一種蒸鍍裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍裝置，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】的制造設(shè)備，可使金屬掩模板與待蒸鍍基板緊密貼合，從而在子像素單元蒸鍍時(shí)形成正確的圖案，在此基礎(chǔ)上，可使作用于金屬掩膜板的磁場(chǎng)均勻，避免由于磁場(chǎng)不均而對(duì)上述圖案造成影響。該蒸鍍裝置包括：蒸鍍腔室、設(shè)置于蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)?、掩模板支撐架和基板支撐架，掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且金屬掩模板設(shè)置于蒸鍍?cè)春痛翦兓逯g；還包括：設(shè)置于蒸鍍腔室內(nèi)的吸附裝置，包括：設(shè)置于待蒸鍍基板遠(yuǎn)離金屬掩模板一側(cè)的多個(gè)呈矩陣排列的磁塊，和用于調(diào)節(jié)每個(gè)磁塊上下移動(dòng)的牽引裝置。用于OLED顯示器制造過(guò)程中的蒸鍍工藝。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種蒸鍍裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】的制造設(shè)備，尤其涉及一種蒸鍍裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,簡(jiǎn)稱(chēng)0LED)是一種有機(jī)薄膜電致發(fā)光器件，其具有易形成柔性結(jié)構(gòu)、視角寬等優(yōu)點(diǎn)；因此，利用有機(jī)發(fā)光二極管的顯示技術(shù)已成為一種重要的顯示技術(shù)。
[0003]OLED的全彩顯示一般包括R(紅)G(綠)B (藍(lán))子像素獨(dú)立發(fā)光、或白光OLED結(jié)合彩色濾光膜等方式。其中，RGB子像素獨(dú)立發(fā)光是目前采用最多的彩色模式，其是利用子像素單元中的有機(jī)發(fā)光材料獨(dú)立發(fā)光。
[0004]目前，有機(jī)發(fā)光材料 層一般都是通過(guò)對(duì)有機(jī)材料進(jìn)行真空蒸發(fā)鍍膜形成。其中，對(duì)于RGB子像素獨(dú)立發(fā)光的0LED，由于每個(gè)RGB子像素單元采用不同的有機(jī)發(fā)光材料，因而RGB子像素單元的有機(jī)發(fā)光層需要分別進(jìn)行蒸鍍，在此過(guò)程中一般采用金屬掩模板，使其開(kāi)口區(qū)域與子像素區(qū)域?qū)?zhǔn)來(lái)在不同子像素區(qū)域蒸鍍不同顏色的發(fā)光材料。
[0005]然而，由于金屬掩模板比較薄，一般只有幾十微米厚，很容易發(fā)生形變，因而在實(shí)際使用中不可避免的會(huì)導(dǎo)致其與待蒸鍍基板貼合的不緊，從而使得在蒸鍍有機(jī)發(fā)光材料時(shí)，不能形成正確的圖案。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種蒸鍍裝置，可使金屬掩模板與待蒸鍍基板緊密貼合，從而在子像素單元蒸鍍時(shí)形成正確的圖案；在此基礎(chǔ)上，可使作用于金屬掩膜板的磁場(chǎng)均勻，避免由于磁場(chǎng)不均而對(duì)上述圖案造成影響。
[0007]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0008]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍裝置，包括:蒸鍍腔室、設(shè)置于蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)础⒀谀０逯渭芎突逯渭?，所述掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，所述基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且所述金屬掩模板設(shè)置于所述蒸鍍?cè)春退龃翦兓逯g；所述蒸鍍裝置還包括:設(shè)置于所述蒸鍍腔室內(nèi)的吸附裝置；
[0009]其中，所述吸附裝置包括:設(shè)置于所述待蒸鍍基板遠(yuǎn)離所述金屬掩模板一側(cè)的多個(gè)呈矩陣排列的磁塊，以及用于調(diào)節(jié)每個(gè)所述磁塊相對(duì)所述待蒸鍍基板上下移動(dòng)的牽引裝置。
[0010]可選的，所述牽引裝置包括設(shè)置于所述磁塊上方、且與所述磁塊一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)調(diào)節(jié)棒；其中，一個(gè)所述調(diào)節(jié)棒與對(duì)應(yīng)的一個(gè)所述磁塊連接，用于帶動(dòng)所述磁塊上下移動(dòng)。
[0011]進(jìn)一步可選的，所述調(diào)節(jié)棒的表面具有螺紋；所述磁塊相對(duì)所述調(diào)節(jié)棒的表面具有螺孔，所述螺孔與所述調(diào)節(jié)棒表面的螺紋相吻合。
[0012]進(jìn)一步可選的，所述牽引裝置還包括固定所述調(diào)節(jié)棒的固定板；其中，所述固定板具有與所述調(diào)節(jié)棒對(duì)應(yīng)個(gè)數(shù)的貫穿孔，且所述貫穿孔的表面具有兩個(gè)相對(duì)的凹槽；所述調(diào)節(jié)棒穿過(guò)所述貫穿孔，且在所述調(diào)節(jié)棒的高度方向上，所述調(diào)節(jié)棒的表面具有多對(duì)彈性凸起，每對(duì)凸起與位于所述貫穿孔表面的所述凹槽相匹配。
[0013]進(jìn)一步可選的，所述固定板通過(guò)與固定在所述蒸鍍腔室上底面的升降機(jī)構(gòu)連接，所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述固定板上下移動(dòng)。
[0014]可選的，所述牽引裝置還包括控制任一個(gè)所述調(diào)節(jié)棒上下移動(dòng)的控制器。
[0015]基于上述，可選的，所述蒸鍍裝置還包括設(shè)置于所述蒸鍍腔室側(cè)壁上的伸縮支撐架，所述伸縮支撐架沿垂直所述蒸鍍腔室側(cè)壁的方向伸縮。
[0016]進(jìn)一步可選的，所述蒸鍍裝置還包括設(shè)置于所述蒸鍍腔室外側(cè)且與所述伸縮支撐架相連的驅(qū)動(dòng)裝置；其中，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于控制所述伸縮支撐架的伸縮。
[0017]可選的，所述吸附裝置還包括用于承載所述磁塊的磁塊支撐板；
[0018]所述磁塊支撐板包括多個(gè)活動(dòng)塊，任一個(gè)所述活動(dòng)塊的表面積大于與所述活動(dòng)塊接觸的所述磁塊的表面積；所述牽引裝置牽引多個(gè)任一個(gè)所述活動(dòng)塊相對(duì)所述待蒸鍍基板上下移動(dòng)。
[0019]進(jìn)一步可選的，所述牽引裝置包括設(shè)置于每個(gè)所述活動(dòng)塊四個(gè)角的牽引棒以及與所述牽引棒連接的控制裝置，用于帶動(dòng)所述活動(dòng)塊上下移動(dòng)。
[0020]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍裝置，包括:蒸鍍腔室、設(shè)置于蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)?、掩模板支撐架和基板支撐架，所述掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，所述基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且所述金屬掩模板設(shè)置于所述蒸鍍?cè)春退龃翦兓逯g；所述蒸鍍裝置還包括:設(shè)置于所述蒸鍍腔室內(nèi)的吸附裝置；其中，所述吸附裝置包括:設(shè)置于所述待蒸鍍基板遠(yuǎn)離所述金屬掩模板一側(cè)的多個(gè)呈矩陣排列的磁塊，以及用于調(diào)節(jié)每個(gè)所述磁塊相對(duì)所述待蒸鍍基板上下移動(dòng)的牽引裝置。
[0021]通過(guò)設(shè)置于所述待蒸鍍基板遠(yuǎn)離所述金屬掩模板一側(cè)的多個(gè)磁塊產(chǎn)生的磁場(chǎng)，可以使所述金屬掩模板與位于其上方的待蒸鍍基板緊密貼合，從而在子像素單元蒸鍍時(shí)形成正確的圖案；在此基礎(chǔ)上，通過(guò)所述牽引裝置對(duì)每個(gè)磁塊相對(duì)所述待蒸鍍基板的高度進(jìn)行控制，可以使所有磁塊的磁場(chǎng)趨于一致，避免由于磁場(chǎng)不均使所述金屬掩模板發(fā)生形變，從而對(duì)上述圖案造成影響。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0022]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0023]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0024]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的包括調(diào)節(jié)棒的牽引裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的調(diào)節(jié)棒與磁塊連接的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4為本發(fā)明 實(shí)施例提供的包括調(diào)節(jié)棒和固定板的牽引裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0028]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖三；
[0029]圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖四；[0030]圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的包括磁場(chǎng)支撐塊、磁塊和牽引裝置的吸附裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031]附圖標(biāo)記:
[0032]01-蒸鍍裝置；10_蒸鍍腔室；20_蒸鍍?cè)矗?0_掩模板支撐架；40_基板支撐架；50-金屬掩模板；60_待蒸鍍基板；701-磁塊；702-牽引裝置；702a_調(diào)節(jié)棒；702b_固定板；702al-凸起；702bl-貫穿孔；702c_牽引棒；703_升降機(jī)構(gòu)；80_伸縮支撐架；90_驅(qū)動(dòng)裝直；100-磁塊支撐板；IOOa-活動(dòng)塊。
【具體實(shí)施方式】
[0033]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0034]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍裝置01，如圖1所示，該蒸鍍裝置01包括:蒸鍍腔室10、設(shè)置于蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)?0、掩模板支撐架30和基板支撐架40，所述掩模板支撐架30用于承載金屬掩模板50，所述基板支撐架40用于承載待蒸鍍基板60，且所述金屬掩模板50設(shè)置于所述蒸鍍?cè)?0和所述待蒸鍍基板60之間；進(jìn)一步，所述蒸鍍裝置01還包括:設(shè)置于所述蒸鍍腔室10內(nèi)的吸附裝置。
[0035]其中，所述吸附裝置包括:設(shè)置于所述待蒸鍍基板60遠(yuǎn)離所述金屬掩模板50 —側(cè)的多個(gè)呈矩陣排列的磁塊701，以及用于調(diào)節(jié)每個(gè)所述磁塊相對(duì)所述待蒸鍍基板60上下移動(dòng)的牽引裝置702。
[0036]在待蒸鍍基板60遠(yuǎn)離所述金屬掩模板50的一側(cè)設(shè)置磁塊701的目的，是通過(guò)磁塊產(chǎn)生的磁場(chǎng)使所述金屬掩模板50與位于其上方的待蒸鍍基板60緊密貼合。設(shè)置所述牽引裝置的目的，是因?yàn)楫?dāng)這些磁塊701處于同一個(gè)水平面時(shí)，有可能會(huì)出現(xiàn)磁場(chǎng)不均的情況，因此，通過(guò)所述牽引裝置調(diào)整各個(gè)磁塊701相對(duì)所述待蒸鍍基板60的距離，便可以改變這些磁塊701的磁場(chǎng)大小，從而使所有磁塊701的磁場(chǎng)趨于一致，避免由于磁場(chǎng)不均使所述金屬掩模板50發(fā)生形變，從而避免對(duì)蒸鍍圖案造成影響。
[0037]所述蒸鍍?cè)?0設(shè)置于所述蒸鍍腔室10的下部，且用于輸出蒸鍍材料，例如紅色發(fā)光材料、綠色發(fā)光材料、藍(lán)色發(fā)光材料。當(dāng)然，對(duì)于OLED顯示器的每個(gè)子像素單元來(lái)說(shuō)，除包括發(fā)光層外，其一般還包括設(shè)置于陽(yáng)極和發(fā)光層之間的空穴傳輸層、設(shè)置于陰極和發(fā)光層之間的電子傳輸層；此外，還可以包括設(shè)置于陽(yáng)極和空穴傳輸層之間的空穴注入層、設(shè)置于陰極和電子傳輸層之間的電子注入層等；這些功能層均可以通過(guò)所述蒸鍍?cè)?0輸出相應(yīng)的材料進(jìn)行蒸鍍而得到相應(yīng)的圖案。
[0038]所述基板支撐架40設(shè)置于所述蒸鍍腔室10的上部，所述待蒸鍍基板60的邊緣位于所述基板支撐架40上；其中，所述待蒸鍍基板60可以包括玻璃襯底基板，以及設(shè)置在所述玻璃襯底基板上的且位于每個(gè)子像素單元的薄膜晶體管等，具體根據(jù)所要形成顯示器的功能而定。蒸鍍好的基板或待蒸鍍基板通過(guò)設(shè)置于蒸鍍腔室10側(cè)壁的上的開(kāi)口進(jìn)行交換，該開(kāi)口可以通過(guò)活門(mén)進(jìn)行開(kāi)閉。
[0039]所述掩模板支撐架30設(shè)置于所述基板支撐架40的下方，金屬掩膜板50的邊緣位于所述掩模板支撐架40上。
[0040]需要說(shuō)明的是，第一，不對(duì)控制每個(gè)磁塊701移動(dòng)的牽引裝置的結(jié)構(gòu)和位置進(jìn)行限定，只需能使每個(gè)磁塊701靈活的上下移動(dòng)即可。
[0041]其中，可以先使所有磁塊701處于同一個(gè)水平面上，即所有磁塊701到待蒸鍍基板60的距離相等；在此基礎(chǔ)上，可以先通過(guò)磁力計(jì)測(cè)量每個(gè)磁塊701的磁場(chǎng)大小，得到一個(gè)初始磁場(chǎng)大小分布，根據(jù)測(cè)得的結(jié)果和設(shè)定的基準(zhǔn)值，分別調(diào)整大于基準(zhǔn)值或小于基準(zhǔn)值的所述磁塊701距離待蒸鍍基板60的距離；其中，若測(cè)得的結(jié)果小于基準(zhǔn)值，則可以調(diào)小該磁塊701到待蒸鍍基板60的距離，若測(cè)得的結(jié)果大于基準(zhǔn)值，則可以調(diào)大該磁塊701到待蒸鍍基板60的距離。
[0042]第二，所有磁塊701優(yōu)選為大小相等。
[0043]第三，本發(fā)明所有實(shí)施例的附圖均示意性的繪示出與發(fā)明點(diǎn)有關(guān)的結(jié)構(gòu)，對(duì)于與發(fā)明點(diǎn)無(wú)關(guān)的結(jié)構(gòu)不進(jìn)行繪示或僅繪示出部分。
[0044]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍裝置01，包括:蒸鍍腔室10、設(shè)置于蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)?0、掩模板支撐架30和基板支撐架40,所述掩模板支撐架30用于承載金屬掩模板50，所述基板支撐架40用于承載待蒸鍍基板60，且所述金屬掩模板50設(shè)置于所述蒸鍍?cè)?0和所述待蒸鍍基板60之間；進(jìn)一步，所述蒸鍍裝置01還包括:設(shè)置于所述蒸鍍腔室10內(nèi)的吸附裝置。其中，所述吸附裝置包括:設(shè)置于所述待蒸鍍基板60遠(yuǎn)離所述金屬掩模板50 一側(cè)的多個(gè)呈矩陣排列的磁塊701，以及用于調(diào)節(jié)每個(gè)所述磁塊相對(duì)所述待蒸鍍基板60上下移動(dòng)的牽引裝置702。
[0045]通過(guò)設(shè)置于所述待蒸鍍基板60遠(yuǎn)離所述金屬掩模板50 —側(cè)的多個(gè)磁塊701產(chǎn)生的磁場(chǎng)，可以使所述金屬掩模板50與位于其上方的待蒸鍍基板60緊密貼合,從而在子像素單元蒸鍍時(shí)形成正確的圖案；在此基礎(chǔ)上，通過(guò)所述牽引裝置對(duì)每個(gè)磁塊701相對(duì)所述待蒸鍍基板60的高度進(jìn)行控制，可以使所有磁塊701的磁場(chǎng)趨于一致，避免由于磁場(chǎng)不均使所述金屬掩模板50發(fā)生形變，從而對(duì)上述圖案造成影響。
[0046]可選的，如圖2所示，所述牽引裝置702包括設(shè)置于所述磁塊701上方、且與所述磁塊701——對(duì)應(yīng)的多個(gè)調(diào)節(jié)棒702a。
[0047]其中，一個(gè)所述調(diào)節(jié)棒702a與對(duì)應(yīng)的一個(gè)所述磁塊701連接，用于帶動(dòng)所述磁塊701上下移動(dòng)。
[0048]這里，多個(gè)調(diào)節(jié)棒702a的長(zhǎng)度優(yōu)選為相同；同時(shí)，可以設(shè)置所述多個(gè)調(diào)節(jié)棒702a的初始狀態(tài)處于同一高度，且與所述多個(gè)調(diào)節(jié)棒702a連接的所有磁塊701也處于相同的高度，這樣才可以根據(jù)測(cè)量得到的初始磁場(chǎng)大小分布，有選擇的通過(guò)相應(yīng)的調(diào)節(jié)棒701來(lái)調(diào)節(jié)聞?dòng)诨虻陀诨鶞?zhǔn)值的磁塊701的聞度，而等于基準(zhǔn)值的磁塊701聞度則無(wú)需進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0049]例如:磁塊701的個(gè)數(shù)為27行5列，當(dāng)所有磁塊701處于同一高度時(shí)，通過(guò)磁力計(jì)測(cè)量前10行的磁塊701的磁場(chǎng)大小如下表所示:
[0050]
【權(quán)利要求】
1.一種蒸鍍裝置，包括:蒸鍍腔室、設(shè)置于蒸鍍腔室內(nèi)的蒸鍍?cè)?、掩模板支撐架和基板支撐架，所述掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，所述基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且所述金屬掩模板設(shè)置于所述蒸鍍?cè)春退龃翦兓逯g；其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括:設(shè)置于所述蒸鍍腔室內(nèi)的吸附裝置； 其中，所述吸附裝置包括:設(shè)置于所述待蒸鍍基板遠(yuǎn)離所述金屬掩模板一側(cè)的多個(gè)呈矩陣排列的磁塊，以及用于調(diào)節(jié)每個(gè)所述磁塊相對(duì)所述待蒸鍍基板上下移動(dòng)的牽引裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置包括設(shè)置于所述磁塊上方、且與所述磁塊一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)調(diào)節(jié)棒； 其中，一個(gè)所述調(diào)節(jié)棒與對(duì)應(yīng)的一個(gè)所述磁塊連接，用于帶動(dòng)所述磁塊上下移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)棒的表面具有螺紋； 所述磁塊相對(duì)所述調(diào)節(jié)棒的表面具有螺孔，所述螺孔與所述調(diào)節(jié)棒表面的螺紋相吻口 ο
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置還包括固定所述調(diào)節(jié)棒的固定板； 其中，所述固定板具有與所述調(diào)節(jié)棒對(duì)應(yīng)個(gè)數(shù)的貫穿孔，且所述貫穿孔的表面具有兩個(gè)相對(duì)的凹槽；所述調(diào)節(jié)棒穿過(guò)所述貫穿孔，且在所述調(diào)節(jié)棒的高度方向上，所述調(diào)節(jié)棒的表面具有多對(duì)彈性凸起，每對(duì)凸起與位于所述貫穿孔表面的所述凹槽相匹配。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述固定板通過(guò)與固定在所述蒸鍍腔室上底面的升降機(jī)構(gòu)連接，所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述固定板上下移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置還包括控制任一個(gè)所述調(diào)節(jié)棒上下移動(dòng)的控制器。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6任一項(xiàng)所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括設(shè)置于所述蒸鍍腔室側(cè)壁上的伸縮支撐架，所述伸縮支撐架沿垂直所述蒸鍍腔室側(cè)壁的方向伸縮。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括設(shè)置于所述蒸鍍腔室外側(cè)且與所述伸縮支撐架相連的驅(qū)動(dòng)裝置；其中，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于控制所述伸縮支撐架的伸縮。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述吸附裝置還包括用于承載所述磁塊的磁塊支撐板； 所述磁塊支撐板包括多個(gè)活動(dòng)塊，任一個(gè)所述活動(dòng)塊的表面積大于與所述活動(dòng)塊接觸的所述磁塊的表面積； 所述牽引裝置牽引任一個(gè)所述活動(dòng)塊相對(duì)所述待蒸鍍基板上下移動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置包括設(shè)置于每個(gè)所述活動(dòng)塊四個(gè)角的牽引棒，用于帶動(dòng)所述活動(dòng)塊上下移動(dòng)。
【文檔編號(hào)】H01L51/56GK103981491SQ201410182185
【公開(kāi)日】2014年8月13日 申請(qǐng)日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月30日
【發(fā)明者】馬利飛, 張鵬 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司