專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種向被處理基板噴灑處理液并進(jìn)行規(guī)定的處理的基板處理裝置，特別是平流方式的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
最近幾年，在平板顯示器(FPD)制造中的抗蝕劑涂敷顯影處理系統(tǒng)中，作為能夠很好地適應(yīng)被處理基板(例如玻璃基板)的大型化的清洗方法，多采用一種所謂的平流方式，在沿著水平方向鋪設(shè)搬運(yùn)輥(滾子)和搬運(yùn)帶而成的搬運(yùn)路徑上搬運(yùn)基板，并進(jìn)行清洗處理。這種平流方式與使基板旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的旋涂方式相比，具有基板的處理和搬運(yùn)系統(tǒng)和驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)簡單等優(yōu)點(diǎn)。平流方式的清洗處理裝置典型地來講，沿著平流搬運(yùn)路徑，配置擦洗(scrubbing)用的輥刷、吹洗用的高壓噴嘴、沖洗用的沖洗噴嘴、除液干燥用的氣刀等清洗工具。清洗液·和沖洗液等的氣霧籠罩在這些清洗工具的周圍，因此，在各處設(shè)置排氣口的密閉度高的腔室內(nèi)進(jìn)行這些一系列的清洗處理和除液干燥處理。在此情況下，在腔室中設(shè)置基板能夠平流地通過的入口和出口，外部的空氣通過這些開口(入口 /出口)被吸到腔室中。在腔室內(nèi)產(chǎn)生的氣霧與從外面進(jìn)入的空氣一同從排氣口被送往腔室外的排氣系統(tǒng)。專利文獻(xiàn)I :日本特開2008-159663專利文獻(xiàn)2 :日本特開2007-300129

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題目前，在這種清洗處理裝置中，要解決的課題是在腔室內(nèi)產(chǎn)生的氣霧不希望地?cái)U(kuò)散并再次附著于基板。特別是在清洗工具中，吹洗用的高壓噴嘴(或者是高壓噴霧嘴)產(chǎn)生最多的氣霧，從此處沿著平流搬運(yùn)路徑擴(kuò)散的氣霧容易再次附著在基板上。因此，利用隔壁分隔腔室內(nèi)的處理空間，按照各個(gè)工藝(刷洗、吹洗、沖洗、除液干燥)形成各個(gè)處理室。在此情況下，如果在處理室的頂部設(shè)置排氣口，那么，在各個(gè)清洗工具的周圍產(chǎn)生的氣霧就會(huì)迅速地被吸入頂部的排氣口，所以，能夠防止或抑制沿著平流搬運(yùn)路徑的氣霧的不希望的擴(kuò)散。但是，在處理室的頂部設(shè)置排氣口的結(jié)構(gòu)將會(huì)明顯地破壞清洗工具的維護(hù)性，因此，難以在實(shí)際中采用。即，由于清洗工具需要頻繁維修，所以，優(yōu)選采用能夠任意開閉處理室的頂板的結(jié)構(gòu)。然而，如果在處理室的頂部設(shè)置排氣口，那么，由于排氣系統(tǒng)的配管和閘等被安裝在頂板上，因此，無法任意地開閉頂板。根據(jù)以上的情況，通常在處理室的背面設(shè)置排氣口。在此情況下，在各個(gè)清洗工具的周圍產(chǎn)生的氣霧被吸入處理室背面的排氣口。但是，在這種背面排氣方式中，氣霧的排氣在處理室內(nèi)大幅不均是一個(gè)問題。即，在處理室內(nèi)，靠近排氣口的腔室背面?zhèn)鹊膮^(qū)域的排氣力(壓力差)大，氣霧不會(huì)滯留而是被排出。但是，遠(yuǎn)離排氣口的處理室正面?zhèn)鹊膮^(qū)域的排氣力(壓力差)小，氣霧容易滯留。滯留的氣霧通過隔壁的基板出入口進(jìn)入相鄰的處理室中，再次附著于基板。特別是，在吹洗室內(nèi)產(chǎn)生的氣霧進(jìn)入下游側(cè)的沖洗處理室和除液干燥室內(nèi)容易附著于基板，由此，對基板的表面產(chǎn)生不利影響，成為成品率下降的原因。因此，也要進(jìn)一步提高設(shè)置于吹洗室中的排氣口的排氣能力，但是盡管伴隨排氣系統(tǒng)的大型化、高輸出化，氣霧排氣能力或者排氣效率并沒有太大改善是其現(xiàn)狀。本發(fā)明就是為了解決上述的現(xiàn)有技術(shù)的問題點(diǎn)，提供一種基板處理裝置，確保容易產(chǎn)生氣霧的處理室的維護(hù)性并且提高室內(nèi)的排氣效率和排氣能力的均一性。 用于解決課題的方法本發(fā)明的基板處理裝置包括平流搬運(yùn)路徑，其用來在水平的第一方向平流地搬運(yùn)被處理基板；第一處理室，其容納所述平流搬運(yùn)路徑的第一區(qū)間，且具有在所述平流搬運(yùn)路徑上搬運(yùn)的所述基板能夠通過的入口和出口 ；一個(gè)或多個(gè)第一噴嘴，其在所述第一處理室內(nèi)，向所述平流搬運(yùn)路徑上的所述基板噴灑處理液；第一分隔板，其比所述第一噴嘴更位于上方，將所述第一處理室的室內(nèi)空間縱向分隔成上部空間與下部空間；第一開口和第二開口，所述第一開口形成于所述第一分隔板與所述第一處理室的壁之間，所述第二開口形成于所述第一分隔板中；第二分隔板，其將所述第一處理室的上部空間橫向分隔成 與·所述第一開口連接的第一排氣空間和與所述第二開口連接的第二排氣空間；和排氣部，其與所述第一排氣空間和所述第二排氣空間連接。在上述裝置結(jié)構(gòu)中，在處理室內(nèi)利用第一噴嘴向平流搬運(yùn)路徑上的基板噴灑處理液，于是，氣霧籠罩在第一噴嘴的周圍。此處，來自排氣部的負(fù)壓吸引力從第一和第二排氣空間經(jīng)由第一和第二開口到達(dá)處理室內(nèi)，由此，在第一噴嘴的周圍產(chǎn)生的氣霧與從處理室的入口和出口進(jìn)入的空氣一同流向上方并通過第一和第二開口。通過第一開口的包含氣霧的排氣流通過第一排氣空間被送往排氣部。另一方面，通過第二開口的包含氣霧的排氣流通過第二排氣空間被送往排氣部。在本發(fā)明中，利用第二分隔板沿著橫向分隔處理室的上部空間形成第一和第二排氣空間，因此，第一和第二排氣空間均可通過設(shè)置于處理室的壁而不是設(shè)置于處理室的頂板的排氣口與排氣部連接。由此，即便以自由開閉的方式構(gòu)成處理室的頂板，也能避免與排氣系統(tǒng)的干擾。另外，第一和第二排氣空間彼此獨(dú)立，且能夠獨(dú)立或分別地調(diào)整各自的排氣流量，所以，能夠使從處理室的下部空間通過第一和第二開口被吸入上部空間的排氣流的流量變得均一。由此，能夠防止氣霧滯留在處理室內(nèi)，和防止氣霧通過基板出入口(入口或出口)漏到處理室的外面。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，根據(jù)上述的結(jié)構(gòu)和作用，能夠確保容易發(fā)生氣霧的處理室的維護(hù)性，并且能夠提高室內(nèi)的排氣效率和排氣能力的均一性。


圖I是表示能夠應(yīng)用本發(fā)明的基板處理裝置的涂敷顯影處理系統(tǒng)的平面圖。圖2是表示包含在上述涂敷顯影處理系統(tǒng)中的一個(gè)實(shí)施方式的清洗單元的整體結(jié)構(gòu)的概略截面圖。圖3是表示配備于上述清洗單元的排氣部的結(jié)構(gòu)的塊圖。圖4是表示上述清洗單元的清洗腔室內(nèi)的主要部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖5是表示設(shè)置于吹洗室的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖6是表示從其它的角度觀察到的上述室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖7是表示上述室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)的作用的縱向氣流速度分布圖。圖8是表不上述室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)的作用的橫向氣流速度分布9是表示一個(gè)變形例的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的平面圖。圖10是圖9的A-A線的截面圖。圖11是表示其它的變形例的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的平面圖。圖12是表示其它的變形例的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的平面圖
具體實(shí)施例方式下面，參照

本發(fā)明的最佳實(shí)施方式。圖I表示能夠應(yīng)用本發(fā)明的基板處理裝置的一個(gè)結(jié)構(gòu)例的涂敷顯影處理系統(tǒng)。該涂敷顯影處理系統(tǒng)10設(shè)置于潔凈室內(nèi)，例如將玻璃基板作為被處理基板，在LCD制造工藝中，進(jìn)行光蝕刻工序中的清洗、涂敷抗蝕劑、預(yù)烘烤、顯影和后烘烤等一系列的處理。曝光處理在與該系統(tǒng)鄰接設(shè)置的外部的曝光裝置12中進(jìn)行。該涂敷顯影處理系統(tǒng)10在中心部配置橫長的處理站(P/S) 16，在其縱向(X方向)兩端部配置盒站(C/S) 14與界面站(I/F) 18。盒站(C/S) 14是系統(tǒng)10的盒搬入搬出端口，包括能夠?qū)⒍鄬拥貙臃e基板G而能夠收納多塊的盒C在水平的一個(gè)方向(Y方向)排列載置四個(gè)盒的盒站20 ;和將基板G從該站20上的盒C取出和放入的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)22。搬運(yùn)機(jī)構(gòu)22具有能夠按照一塊單位來保持基板G的搬運(yùn)臂22a，能夠在X、Y、Ζ、Θ的四個(gè)軸操作，并且能夠與相鄰的處理站(P/S) 16側(cè)進(jìn)行基板G的交接。處理站(P/S) 16在沿著水平的系統(tǒng)縱向(X方向)延伸的平行且方向相反的一對線A、B,按照工藝或工序的順序配置各個(gè)處理部。更詳細(xì)地來講，在從盒站(C/S) 14側(cè)向界面站(I/F) 18側(cè)的上游部的工藝線A，搬入單元(IN PASS) 24、清洗工藝部26、第一熱處理部28、涂敷工藝部30和第二熱處理部32沿著第一基板搬運(yùn)線34，從上游側(cè)按照該順序成一列配置。更詳細(xì)地來講，搬入單元(IN PASS)24從盒站(C/S)14的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)22接收未處理的基板G，在規(guī)定的通道投入第一基板搬運(yùn)線34。清洗工藝部26沿著第一基板搬運(yùn)線34從上游側(cè)依次設(shè)置準(zhǔn)分子UV照射單元(E-UV) 36和清洗單元(SCR) 38。第一熱處理部28從上游側(cè)依次設(shè)置粘接單元(AD)40和冷卻單元(C0L)42。涂敷工藝部30從上游側(cè)依次設(shè)置抗蝕劑涂敷單元(COT)44和減壓干燥單元(VD)46。第二熱處理部32從上游側(cè)依次設(shè)置預(yù)烘烤單元(PRE-BAKE)48和冷卻單元(C0L)50。在位于與第二熱處理部32的下游側(cè)相鄰位置的第一基板搬運(yùn)線34的終點(diǎn)設(shè)置通過單元(PASS) 52。在第一基板搬運(yùn)線34上平流地被搬運(yùn)的基板G從該終點(diǎn)的通過單元(PASS) 52被交接至界面站(I/F) 18。另一方面，在界面站(I/F) 18側(cè)向盒站(C/S) 14側(cè)的下游部的工藝線B，顯影單元(DEV) 54、后烘烤單元(P0ST-BAKE) 56、冷卻單元(COL) 58、檢查單元(AP) 60和搬出單元(OUT-PASS) 62沿著第二基板搬運(yùn)線64從上游側(cè)按照此順序成一列配置。此處，后烘烤單元(P0ST-BAKE)56和冷卻單元(COL)58構(gòu)成第三熱處理部66。搬出單元(OUT PASS)62從第二基板搬運(yùn)線64逐塊接收處理完畢的基板G，并交給盒站(C/S) 14的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)22。在兩個(gè)工藝線A、B之間設(shè)置有輔助搬運(yùn)空間68，能夠按照一塊單位水平地載置基板G的往復(fù)移送裝置(shuttle) 70利用未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，能夠在工藝線方向(X方向)上雙方向移動(dòng)。界面站(I/F) 18具有搬運(yùn)裝置72，用來進(jìn)行上述第一和第二基板搬運(yùn)線34、64和鄰接的曝光裝置12與基板G的交換，在該搬運(yùn)裝置72的周圍配置旋轉(zhuǎn)臺(tái)(R/S) 74和周邊裝置76。旋轉(zhuǎn)臺(tái)(R/S) 74是在水平面內(nèi)使基板G旋轉(zhuǎn)的臺(tái)，用于在與曝光裝置12交接時(shí)變換長方形基板G的方向。周邊裝置76例如將打碼機(jī)(TITLER)和周邊曝光裝置(EE)等與第二基板搬運(yùn)線64連接。此處，說明對于該涂敷顯影處理系統(tǒng)中的一塊基板G的全部工序的處理步驟。首先，在盒站(C/S) 14中，搬運(yùn)機(jī)構(gòu)22從臺(tái)20上的任一個(gè)盒C中取出一塊基板G，將該取出的基板G搬入處理站(P/S) 16的工藝線A側(cè)的搬入單元(IN PASS)24。基板G從搬入單元(IN PASS) 24被移載或投入第一基板搬運(yùn)線34上。 被投入第一基板搬運(yùn)線34的基板G首先在清洗工藝部26中，利用準(zhǔn)分子UV照射單元(E-UV)36和清洗單元(SCR)38依次實(shí)施干式清洗和濕式清洗處理。準(zhǔn)分子UV照射單元(E-UV)36在基板G上照射紫外線，主要除去基板表面的有機(jī)物。清洗單元(SCR)38對在平流搬運(yùn)路34上水平移動(dòng)的基板G實(shí)施刷洗和吹洗，由此從基板表面除去粒子狀的污垢。然后實(shí)施沖洗處理，最后使用氣刀(air knife)等使基板G干燥。如果清洗單元(SCR) 38中的一系列的清洗處理結(jié)束，則基板G以該狀態(tài)下了第一基板搬運(yùn)線34并通過第一熱處理部28。在第一熱處理部28中，基板G首先在粘接單元(AD)40中實(shí)施使用蒸汽狀的HMDS的粘接處理，使被處理面疏水化。該粘接處理結(jié)束后，基板G在冷卻單元(C0L)42中被冷卻至規(guī)定的基板溫度。然后，基板G下了第一基板搬運(yùn)線34并被搬入涂敷工藝部30中。在涂敷工藝部30，基板G首先在抗蝕劑涂敷單元(COT) 44中保持平流狀態(tài)采用使用狹縫噴嘴的旋涂法在基板上表面(被處理面)涂敷抗蝕劑液，之后，在下游側(cè)附近的減壓干燥單元(VD) 46接受減壓干燥處理。從涂敷工藝部30出來的基板G下了第一基板搬運(yùn)線34并通過第二熱處理部32。在第二熱處理部32，作為抗蝕劑涂敷后的熱處理或曝光前的熱處理，基板G首先在預(yù)烘烤(PRE-BAKE)48中接受預(yù)烘烤。通過該預(yù)烘烤，殘留在基板G上的抗蝕劑膜中的溶劑蒸發(fā)被除去，抗蝕劑膜與基板的緊貼性得到加強(qiáng)。接著，基板G在冷卻單元(C0L)50中被冷卻至規(guī)定的基板溫度。然而，基板G從第一基板搬運(yùn)線34的終點(diǎn)的通過單元(PASS) 52被界面站(I/F) 18的搬運(yùn)裝置72獲取。在界面站(I/F) 18，基板G在旋轉(zhuǎn)臺(tái)74例如接受90度的方向變換后被搬入周邊裝置76的周邊曝光裝置(EE)，在此處接受用來在顯影時(shí)除去附著在基板G的周邊部的抗蝕劑的曝光后，被送往相鄰的曝光裝置12。在曝光裝置12，在基板G上的抗蝕劑規(guī)定的電路圖形被曝光。結(jié)束圖形曝光后的基板G，從曝光裝置12返回界面站(I/F) 18，首先，被搬入周邊裝置76的打碼機(jī)(TITLER)，在此處在基板上的規(guī)定部位記錄規(guī)定的信息。然后，基板G被搬運(yùn)裝置72搬入鋪設(shè)于處理站(P/S) 16的工藝線B側(cè)的第二基板搬運(yùn)線64的顯影單元(DEV) 54的起點(diǎn)。
于是，基板G這次在第二基板搬運(yùn)線64上被搬向工藝線B的下游側(cè)。在最初的顯影單元(DEV)54中，基板G在被平流搬運(yùn)的期間實(shí)施顯影、沖洗、干燥的一系列的顯影處理。在顯影單元(DEV) 54，結(jié)束了一系列的顯影處理的基板G以該狀態(tài)載入第二基板搬運(yùn)線64，依次通過第三熱處理部66和檢查單元(AP) 60。在第三熱處理部66，作為顯影處理后的熱處理，基板G首先在后烘烤(P0ST-BAKE)56接受后烘烤。通過該后烘烤，殘留在基板G上的抗蝕劑膜的顯影液和清洗液蒸發(fā)并被除去，抗蝕劑圖形與基板的緊貼性得到加強(qiáng)。接著，基板G在冷卻單元(COL) 58被冷卻至規(guī)定的基板溫度。在檢查單元(AP) 60，對于基板G上的抗蝕劑圖形，進(jìn)行非接觸的線寬檢查和膜質(zhì)、膜厚檢查等。搬出單元(OUT PASS) 62從第二基板搬運(yùn)線64接收結(jié)束了全部工序的處理的基板G，交給盒站(C/S) 14的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)22。在盒站(C/S) 14 一側(cè)，將搬運(yùn)機(jī)構(gòu)22從搬出單元(OUT PASS) 62接收的處理完畢的基板G收納在任一個(gè)(通常是原來的)盒C中。在該涂敷顯影處理系統(tǒng)10中，能夠在平流方式的清洗單元(SCR) 38應(yīng)用本發(fā)明。
以下，說明本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的清洗單元(SCR) 38的結(jié)構(gòu)和作用。在圖2中表示清洗單元(SCR) 38的整體結(jié)構(gòu)。該清洗單元(SCR) 38在工藝線A(圖I)上并列配置兩個(gè)腔室80、82?？v斷(縱跨)兩個(gè)腔室80、82中的滾子搬運(yùn)路徑84構(gòu)成第一基板搬運(yùn)線34 (圖I)的一個(gè)區(qū)間。上游側(cè)的清洗腔室80被設(shè)置于內(nèi)部的兩個(gè)隔壁86、88被分隔成三個(gè)處理室、即刷洗室R1、吹洗室R2和沖洗室R3。在與搬運(yùn)方向(X方向)相對的腔室80的外壁80a、80b和兩個(gè)隔壁86、88，分別形成在滾子搬運(yùn)路徑84上移動(dòng)的基板G能夠通過的狹縫狀的開口(基板搬入搬出口)90、92、94、96。此處，開口 90是刷洗室Rl的入口。開口 92是刷洗室Rl的出口，且吹洗室R2的入口。開口 94是吹洗室R2的出口，且沖洗室R3的入口。開口 96是沖洗室R3的出口。在刷洗室Rl中，沿著滾子搬運(yùn)路徑84在其上下兩側(cè)配置預(yù)濕用的噴嘴98U/98L、輥刷100U/100L和沖洗用的噴霧噴嘴102U/102L。預(yù)濕用的噴霧噴嘴98U/98L是在寬度方向(Y方向)上從一端到另一端覆蓋基板G的長尺型，將被藥液供給部(未圖示)送來的藥液成噴霧狀噴灑。輥刷100U/100L具有在寬度方向上從一端至另一端覆蓋基板G的長度，被電機(jī)等的刷驅(qū)動(dòng)部(未圖示)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。沖洗用的噴霧噴嘴102U/102L是在寬度方向上從一端至另一端覆蓋基板G的長尺型，將從沖洗液供給部(未圖示)送來的沖洗液成噴霧狀噴灑。在刷洗室Rl中，在腔室背面?zhèn)鹊谋?圖I的輔助搬運(yùn)空間68側(cè)的壁)103的上部設(shè)置多個(gè)例如兩個(gè)排氣口 104、105，在底部設(shè)置排水(drain) 口 106。排氣口 104、105與后述的排氣部150 (圖3)連接。排水口 106與排水槽(drain tank)(未圖示)連通。在吹洗室R2內(nèi)，在滾子搬運(yùn)路徑84的上下兩側(cè)配置高壓的雙流體噴嘴104U/104L。該雙流體噴嘴104U/104L是覆蓋基板G的寬度尺寸的長尺型，將從清洗液供給部(未圖示)送來的清洗液與從高壓氣體供給部(未圖示)送來的高壓氣體混合，成噴灑流或者噴霧狀噴灑粒狀的液滴。在吹洗室R2中，在腔室背面?zhèn)鹊谋?03的上部也設(shè)置多個(gè)例如兩個(gè)排氣口 106、108，在底部設(shè)置排水口 110。排氣口 106、108是本實(shí)施方式中的第一和第二排氣口，與排氣部150 (圖3)連接。排水口 110與排水槽(未圖示)連通。
在吹洗室R2內(nèi)，設(shè)置作為本實(shí)施方式的特征的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112。該室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112具有板面沿著橫向延伸的第一分隔板114、和板面沿著縱向延伸的第二分隔板124。第一分隔板114配置于比上部雙流體噴嘴104U高且比排氣口 106、108低的位置，將吹洗室R2的室內(nèi)空間沿著縱向分隔成上部空間UR2與下部空間LR2。此處，在第一分隔板114與上游側(cè)隔壁86之間，形成沿著腔室寬度方向(Y方向)成一列延伸的兩個(gè)狹縫開口 116、118。第二分隔板124將在第一分隔板114上擴(kuò)大的上部空間UR2沿著橫向分隔成在第一開口116與第一排氣口 106之間延伸的第一排氣空間120、和在第二開口 118與第二排氣口 108之間延伸的第二排氣空間122。將在后面說明室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的詳細(xì)結(jié)構(gòu)和作用。在沖洗室R3內(nèi)，在滾子搬運(yùn)路徑84的上下兩側(cè)按照適當(dāng)?shù)拈g隔配置多個(gè)沖洗噴嘴126U/126L。這些沖洗噴嘴126U/126L是覆蓋基板G的寬度尺寸的長尺型，將從清洗液供給部(未圖示)送來的沖洗液成噴霧狀噴灑。
在沖洗室R3中，在腔室背面?zhèn)鹊谋?03的上部設(shè)置一個(gè)(或者多個(gè))排氣口 128，在底部設(shè)置排水口 130。排氣口 128與排氣部150 (圖3)連接。排水口 130與排水槽(未圖示)連通。下游側(cè)的腔室82是專用的除液干燥室R4。在與搬運(yùn)方向(X方向)相對的腔室82的外壁82a、82b上，分別形成在滾子搬運(yùn)路徑84上移動(dòng)的基板G能夠通過的狹縫狀的開口132,134ο此處，開口 132是入口，開口 134是出口。在除液干燥室R4內(nèi)，夾著滾子搬運(yùn)路徑84向著搬運(yùn)方向(X方向)傾斜配置上部和下部氣刀136UU36L。兩個(gè)氣刀136UU36L具有覆蓋基板G的寬度尺寸的長度，將從干燥氣體供給部(未圖示)送來的除液干燥用的高壓氣體(通常是空氣，必要時(shí)是氮?dú)?以鋒利刀狀的氣流噴灑。在除液干燥室R4中，在腔室的上部設(shè)置一個(gè)(或者多個(gè))排氣口 138，在下部也設(shè)置多個(gè)(或者一個(gè))排氣口 140。這些排氣口 138、140與排氣部150 (圖3)連接。在滾子搬運(yùn)路徑84中，覆蓋基板G的寬度尺寸的長度的搬運(yùn)輥或滾子85在搬運(yùn)方向(X方向)上按照一定間隔鋪設(shè)。在本實(shí)施方式中，滾子85收納于腔室80、82中，利用配置于腔室80、82外的搬運(yùn)驅(qū)動(dòng)源，通過傳動(dòng)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。腔室80、82的上表面例如在搬運(yùn)方向(X方向)上在每個(gè)處理室中，或者被按照固定尺寸排列的多個(gè)開閉罩(頂板)氣密地覆蓋。操作員為了修理或更換零件而進(jìn)入其中的清洗工具中時(shí)，打開各個(gè)維修位置的開閉罩。圖3表示在該清洗單元(SCR)38中配備的排氣部150的結(jié)構(gòu)。該排氣部150作為負(fù)壓發(fā)生源例如具有排氣鼓風(fēng)機(jī)152，該排氣鼓風(fēng)機(jī)152的進(jìn)入側(cè)通過主排氣管154和分支排氣管156與清洗單元(SCR) 38內(nèi)的各個(gè)排氣口(在圖3中，僅表示吹洗室R2的排氣口106、108)連接。在主排氣管154的中途設(shè)置從排氣氣體中分離氣霧的氣液分離器158，在各個(gè)分支排氣管156的中途設(shè)置用來調(diào)節(jié)排氣流量的排氣閘160。排氣鼓風(fēng)機(jī)152的出口側(cè)與工廠排氣管道162連接。排氣部150設(shè)置于清洗單元(SCR)38的背面?zhèn)?后背)。在清洗單元(SCR)38的正面?zhèn)?正面面板)上，雖然省略了圖示，設(shè)置操作盤和監(jiān)視器(未圖示)。在該清洗單元(SCR) 38中，在處理室Rl R4中的吹洗室R2內(nèi)產(chǎn)生最多的(且污染度最高)氣霧。因此，完全防止氣霧從吹洗室R2進(jìn)入其它的處理室、特別是下游側(cè)的沖洗室R3和除液干燥室R4并擴(kuò)散，在清洗工藝的品質(zhì)管理方面是最重要的一個(gè)條件。在本實(shí)施方式中，在吹洗室R2內(nèi)設(shè)置后述的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112，清除該條件。在本實(shí)施方式的排氣系統(tǒng)中，排氣口的排氣能力或排氣流量基本上在各個(gè)處理室Rl R4中任意或獨(dú)立地設(shè)定即可，但是在切實(shí)防止氣霧從吹洗室R2中泄漏的方面，優(yōu)選將設(shè)置于吹洗室R2中的排氣口106、108的排氣流量相對較大地設(shè)定，將設(shè)置于其下游側(cè)的沖洗室R32和除液干燥室R4中的排氣口 128、138、140的排氣流量相對較小地設(shè)定。此處，說明該清洗單元(SCR) 38中的整體的操作和作用。如上所述，從盒站(C/S)14被投入清洗工藝部26 (圖I)中的基板G首先在準(zhǔn)分子UV照射單元(E-UV)36 (圖I)中接受紫外線照射處理以除去基板表面的有機(jī)污染物，接著，在滾子搬運(yùn)路徑84上平流地移動(dòng)，從入口 90搬入清洗單元(SCR) 38的刷洗室Rl中。在刷洗室Rl中，基板G首先被預(yù)濕用的上部和下部噴霧噴嘴98U、98L向整個(gè)基板上噴灑例如酸或堿類的藥液。接著，基板G—邊擦過上部和下部輥刷100UU00L的下面一 邊通過。兩個(gè)輥刷100U、100L利用刷驅(qū)動(dòng)部的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)力向與搬運(yùn)方向相對的方向旋轉(zhuǎn)，擦掉基板表面的異物(塵埃、碎片、污染物等)。之后，沖洗用的上部和下部噴霧噴嘴102U、102L向基板G噴灑沖洗液例如純凈水，沖洗掉在基板上浮游的異物。在刷洗室Rl內(nèi)從基板G落入底部的液體(藥液、沖洗液等)從排水口 106排出。在刷洗室Rl內(nèi)產(chǎn)生的氣霧的大部分與從入口 90進(jìn)入的空氣一同被吸入排氣口104、105并被送往排氣部150 (圖3)。另一方面，在此處產(chǎn)生的氣霧的一部分從出口 92進(jìn)入相鄰的吹洗室R2中，最終經(jīng)由吹洗室R2的第一和第二排氣口 106、108被排出?；錑在穿過沖洗用的噴霧噴嘴102UU02L之后，通過隔壁86的基板出入口 92進(jìn)入吹洗室R2。在吹洗室R2中，上部和下部雙流體噴嘴104UU04L在噴嘴內(nèi)將清洗液(例如純凈水)與高壓的氣體(例如空氣)混合而生成粒狀的液滴，所生成的液滴向基板G的表面(上表面)和背面(下表面)，以高壓的噴灑流或者噴霧狀噴灑。于是，粒狀的液滴撞擊基板G的表面，由此，殘存在基板表面上的異物被完全除去。在吹洗室R2內(nèi)，從基板G落入底部的液體(清洗液等)從排水口 110被排出。在吹洗室R2內(nèi)，更準(zhǔn)確地來講，在下部空間LR2中，雙流體噴嘴104U、104L的周圍產(chǎn)生大量的氣霧。根據(jù)本實(shí)施方式，在吹洗室R2的下部空間LR2中產(chǎn)生的氣霧的全部或者大部分不會(huì)滯留在下部空間LR2內(nèi)，且不會(huì)從入口 92或出口 94向相鄰室了擴(kuò)散，而是通過頂部的狹縫開口 116、118被導(dǎo)入上部空間UR2即排氣空間120、122，穿過這些排氣空間120、122，從腔室背面?zhèn)鹊牡谝缓偷诙艢饪?106、108被送往排氣部150 (圖3)。吹洗室R2中的下一個(gè)基板G通過沖洗室R3。在沖洗室R3中，上部和下部沖洗噴嘴126UU26L向滾子搬運(yùn)路徑84上的基板G噴灑沖洗液例如純凈水。由此，從吹洗室R2帶入的基板G上的液體(異物浮游的液體)被置換成沖洗液。在沖洗室R3內(nèi)，從基板G落入底部的液體(清洗液、沖洗液等)從排水口 130排出。與吹洗室R2相比格外少，但在沖洗室R3內(nèi)也產(chǎn)生一定程度量的氣霧，其大部分被吸入沖洗室R3的排氣口 128中。最通常的情況下，該排氣口 128的排氣能力(真空力)被設(shè)定為比吹洗室R2的第一和第二排氣口 106、108的排氣能力(真空力)弱。由此，在沖洗室R3內(nèi)產(chǎn)生的氣霧的一部分通過隔壁88的開口 94逆流回相鄰的吹洗室R2中，最終經(jīng)由第一和第二排氣口 106、108被送往排氣部150 (圖3)。
基板G在從沖洗室R3中出來的同時(shí)進(jìn)入相鄰的除液干燥室R4中。在除液干燥室R4中，上部和下部氣刀136UU36L使刀狀的鋒利的高壓氣流例如空氣流沿著搬運(yùn)方向的斜向相反的方向向滾子搬運(yùn)路徑84上的基板G撞擊。由此，附著在基板G上的液體利用空氣的風(fēng)力落下，與從出口 134進(jìn)入的空氣一同被吸入排氣口 138、140，并送往排氣部150 (圖3)。此外,在除液干燥室R4中也能將落入底部的液體從排水口(未圖示)排出。從除液干燥室R4的出口 134出來的基板G以該狀態(tài)在滾子搬運(yùn)路徑84平流地移動(dòng)，進(jìn)入第一熱處理部28 (圖I)。在本實(shí)施方式的清洗單元(SCR) 38中，如上所述，在清洗處理中產(chǎn)生氣霧最多的吹洗室R2設(shè)置室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112，由此，確保吹洗室R2的清洗工具即雙流體噴嘴104U、104L的維修性，且有效地防止氣霧從吹洗室R2向相鄰的刷洗室Rl和沖洗室R3以及除液干燥室R4擴(kuò)散。由此，防止氣霧在沖洗室R3和除液干燥室R4內(nèi)的再附著，提高清洗工藝的成品率。下面，根據(jù)圖4 圖8，詳細(xì)地說明吹洗室R2內(nèi)的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的結(jié)構(gòu)和作 用。圖4表示清洗腔室80內(nèi)的主要部分的結(jié)構(gòu)，圖5和圖6表示室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的主要部分的結(jié)構(gòu)。室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的第一分隔板114如上所述，將吹洗室R2內(nèi)的室內(nèi)空間縱向分隔成上部空間UR2與下部空間LR2。該分隔板114具有與吹洗室R2的橫截面對應(yīng)的形狀(圖示的例子是矩形條狀或矩形形狀)和尺寸。關(guān)于其尺寸，在腔室寬度方向(Y方向)，與吹洗室R2相同，在搬運(yùn)方向(X方向)上比吹洗室R2略小。由此，如圖4所示，該分隔板114在安裝于吹洗室R2內(nèi)的狀態(tài)下，其兩側(cè)的短邊邊緣分別接觸吹洗室R2的腔室正面?zhèn)鹊谋?42和腔室背面?zhèn)鹊谋?03，并且其中一個(gè)(下游側(cè))長邊邊緣114r與下游側(cè)隔壁88接觸，另一個(gè)(上游偵彳)長邊邊緣114f遠(yuǎn)離上游側(cè)隔壁86，形成間隙即狹縫開口(116、118)。形成該狹縫開口(116、118)的上游側(cè)長邊邊緣114f的邊緣部成R形狀(圓弧狀)地向上翹曲。室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的第二分隔板124如上所述，將第一分隔板114的上方的上部空間UR2橫向分隔成與一個(gè)(腔室背面?zhèn)?的狹縫開口 116連接的第一排氣空間120、和與另一個(gè)(腔室正面?zhèn)?的狹縫開口 118連接的第二排氣空間122。該分隔板124具有與上部空間UR2的縱截面對應(yīng)的形狀(圖示的例子是矩形條狀)和尺寸。關(guān)于其尺寸，在縱向(Z方向)上與上部空間UR2相同,在腔室寬度方向(Y方向)上是第一分隔板114的一半程度。該分隔板124在縱向(Z方向)上從第一分隔板114延伸至吹洗室R2的頂板144，在橫向上從腔室背面?zhèn)鹊谋?03向與其相對的腔室正面?zhèn)鹊谋?42延伸，在中央的規(guī)定位置Pm形成終端。優(yōu)選在橫向上，該分隔板124從腔室背面?zhèn)鹊谋?03向腔室正面?zhèn)鹊谋?42直至中央附近的規(guī)定位置PM，在第一分隔板114的上方與第一分隔板114平行地筆直地延伸，在該規(guī)定位置Pm向與搬運(yùn)方向(X方向)相反的方向折曲，從第一分隔板114的上游側(cè)長邊邊緣114f突出，其折曲部124a的前端124e與上游側(cè)隔壁86抵接或者接近。于是，在第一分隔板114的上游側(cè)長邊邊緣114f與上游側(cè)隔壁86之間形成的間隙被分隔成從第二分隔板124的折曲部124a向腔室背面?zhèn)鹊谋?03延伸的第一狹縫開口
116、和從第二分隔板124的曲折部124a向腔室正面?zhèn)鹊谋?42延伸的第二狹縫開口 118。此外，第一分隔板114上的室內(nèi)空間UR2被第二分隔板124分隔成將設(shè)置于腔室背面?zhèn)鹊谋?03的上游側(cè)隔壁86附近的第一排氣口 106與第一狹縫開口 116連接的第一排氣空間120 ;和設(shè)置于腔室背面?zhèn)鹊谋?03的下游側(cè)隔壁88附近的第二排氣口 108與第二狹縫開口 118連接的第二排氣空間122。第一和第二分隔板114、124優(yōu)選由耐藥性好的樹脂形成，分別采用一塊板制作，或者多塊板對接而成，彼此一體地結(jié)合，打開吹洗室R2的頂板144，以能夠裝卸的方式安裝在室內(nèi)。在本實(shí)施方式中，如圖5和圖6所示，在腔室寬度方向(Y方向)上，隔著一定的間隔在第一分隔板114的下表面固定有在搬運(yùn)方向(X方向)延伸的多根梁164。各個(gè)梁164的突出的端部被載放在設(shè)置于上游側(cè)隔壁86的突起狀支承部件(未圖示)。另外，各個(gè)梁164的另一個(gè)端部被載放在設(shè)置于下游側(cè)隔壁88的突起狀支承部件(未圖示)而被支承。

如圖4和圖5所示，在第一分隔板114上，在與排氣口 106、108相對的腔室正面?zhèn)鹊亩瞬浚宰钃?遮蓋)第二排氣空間122的角落部的方式，斜著安裝第三分隔板166。該分隔板166可用作氣流引導(dǎo)板，使通過第二狹縫開口 118的腔室正面?zhèn)鹊亩瞬窟M(jìn)入第二排氣空間122的含有氣霧的氣流不滯留在其附近，而是順利地向第二排氣口 108引導(dǎo)。同樣，第二分隔板124的折曲部124a也用作氣流引導(dǎo)板，使通過第一狹縫開口 116的腔室中央部側(cè)的端部進(jìn)入第一排氣空間120的含有氣霧的氣流不滯留在其附近，而是順利地向第一排氣口 106引導(dǎo)。另外，形成于第一分隔板114的上游側(cè)長邊邊緣114f側(cè)的朝上R形狀的邊緣部也用作氣流引導(dǎo)部，將從下部空間LR2集中在第一和第二狹縫開口 116、118的氣流順利地向上部空間UR2 (第一和第二排氣空間120、122)引導(dǎo)。此外，該朝上R形狀的邊緣部也具有天溝的功能使在上部空間UR2 (排氣空間120、122)內(nèi)氣霧液化附著在第一分隔板114的上表面的液體不會(huì)落入狹縫開口 116、118的下面而是將其保持。與此相關(guān)，例如也可以在腔室背面?zhèn)鹊谋?03，形成與第一分隔板114的朝上R形狀邊緣部連接的排水口(未圖示)。接著，說明吹洗室R2內(nèi)的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的作用。圖7和圖8表示通過模擬得到的吹洗室R2內(nèi)的排氣流量分布。在該模擬中，為了容易地解析，在搬運(yùn)方向(X方向)上，在吹洗室R2的中心部配置一個(gè)上部雙流體噴嘴104U，省略了下部雙流體噴嘴104L(圖2)。圖中的矢量表示各個(gè)位置的排氣流的速度的方向和大小。由縱向的排氣流速度分布(圖7)和橫向的排氣流速度分布(圖8)可知，從上部雙流體噴嘴104U的周圍向上方(特別是狹縫開口 116、118)的排氣流在噴嘴長度方向、即腔室寬度方向(Y方向)上大致均一。另外，從下部空間LR2穿過第一狹縫開口 116進(jìn)入上部空間UR2的排氣流通過第一排氣空間120，從第一排氣口 106被送往排氣部150，從下部空間LR2穿過第二狹縫開口 118進(jìn)入上部空間UR2的排氣流通過第二排氣空間122，從第二排氣口 108被送往排氣部150。此外，與第一排氣空間120中相比，第二排氣空間122中的整個(gè)排氣流的流量大。對于這一點(diǎn)，通過排氣閘160對第一和第二排氣口 106、108的排氣能力(排氣流量)進(jìn)行單獨(dú)調(diào)整，由此，能夠任意地調(diào)整兩個(gè)排氣空間120、122內(nèi)的排氣流量的平衡。更詳細(xì)地講，在第一(腔室背面?zhèn)?狹縫開口 116中，越接近第一排氣口 106，其排氣流的流量越大，離第一排氣口 106越遠(yuǎn)，其排氣流的流量逐漸縮小，但是其差別并不明顯，在開口 116的端部(腔室中心部附近)也有相當(dāng)流量的排氣流流過。在第二 (腔室正面?zhèn)蒁狹縫開口 118中也同樣，越接近第二排氣口 108，其排氣流的流量越大，離第二排氣口108越遠(yuǎn)，其排氣流的流量逐漸縮小，但是其差別并不明顯，在開口 118的端部(腔室正面?zhèn)鹊谋?42附近)也有相當(dāng)量的排氣流流過。重要的一點(diǎn)是，在腔室寬度方向(Y方向)上，第一排氣空間120和第一狹縫開口116中的排氣流的流量離腔室背面?zhèn)鹊牡谝慌艢饪?106越遠(yuǎn)而逐漸減少，但是，第二排氣空間122和第二狹縫開口 118使排氣流的流量恢復(fù)，由此，能夠?qū)崿F(xiàn)在腔室寬度方向(Y方向)上的排氣流速度分布的均一化。
像這樣，在本實(shí)施方式中，根據(jù)上述的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的結(jié)構(gòu)和作用，采用在腔室背面?zhèn)鹊谋?03設(shè)置排氣口 106、108的背面排氣方式，但是，能夠?qū)⒃谇逑刺幚碇性诖迪词襌2內(nèi)大量產(chǎn)生的氣霧，有效地而且在室內(nèi)的腔室背面?zhèn)鹊膮^(qū)域與腔室正面?zhèn)鹊膮^(qū)域中不形成大的壓力差而是大體均等地經(jīng)由狹縫開口 116、118吸入頂部里的排氣空間120、122中，并且以該狀態(tài)送往排氣口 106、108甚至排氣部150。由此，能夠有效地防止氣霧從吹洗室R2通過隔壁86、88的基板出入口 92、94，向相鄰的刷洗室Rl和沖洗室R3擴(kuò)散。由此，能夠防止氣霧在沖洗室R3和除液干燥室R4內(nèi)的再附著，提高清洗工藝的成品率。(其它的實(shí)施方式或變形例)以上，說明了本發(fā)明的一個(gè)最佳實(shí)施方式，但是本發(fā)明并非限定于上述實(shí)施方式，在其技術(shù)思想的范疇內(nèi)能夠有各種變形。例如，在上述實(shí)施方式中，在吹洗室R2的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112中，作為上游側(cè)隔壁86與第一分隔板114的上游側(cè)邊緣114f之間的間隙，形成第一和第二狹縫開口 116、118。像這樣，根據(jù)將狹縫開口 116、118配置于上游側(cè)的結(jié)構(gòu)，在吹洗室R2的下部空間LR2內(nèi)，甚至在下游側(cè)隔壁88的基板出入口 94附近，能夠形成向與搬運(yùn)方向(X方向)相反的方向流動(dòng)的排氣流。由此，能夠進(jìn)一步提高防止氣霧從吹洗室R2向下游側(cè)相鄰的沖洗室R3泄漏的效果。作為一個(gè)變形例，省略了圖示，但是在吹洗室R2的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112中，也能采用作為下游側(cè)隔壁88與第一分隔板114的下游側(cè)邊緣114r之間的間隙，形成第一和第二狹縫開口 116、118的結(jié)構(gòu)。在此情況下，在吹洗室R2的下部空間LR2內(nèi)，在上游側(cè)隔壁86的基板出入口 92附近，能夠形成向與搬運(yùn)方向(X方向)相同的方向流動(dòng)的排氣流，能夠更加充分地防止氣霧從吹洗室R2向上游側(cè)相鄰的刷洗室Rl泄漏。另外，作為其它的變形例，如圖9和圖10所示，也能將第一和第二狹縫開口 116、118在第一分隔板114中穿孔。在圖示的例子中，在搬運(yùn)方向(X方向)上在分隔板114的中心部形成狹縫開口 116、118，在腔室寬度方向(Y方向)上成一列(也可以是多列)排列配置。在此情況下，第二分隔板124從腔室背面?zhèn)鹊谋?03向腔室正面?zhèn)鹊谋?42直至中央附近的規(guī)定位置PM，通過第一狹縫開口 116的旁邊，在該規(guī)定位置Pm向搬運(yùn)方向(X方向)或相反的方向折曲，其折曲部124a的前端124e與下游側(cè)隔壁88或上游側(cè)隔壁86抵接或接近。在該變形例中，如圖10所示，在搬運(yùn)方向(X方向)上，第一分隔板114從周邊部向中心部成錐狀變高，下部空間LR2內(nèi)的氣霧很容易沿著分隔板114的錐面114t被吸入中心部的狹縫開口 116、118中。圖11表示室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的其它的變形例。該結(jié)構(gòu)例使用兩個(gè)第二分隔板124、124’，將第一分隔板114上的上部室內(nèi)空間UR2分隔成三個(gè)排氣空間120、121、122，并且將上游側(cè)隔壁86與第一分隔板114的上游側(cè)邊緣114f之間的間隙分隔成三個(gè)狹縫開口 116、117、118。在此情況下，在腔室背面?zhèn)鹊谋?03，三個(gè)排氣口 106、107、108按照此順序在搬運(yùn)方向(X方向)排列設(shè)置。此處，一個(gè)第二分隔板124在橫向上，從腔室背面?zhèn)鹊谋?03 (排氣口 106、107之間)向腔室正面?zhèn)鹊谋?42從中心部至面前的規(guī)定位置PM，在第一分隔板114的上方與第一分隔板114成直角地筆直延伸，在該規(guī)定位置Pm向與搬運(yùn)方向(X方向)相反的方向折曲，從第一分隔板114的上游側(cè)長邊邊緣114f突出，其折曲部124a的前端124e與上游側(cè)隔壁86抵接或接近。另一個(gè)第二分隔板124’在橫向上，從腔室背面?zhèn)鹊谋?03(排氣口 107、108之間)向腔室正面?zhèn)鹊谋?42直至越過中心部的規(guī)定位置PM’，在第一分隔板114的上方與第一分隔板114成直角地筆直延伸，在該規(guī)定位置PM’向與搬運(yùn)方向(X方向)相反的方向折曲，從第一分隔板114的上游側(cè)長邊邊緣114f突出，其折曲部124a’的前端124e’與上游側(cè)隔壁86抵接或者接近。第一(腔室背面?zhèn)?狹縫開口 116經(jīng)由排氣空間120與上游側(cè)的排氣口 106連接。第二(腔室正面?zhèn)?狹縫開口 118經(jīng)由排氣空間122與下游側(cè)的排氣口 108連接。第三(腔 室中央部)狹縫開口 117經(jīng)由排氣空間121與中間的排氣口 107連接。像這樣，在室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112中，也能采用將三個(gè)以上的狹縫開口(116、117、118)在腔室寬度方向(Y方向)上成一列(或者多列)地設(shè)置的結(jié)構(gòu)。圖12表示室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112的其它的變形例。該結(jié)構(gòu)例在搬運(yùn)方向(X方向)上在第一分隔板114的兩側(cè)設(shè)置狹縫開□ (116A、118A)、( 116B、118B)。更詳細(xì)地講，在上游側(cè)隔壁86與第一分隔板114的上游側(cè)邊緣114f之間形成間隙，并且在下游側(cè)隔壁88與第一分隔板114的下游側(cè)邊緣114i■之間形成間隙。利用兩個(gè)第二分隔板124、124’，將第一分隔板114上的上部空間UR2分隔成三個(gè)排氣空間120A、120B、122。在此情況下，在腔室背面?zhèn)鹊谋?03，三個(gè)排氣口 106A、108、106B按照此順序在搬運(yùn)方向(X方向)上并列設(shè)置。此處，其中一個(gè)第二分隔板124在橫向上，從腔室背面?zhèn)鹊谋?03 (排氣口 106A、108之間)向腔室正面?zhèn)鹊谋?42直至中央附近的規(guī)定位置PM，在第一分隔板114的上方與第一分隔板114成直角地筆直延伸，在該規(guī)定位置Pm向與搬運(yùn)方向(X方向)相反的方向折曲，從第一分隔板114的上游側(cè)長邊邊緣114f突出，其折曲部124a的前端124e與上游側(cè)隔壁86抵接或接近。另一個(gè)第二分隔板124’在橫向上，從腔室背面?zhèn)鹊谋?03(排氣口 108、106B之間)向腔室正面?zhèn)鹊谋?42直至越過中心部的規(guī)定位置PM’，在第一分隔板114的上方與第一分隔板114成直角地筆直延伸,在該規(guī)定位置PM’向與搬運(yùn)方向(X方向)相同的方向折曲，從第一分隔板114的下游側(cè)長邊邊緣1141■突出，其折曲部124a’的前端124e’與下游側(cè)隔壁88抵接或接近。第一(上游側(cè)且腔室背面?zhèn)?狹縫開口 116A經(jīng)由排氣空間120A與上游側(cè)的排氣口106連接。第二(上游側(cè)且腔室正面?zhèn)?狹縫開口 118A經(jīng)由排氣空間122與中間的排氣口108連接。第三(下游側(cè)且腔室背面?zhèn)?狹縫開口 116B經(jīng)由排氣空間120B與下游側(cè)的排氣口 106B連接。第四(下游側(cè)且腔室正面?zhèn)?狹縫開口 118B經(jīng)由排氣空間122與中間的排氣口 108連接。像這樣，對于在第一分隔板114的兩側(cè)設(shè)置狹縫開口(1164、118八)、(1168、118B)的結(jié)構(gòu)，在搬運(yùn)方向(X方向)上吹洗室R2的尺寸相當(dāng)大的情況下有利。在本發(fā)明中，除了室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112外，也能夠進(jìn)行各種各樣的變形。例如，也可以取代滾子搬運(yùn)路徑84，使用帶式輸送機(jī)等其它的平流搬運(yùn)路徑。在本發(fā)明的平流搬運(yùn)中，基板能夠采用任意的姿勢，既可以是水平姿勢的平流搬運(yùn)，也可是傾斜姿勢的平流搬運(yùn)。上述實(shí)施方式的清洗單元(SCR) 38中的清洗工具的形式和配置結(jié)構(gòu)是一個(gè)例子，根據(jù)清洗工藝的方法，能夠?qū)⑷我獾那逑垂ぞ吲渲迷谌我獾膱鏊Ａ硗?，本發(fā)明特別適合用于產(chǎn)生大量氣霧的吹洗室或吹洗裝置中，但是，也能應(yīng)用在產(chǎn)生氣霧的其它基板處理裝置中。例如，在上述抗蝕劑涂敷顯影處理裝置中，在刷洗室Rl和沖洗室R4中也能夠設(shè)置與室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)112同樣的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)，或者在顯影單元(DEV)的沖洗室中設(shè)置同樣的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)。此外，本發(fā)明能夠應(yīng)用在，在平視方式中需要從處理室中除去氣霧，或者需要提高處理室內(nèi)的排氣效率任意的基板處理裝置中。符號(hào)說明38清洗單元80清洗腔室 82除液干燥腔室84滾子搬運(yùn)路徑86、88 隔壁92、96基板出入口(入口 /出口)105腔室背面?zhèn)鹊谋?06、106A、106B、107、108 排氣口112室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)114第一分隔板116第一狹縫開口118第二狹縫開口路120第一排氣空間122第二排氣空間124第二分隔板142腔室正面?zhèn)鹊谋?44 頂板150排氣部152排氣鼓風(fēng)機(jī)160排氣閥Rl 刷洗室R2 吹洗室R3 沖洗室R4 除液干燥室。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括 平流搬運(yùn)路徑，其用來在水平的第一方向平流地搬運(yùn)被處理基板； 第一處理室，其容納所述平流搬運(yùn)路徑的第一區(qū)間，且具有在所述平流搬運(yùn)路徑上搬運(yùn)的所述基板能夠通過的入口和出口 ； 一個(gè)或多個(gè)第一噴嘴，其在所述第一處理室內(nèi)，向所述平流搬運(yùn)路徑上的所述基板噴灑處理液； 第一分隔板，其比所述第一噴嘴更位于上方，將所述第一處理室的室內(nèi)空間縱向分隔成上部空間與下部空間； 第一開口和第二開口，所述第一開口形成于所述第一分隔板與所述第一處理室的壁之間，所述第二開口形成于所述第一分隔板中； 第二分隔板，其將所述第一處理室的上部空間橫向分隔成與所述第一開口連接的第一排氣空間和與所述第二開口連接的第二排氣空間；和 排氣部，其與所述第一排氣空間和所述第二排氣空間連接。
2.如權(quán)利要求I所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一開口和所述第二開口在與所述第一方向交叉的第二方向上排列成一列或多列地配置。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一開口和所述第二開口的至少一個(gè)具有在所述第二方向上長長地延伸的一個(gè)或多個(gè)狹縫開口。
4.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一開口和所述第二開口作為所述第一處理室的設(shè)置有所述入口的第一壁或設(shè)置有所述出口的第二壁與所述第一分隔板的一個(gè)側(cè)面之間的間隙而形成。
5.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于 夾著所述第一壁或者第二壁與所述間隙相對的所述第一分隔板的邊緣部向上翹曲。
6.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一分隔板的邊緣部成圓弧狀地向上翹曲。
7.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一開口和所述第二開口的至少一個(gè)在所述第一分隔板穿孔。
8.如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一開口和所述第二開口在所述第一方向上形成于所述第一分隔板的中心部。
9.如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于 在所述第一方向上，所述第一分隔板的中心部與周邊部相比成錐狀地增高。
10.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 在所述第一處理室的與所述平流搬運(yùn)路徑平行地相對的第三壁設(shè)置有第一排氣口和第二排氣口，用來將所述第一排氣空間和第二排氣空間分別與所述排氣部單獨(dú)連接。
11.如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第二分隔板在縱向從所述第一分隔板延伸至所述第一處理室的頂板，在橫向從所述第三壁向與其相對的第四壁延伸并在中間的規(guī)定位置終止。
12.如權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其特征在于所述第二分隔板，在橫向上從所述第三壁向所述第四壁直至所述中間的規(guī)定位置附近，在所述第一分隔板的上方與所述第一分隔板平行地筆直地延伸，在所述中間的規(guī)定位置附近，向與所述第一方向相同的方向或者相反的方向折曲，其折曲部的前端與所述第一處理室的設(shè)置有所述入口的第一壁或者設(shè)置有所述出口的第二壁抵接或者接近。
13.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述排氣部具有流量控制部，該流量控制部用來單獨(dú)地調(diào)節(jié)所述第一排氣空間和所述第二排氣空間中的排氣流量。
14.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一方向上的所述第一開口和所述第二開口的尺寸為所述第一處理室的入口至出口的距離的1/3以下。
15.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一分隔板與所述第二分隔板一體地結(jié)合，以能夠裝卸的方式安裝于所述第一處理室。
16.如權(quán)利要求15所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一處理室的頂板以能夠開閉的方式構(gòu)成。
17.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述排氣部包括發(fā)生負(fù)壓吸引力的負(fù)壓發(fā)生源；和在所述第一排氣空間和所述第二排氣空間與所述負(fù)壓發(fā)生源之間將氣體與液滴分離的氣液分離部。
18.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一噴嘴為將處理液與高壓的氣體混合并噴灑的雙流體噴嘴。
19.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一噴嘴配置于所述平流搬運(yùn)路徑的上方，用來在所述第一處理室內(nèi)對所述基板的表面噴灑處理液。
20.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一噴嘴配置于所述平流搬運(yùn)路徑的下方，用來在所述第一處理室內(nèi)向所述基板的表面與背面噴灑處理液。
21.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于 所述處理液為清洗液。
22.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，包括 第二處理室，其配置于所述第一處理室的下游側(cè)鄰近，容納所述平流搬運(yùn)路徑的第二區(qū)間，且具有在所述平流搬運(yùn)路徑上搬運(yùn)的所述基板能夠通過的入口和出口 ；和 一個(gè)或多個(gè)第二噴嘴，其沿著所述平流搬運(yùn)路徑配置，用來在所述第二處理室內(nèi)對所述基板噴灑沖洗液。
23.如權(quán)利要求22所述的基板處理裝置，其特征在于 所述第一處理室與所述第二處理室隔著隔壁設(shè)置于同一腔室內(nèi)。
24.如權(quán)利要求I 3中的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，包括 第三處理室，其配置于所述第二處理室的下游側(cè)鄰近，容納所述平流搬運(yùn)路徑的第三區(qū)間，且具有在所述平流搬運(yùn)路徑上搬運(yùn)的所述基板能夠通過的入口和出口 ；和 氣刀，其配置于所述平流搬運(yùn)路徑的上下兩側(cè)，用來在所述第三處理室內(nèi)對所述基板噴 灑除液干燥用的氣體。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，確保容易產(chǎn)生氣霧的處理室的維護(hù)性，并提高室內(nèi)的排氣效率和排氣能力的均一性。在吹洗室(R2)的室內(nèi)排氣機(jī)構(gòu)(112)中，第一分隔板(114)配置于比上部雙流體噴嘴(104U)高且比排氣口(106、108)低的位置，將吹洗室(R2)的室內(nèi)空間縱向分隔成上部空間(UR2)和下部空間(LR2)。此處，第一分隔板(114)與上游側(cè)隔壁(86)之間形成沿著腔室寬度方向(Y)成一列延伸的兩個(gè)狹縫開口(116、118)。另外，第二分隔板(124)將在第一分隔板(114)上擴(kuò)散的上部空間(UR2)橫向分隔成在第一開口(116)與第一排氣口(106)之間延伸的第一排氣空間(120)、和在第二開口(118)與第二排氣口(108)之間延伸的第二排氣空間(122)。
文檔編號(hào)H01L21/67GK102891094SQ20121022407
公開日2013年1月23日 申請日期2012年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月22日
發(fā)明者兒玉宗久, 宮崎一仁 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社