顯示背板及其制備方法和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種顯示背板及其制備方法和顯示裝置，以改善現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部陣列基板產(chǎn)生水汽對有機發(fā)光顯示裝置使用壽命的影響。本發(fā)明中顯示背板，包括形成在陣列基板上用于界定有機發(fā)光單元的像素界定層，所述像素界定層內(nèi)設置有容置空間，所述容置空間內(nèi)設置有吸水性物質(zhì)，其中，所述容置空間具有貫穿所述像素界定層上表面和/或下底面、并使所述吸水性物質(zhì)與所述有機發(fā)光單元不接觸的形狀。通過本發(fā)明能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部的水汽進行吸收，改善水汽對有機發(fā)光顯示裝置的性能造成影響，以延長有機發(fā)光顯示裝置的使用壽命。
【專利說明】顯示背板及其制備方法和顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示器制備領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示背板及其制備方法和顯示裝置?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]小分子有機發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,0LED)和高分子發(fā)光二極管(Polymer Light-emitting Diode,PLED),因其具有自發(fā)光、快速響應、寬視角等特點，以OLED或PLED為基礎的有機發(fā)光顯示裝置成為顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品。
[0003]以OLED或PLED為基礎的有機發(fā)光顯示裝置，顯示背板一般包括TFT陣列基板、位于陣列基板之上的像素界定層、由像素界定層(Pixel Define Layer, F1DL)界定的若干個有機發(fā)光單元(諸如OLED或PLED)、以及位于最上層的封裝層，其中，有機發(fā)光單元一般由陽極、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和陰極構(gòu)成，并且有機發(fā)光顯示裝置的壽命很大程度上取決于有機發(fā)光單元是否與水汽、氧氣接觸，如果有機發(fā)光顯示裝置封裝不夠嚴密，空氣中的水汽和氧氣等成分有可能滲入到其內(nèi)部，就會造成有機發(fā)光顯示單元的陰極的功能函數(shù)升高，進而影響有機發(fā)光顯示裝置的壽命。另外，水汽還會與空穴傳輸層以及電子傳輸層(ETL)發(fā)生化學反應，影響有機發(fā)光顯示裝置的壽命，因此對有機發(fā)光顯示裝置進行有效封裝，使有機發(fā)光顯示裝置的各功能層與大氣中的水汽、氧氣等成分隔開，就可以延長有機發(fā)光顯示裝置使用壽命。
[0004]現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示裝置一般都是在諸如氮氣(N2)或惰性氣體中完成密封封裝的，并且在封裝層上設置有干燥劑，以防止空氣中的水汽滲入到有機發(fā)光器件之中，延長有機發(fā)光器件使用壽命，但是在有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部陣列基板上的一些器件例如薄膜晶體管、彩膜等也可能產(chǎn)生水汽等氣體，這些器件內(nèi)部產(chǎn)生的水汽，仍會影響有機發(fā)光器件的使用壽命。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是提供一種顯示背板及其制備方法和顯示裝置，以避免現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部產(chǎn)生的水汽對有機發(fā)光顯示裝置使用壽命造成的影響。
[0006]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0007]本發(fā)明一方面提供了一種顯示背板，包括形成在陣列基板上用于界定有機發(fā)光單元的像素界定層，所述像素界定層內(nèi)設置有容置空間，所述容置空間內(nèi)設置有吸水性物質(zhì)，其中，
[0008]所述容置空間具有貫穿所述像素界定層上表面和/或下底面、并使所述吸水性物質(zhì)與所述有機發(fā)光單元不接觸的形狀。
[0009]本發(fā)明中提供的顯示背板，像素界定層內(nèi)設置有容置空間，并且在容置空間內(nèi)設置有吸水性物質(zhì)，該容置空間具有貫穿所述像素界定層上表面和/或下底面、并使所述吸水性物質(zhì)與所述有機發(fā)光單元不接觸的形狀，能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部散發(fā)的水汽進行吸收，改善水汽對有機發(fā)光顯示裝置的性能造成影響，以延長有機發(fā)光顯示裝置的使用壽命。
[0010]較佳的，所述像素界定層包括自下而上依次設置在陣列基板上的第一像素界定層和第二像素界定層；所述容置空間為在垂直所述陣列基板方向上，貫穿所述第一像素界定層的第一過孔，能夠?qū)ξ挥谙袼亟缍▽又碌年嚵谢迳仙l(fā)的水汽進行吸收，并通過對第一像素界定層層進行簡單的構(gòu)圖工藝即可實現(xiàn)，簡化工藝。
[0011]進一步的，所述第一過孔的數(shù)量為至少一個，較多的過孔能夠放置更多的吸水性物質(zhì)，以更好的對水汽進行吸收。
[0012]較佳的，所述容置空間為在垂直所述陣列基板方向上，貫穿所述像素界定層的第二過孔，能夠?qū)︼@示裝置內(nèi)部位于像素界定層之上或者之下的的器件產(chǎn)生的水汽進行吸收，加強吸水效果。
[0013]進一步的，所述第二過孔的數(shù)量為至少一個，較多的過孔能夠放置更多的吸水性物質(zhì)，以更好的對水汽進行吸收。
[0014]本發(fā)明另一方面還提供了一種顯示裝置，包括上述涉及的顯示背板，能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部散發(fā)的水汽進行吸收，改善水汽對有機發(fā)光顯示裝置的性能造成影響，以延長有機發(fā)光顯示裝置的使用壽命。
[0015]本發(fā)明再一方面還提供了一種顯示背板的制備方法，包括在預先制備的陣列基板上形成像素界定層以及有機發(fā)光單元的步驟，還包括:
[0016]形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，所述容置空間具有貫穿所述像素界定層上表面和/或下底面、并使所述吸水性物質(zhì)與所述有機發(fā)光單元不接觸的形狀。
[0017]本發(fā)明中上述顯示背板的制備方法，包括形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，該容置空間具有貫穿所述像素界定層上表面和/或下底面、并使所述吸水性物質(zhì)與所述有機發(fā)光單元不接觸的形狀，故能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部散發(fā)的水汽進行吸收，改善水汽對有機發(fā)光器件的性能造成影響，以延長有機發(fā)光器件的使用壽命。
[0018]較佳的述形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，具體包括:
[0019]在所述陣列基板上欲形成容置空間的位置處形成第一膜層，所述第一膜層中包括吸水性物質(zhì)；
[0020]在所述第一膜層之上形成像素界定層，使所述像素界定層在所述第一膜層位置處形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
[0021]本發(fā)明實施例涉及的上述顯示背板的制作方法，通過先形成包括吸水性物質(zhì)的第一膜層，然后形成像素界定層的過程，可使像素界定層在形成有第一膜層的位置處直接形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，工藝實現(xiàn)簡單。
[0022]進一步的，所述形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，具體包括:
[0023]形成第一像素界定層；
[0024]對所述第一像素界定層進行構(gòu)圖工藝，形成在垂直所述陣列基板方向上、貫穿所述第一像素界定層的第一過孔；
[0025]向所述第一過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)；
[0026]形成第二像素界定層，使所述第二像素界定層覆蓋所述吸水性物質(zhì)，形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
[0027]本發(fā)明實施例中，將第一像素界定層中形成的第一過孔作為所需的容置空間，該容置空間貫穿像素界定層的下表面，暴露陣列基板的上表面，能夠?qū)﹃嚵谢迳仙l(fā)的水汽進行吸收。
[0028]所述形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，具體包括:
[0029]形成像素界定層；
[0030]對所述像素界定層進行構(gòu)圖工藝，形成在垂直所述陣列基板方向上、貫穿所述像素界定層的第二過孔；
[0031]向所述第二過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)，形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
[0032]本發(fā)明實施例采用上述方法制作的容置空間貫穿整個像素界定層，容置空間內(nèi)填充有吸水性物質(zhì)，能夠?qū)︼@示裝置內(nèi)部的水汽進行更好的吸收。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0033]圖1A-圖1C為本發(fā)明實施例提供的設置有容置空間的像素界定層的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖2A-圖2B為本發(fā)明實施例提供的具有一個第一過孔的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖3A-圖3B為本發(fā)明實施例提供的具有多個第一過孔的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖4A-圖4B為本發(fā)明實施例提供的具有一個第二過孔的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖5A-圖5B為本發(fā)明實施例提供的具有多個第二過孔的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖6為本發(fā)明實施例提供的顯示裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖7A-圖7C為本發(fā)明實施例提供的顯示背板制作流程示意圖。
【具體實施方式】
[0040]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，并不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0041]實施例一
[0042]本發(fā)明實施例一提供一種顯示背板，如圖1A、圖1B和圖1C所示，該顯示背板包括陣列基板I和用于限定有機發(fā)光單元的像素界定層2，像素界定層2內(nèi)設置有容置空間3，容置空間3內(nèi)設置有吸水性物質(zhì)4。
[0043]具體的，如圖1A、圖1B和圖1C，本發(fā)明實施例中容置空間3具有貫穿像素界定層2的上表面和/或下表面、并使設置在其內(nèi)部的吸水性物質(zhì)4不與有機發(fā)光單元接觸的形狀，使設置在其內(nèi)部的吸水性物質(zhì)4不與有機發(fā)光單元接觸。
[0044]需要說明的是，本發(fā)明實施例圖1A、圖1B和圖1C中容置空間3的形狀、數(shù)量以及設置位置只是進行示意性說明，并不引以為限，例如本發(fā)明實施例中容置空間3的數(shù)量也可設置為不連續(xù)的多個。[0045]具體的，本發(fā)明實施例中，圖1A所示的像素界定層的結(jié)構(gòu)示意圖，容置空間3貫穿像素界定層的上表面，故放置在容置空間3內(nèi)部的吸水性物質(zhì)能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部上方膜層散發(fā)的水汽以及空氣中滲入到有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部的水汽進行較好的吸收。圖1B中所示的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖，像素界定層的下表面(與陣列基板I接觸的一側(cè))設置有容置空間3，即容置空間3貫穿像素界定層的下底面，使陣列基板I的上表面暴露，容置空間3內(nèi)設置有吸水性物質(zhì)4，能夠較好的對陣列基板上的器件散發(fā)的水汽進行吸收。圖1C所示的像素界定層的結(jié)構(gòu)示意圖，容置空間3貫穿整個像素界定層，故放置在容置空間3內(nèi)部的吸水性物質(zhì)能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部的水汽進行較好的吸收。
[0046]具體的，本發(fā)明實施例中陣列基板I 一般包括襯底以及薄膜晶體管(Thin FilmTransistor, TFT)，其中，襯底可以為透明襯底，也可以為不透明襯底，例如可為陶瓷、金屬等制備頂發(fā)射式有機發(fā)光顯示裝置的不透明襯底；薄膜晶體管可以為氧化物薄膜晶體管，還可以為低溫多晶硅薄膜晶體管或非晶硅薄膜晶體管。
[0047]進一步的，本發(fā)明實施例中對陣列基板I的結(jié)構(gòu)不做限定，陣列基板I中的薄膜晶體管可為底柵結(jié)構(gòu)、頂柵結(jié)構(gòu)、交疊型結(jié)構(gòu)、反交疊型結(jié)構(gòu)、共面型結(jié)構(gòu)或反共面型結(jié)構(gòu)等。
[0048]本發(fā)明實施例中吸水性物質(zhì)4可以為氧化鈣(CaO)、氧化鎂(MgO)或氧化鋇(BaO)等金屬氧化物干燥劑，也可以為有機材料干燥劑，或者摻雜有以上金屬氧化物的像素界定層材料。
[0049]本發(fā)明實施例中像素界定層2的材料可為亞克力系材料，也可為樹脂材料。進一步的，本發(fā)明實施例中像素界定層2可包括自下而上依次設置在陣列基板I上的第一像素界定層201和第二像素界定層202。本發(fā)明實施例中為使吸水性物質(zhì)能夠?qū)﹃嚵谢逯猩l(fā)的水汽進行很好的吸收，本發(fā)明實施例中可優(yōu)選將容置空間3設置為在垂直陣列基板方向上，貫穿第一像素界定層201的第一過孔5，如圖2A所示。在圖2A所示的第一過孔5內(nèi)放置吸水性物質(zhì)4后，再制備第二像素界定層202，可得到如圖2B所示的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明實施例中第一過孔5設置在第一像素界定層201，而在第二像素界定層202并未設置過孔，故形成圖2A和圖2B所示的像素界定層結(jié)構(gòu)，可以在制備完第一像素界定層201后，直接采用構(gòu)圖工藝形成過孔。
[0050]進一步的，本發(fā)明實施例中還可在第一像素界定層201上設置多個第一過孔5，并在多個第一過孔5內(nèi)放置吸水性物質(zhì)4，圖3A所示為本發(fā)明實施例中設置有多個第一過孔5的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖，圖3B所示為本發(fā)明實施例中在多個第一過孔5內(nèi)放置吸水性物質(zhì)4后，再制備第二像素界定層202，可以得到如圖3B所示的像素界定層結(jié)構(gòu)示意圖。如圖3A和圖3B所示，第一過孔5設置在第一像素界定層201，而在第二像素界定層202并未設置過孔，可以在制備完第一像素界定層201后，直接采用構(gòu)圖工藝形成過孔。
[0051]進一步的，本發(fā)明實施例中第一像素界定層201之間的第一過孔5的個數(shù)為至少一個，第一過孔5數(shù)量越多，放置的吸水性物質(zhì)就越多，對有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部的水汽吸收效果就更好，但像素界定層的尺寸一般比較小，出于工藝實現(xiàn)的考慮，以及有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部陣列基板產(chǎn)生的水汽數(shù)量并不是很多，本發(fā)明實施例中優(yōu)選在第一像素界定層201之間形成一個第一過孔5，不改變原有像素界定層尺寸的前提下，不僅實現(xiàn)對有機發(fā)光單元進行界定，不影響像素的大小，并能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部產(chǎn)生的水汽進行吸收，故本發(fā)明實施例中第一過孔5的個數(shù)為至少一個。[0052]進一步優(yōu)選的，為使容置空間3中設置的吸水性物質(zhì)能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部的水汽進行很好的吸收，本發(fā)明實施例中優(yōu)選容置空間為貫穿整個像素界定層的第二過孔，即該容置空間3將原有像素界定層分為獨立的兩部分，可參閱圖1C所示。當然本發(fā)明實施例中像素界定層2若包括第一像素界定層201和第二像素界定層202，則可將容置空間3設置為在垂直陣列基板方向上，貫穿第一像素界定層201和第二像素界定層202的第二過孔6，如圖4A所示，在該第二過孔6內(nèi)放置吸水性物質(zhì)4后的結(jié)構(gòu)示意圖如圖4B所示，采用該種結(jié)構(gòu)，該吸水性物質(zhì)4能夠?qū)︼@示裝置內(nèi)部的水汽進行吸收。
[0053]本發(fā)明實施例中第二過孔6的個數(shù)為至少一個，設置有多個第二過孔6的像素界定層結(jié)構(gòu)如圖5A所示，在多個第二過孔6內(nèi)放置吸水性物質(zhì)4之后的結(jié)構(gòu)如圖5B所示。本發(fā)明實施例中第二過孔6的數(shù)量越多，放置的吸水性物質(zhì)4就越多，對水汽的吸收效果就越好，但出于工藝考慮以及實際有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部產(chǎn)生的水汽也很少的情況，本發(fā)明實施例中可將第二過孔6的數(shù)量設置為一個。
[0054]本發(fā)明實施例中提供的顯示背板，在像素界定層上設置有容置空間(例如過孔)，并且在容置空間內(nèi)設置有吸水性物質(zhì)，故采用本發(fā)明實施例提供的顯示背板，能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部的水汽進行吸收，改善水汽對有機發(fā)光顯示裝置的性能造成影響，以延長有機發(fā)光顯示裝置的使用壽命。
[0055]實施例二
[0056]本發(fā)明實施例二提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括實施例一涉及的顯示背板，即包括陣列基板1、形成在陣列基板I上的像素界定層2，還包括由像素界定層2界定的若干個有機發(fā)光單元7、以及封裝層8，如圖6所示。
[0057]本發(fā)明實施例中顯示背板的結(jié)構(gòu)與實施例一中涉及的顯示背板結(jié)構(gòu)相同，在此不再贅述。
[0058]需要說明的是，本發(fā)明實施例中上述各種類型的有機發(fā)光單元的結(jié)構(gòu)并不限定，還可包括空穴注入層、電子注入層、電子阻擋層、空穴阻擋層等。
[0059]進一步的，封裝層8采用玻蓋式封裝或薄膜式封裝，對有機發(fā)光顯示裝置進行密封。
[0060]本發(fā)明實施例提供的顯示裝置，在顯示背板的像素界定層上設置有與有機發(fā)光單元不接觸的吸水性物質(zhì)，在避免吸水性物質(zhì)與有機發(fā)光單元各膜層發(fā)生化學反應以及不影響有機發(fā)光顯示裝置中像素大小的前提下，能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部的水汽進行吸收，改善水汽對有機發(fā)光顯示裝置的性能造成影響，以延長有機發(fā)光顯示裝置的使用壽命。
[0061]實施例三
[0062]本發(fā)明實施例三提供一種顯示背板的制備方法，該制備方法包括制備陣列基板，在陣列基板上形成像素界定層以及有機發(fā)光單元等步驟，還包括形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，本發(fā)明實施例中在像素界定層內(nèi)形成的容置空間具有貫穿像素界定層上表面和/或下底面、并使吸水性物質(zhì)與有機發(fā)光單元不接觸的形狀。
[0063]本發(fā)明以下將結(jié)合具體實施例對上述涉及的顯示背板制作方法進行舉例說明，本發(fā)明實施例中著重對形成像素界定層，以及形成容置空間的過程進行詳細說明，其它與現(xiàn)有技術(shù)相似，在此不再贅述。
[0064]本發(fā)明實施例中形成像素界定層和內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間的過程，可根據(jù)具體的容置空間形成的位置及形狀采用不同的制作方式。
[0065]本發(fā)明實施例中形成圖1B和圖1C所示的容置空間的形狀可優(yōu)選如圖7A所示的制作流程:
[0066]SlOl:在陣列基板上欲形成容置空間的位置處形成第一膜層，該第一膜層中包括有吸水性物質(zhì)。
[0067]具體的，本發(fā)明實施例中可在陣列基板上形成摻雜有吸水性物質(zhì)的膜層，然后對該膜層進行構(gòu)圖工藝，在欲形成容置空間的位置處形成第一膜層，該第一膜層的形狀與欲形成的容置空間的形狀相一致。
[0068]S102:在第一膜層之上形成像素界定層，使像素界定層在第一膜層位置處形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
[0069]具體的，本發(fā)明實施例在陣列基板上已形成有第一膜層的基礎上，進行像素界定層的制作，可使像素界定層在形成有第一膜層的位置處直接形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
[0070]本發(fā)明實施例涉及的上述顯示背板的制作方法，通過先形成包括吸水性物質(zhì)的第一膜層，然后形成像素界定層的過程，可使像素界定層在形成有第一膜層的位置處直接形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，工藝實現(xiàn)簡單。
[0071]當然，若工藝條件允許，本發(fā)明實施例中也可采用圖7B所示的制作流程，包括:
[0072]S201:預先制備陣列基板。
[0073]具體的，本發(fā)明實施例中的陣列基板為TFT基板，本發(fā)明實施例中制備TFT基板可采用現(xiàn)有的各種實現(xiàn)方式，在此不再贅述。
[0074]S202:在預先制備的陣列基板上，形成第一像素界定層。
[0075]具體的，本發(fā)明實施例中可在預先制備好的陣列基板上采用沉積、旋涂或噴涂的方式，鋪設形成像素界定層的材料，該材料可以是亞克力系材料也可以是樹脂材料，本發(fā)明實施例不做限定，本發(fā)明實施例對鋪設的像素界定層進行構(gòu)圖工藝形成第一像素界定層。
[0076]S203:形成貫穿第一像素界定層的第一過孔。
[0077]本發(fā)明實施例中可采取多種方式形成容置空間，并且形成的容置空間的形狀也可根據(jù)實際情況設定，使其具有貫穿像素界定層上表面和/或下底面、并使放置的吸水性物質(zhì)與有機發(fā)光單元不接觸的形狀。
[0078]進一步的，本發(fā)明實施例中形成容置空間的過程可根據(jù)像素界定層的層級結(jié)構(gòu)以及欲形成容置空間的形狀，靈活選擇不同的制備工藝。
[0079]本發(fā)明實施例可在形成第一像素界定層之后，對第一像素界定層進行構(gòu)圖工藝，形成在垂直陣列基板方向上、貫穿第一像素界定層的第一過孔，向該第一過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)，以形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
[0080]S204:向S203中形成的第一過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)。
[0081]具體的，本發(fā)明實施例中形成第一過孔后，可將吸水性物質(zhì)注入至形成的第一過孔中，并進行烘干。
[0082]本發(fā)明實施例中的吸水性物質(zhì)可以為氧化鈣(CaO)、氧化鎂(MgO)或氧化鋇(BaO)等金屬氧化物干燥劑，也可以為有機材料干燥劑，或者摻雜有以上金屬氧化物的像素界定層材料。[0083]本發(fā)明實施例中向S103中形成的第一過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)時，注入的吸水性物質(zhì)可以填滿整個第一過孔，以最終形成圖2B所示的結(jié)構(gòu)，注入的吸水性物質(zhì)也可不填滿第一過孔，以最終形成圖1B所示的結(jié)構(gòu)。
[0084]S205:形成第二像素界定層，使第二像素界定層覆蓋吸水性物質(zhì)，形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
[0085]本發(fā)明實施例中形成第二像素界定層的材料可以與第一像素界定層的材料相同，也可不同，若第二像素界定層的材料與第一像素界定層的材料相同，則可形成圖1B所示的像素界定層結(jié)構(gòu)，若第二像素界定層的材料與第一像素界定層的材料不同，則可形成圖2B所示的像素界定層結(jié)構(gòu)。
[0086]本發(fā)明實施例中，將第一像素界定層中形成的第一過孔作為所需的容置空間，該容置空間貫穿像素界定層的下表面，暴露陣列基板的上表面，能夠?qū)﹃嚵谢迳仙l(fā)的水汽進行吸收。
[0087]當然，本發(fā)明實施例中若要形成貫穿整個像素界定層的容置空間，則可采用如圖7C所示的制作方式:
[0088]S301:預先制備陣列基板。
[0089]S302:在預先制備的陣列基板上，形成像素界定層。
[0090]S303:對S302中形成的像素界定層進行構(gòu)圖工藝，形成在垂直陣列基板方向上、貫穿像素界定層的第二過孔。
[0091]S304:向S303中形成的第二過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)，形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)
的容置空間。
[0092]采用上述方法制作的容置空間貫穿整個像素界定層，能夠?qū)︼@示裝置件內(nèi)部的水汽進行更好的吸收。
[0093]需要說明的是，本發(fā)明實施例中形成的容置空間的數(shù)量為至少一個，為使工藝實現(xiàn)簡單，本發(fā)明實施例中優(yōu)選該容置空間的數(shù)量為一個。
[0094]進一步需要說明的是，本發(fā)明上述實施例中涉及的顯示背板制備方法只是進行示意性說明，并不引以為限，只要能夠形成本發(fā)明實施例涉及的內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間的形狀即可。
[0095]本發(fā)明實施例提供的顯示背板的制備方法，包括形成有內(nèi)部設置吸水性物質(zhì)的容置空間的步驟，故采用該方法制備的顯示背板能夠?qū)τ袡C發(fā)光顯示裝置內(nèi)部產(chǎn)生的水汽進行吸收，改善水汽對有機發(fā)光顯示裝置的性能造成影響，以延長有機發(fā)光顯示裝置的使用壽命。并且本發(fā)明實施例中將吸水性物質(zhì)放置在像素界定層位置處，在不影響有機發(fā)光顯示裝置中像素的大小的前提下，達到對有機發(fā)光顯示裝置內(nèi)部產(chǎn)生的水汽進行吸收。
[0096]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示背板，包括形成在陣列基板上用于界定有機發(fā)光單元的像素界定層，其特征在于， 所述像素界定層內(nèi)設置有容置空間，所述容置空間內(nèi)設置有吸水性物質(zhì)，其中， 所述容置空間具有貫穿所述像素界定層上表面和/或下底面、并使所述吸水性物質(zhì)與所述有機發(fā)光單元不接觸的形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于，所述像素界定層包括自下而上依次設置在陣列基板上的第一像素界定層和第二像素界定層； 所述容置空間為在垂直所述陣列基板方向上，貫穿所述第一像素界定層的第一過孔。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示背板，其特征在于，所述第一過孔的數(shù)量為至少一個。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于， 所述容置空間為在垂直所述陣列基板方向上，貫穿所述像素界定層的第二過孔。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示背板，其特征在于，所述第二過孔的數(shù)量為至少一個。
6.一種顯示裝置，其特征在于，包括: 權(quán)利要求1-5任一項所述的顯示背板。
7.—種顯示背板的制備方法，包括在預先制備的陣列基板上形成像素界定層以及有機發(fā)光單元的步驟，其特征在于，還包括: 形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，所述容置空間具有貫穿所述像素界定層上表面和/或下底面、并使所述吸水性物質(zhì)與所述有機發(fā)光單元不接觸的形狀。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，具體包括: 在所述陣列基板上欲形成容置空間的位置處形成第一膜層，所述第一膜層中包括吸水性物質(zhì)； 在所述第一膜層之上形成像素界定層，使所述像素界定層在所述第一膜層位置處形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
9.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，具體包括: 形成第一像素界定層； 對所述第一像素界定層進行構(gòu)圖工藝，形成在垂直所述陣列基板方向上、貫穿所述第一像素界定層的第一過孔； 向所述第一過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)； 形成第二像素界定層，使所述第二像素界定層覆蓋所述吸水性物質(zhì)，形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
10.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間，具體包括: 形成像素界定層； 對所述像素界定層進行構(gòu)圖工藝，形成在垂直所述陣列基板方向上、貫穿所述像素界定層的第二過孔； 向所述第二過孔內(nèi)注入吸水性物質(zhì)，形成內(nèi)部設置有吸水性物質(zhì)的容置空間。
【文檔編號】H01L51/56GK103840087SQ201410055236
【公開日】2014年6月4日 申請日期:2014年2月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月18日
【發(fā)明者】焦志強, 孫力 申請人:京東方科技集團股份有限公司