驅(qū)動，從而工件18可以在處理期間繞著軸線36旋轉(zhuǎn)。在其中通過旋轉(zhuǎn)卡盤20使得工件18旋轉(zhuǎn)的那些實施例中，旋轉(zhuǎn)有助于使得所分配的處理材料均勻地分配在工件18上。馬達22可以為中空軸類型，并且可以通過任意方便的方法安裝在工具10上。
[0078]卡盤20可以根據(jù)目前現(xiàn)有的或以后開發(fā)的手段的多種不同方式中的任一種方式固定工件18。優(yōu)選的是，夾盤20包括邊緣夾持結(jié)構(gòu)(未示出)，用來將工件18固定保持在可選分配頭24 (下面所述的)的上表面25上方，從而在工件18和上表面25之間存在間隙。這種定位使得處理化學(xué)藥品包括沖洗水能夠分配到工件18的上表面或下表面上。
[0079]可選的是，工件10可以包括用于處理工件18的下表面19的分配結(jié)構(gòu)。示例性的背面分配機構(gòu)顯示為大體上為圓形的分配頭24，其中可以將一種或多種處理化學(xué)藥品朝著工件18的下表面分配。通過穿過卡盤20的中央孔道40和馬達22的中央孔道42的軸38將處理化學(xué)藥品提供給背面的分配頭24。在其中卡盤20旋轉(zhuǎn)的實施例中，在軸38以及中央孔道40和42之間存在間隙，從而這些部分不會在卡盤20轉(zhuǎn)動時接觸。背面的分配頭24可以與處理材料的一個或多個供應(yīng)源(未示出)連接以在需要時提供或混合時分配。
[0080]在尤為優(yōu)選的實施例中，基底部分12采取在受讓人的共同未決申請Nos.1和2中所述和所說明的“處理部分11”的形式。換句話說，當(dāng)前說明書的遮擋分配部分14優(yōu)選可以與“可動構(gòu)件526”連接，由此代替受讓人的共同未決申請Nos.1和2的“分配組件554”。
[0081]圖2至37顯示出在處理一個或多個微電子工件18的過程中在分配一種或多種處理材料中所用的一種優(yōu)選遮擋/分配部分14的示例性實施例的更多細(xì)節(jié)。遮擋/分配結(jié)構(gòu)14的分配部件可以與通過供應(yīng)管道(未示出)提供的處理材料的一個或多個供應(yīng)源(未示出)連接。這些材料可以在根據(jù)需要提供或混合時分配?？梢圆捎枚喾N處理材料，因為工具10在可以進行的許多處理中都相當(dāng)靈活。代表性處理材料的僅僅一小部分示例包括氣體和液體例如氮氣、二氧化碳、潔凈干燥空氣、氬氣、HF氣、水性HF、水性異丙醇或其它醇和/或表面活性材料、去離子水、水性或其它氫氧化銨溶液、水性或其它硫酸溶液、水性或其它硝酸溶液、水性或其它磷酸溶液、水性或其它鹽酸溶液、過氧化氫、臭氧、水性臭氧、有機酸和溶劑、這些的組合物等。
[0082]在工具10中適用的處理和化學(xué)過程的代表性示例包括在文獻N0.2006-0219258A1中所披露的那些，該文獻的全部內(nèi)容在這里被引用作為參考。在工具10中使用的處理和化學(xué)工程的其它代表性示例包括在于2006年7月7日提交的其中一個發(fā)明人叫 Jeffrey Butterbaugh 的并且題目為 “LIQUID AEROSOL PARTICLE REMOVALMETHOD”的受讓人的共同未決申請N0.60/819179中所述的那些，該文獻的全部內(nèi)容整個在這里被引用作為參考。
[0083]優(yōu)選的遮擋/分配部分14包括最好將分配組件100安裝在受讓人的共同未決申請Nos.1和2的“可動支撐構(gòu)件526”的下端上。分配組件100通常包括一個或多個用于將處理材料分配到處理腔室16中的單獨機構(gòu)。例如，分配組件100的示例性實施例包括至少一種、優(yōu)選至少兩種并且更優(yōu)選至少三種不同的分配能力。作為一種能力，這些機構(gòu)包括一個或多個分配機構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)使得組件100能夠大體上在工件18的半徑上將一種或多種處理流體向下朝著工件18分配，從而通過工件18在噴射物下方的轉(zhuǎn)動來獲得全表面覆蓋。在優(yōu)選實施例中，通過分配機構(gòu)例如噴射桿178來提供這種能力。中央分配噴嘴組件518使得能夠?qū)⑻幚聿牧洗篌w上朝著工件18的中央向下分配。在工件18旋轉(zhuǎn)時，中央分配材料分布在工件表面上。另外，噴頭分配構(gòu)件426提供了另一種方式來將處理材料通常為氣體、蒸汽和/或夾雜材料導(dǎo)入到處理腔室16中。
[0084]更詳細(xì)地說，并且如在圖1 一 9和14中最清楚地所示一樣，擋板102包括具有下表面106和上表面108以及內(nèi)周邊110和外周邊112的環(huán)形主體104。內(nèi)周邊110通常是圓形的以幫助促進平穩(wěn)氣流穿過中央孔道120和122。優(yōu)選的是，擋板102的下表面106包括一個或多個部件，這些部件部分幫助收集和去除可能存在的液體。這些特征部分可以包括凹陷(例如，槽、凹槽等)和/或突出部(例如按鈕，凸緣、支柱等)，這些部分的組合等，這有助于吸附、包含和/或回收液體。這些部件可以位于擋板102自身上，或者可以按照操作方式與擋板102臨近。
[0085]本發(fā)明想到可以單獨或組合采用一種或多種策略來從擋板102的下表面106中去除液體。在一些實施例中，可以將一種或多種干燥氣體源導(dǎo)向到擋板102的下表面106上以便將液體吹掉。在其他實施例中，可以在擋板102的下表面106上或其附近設(shè)置燈芯抽吸部件。例如，如果擋板102的下表面106為吸水性的，則可以設(shè)置吸水部件或者使吸水部件運動到一位置，以便吸掉液體。也可以采用抽吸技術(shù)，并且在這些附圖中顯示出這種策略。
[0086]為了例舉說明一種應(yīng)用抽吸技術(shù)來干燥擋板102的方式，圖6、8和9顯不出在外周邊112附近從下表面106向下伸出的環(huán)形凸緣116。如在下面進一步描述的一樣，環(huán)形凸緣116有助于將液體收集在下表面106上，從而可以將這些液體吸掉。抽吸所收集的液體有助于干燥下表面106，并且防止從下表面不期望地滴落到下面的工件18上。通過根據(jù)受讓人的共同未決申請Nos.1和2的“可動支撐構(gòu)件526”的z軸運動，可以控制擋板102相對于下面工件18的位置。
[0087]優(yōu)選的是，至少擋板102的下表面106相對于工件18的下面半徑沿著徑向向外方向向下傾斜，以便在工件18和擋板102的下表面106之間建立錐形流動通道114。通道114的這種錐形結(jié)構(gòu)有助于在減小再循環(huán)區(qū)域的同時促進從工件18的中央向外的徑向流。該錐形還有助于平滑地會聚和將接近工件18的外緣的流動流體的速度提高。這有助于降低液體飛濺效應(yīng)。下表面106的角度還有助于在下表面106上的液體朝著環(huán)形凸緣116排出，在那里可以將所收集的液體吸掉而不是向下滴落到工件18或用來從處理腔室16輸送或取出工件18的設(shè)備(未示出)上。該錐形結(jié)構(gòu)還有助于減少顆粒再循環(huán)回到工件18上。該結(jié)構(gòu)通過更好地約束流體而有助于化學(xué)回收利用效率。
[0088]另外對于這個具體實施例而言，分配組件100的大體上為環(huán)形的擋板102在一個方面用作在處理腔室16上的蓋子，以便幫助為工件處理提供受保護的環(huán)境并且?guī)椭鷮⑺峙涞牟牧习谔幚砬皇?6中。但是，大體上為環(huán)形的主體104優(yōu)選沒有密封處理腔室16，而是與其他遮擋件緊密鄰接，從而有助于形成處理腔室16。
[0089]傾斜的下表面106可以具有許多種幾何形狀。例如，幾何形狀可以為線性(錐形)、拋物線形、多項式等中的一種或多種。為了便于說明，下表面106通常沿著徑向向外方向線性地朝著工件18會聚。
[0090]擋板102包括將開口中央?yún)^(qū)域劃分成第一和第二進氣孔道120和122的臂118。在處理期間，可以使得流體處理介質(zhì)通過這些孔道流進處理腔室16。從頂面108可以看到，臂118和環(huán)狀體104的鄰接部分成形為形成用于保持噴射桿178的凹穴124。凹穴包括側(cè)面126和底部128。底部128包括狹槽130，噴射桿178在處理期間通過該狹槽將材料向下分配到工件18上。中央設(shè)置的孔132形成在側(cè)面126中。中央分配噴嘴部件(下面所述的)通過這些孔132供料以便將處理材料大體上分配到下面工件18的中央部分上。
[0091]從頂面108可以看出，臂118還包括升起的凸起134，它具有螺紋孔道136。噴頭間隔件382 (下面作進一步說明)使用緊固件例如螺釘支撐并且緊固在凸起134上。在環(huán)狀體104的內(nèi)周邊110周圍分布有其它的升起凸起140。這些升起的凸起140中的一個或多個可以包括一個或多個螺紋孔道142。進氣凸緣338 (在下面作進一步說明)例如通過與螺紋孔道142螺紋接合的螺釘支撐并且固定在這些凸起140上。為了便于說明，顯示出四個不同的升起凸起140。在其它實施例中，可以采用更多或更少的這些凸起140。在一些實施例中，這些凸起140中的一個或多個可以跨過內(nèi)周邊110的更長部分,但是如所示一樣使用分散的凸起140有助于減輕重量。
[0092]在外周邊112附近在凹穴124的每一側(cè)上在上表面108上還設(shè)有另外的升起凸起146。每個凸起146至少包括一個螺紋孔148。將緊固板266 (在下面做進一步說明)固定在這些凸起146上以便幫助將噴射桿178固定在凹穴124中。緊固板266通過與孔道148螺紋接合的螺釘緊固在這些凸起上。
[0093]在將抽吸系統(tǒng)的一部分裝到擋板102中時，在環(huán)狀體104的外周邊112附近在頂面108中形成環(huán)形槽152。抽吸通道(未示出)在位于環(huán)狀體104的下表面106上的端口156和通向凹槽152的相應(yīng)端口 158之間延伸。
[0094]在圖2 — 4以及9 一 11中最清楚地看到，在凹槽152上方將密封環(huán)160緊固在環(huán)狀體104上以密封凹槽152的頂部開口?？梢园凑杖我獗憷姆绞綄⒚芊猸h(huán)160緊固在環(huán)狀體104上。例如，密封環(huán)160包括一組孔168，它們使得密封環(huán)能夠通過將螺釘172緊固穿過孔168并且進入到在環(huán)狀體104的頂面108中的螺紋孔道170中來固定在凹槽152上面。密封環(huán)160為環(huán)形，并且具有穿過環(huán)限定端部162和164的溝槽166。噴射桿178的端部202在將噴射桿178裝配到凹穴124中并且固定不動時裝配到該溝槽166中。
[0095]另外，密封環(huán)160設(shè)有出口孔174和176，它們提供了用于將部件引導(dǎo)穿過凹槽152的出口。為了便于說明，在密封環(huán)160中設(shè)有三對孔174和176。在代表性實施例中，每對孔中的一個孔174與能夠用來在凹槽152上抽真空的管道(未示出)連接。真空有助于通過抽吸通道(未示出)將液體材料從下表面106抽入到凹槽152中。每對孔的另一個孔176可以用來將抽吸管更深地導(dǎo)入到凹槽152中以將收集在那里的液體吸出。優(yōu)選的是，周邊抽吸有助于使擋板102的底部保持潔凈干燥，并且還有助于防止由于液滴或顆粒在工件18上形成缺陷。
[0096]至少環(huán)狀體104的下表面106可以根據(jù)使用工具10可能進行的處理的特性而如所期望的一樣為親水的或疏水的。在優(yōu)選實施例中，優(yōu)選的是，下表面106由親水材料例如石英制成，因為:1)便于將在擋板上的液體朝著在邊緣上的抽吸器排出；2)使得液體在表面上擴散，從而形成更薄的薄膜并且因此加速干燥；和/或3)在受到許多不同化學(xué)材料時保持所期望的親水特性。
[0097]在圖2-4和12-15中最清楚地顯示出噴射桿178。噴射桿178具有頂部188、底部180、大體上與下面工件18的中央?yún)^(qū)域重疊的第一端部200以及與下面工件18的外周邊大體上重疊的第二端部202。噴射桿178包括有利于與分配組件100的其它部件組裝在一起的部件。另外，凹穴208和212每個都包括相應(yīng)的突起210和214。相應(yīng)的O形環(huán)(未示出)裝配到這些凹穴中，并且其尺寸設(shè)定為在頂部188的表面上方伸出。O形環(huán)在將噴頭間隔件382緊固在噴射桿178上時形成彈性承載面。O形環(huán)還有助于在熱質(zhì)相對較低的噴射桿178和熱質(zhì)相對較高的擋板102之間形成絕熱。這改善了通過噴射桿分配的流體的溫度均勻性，這導(dǎo)致在工件上的處理均勻性更好。通過噴射桿分配熱流體能夠?qū)е略趪娚錀U和擋板之間出現(xiàn)明顯的溫度差。O形環(huán)還有助于提供適應(yīng)性安裝系統(tǒng)，它能夠允許在噴射桿和擋板之間存在不同的熱膨脹同時在更高分配壓力下減小在部件中的應(yīng)力。
[0098]另外，凹穴204保持著中央分配噴嘴緊固件520，并且包括孔206，這些孔使得中央分配管522從中穿過至這樣一個位置，在該位置處管子522能夠?qū)⑻幚斫橘|(zhì)輸送給處理腔室16。
[0099]噴射桿178還包括用來使得一種或多種處理材料能夠大體上在工件18的半徑上向下分配的部件。在底部180上形成有大體上為三角形的溝槽182。溝槽182包括頂端區(qū)域184和相鄰面186。頂端區(qū)域184和面186包括噴嘴部件，用來使得材料能夠從噴射桿178分配出并且分配到工件18上。該溝槽182橫跨的距離通常稍大于下面工件18的整個半徑，以幫助確保從噴嘴部件分配出的噴射物在工件處的分配覆蓋區(qū)域(spray footprint)至少橫跨工件的整個半徑。下面將結(jié)合圖20a - 20c對分配材料在工件18上的覆蓋區(qū)域進行更詳細(xì)說明。
[0100]為了給噴射桿178的噴嘴部件提供處理材料，供應(yīng)管222和246將這些材料輸送給流體入口構(gòu)件216和流體入口構(gòu)件240。流體入口構(gòu)件216為流體通道的一部分，該流體通道在溝槽182的頂端184處將處理材料輸送給噴嘴陣列234。通道262為在流體入口構(gòu)件216和噴嘴陣列234之間的流體通道的一部分。流體入口構(gòu)件216包括帶螺紋的底部218 (未顯示出螺紋)和開口連接件220。供應(yīng)管222通過緊固螺母224緊固在開口連接件220上。流體入口構(gòu)件240為用來給設(shè)在溝槽182的表面186上的噴嘴陣列260輸送處理材料的流體通道的一部分。通道264和265為在流體入口構(gòu)件240和噴嘴陣列260之間的流體通道的一部分。插塞238和236被插入在通道262、264和265的端部上。
[0101]流體入口構(gòu)件240包括帶螺紋底部242 (未示出螺紋)和開口連接件244。供應(yīng)管246安裝在開口連接件244上，并且通過緊固螺母248保持就位。在流體入口構(gòu)件216和240及其相應(yīng)的噴嘴組開口之間的流體通道可以如所示一樣相對于在受讓人的共同未決專利申請中所示的噴射桿臂設(shè)置。
[0102]可以使用噴射桿178分配液體、氣體或者其混合物。在典型的實施例中，如圖12所示，液體材料(未示出)通過通道264和265運送，并通過噴射桿溝槽182表面186上的噴嘴陣列260分配，同時加壓氣體(未示出)通過通道262運送，并從沿著溝槽182的頂端184設(shè)置的噴嘴陣列234分配。氣體射流與液流碰撞，將液體材料霧化成微小液滴(未示出)。在碰撞之后，氣體射流幫助將霧化的液體傳送到工件18。在實踐操作的其它模式中，從相鄰表面上的噴嘴陣列只分配液體材料。在碰撞之后，混合的液流與工件18接觸。在實踐操作的其它方面，可以通過在頂端的噴嘴陣列和/或在相鄰表面的噴嘴陣列僅僅分配氣體材料。
[0103]可以改變噴嘴間隔、相對于工件18表面的分配軌跡、噴嘴開口的孔尺寸等，以調(diào)整分配的流體的特征(例如分配特性)。例如，噴嘴間隔和開口尺寸可以是統(tǒng)一或者變化的。
[0104]但是，現(xiàn)在已經(jīng)觀察到，噴射在下面的工件上的覆蓋區(qū)域小于本來所期望的。具體地說，當(dāng)利用噴射機構(gòu)例如噴射桿178使用氣體將液體霧化的時候，在工件上的覆蓋區(qū)域小于分配噴射材料的噴嘴陣列的跨度。因此如果噴嘴開口的覆蓋區(qū)域僅僅以工件為中心橫越至外部周邊，則根據(jù)旋轉(zhuǎn)速度、排放流速、工件之上的噴射桿高度以及它們的組合，所得到的噴射實際上可能不會有效達到中心或者外部周邊。所分配氣體的高度方向的速度形成一個較低壓力區(qū)，因為柏努利效應(yīng)會導(dǎo)致在噴頭朝著工件移動的時候噴射成向內(nèi)的角度。在噴頭端部的噴頭陣列部分向內(nèi)回收，如圖20b和20c所不。圖20a — 20c分別顯不了噴射310、320、330分別相對于工件312,322和332的軌跡。與工件18 一樣，工件312,322和332 一般是半導(dǎo)體硅圓晶或者其它微電子基底。
[0105]圖20a顯示出理想的狀況，其中噴射桿308將噴射310分配到下面旋轉(zhuǎn)的工件312上。噴射在分配時覆蓋區(qū)域的長度與噴射在工件上的覆蓋區(qū)域相匹配。由于分配時噴射的覆蓋區(qū)域與工件312在中心316和外周邊314之間的半徑相匹配，所以實現(xiàn)了對工件312的整個半徑覆蓋。由于工件312圍繞著其中心316旋轉(zhuǎn)，所以工件312的整個表面受到均勻的處理。這個理想狀況大體上代表操作模式，其中液體材料通過與分離的氣流撞擊在沒有霧化的情況下分配到工件312上。
[0106]圖20b示意性地顯示出該狀況在使用氣流來霧化液流時尤其在通過在至少一股氣流和至少一股液流之間的撞擊來實現(xiàn)霧化時是不同的。在圖20b中，噴射桿318將霧化的噴射物320分配到下面的旋轉(zhuǎn)工件322上。在分配時，噴射物的覆蓋區(qū)域與在工件中心326和工件外周邊324之間的工件322的半徑相匹配。但是，噴射物320的覆蓋區(qū)域隨著噴射物320到達工件322而減小。由于用至少一股氣流來使液流霧化，所以建立了柏努利效應(yīng)，這如圖20b中所示一樣將外部霧化流向內(nèi)拉。在蝕刻或顆粒去除過程中，例如這種效應(yīng)在工件上的結(jié)果在于工件中心或周邊實際上會受到更少的蝕刻或顆粒去除。該效應(yīng)似乎在工件中央處比在工件周邊處作用更大，但是可以在兩個區(qū)域中都觀察到這種效應(yīng)。相對于工件中心326，噴射物320由于柏努利效應(yīng)而沒有完全分配到工件中心326上，并且因為在噴射物320材料接觸旋轉(zhuǎn)工件322之后噴射物320材料在處理過程中容易從工件中心326徑向向外流動，所以中間中心326保持缺乏噴射物320材料。對于工件外周邊324而言，噴射物320由于柏努利效應(yīng)而沒有完全分配到工件周邊324上，工件322的旋轉(zhuǎn)仍然使得所分配的噴射物320的質(zhì)量流徑向向外流動并且處理外周邊324，從而外周邊324不是完全與工件中央326 —樣缺乏。
[0107]本發(fā)明通過首先認(rèn)識到柏努利效應(yīng)然后使用用來分配具有足夠大覆蓋區(qū)域的噴射的噴射桿從而有助于克服柏努利效應(yīng)，從而減小了的工件上覆蓋區(qū)域仍然足夠大以相對于工件的其它表面區(qū)域按照理想均勻的方式大體上有效地處理工件中央?yún)^(qū)域。該效應(yīng)由于至少兩個原因所以更容易在外周邊處適應(yīng)。首先，柏努利效應(yīng)看起來在外周邊處對處理均勻性的影響更小。認(rèn)為該效應(yīng)至少部分因為大部分分配液體質(zhì)量流在旋轉(zhuǎn)工件上徑向向外所以在外周邊處更小。因此，外周邊在處理過程中沒有和中央?yún)^(qū)域一樣缺乏處理材料。第二，噴射覆蓋區(qū)域可以延伸越過工件周邊，從而受到不浪費太多處理材料的實踐約束。
[0108]一般來說，在噴射物朝著工件行進時覆蓋區(qū)域“損失”量可以根據(jù)經(jīng)驗確定。然后，可以將足夠多的額外噴嘴加入到該陣列中，從而噴射物仍然足夠大，從而在噴射物到達工件時橫跨工件半徑。例如，如果噴射物在每個端部上損失大約10.5mm,則在噴射桿的一個端部或兩個端部處優(yōu)選的是至少在覆蓋著工件中央的端部處增加3個中心間隔3.5mm的額外噴嘴元件或部分噴嘴元件就可以克服該損失。根據(jù)用于評估噴射物覆蓋區(qū)域損失的一個實踐方法，可以使用具有特定噴射物覆蓋區(qū)域的噴射桿來對工件進行測試處理例如蝕刻處理、顆粒去除處理等。通常使用其噴嘴覆蓋區(qū)域如此設(shè)定的噴射桿來開始這種試驗分析，即噴嘴覆蓋區(qū)域與工件中央緊密配合。也就是說，大部分徑向內(nèi)部噴嘴開口最好直接覆蓋著工件中央。通常還有噴嘴覆蓋區(qū)域至少達到或超過工件的外周邊。在處理之后，可以對經(jīng)處理的工件進行分析以根據(jù)距離工件中央的距離來評價處理性能。如果存在柏努利效應(yīng)，則在鄰近工件中央的工件區(qū)域中將觀察到處理性能明顯損害。
[0109]在實施該方法時，可以使用許多策略來改變噴射桿。根據(jù)一個策略，噴嘴陣列可以沿著工件18的半徑偏移以幫助確保噴射物在工件18上的覆蓋區(qū)域至少包括工件18的中央。
[0110]在另一個策略中，可以向噴嘴陣列加入額外的噴嘴以擴展其覆蓋區(qū)域。如在圖20c中示意性所示一樣，可以如此向噴射桿328增加額外噴嘴，從而這些額外噴嘴設(shè)置通過在工件332的工件中心336以幫助補償柏努利效應(yīng)。也就是說，在噴射桿328將噴射物330分配到下面的工件332上時，工件上的噴射物覆蓋區(qū)域更緊密地與在工件中心336和工件外周邊334之間的工件半徑相匹配。包括額外噴嘴的實施例涉及包括一個或多個額外分配元件以擴展噴射桿的覆蓋區(qū)域。在使用噴射桿178時，這將涉及每個元件增加三個額外噴嘴孔。一個孔為在溝槽182的頂端184處的氣體分配噴嘴，而兩個額外液體噴嘴開口加入在位于相鄰面186上的額外氣體開口附近。包括額外噴嘴的另一個實施例涉及向噴嘴陣列增加一個或多個額外氣體噴嘴以擴展其覆蓋區(qū)域。包括額外噴嘴的又一個實施例包括僅僅加入一個或多個附加的液體分配噴嘴開口組以擴展其噴嘴覆蓋區(qū)域。這些額外噴嘴開口其尺寸可以與噴射桿的其它噴嘴開口相同或不同。
[0111]再次參照圖2-4和12-15，在一個實施例中，在頂端184處的噴嘴陣列234包括一排噴嘴開口，其直徑為0.02英寸并且中心間隔3.5mm。理想地，在溝槽182的頂端184處的這個噴嘴陣列稍長于工件半徑以確保噴射物在工件18上的覆蓋區(qū)域至少尤其在中心處與工件18的半徑匹配。例如，陣列234的總跨度包括在內(nèi)端200上延伸越過工件18中央的額外噴嘴孔，并且任選包括延伸越過下面工件18的周邊的噴嘴孔。
[0112]按照類似的方式，在一個實施例中，在相鄰面186上的每個噴嘴陣列包括噴嘴開口，它們與在頂端184上的噴嘴陣列對應(yīng)以能夠進行霧化并且直徑為0.026英寸并且中心間隔3.5mm。噴嘴陣列260稍長于工件半徑以幫助確保噴射物在工件18上的覆蓋區(qū)域尤其至少在工件中心處與工件18的半徑相匹配。例如，每個陣列260的總跨度包括在內(nèi)端200上延伸越過工件18的中心的額外噴嘴孔，并且任選地包括在下面工件18的周邊之外延伸的額外噴嘴孔。
[0113]在優(yōu)選實施例中，噴射桿178裝配到擋板102中，但是為單獨部件形式。該方法具有許多優(yōu)點。首先，它使得這些部件中的每一個可以由更適合每個部件的用途的不同材料制成。例如，在噴射桿178以及工具10的其它分配部件的情況下，為了高純度，工具10在流體輸送/潤濕通道中的分配部件或者至少其表面優(yōu)選由一種或多種含氟聚合物形成。這些部件包括噴射桿178、噴頭組件426以及至少中央分配噴嘴組件518的管道。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)聚四氟乙烯(可以從E.1.Du Pont de Nemours&C0.以商標(biāo)TEFLON買到)是適合的。另一方面，擋板102或者至少其下表面106最好由親水材料例如石英等制成以便優(yōu)化下表面106的清潔和干燥。具體地說，親水性表面例如石英與疏水性表面相比在許多情況下更容易有效地沖洗和干燥。
[0114]使用單獨噴射桿和擋板部件還能夠在噴射桿178和擋板102之間形成更好的絕熱。在噴射桿和擋板為單個整體部件時，整個組件具有相對較大的熱質(zhì)，這在將加熱流體分配在工件18上時能夠用作散熱器。由于損失給擋板的熱質(zhì)的熱量所以在進入噴射桿的流體和在噴射桿的外端離開的相對更冷的流體之間造成溫度下降。沿著噴射桿的這個溫度差導(dǎo)致在工件上分配的材料的溫度不均勻性。這會對在工件上以及工件之間的處理均勻性產(chǎn)生不利影響。但是，在噴射桿178如所示一樣為單獨部件時，大大降低了熱質(zhì)。還有，通過將噴射桿178裝配到擋板102的凹穴124中并且只有溝槽182的噴嘴區(qū)域通過狹縫130暴露出，所以噴射桿178暴露給處理腔室16的區(qū)域減小，并且噴射桿178在較大程度上與擋板102隔熱。該方法使得噴射桿178在很大程度上與工件18隔熱，從而減小了會損害處理性能的非均勻熱效應(yīng)。
[0115]彈性承載表面的使用在那些實施例中還適應(yīng)了在噴射桿178和擋板102之間的熱膨脹差異，其中兩個部件由不同的材料形成或者在明顯不同的溫度下工作。使用彈性O(shè)形環(huán)作為承載表面還減小了在噴射桿178和擋板102之間的表面接觸。這有助于使噴射桿178隔熱，從而有助于防止來自受熱流體/化學(xué)物輸送的熱效應(yīng)將熱量傳遞給擋板102然后最終傳遞給工件18。
[0116]緊固板266有助于將噴射桿178緊固到擋板102的凹穴124中。圖2、16和17更詳細(xì)顯示出緊固板266。緊固板266包括頂部268、底部270和側(cè)面272、274、276和278、緊固板266包括孔282，從而螺釘或其它合適的緊固技術(shù)(未示出)可以與螺紋孔道148接合以將緊固板緊固到擋板102上。底部270包括具有突起286的凹穴284。O形環(huán)(未示出)裝配到該凹穴284中。O形環(huán)其尺寸如此設(shè)定，從而它在緊固板266將噴射桿178夾住就位時受到擠壓以在緊固板266和噴射桿178之間提供彈性承載表面。
[0117]參照圖2、18和19、在密封環(huán)160的端部162和164之間的槽口 166中裝配有填充件288。填充件288包括頂部290、底部292以及側(cè)面294、295、296和297。在底部中形成有槽310以形成與在端部162和164之間的槽152相互連接的通道。填充件288還包括尾部303以填充在噴射桿178和擋板102之間的間隙，從而防止在那里可能出現(xiàn)的泄漏。槽口 305提供應(yīng)力釋放，從而使得填充件288能夠與擋板102的凹槽299緊密一致配合。填充件288通過噴射桿178和密封環(huán)160保持不動。
[0118]管道、空氣進口等可以通過遮擋/分配部分14的中央煙道103(在圖1中示意性地顯示出)進給。該煙道可以在許多實踐模式中甚至在處理期間打開。一個問題在于在煙道處于打開情況中時容納在處理腔室16中的分配材料尤其是噴射材料和氣體。一個選擇是使得煙道103足夠高以實現(xiàn)所期望的容納程度。但是，該方法需要相當(dāng)長的煙道。在將工具10按照層疊的方式一體形成在更大的工具組(未示出)中時，更有效地利用豎直空間是不斷提高的更優(yōu)先考慮事項。
[0119]因此，本發(fā)明可以實施能夠使用長度更短的煙道同時仍然實現(xiàn)所期望的容納程度的一種或多種策略。根據(jù)一個方法，在至少一部分處理期間通過煙道103將合適的氣流(例如，進氣等)導(dǎo)入到處理腔室16中。通過使用這種氣流，因為煙道可以更短，所以可以在工具段之間實現(xiàn)更好的層疊效率。
[0120]特別優(yōu)選的實踐模式涉及提供具有文氏管形狀輪廓的煙道。文氏管通常包括位于入口和出口的張開端部和插入在入口和出口之間的相對狹窄的喉部。文氏管的輪廓最好總體上平滑以促進形成平穩(wěn)的氣流并且減小渦流。文氏管有助于使得氣流在壓降最小的情況下流過喉部。文氏管與普通圓柱形通道相比提供了很好的容納度同時能夠進一步減小煙道高度。
[0121]在將文氏管結(jié)合到煙道103中的示例性模式中，煙道103通過使用進氣凸緣338設(shè)有文氏管部件。在圖2-4和21-23中最清楚地顯示出進氣凸緣338。進氣凸緣338包括主體340、頂端342、位于頂端342處的圓化邊緣344以及底端348。圓化邊緣344的底面包括用來減輕重量的環(huán)形槽346。內(nèi)壁350和外壁360中的每一個從頂端342延伸至底端348。外壁360形成有小面而不是與內(nèi)壁350平行，以提供通向安裝硬件的通道并且減輕重量。
[0122]優(yōu)選的是，內(nèi)壁350形成為在噴射桿178的每一側(cè)上形成文氏管狀通道352。每個通道352包括其中通道352受到限制的相對較窄的喉部354以及相對更寬的張開端部356和358。在使用中，張開端部356用作入口，通過它將一種或多種氣體例如空氣、潔凈干燥空氣、氮氣、二氧化碳、氬氣、異丙醇蒸汽、它們的組合物等抽入到進氣凸緣338中。張開端部358用作出口，通過它將一種或多種氣體向下排出到處理腔室16中。在氣體流經(jīng)文氏管形狀通道352時，速度隨著通道受到限制而增大。在流速增大時，流動氣體的壓力減小。這意味著在文氏管中的壓力在張開入口端356附近相對更高并且在喉部354處相對較低。通過文氏管的壓力隨著速度增大而降低。因此，在通過文氏管的流速足夠高時，在入口端356處的相對更高的壓力足夠高以幫助將處理材料容納在處理腔室16中?？傊氖瞎軤钔ǖ?52在其中必須將可以為液體、固體或氣體的處理材料容納在需要用于導(dǎo)入處理氣體的開口的腔室中的許多情況中用作容納系統(tǒng)。
[0123]例如，在典型的過程中，構(gòu)成氣體或其它氣體通過文氏管狀通道352進入處理腔室。進入的空氣或氣體隨著它通過通道352的喉部而加速。運動經(jīng)過喉部354并且進入腔室16的高速空氣或氣體防止了霧氣從進氣凸緣338逸出。相反，在沒有喉部限制部分或高度不夠的進氣通道中，處理腔室霧氣會逸出，從而造成安全問題，導(dǎo)致污染以及由于處理材料損失而導(dǎo)致的處理性能降低。
[0124]在一個示例性的工作條件下，使用50cfm入口空氣實現(xiàn)了基本上完全的霧氣和蒸汽容納。這是使用3英寸排出真空來實現(xiàn)的。在該測試中，工件在其卡盤上以250rpm的速度旋轉(zhuǎn)同時以每分鐘I升的速度噴射65°C的去離子水。每個文氏管喉部的厚度變得寬度為1.12英寸，而每個相應(yīng)的入口和出口其寬度為1.75英寸。每個文氏管狀通道的長度為3英寸。
[0125]仍然主要參照在說明進氣凸緣338中的圖2-4和21-23，外壁360的底部如此成形，從而出氣凸緣368裝配在擋板102的內(nèi)周邊110上。內(nèi)壁350的底部370被成形為提供從內(nèi)壁部分370到擋板102的下表面106的平滑過渡部分。
[0126]周邊凸緣372在底端348附近圍繞著進氣凸緣338的主體340。周邊凸緣327加強了主體340。周邊凸緣372還包括孔374，從而進氣凸緣338能夠使用螺釘?shù)染o固在擋板102的螺紋孔道142上。豎立支撐件380螺紋地接合于形成在圓化邊緣344中的螺紋孔378。包括有螺紋孔道(未示出)的豎立支撐件380幫助支撐和固定噴頭組件426，下面作進一步說明。
[0127]進氣凸緣338的內(nèi)壁350還包括相對的凹穴362和366。這些凹穴其尺寸設(shè)定為保持著噴頭間隔件382，下面作進一步說明。凹穴362的壁包括三個孔364。這些孔364中的一個、兩個或全部用來引導(dǎo)管件例如管道穿過凸緣338。
[0128]除了噴射能力之外，分配組件100還結(jié)合有其它分配能力以大體上向噴頭一樣向下朝著工件18分配一種或多種處理流體。該方法對于將一種或多種均勻的氣體和/或蒸汽流分配到處理腔室16中尤為有用。在優(yōu)選實施例中，該能力是通過分配結(jié)構(gòu)例如噴頭分配構(gòu)件426來提供的。噴頭間隔件382和豎立支撐件380幫助安裝和支撐噴頭分配構(gòu)件426。為了便于說明，噴頭分配構(gòu)件426由兩個相同或獨立的供應(yīng)源供給，因此能夠同時將兩種不同的處理材料分配到處理腔室16中。當(dāng)然，其它實施例可以根據(jù)需要只是包括單個供應(yīng)源或三個或更多的供應(yīng)源。
[0129]更詳細(xì)地說，并且如在圖2-4和24-27中最清楚地所示一樣，噴頭間隔件382包括頂部384、底部386、底板408以及側(cè)面390,396,400和404。側(cè)面390包括三個孔392，它們分別與穿過進氣凸緣338的孔364相配。在使用中，可以使用孔364和392的組來引導(dǎo)管件(未示出)穿過噴頭間隔件382和進氣凸緣338。為此可以使用孔364和392的這些組中的一種或多種。例如，在一個不例性實施例中，與排氣源(未不出)連接的管道(未不出)通過噴頭間隔件382的內(nèi)部向下送入然后分別通過一組孔392和364通過間隔件382和進氣凸緣338向外供給。在進氣凸緣338外面，管道與分別通向設(shè)在密封環(huán)160中的出口孔174的三個其它管道連接。該管道足夠深地插入到這些孔174中以在凹槽152中抽真空。其它管道(未示出)同樣通過噴頭間隔件382的內(nèi)部向下送入并且分別通過另一組孔382和364穿過間隔件382和進氣凸緣338向外送出。在進氣凸緣338外面，另一個管道與三個分別通向設(shè)在密封環(huán)160中的出口孔176的其它管子連接。該管道足夠深地插入到這些孔176中以去除收集在槽152中的液體材料。
[0130]在側(cè)面390和396的頂部中形成有減重孔294。側(cè)面400和404每個都包括相應(yīng)的三個孔402。孔402用來保持著沖洗管支架510。如圖37所示，每個沖洗管支架510包括頸部512、主體514和孔516。頸部512優(yōu)選通過螺紋接合(未示出螺紋部分)接合著孔402。沖洗管504通過孔516向下導(dǎo)入到處理腔室16中。這些管子的端部設(shè)置在這樣的高度處，從而在管子的端部處的噴嘴508能夠大體上水平噴射以沖洗或以其它方式處理擋板102的下表面106。
[0131]優(yōu)選的是，沖洗管504能夠沖洗和干燥擋板102的下表面106以幫助保持擋板102清潔和干燥。在典型的實踐模式中，擋板102的清潔和干燥是在存在工件18的情況下進行的，并且至少部分與工件18的沖洗和干燥共同進行以便減小周期時間。難以去除在下表面106的外周邊112附近的液滴。結(jié)合到擋板102中的抽吸系統(tǒng)有助于克服這種困難。
[0132]底板408包括孔410，從而螺釘138可以接合在升起突起134中的螺紋孔道136以將噴頭間隔件382緊固在擋板102上。底板408包括用于緊固下面作進一步說明的中央分配部件的孔412。孔414使得供應(yīng)管道能夠通向中央分配部件?？?16和418分別裝配在流體入口構(gòu)件216和240上面。O形環(huán)(未示出)裝配到位于噴頭間隔件382和噴射桿178之間并且位于噴頭間隔件382和擋板102之間的空腔419中。
[0133]噴頭間隔件382被如此安裝，從而底端420和底板408支撐在噴射桿178的頂面上，同時腿部422裝配在擋板102的臂118周圍。腿部422的外表面424成形為與凹穴124的側(cè)面126相匹配。
[0134]噴頭分配構(gòu)件426安裝在豎立支撐件380和在受讓人的共同未決申請Nos.1和2中所述的“可動支撐構(gòu)件”之間。噴頭分配組件426通常包括底部428和蓋子458。底部428通常包括具有大體上為矩形的中央孔432的圓形底板430和從中央孔432的邊緣向下伸出的凸緣434。凸緣434和孔432其尺寸設(shè)定為裝配在下面支撐噴頭間隔件382上面。中央孔432提供了用于將管件導(dǎo)向中央噴嘴組件518和噴射桿178的方便通道。
[0135]底板430包括幾個孔部分，它們有利于噴頭分配組件426的功能和安裝。在中央孔432的每一側(cè)上，底板430包括用來幫助支撐沖洗管504并且將它導(dǎo)向處理腔室16的孔444。在底部428周邊周圍的相對較大的通孔446用來利用螺釘?shù)葘⒌撞?28安裝在豎立支撐件380上。相對較小的螺紋孔道448使得能夠使用螺釘?shù)葘⑸w子458和可動構(gòu)件(未示出，但是在受讓人的共同未決申請中描述的)安裝在底部428上。
[0136]底部428的底板430包括通向中央孔432的一側(cè)的第一區(qū)域450和設(shè)置在中央孔432的另一側(cè)上的第二區(qū)域454。第一區(qū)域450包括一組噴嘴開口 452,而第二區(qū)域454包括第二組噴嘴開口 456。
[0137]蓋子458通常包括升起的面板460和464。第一和第二腔室462和466形成在面板460和464與底板430之間。中央孔492覆蓋著底部428的中央孔432，從而提供了用于將管件導(dǎo)向中央分配噴嘴組件518和噴射桿178的方便通道。在蓋子458的頂部上，使用槽口 494和496來在泄漏情況中排泄。
[0138]可以將一種或多種處理材料通常為氣體和/或蒸汽提供給噴頭分配構(gòu)件426并且通過流體入口構(gòu)件468和/或480將它們導(dǎo)入到噴頭分配構(gòu)件426。流體入口構(gòu)件468包括帶螺紋底部470和張開的連接件472。供應(yīng)管(未示出)與張開連接件472流體連通并且通過與帶螺紋底部470螺紋接合的緊固螺母(未示出)保持就位。管道478通向腔室462。流體入口構(gòu)件480包括帶螺紋底部428和張開的連接件484。供應(yīng)管(未示出)與張開的連接件484流體連通并且通過與帶螺紋底部482螺紋接合的緊固螺母(未示出)保持就位。管道490通入到腔室466中。
[0139]在中央孔492的每一側(cè)上，直接覆蓋著孔444的孔498幫助支撐沖洗管504并且將它們導(dǎo)向處理腔室16。在蓋子458周邊周圍的相對較大的通孔500覆蓋著在底部428上的類似孔446，并且同樣用來利用螺釘將蓋子458安裝在豎立支撐件380上。相對較小的通孔502覆蓋著螺紋孔道448，并且使得能夠使用螺釘?shù)葘⑸w子458和可動構(gòu)件安裝在底部428 上。
[0140]在使用中，通過一個或多個供應(yīng)管(未示出)給噴頭分配構(gòu)件426提供一種或多種處理流體尤其是一種或多種氣流。提供給每個管子的處理流體可以是相同的或不同的。這些處理流體分別通過管道478和490導(dǎo)入到腔室462和466中。在腔室462和466內(nèi)的處理流體壓力通常相等，從而經(jīng)過噴嘴452和456的氣流是均勻的。優(yōu)選的是，在噴頭噴嘴上游在腔室462和466內(nèi)的流體的壓力差根據(jù)常規(guī)實踐理想地小于通過噴嘴452和456自身的壓降以促進這種均勻的氣流。在通過噴嘴452和456分配時，所分配的流體通常通過文氏管狀通道352朝著處理腔室16和工件18流動。分配組件100還具有將一種或多種處理流體大體分配到下面工件18的中央上的分配能力。處理流體可以順序、同時、按照重疊的方式等分配。在優(yōu)選實施例中，該能力是通過分配結(jié)構(gòu)例如中央噴嘴組件518來提供的。為了便于能夠，所示的中央噴嘴組件518包括兩個單獨噴嘴，從而能夠同時將兩種不同的處理材料分配到工件18上。當(dāng)然，其它實施例可以根據(jù)要求只是包括單個噴嘴或三個或更多噴嘴。還有，可以通過兩個噴嘴分配相同的處理材料。
[0141]更詳細(xì)地說，如在圖2_4、34和35中所示一樣，中央噴嘴組件518通常包括與在孔524中與噴嘴管522裝配在一起的噴嘴緊固件520。管子522包括座靠在噴嘴緊固件520的頂部上的張開的連接件526。供應(yīng)管528與張開的連接件526連接，并且通過緊固螺母530保持就位。管子522的底端在噴嘴緊固件520下方向下伸出，并且通常朝著下面工件18的中央。噴嘴緊固件520裝配到噴射桿178的凹穴204中。螺釘540裝配到噴嘴緊固件520的螺紋孔道532中。
[0142]如圖2-4所示，緊固件534和螺釘540用來幫助將噴嘴緊固件520牢固地保持就位。如圖2-4和36中所示一樣，緊固件534包括裝配在供應(yīng)管528上面并且支撐著供應(yīng)管528的孔536。緊固件534的孔538裝配有螺釘540。
[0143]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員通過閱讀該說明書或者通過在這里所披露的發(fā)明的實踐可以很容易想到本發(fā)明的其它實施例。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在不脫離由下面權(quán)利要求限定的本發(fā)明真實范圍和精神的情況下可以對在這里所述的原理和實施例作出各種刪除、變型和變化。
【權(quán)利要求】
1.一種用于處理微電子工件的設(shè)備，包括: a)噴射機構(gòu)，其將噴射物分配在微電子工件上；以及 b)定位在微電子元件上方的遮擋板，所述遮擋板包括至少一個孔口，噴射物通過該孔口被朝著微電子工件分配，其中所述噴射機構(gòu)和遮擋板為單獨的部件。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述遮擋板包括所述噴射機構(gòu)安裝在其中的凹穴。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述遮擋板具有頂面，該頂面包括所述噴射機構(gòu)安裝在其中的凹穴。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中與具有較大熱質(zhì)的所述遮擋板相比，所述噴射機構(gòu)具有較小熱質(zhì)。
5.一種用于處理微電子工件的設(shè)備，包括: a)噴射機構(gòu)，其包括至少一組噴嘴開口，流體材料通過該噴嘴開口被朝著微電子工件分配；以及 b)定位在所述微電子工件上方的遮擋板，所述遮擋板包括至少一個孔口，流體材料通過該孔口被朝著所述微電子工件分配，其中所述分配結(jié)構(gòu)和所述遮擋板為單獨的部件。
6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述遮擋板包括所述噴射機構(gòu)安裝在其中的凹穴。
7.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，還包括插置在所述噴射機構(gòu)和所述遮擋板之間的彈性元件。
8.如權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其中所述噴射機構(gòu)具有第一熱膨脹率，所述遮擋板具有與所述第一熱膨脹率不同的第二熱膨脹率；所述彈性元件插置在所述噴射機構(gòu)和所述遮擋板之間以幫助適應(yīng)所述噴射機構(gòu)和所述遮擋板之間的熱膨脹率差。
【文檔編號】H01L21/67GK104319249SQ201410259354
【公開日】2015年1月28日 申請日期:2007年6月20日 優(yōu)先權(quán)日:2006年7月7日
【發(fā)明者】J·D·柯林斯, D·德科雷克, T·A·加斯特, A·D·羅斯 申請人:Tel Fsi股份有限公司