晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)以及測(cè)試方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)及測(cè)試方法,測(cè)試結(jié)構(gòu)包括測(cè)試機(jī)臺(tái),串聯(lián)于待測(cè)晶體管的源極與漏極之間,用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào),并測(cè)量待測(cè)晶體管源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容;偏置電壓源,與待測(cè)晶體管的柵極耦接,用于使待測(cè)晶體管保持關(guān)閉狀態(tài);以及第一電阻,串聯(lián)于待測(cè)晶體管的柵極與偏置電壓源之間,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)流向源極。測(cè)試方法包括:提供待測(cè)晶體管;在待測(cè)晶體管的源極和漏極之間設(shè)置測(cè)試機(jī)臺(tái);通過(guò)測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)量源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容;在待測(cè)晶體管的柵極上耦接偏置電壓源;在柵極與偏置電壓源之間串聯(lián)第一電阻,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)流向源極。本發(fā)明能在測(cè)試過(guò)程中使得晶體管的關(guān)態(tài)電容更接近真實(shí)值。
【專利說(shuō)明】晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)以及測(cè)試方法【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,具體涉及一種晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)以及測(cè)試方法。
【背景技術(shù)】
[0002]為了檢驗(yàn)制得的晶體管是否符合設(shè)計(jì)規(guī)范,并達(dá)到預(yù)期的效能,本領(lǐng)域技術(shù)人員需要對(duì)這些晶體管進(jìn)行相應(yīng)的測(cè)試。
[0003]例如,在射頻開(kāi)關(guān)應(yīng)用中,關(guān)態(tài)電容(Coff)是考量器件隔離特性的重要參數(shù)。關(guān)態(tài)電容越小則說(shuō)明隔離度越好,也就是說(shuō)射頻開(kāi)關(guān)在關(guān)斷時(shí)的隔離信號(hào)的能力越強(qiáng)。
[0004]關(guān)斷電容主要包括漏極與體區(qū)的結(jié)電容、源極與體區(qū)的結(jié)電容,柵極與漏極覆蓋區(qū)域的電容、柵極與源極覆蓋區(qū)域的電容,以及體區(qū)與柵之間的耦合電容。
[0005]參考圖1所示為現(xiàn)有的測(cè)量晶體管源極32與漏極31之間的關(guān)態(tài)電容的電路示意圖,此時(shí)晶體管的襯底為懸浮狀態(tài)(body floating)。在測(cè)量時(shí),在晶體管的源極32與漏極31之間連接測(cè)試機(jī)臺(tái)40,并以所述A、B兩端之間的電容值作為晶體管30的源極32與漏極31之間的關(guān)態(tài)電容。
[0006]同理,參考圖2為在晶體管的襯底單獨(dú)引出并接地(body contact)的情況下,現(xiàn)有的測(cè)量源極12與漏極11之間電容的電路示意圖,同樣的,將測(cè)試機(jī)臺(tái)20連接在晶體管10的源極12與漏極11之間,并以所述A'、B'兩端之間的電容值作為晶體管10的源極12與漏極11之間的關(guān) 態(tài)電容。
[0007]一般情況下,晶體管源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容可以等效于圖3所示的電路圖。圖3中的E、F兩端分別表示圖1中的A、B兩端,或者圖2中的A'、B'兩端,圖3中的電容C1至C5分別表示晶體管30中柵極33與漏極31、襯底與漏極31、柵極33與襯底、柵極33與源極32以及襯底與源極32之間的電容,而上述的電容C1至C5的總和為晶體管源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容。也就是說(shuō),所述的測(cè)試機(jī)臺(tái)將測(cè)試得到的C1至C5的總和作為晶體管的源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容。
[0008]但是,由于在實(shí)際測(cè)量過(guò)程中晶體管的柵極需要加載偏壓,也就是說(shuō),加在漏極上的測(cè)試信號(hào)有一部分從柵極的接地端流出,導(dǎo)致到達(dá)源極的測(cè)試信號(hào)發(fā)生變化,也就是說(shuō),實(shí)際測(cè)得的晶體管源極與漏極之間的電容不再是圖3中示出的等效電路,因而與需要測(cè)得的關(guān)態(tài)電容存在較大差距。
[0009]因此,如何盡量準(zhǔn)確的測(cè)得晶體管源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容大小,以便于后期布置電路時(shí)針對(duì)晶體管的特性進(jìn)行相應(yīng)的布局或者調(diào)整,成為本領(lǐng)域技術(shù)人員需要解決的問(wèn)題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0010]本發(fā)明解決的問(wèn)題是提供一種晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)以及測(cè)試方法,以提高晶體管源極與漏極之間關(guān)態(tài)電容的測(cè)試準(zhǔn)確度。
[0011]為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提供一種晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu),包括:[0012]測(cè)試機(jī)臺(tái),串聯(lián)于待測(cè)晶體管的源極與漏極之間,用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào),并測(cè)量所述待測(cè)晶體管源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容;
[0013]偏置電壓源,與所述待測(cè)晶體管的柵極耦接,用于使所述待測(cè)晶體管保持關(guān)閉狀態(tài);
[0014]以及:
[0015]第一電阻,串聯(lián)于所述待測(cè)晶體管的柵極與所述偏置電壓源之間,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)流向源極。
[0016]可選的,所述測(cè)試機(jī)臺(tái)包括:信號(hào)源,用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào);信號(hào)發(fā)送端,用于將所述信號(hào)源產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)發(fā)送至所述待測(cè)晶體管;信號(hào)接收端,用于接收流經(jīng)所述待測(cè)晶體管的測(cè)試信號(hào)。
[0017]可選的,所述待測(cè)晶體管的漏極與所述信號(hào)發(fā)送端連接,所述待測(cè)晶體管的源極與所述信號(hào)接收端連接。
[0018]可選的,所述信號(hào)源產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)源為交流信號(hào)。
[0019]可選的,所述待測(cè)晶體管的襯底單獨(dú)引出并接于地端;所述測(cè)試結(jié)構(gòu)還包括--第二電阻,所述第二電阻串聯(lián)于所述待測(cè)晶體管的襯底與地端之間。
[0020]可選的,所述第一電阻或者第二電阻的電阻值不小于50K歐姆。
[0021 ] 可選的,所述 偏置電壓源為直流偏置電壓源。
[0022]相應(yīng)的,本發(fā)明還提供一種晶體管的測(cè)試方法,包括:
[0023]提供待測(cè)晶體管;
[0024]在所述待測(cè)晶體管的源極和漏極之間設(shè)置測(cè)試機(jī)臺(tái);通過(guò)所述測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)量所述源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容;
[0025]在所述待測(cè)晶體管的柵極上耦接偏置電壓源;
[0026]在所述柵極與偏置電壓源之間串聯(lián)第一電阻,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)流向源極。
[0027]可選的,提供待測(cè)晶體管的步驟包括,將所述待測(cè)晶體管的襯底單獨(dú)引出并接于地端,并在所述襯底與地端之間串聯(lián)第二電阻。
[0028]可選的,所述第一電阻或者第二電阻的電阻值不小于50K歐姆。
[0029]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0030]通過(guò)在所述待測(cè)晶體管的柵極與地端之間串聯(lián)所述第一電阻,使所述測(cè)試機(jī)臺(tái)輸出的測(cè)試信號(hào)基本不會(huì)經(jīng)由柵極流出,而是使測(cè)試信號(hào)流向源極。這樣能夠使測(cè)試機(jī)臺(tái)較為準(zhǔn)確地測(cè)量出所述源極與柵極之間的電容,進(jìn)而測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)得的所述待測(cè)晶體管的柵極與源極之間的電容值更加接近待測(cè)晶體管本身的關(guān)態(tài)電容。
[0031]進(jìn)一步,當(dāng)所述待測(cè)晶體管的襯底接地時(shí),通過(guò)在襯底與地之間串聯(lián)所述第二電阻,使得所述信號(hào)源的測(cè)試信號(hào)基本不會(huì)直接經(jīng)由所述襯底的接地端流出,而是從襯底流向所述待測(cè)晶體管的源極,使晶體管的襯底與所述源極之間、襯底與漏極之間以及襯底與柵極之間的結(jié)電容能夠被測(cè)試機(jī)臺(tái)準(zhǔn)確地測(cè)量到,從而使所述測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)得的待測(cè)晶體管的源極以及漏極之間的關(guān)態(tài)電容值更加接近真實(shí)值。
[0032]進(jìn)一步,使所述第一電阻以及所述第二電阻的電阻值不小于50K歐姆,可以使所述信號(hào)源所產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)基本不從所述待測(cè)晶體管的柵極以及襯底流出?!緦@綀D】
【附圖說(shuō)明】
[0033]圖1以及圖2是現(xiàn)有的測(cè)試晶體管源極與漏極之間電容采用的電路示意圖;
[0034]圖3是一般情況下晶體管源極與漏極之間關(guān)態(tài)電容的等效電路圖;
[0035]圖4是本發(fā)明晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)第一實(shí)施例的電路示意圖;
[0036]圖5是本發(fā)明晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)第二實(shí)施例的電路示意圖;
[0037]圖6是本發(fā)明晶體管的測(cè)試方法一實(shí)施例的流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0038]由于現(xiàn)有的測(cè)量晶體管源極與漏極之間關(guān)態(tài)電容的方法需要在晶體管的柵極連接偏置電壓源,從而導(dǎo)致一側(cè)分測(cè)試信號(hào)直接從柵極流出,導(dǎo)致源極與漏極之間的電容不能被完全的體現(xiàn),使測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)得的源極與漏極之間的電容與圖3中所示的晶體管源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容等效電路之間存在較大差距,進(jìn)而不能盡量準(zhǔn)確的得到晶體管的源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容的真實(shí)值。
[0039]為了解決所述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供一種晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)。參考圖4為本發(fā)明晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)第一實(shí)施例的電路示意圖。本第一實(shí)施例測(cè)試以襯底懸浮(也就是bodyfloating)時(shí)的晶體管的源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容為例,所述測(cè)試結(jié)構(gòu)包括:
[0040]測(cè)試機(jī)臺(tái)(圖中未標(biāo)出),串聯(lián)于待測(cè)晶體管300的源極320與漏極310之間,用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào),并測(cè)量所述待測(cè)晶體管300源極320與漏極310之間的關(guān)態(tài)電容;
[0041]偏置電壓源200,與所述待測(cè)晶體管300的柵極330耦接,用于使所述待測(cè)晶體管300保持關(guān)閉狀態(tài);
[0042]以及:
[0043]第一電阻400,串聯(lián)于所述待測(cè)晶體管300的柵極330與所述偏置電壓源200之間,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)基本流向源極320。
[0044]結(jié)合參考圖3,通過(guò)所述的第一電阻400減小測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)經(jīng)過(guò)柵極330的幾率,從而可以使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)基本不再經(jīng)過(guò)柵極330,而是改為流向源極320,也就是說(shuō),所述第一電阻400可以改變測(cè)試信號(hào)的流向,使原本從柵極330流出的部分測(cè)試信號(hào)改為由源極320流出,從而可以在測(cè)試過(guò)程中使源極320與柵極330之間的電容在測(cè)試時(shí)能夠得到較完整的體現(xiàn),進(jìn)而使所述測(cè)試機(jī)臺(tái)能夠更加準(zhǔn)確的測(cè)到通過(guò)柵極330與源極320之間的電容,最終使得測(cè)試機(jī)臺(tái)所測(cè)得的晶體管300源極320與漏極310之間的電容與圖3中的等效電路更加接近,也就是說(shuō)更加接近真實(shí)值。
[0045]在本實(shí)施例中,所述測(cè)試機(jī)臺(tái)包括:
[0046]信號(hào)源100,所述信號(hào)源100用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào),串聯(lián)于所述待測(cè)晶體管300的源極320與漏極310之間;
[0047]信號(hào)發(fā)送端(圖未示),用于將所述信號(hào)源100產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)發(fā)送至所述待測(cè)晶體管300,在本實(shí)施例中,所述信號(hào)發(fā)送端與待測(cè)晶體管300的漏極310連接;
[0048]信號(hào)接收端(圖未示),用于接收流經(jīng)所述待測(cè)晶體管300的測(cè)試信號(hào),在本實(shí)施例中,所述信號(hào)接收端與所述待測(cè)晶體管300的源極320連接。
[0049]在本實(shí)施例中,所述測(cè)試機(jī)臺(tái)的型號(hào)可以為HP4284,但是本發(fā)明對(duì)此不作限定。[0050]進(jìn)一步,在本實(shí)施例中,所述信號(hào)源100為交流信號(hào)源,也就是說(shuō),產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)為交流信號(hào)。
[0051]在本實(shí)施例中,所述偏置電壓源200為直流偏置電壓源。
[0052]另外,為了使第一電阻400的電阻值盡量大,從而迫使所述測(cè)試機(jī)臺(tái)的信號(hào)源100發(fā)出的測(cè)試信號(hào)基本全部經(jīng)過(guò)待測(cè)晶體管300的源極320,在本實(shí)施例中,使所述第一電阻400的電阻值不小于50K歐姆。
[0053]這樣的好處在于,足夠大的第一電阻400能夠使所述測(cè)試信號(hào)基本全部經(jīng)過(guò)待測(cè)晶體管300的源極320,從而使測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)得的待測(cè)晶體管的源極與漏極之間的電容更加接近圖3中的等效電路,所述測(cè)試機(jī)臺(tái)的測(cè)量值盡量接近真實(shí)值。
[0054]但是,本發(fā)明對(duì)此不做限定,因?yàn)樗龅谝浑娮?00的電阻值越大,占用的面積也會(huì)相應(yīng)的變大。所以,在實(shí)際操作中,第一電阻400的電阻值也可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整。
[0055]另外,參考圖5,示出了本發(fā)明晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu)第二實(shí)施例的電路示意圖。本發(fā)明所述的測(cè)量結(jié)構(gòu)相較于上述的第一實(shí)施例的區(qū)別在于,本第二實(shí)施例所述測(cè)試結(jié)構(gòu)還包括:在所述襯底上還連接有第二電阻500。
[0056]這樣好處在于,第二電阻500能盡量改變測(cè)試信號(hào)的流向,使一部分原本從襯底流出的測(cè)試信號(hào)改為由源極320流出,使襯底與源極320之間的結(jié)電容、襯底與漏極310之間的結(jié)電容、襯底與柵極330之間的結(jié)電容、能夠盡量體現(xiàn)從而被準(zhǔn)確的測(cè)量到,也就是說(shuō),測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)得的源極320與漏極310之間的電容值更加接近圖3中所示的晶體管關(guān)態(tài)電容的等效電路,使測(cè)試機(jī)臺(tái)的測(cè)量值更加接近所述待測(cè)晶體管300的真實(shí)值。
[0057]在本第二實(shí)施例中,所述第二電阻500的電阻值可以不小于50K歐姆。但是,需要說(shuō)明的是,與上述的第一實(shí)施例相同,所述第二電阻500旨在提供足夠大的電阻從而迫使測(cè)試機(jī)臺(tái)的信號(hào)源100的正弦交流信號(hào)從源極320流出,也就是說(shuō)本發(fā)明對(duì)所述第二電阻500的電阻值不做限定,也可以根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整為其他電阻值。
[0058]本實(shí)施例中,所述第二電阻500 —端與襯底相連,另一端與源極320相連,但是本發(fā)明對(duì)此不作限制,在其他實(shí)施例中,所述待測(cè)晶體管300的襯底還可以單獨(dú)引出并接于地端(為晶體管300的body contact情況),所述第二電阻500連接于所述襯底與地端之間。
[0059]此外,本發(fā)明還提供一種晶體管的測(cè)試方法,參考圖6,示出了本發(fā)明晶體管的測(cè)試方法一實(shí)施例的流程示意圖。本實(shí)施例以待測(cè)晶體管的襯底懸浮的情況為例,所述測(cè)試方法包括以下步驟:
[0060]步驟SI,提供待測(cè)晶體管;
[0061]步驟S2,在所述待測(cè)晶體管的源極和漏極之間設(shè)置測(cè)試機(jī)臺(tái);通過(guò)所述測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)量所述源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容;
[0062]在本實(shí)施例中,所述測(cè)試機(jī)臺(tái)還用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào)。所述測(cè)試信號(hào)為交流信號(hào),進(jìn)一步可以是正弦交流/[目號(hào)。
[0063]步驟S3,在所述待測(cè)晶體管的柵極上耦接偏置電壓源,所述偏置電壓源用于使所述待測(cè)晶體管保持關(guān)閉狀態(tài);
[0064]步驟S4,在所述柵極與偏置電壓源之間串聯(lián)第一電阻,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)流向源極。[0065]具體地,所述第一電阻用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)由原先的部分由柵極流出,改為基本由源極流出,使得待測(cè)晶體管的源極與柵極之間的電容能夠盡量得到體現(xiàn),從而被測(cè)試機(jī)臺(tái)所測(cè)得,進(jìn)而使得測(cè)試機(jī)臺(tái)最后測(cè)得的源極與漏極之間的電容接近圖3所示的等效電路,也就是更加接近待測(cè)晶體管的關(guān)態(tài)電容的真實(shí)值。
[0066]在本實(shí)施例中,所述第一電阻的電阻值可以不小于50K歐姆,從而使所述測(cè)試機(jī)臺(tái)的測(cè)試信號(hào)基本不會(huì)由待測(cè)晶體管的柵極泄漏掉。但是本發(fā)明對(duì)此不作限定,也可以更具實(shí)際情況將所述第一電阻的電阻值調(diào)整為其他數(shù)值。
[0067]上述情況為待測(cè)晶體管的襯底懸浮(body floating)的情況。
[0068]另外,本發(fā)明所述的晶體管的測(cè)試方法在待測(cè)晶體管的襯底單獨(dú)引出并接地(body contact)的情況下,還包括以下步驟:
[0069]在所述襯底與所述地端之間還串聯(lián)第二電阻;
[0070]通過(guò)所述第二電阻盡量使測(cè)試信號(hào)從源極流出,使原本可能從襯底流出的測(cè)試信號(hào)改為由基本從源極所流出,使得原本難以被體現(xiàn)的襯底與源極、漏極以及柵極之間的結(jié)電容均能夠較好的得到體現(xiàn)從而被測(cè)試機(jī)臺(tái)所測(cè)得。也就是說(shuō),測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)得的源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容的測(cè)量值更加接近真實(shí)值。
[0071]另外,在本實(shí)施例中,所述第二電阻的電阻值不小于50K歐姆。但是,需要說(shuō)明的是,與上述的第一電阻相同,本發(fā)明對(duì)此不作限制,也可以根據(jù)實(shí)際情況對(duì)所述第二電阻的電阻值進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整。
[0072]雖然本發(fā)明披露如上,但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與修改,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種晶體管的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,包括: 測(cè)試機(jī)臺(tái),串聯(lián)于待測(cè)晶體管的源極與漏極之間,用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào),并測(cè)量所述待測(cè)晶體管源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容; 偏置電壓源,與所述待測(cè)晶體管的柵極耦接,用于使所述待測(cè)晶體管保持關(guān)閉狀態(tài); 以及: 第一電阻,串聯(lián)于所述待測(cè)晶體管的柵極與所述偏置電壓源之間,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)流向源極。
2.如權(quán)利要求1所述的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述測(cè)試機(jī)臺(tái)包括: 信號(hào)源,用于產(chǎn)生測(cè)試信號(hào); 信號(hào)發(fā)送端,用于將所述信號(hào)源產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)發(fā)送至所述待測(cè)晶體管; 信號(hào)接收端,用于接收流經(jīng)所述待測(cè)晶體管的測(cè)試信號(hào)。
3.如權(quán)利要求2所述的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述待測(cè)晶體管的漏極與所述信號(hào)發(fā)送端連接,所述待測(cè)晶體管的源極與所述信號(hào)接收端連接。
4.如權(quán)利要求2所述的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述信號(hào)源產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)源為交流信號(hào)。
5.如權(quán)利要求1所述的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述待測(cè)晶體管的襯底單獨(dú)引出并接于地端; 所述測(cè)試結(jié)構(gòu)還包括:第二電阻,所述第二電阻串聯(lián)于所述待測(cè)晶體管的襯底與地端之間。
6.如權(quán)利要求5所述的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一電阻或者第二電阻的電阻值不小于50K歐姆。
7.如權(quán)利要求1所述的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述偏置電壓源為直流偏置電壓源。
8.一種晶體管的測(cè)試方法,其特征在于,包括: 提供待測(cè)晶體管; 在所述待測(cè)晶體管的源極和漏極之間設(shè)置測(cè)試機(jī)臺(tái);通過(guò)所述測(cè)試機(jī)臺(tái)測(cè)量所述源極與漏極之間的關(guān)態(tài)電容; 在所述待測(cè)晶體管的柵極上耦接偏置電壓源; 在所述柵極與偏置電壓源之間串聯(lián)第一電阻,用于使測(cè)試機(jī)臺(tái)產(chǎn)生的測(cè)試信號(hào)流向源極。
9.如權(quán)利要求8所述的測(cè)試方法,其特征在于,提供待測(cè)晶體管的步驟包括,將所述待測(cè)晶體管的襯底單獨(dú)引出并接于地端,并在所述襯底與地端之間串聯(lián)第二電阻。
10.如權(quán)利要求9所述的測(cè)試方法,其特征在于,所述第一電阻或者第二電阻的電阻值不小于50K歐姆。
【文檔編號(hào)】H01L21/66GK103811372SQ201410084281
【公開(kāi)日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2014年3月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月7日
【發(fā)明者】劉張李 申請(qǐng)人:上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司