使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，濕法刻蝕設(shè)備包括依次設(shè)置的第一刻蝕槽（M2）、第二刻蝕槽（M4）、堿槽（M6）、酸槽（M8）以及設(shè)置在堿槽（M6）和酸槽（M8）之間的水槽（M7），制造電池的方法包括以下步驟：步驟S10：排空第二刻蝕槽（M4）內(nèi)的刻蝕藥液；步驟S20：使水槽（M7）的溫度保持在10℃至20℃的范圍內(nèi)；步驟S30：向第一刻蝕槽（M2）上料，進行生產(chǎn)。本發(fā)明的技術(shù)方案有效地解決了現(xiàn)有技術(shù)中產(chǎn)生白點片的問題。
【專利說明】使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電池制造工藝【技術(shù)領(lǐng)域】，具體而言，涉及一種使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]圖1示出了利用SCHMIN公司的濕法刻蝕設(shè)備通過選擇性發(fā)射極(selectiveemitter, SE)刻蝕工藝的生產(chǎn)流程示意圖。如圖1所示，Ml槽用于上料，M2是刻蝕槽(其內(nèi)設(shè)有HN03和HF混合形成的刻蝕液)，M4是選擇性刻蝕槽(其內(nèi)設(shè)有HN03和HF混合形成的刻蝕液)，M6是堿槽(用于去多孔硅和油墨，M6內(nèi)設(shè)有KOH和BDG混合形成的溶液)，M8槽是酸槽(用于去PSG (原硅玻璃層，硅片經(jīng)擴散爐后的產(chǎn)物)，M8內(nèi)設(shè)有HF溶液)。M3槽、M5槽、M7槽和M9槽均為水槽，目的是清洗硅片，防止前化學(xué)槽污染后化學(xué)槽。
[0003]圖2示出了利用SCHMIN設(shè)備通過普通刻蝕工藝的生產(chǎn)流程示意圖。如圖2所示，普通刻蝕工藝的生產(chǎn)流程與SE刻蝕工藝的生產(chǎn)流程的差異僅在于不進行選擇性刻蝕槽。普通刻蝕工藝與SE刻蝕工藝可以采用同一臺的設(shè)備，只需要排空M4槽內(nèi)的刻蝕藥液即可。
[0004]當(dāng)利用SCHMIN設(shè)備通過SE工藝運行一段時間后，切換成普通工藝后(即排空M4槽內(nèi)的刻蝕藥液)進行生產(chǎn)時，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，生產(chǎn)出的硅片經(jīng)鍍膜后會出現(xiàn)一些白點，這樣就形成了白點片。上述白點片需要返工，增加了生產(chǎn)成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明旨在提供一種使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中產(chǎn)生白點片的問題。
[0006]為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，濕法刻蝕設(shè)備包括依次設(shè)置的第一刻蝕槽、第二刻蝕槽、堿槽、酸槽以及設(shè)置在堿槽和酸槽之間的水槽，制造電池的方法包括以下步驟:步驟SlO:排空第二刻蝕槽內(nèi)的刻蝕藥液；步驟S20:使水槽的溫度保持在10°C至20°C的范圍內(nèi)；步驟S30:向第一刻蝕槽上料，進行生產(chǎn)。
[0007]進一步地,水槽包括依次設(shè)置的第一水槽、第二水槽和第三水槽,使第一水槽的噴淋水流量的速度P15保持在15L/min至25L/min的范圍內(nèi)，使第二水槽和第三水槽的噴淋水流量的速度P16和P17保持在20L/min至30L/min的范圍內(nèi)。
[0008]進一步地，堿槽包括第一堿槽和第二堿槽，使第一堿槽的二乙二醇丁醚的自動補液量在7ml至13ml的范圍內(nèi)，使第二堿槽的二乙二醇丁醚的自動補液量在2ml至8ml的范圍內(nèi)。
[0009]進一步地，第一刻蝕槽內(nèi)置有HN03和HF的混合溶液。
[0010]進一步地，堿槽內(nèi)置有KOH和BDG的混合溶液。
[0011]進一步地，酸槽內(nèi)置有HF溶液。
[0012]現(xiàn)有技術(shù)中的位于堿槽和酸槽之間的水槽的溫度為45°C，在這個溫度下，固體蠟會溶解成液體。由于酸槽的溫度一般不超過30°C，硅片經(jīng)過水槽后進入酸槽時，粘在硅片上的液體蠟瞬速固化，變成固體蠟顆粒黏在硅片上。應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，使水槽的溫度保持在10°C至20°C的范圍內(nèi)，這樣，固體蠟不會溶解成液體，硅片經(jīng)過水槽M7時能把固體蠟顆粒清洗干凈，進而有效地減少PECVD鍍膜白點，進而提高了濕法刻蝕設(shè)備的產(chǎn)能利用率，降低車間的生產(chǎn)成本，具有很高的使用價值。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0014]圖1示出了利用SCHMIN設(shè)備通過SE刻蝕工藝的生產(chǎn)流程示意圖；
[0015]圖2示出了利用SCHMIN設(shè)備通過普通刻蝕工藝的生產(chǎn)流程示意圖；以及
[0016]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法的實施例方式的流程不意圖。
【具體實施方式】
[0017]需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細說明本發(fā)明。
[0018]針對【背景技術(shù)】中提到的產(chǎn)生白點片的問題，發(fā)明人進行了一系列的實驗驗證后發(fā)現(xiàn)出現(xiàn)白點片的原因如下:
[0019]在生產(chǎn)SE工藝時，需要前面INKJET工序在硅片上噴涂油墨。油墨為:將顏料(著色料)、填充料、連結(jié)料和輔助劑經(jīng)過混和、研磨，使顏料、填充料和輔助劑均勻細致的分布在連結(jié)料中，成為一種膠體分散體系，外觀是均勻細膩的流體或膏狀體。噴涂油墨后在濕法工序使用SCHMIN設(shè)備做SE工藝時，還需要用到一種化學(xué)藥品——BDG0 BDG的中文名稱二乙二醇丁醚，其有較高的沸點，較低的揮發(fā)速度，可用作油漆、油墨、樹脂等溶劑，也可溶解油脂，染料，樹脂。硝化纖維素等，也用于有機合成。BDG與堿溶液混合后可以加速油墨溶解到堿藥液里，清洗硅片表面的油墨，并且還起到保護硅片的作用。
[0020]由于濕法工序的設(shè)備堿槽M6的槽體中存有油墨(通俗的說法是固體顆粒蠟)，蠟有一定的粘性。當(dāng)硅片經(jīng)過堿槽M6、水槽M7時，蠟會粘在硅片上，鍍膜后就能看到白點。
[0021]針對上述原因，本申請?zhí)岢隽艘环N有效的解決方案。濕法刻蝕設(shè)備包括依次設(shè)置的第一刻蝕槽M2、第二刻蝕槽M4、堿槽M6、酸槽M8以及設(shè)置在堿槽M6和酸槽M8之間的水槽M7，如圖3所示，根據(jù)本申請的使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法的實施例方式包括以下步驟:
[0022]步驟SlO:排空第二刻蝕槽M4的刻蝕藥液，即排空選擇性刻蝕槽內(nèi)的刻蝕藥液；
[0023]步驟S20:使水槽M7的溫度保持在10°C至20°C的范圍內(nèi)；
[0024]步驟S30:向第一刻蝕槽M2上料，進行生產(chǎn)。
[0025]現(xiàn)有技術(shù)中的水槽M7的溫度為45°C，在這個溫度下，固體蠟會溶解成液體。由于酸槽M8的溫度一般不超過30°C，硅片經(jīng)過水槽M7后進入酸槽M8時，粘在硅片上的液體蠟瞬速固化，變成固體蠟顆粒黏在硅片上。應(yīng)用本實施方式的技術(shù)方案，使水槽M7的溫度保持在10°C至20°C的范圍內(nèi)，這樣，固體蠟不會溶解成液體，硅片經(jīng)過水槽M7時能把固體蠟顆粒清洗干凈，進而有效地減少PECVD鍍膜白點，進而提高了濕法刻蝕設(shè)備的產(chǎn)能利用率，降低車間的生產(chǎn)成本，具有很高的使用價值。
[0026]水槽M7的加熱通過加熱棒來完成，通過降低加熱棒的溫度來調(diào)節(jié)水槽M7的溫度。優(yōu)選地，也可以完全關(guān)閉水槽M7的加熱棒，使水槽M7的溫度與室溫相同。降低加熱棒的溫度能夠節(jié)約用電。
[0027]水槽M7包括依次設(shè)置的第一水槽、第二水槽和第三水槽,在現(xiàn)有技術(shù)中，第一水槽的噴淋水流量的速度P15為32L/min，第二水槽和第三水槽的噴淋水流量的速度P16和P17為33L/min。水槽M7水流量較急，水中含有蠟的顆粒，流量較快的水沖擊在硅片表面上，蠟顆粒比較容易黏在硅片上。
[0028]在本申請中，優(yōu)選地，使第一水槽的噴淋水流量的速度P15保持在15L/min至25L/min的范圍內(nèi)，使第二水槽和第三水槽的噴淋水流量的速度P16和P17保持在20L/min至30L/min的范圍內(nèi)。水槽M7的水流量降低能夠節(jié)約水量。
[0029]優(yōu)選地，堿槽M6包括第一堿槽M601和第二堿槽M602，使第一堿槽M601的二乙二醇丁醚的自動補液量在7ml至13ml的范圍內(nèi)，使第二堿槽M602的二乙二醇丁醚的自動補液量在2ml至8ml的范圍內(nèi)。降低BDG用量能夠節(jié)約成本，同時保護環(huán)境。
[0030]下面結(jié)合具體實施例進一步說明本發(fā)明的有益效果。
[0031]實施例一
[0032]在其他槽體(包括M2槽、M3槽、M5槽、M6槽、M8槽以及M9槽)工藝參數(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相同的情況下，
[0033]使堿槽M6的BDG自動補液量如下:
[0034]
【權(quán)利要求】
1.一種使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，濕法刻蝕設(shè)備包括依次設(shè)置的第一刻蝕槽(M2)、第二刻蝕槽(M4)、堿槽(M6)、酸槽(M8)以及設(shè)置在所述堿槽(M6)和所述酸槽(M8)之間的水槽(M7)，其特征在于，所述制造電池的方法包括以下步驟: 步驟SlO:排空所述第二刻蝕槽(M4)內(nèi)的刻蝕藥液； 步驟S20:使所述水槽(M7)的溫度保持在10°C至20°C的范圍內(nèi)； 步驟S30:向所述第一刻蝕槽(M2)上料，進行生產(chǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，其特征在于，所述水槽(M7)包括依次設(shè)置的第一水槽、第二水槽和第三水槽,使所述第一水槽的噴淋水流量的速度P15保持在15L/min至25L/min的范圍內(nèi)，使所述第二水槽和所述第三水槽的噴淋水流量的速度P16和P17保持在20L/min至30L/min的范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，其特征在于，所述堿槽(M6)包括第一堿槽(M601)和第二堿槽(M602)，使所述第一堿槽(M601)的二乙二醇丁醚的自動補液量在7ml至13ml的范圍內(nèi)，使所述第二堿槽(M602)的二乙二醇丁醚的自動補液量在2ml至8ml的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，其特征在于，所述第一刻蝕槽(M2)內(nèi)置有HNO3和HF的混合溶液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，其特征在于，所述堿槽(M6)內(nèi)置有KOH和BDG的混合溶液。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的使用濕法刻蝕設(shè)備制造電池的方法，其特征在于，所述酸槽(M8)內(nèi)置有HF溶液。
【文檔編號】H01L21/67GK103762273SQ201410012775
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2014年1月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月10日
【發(fā)明者】符昌京, 許明金, 方菊英, 王家道, 王川, 聶文廣, 王慶森, 陳國文, 符祥麟 申請人:海南英利新能源有限公司