專利名稱：蝕刻襯底的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種蝕刻襯底的裝置，且更特定地說(shuō)，涉及一種蝕刻襯底的裝置，其中蝕刻劑是從頂部向下噴射到多個(gè)垂直裝載襯底，以便隨著蝕刻劑沿襯底的表面流動(dòng)而使襯底的厚度變微薄；將蝕刻劑噴射到多個(gè)垂直裝載襯底的噴射器件經(jīng)排列為可從蝕刻腔的內(nèi)部取出，以便促進(jìn)維護(hù)；且安裝到構(gòu)成噴射器件的多個(gè)噴射模塊的噴嘴的耦合位置經(jīng)改進(jìn)以防止渣滓積聚于噴嘴棒內(nèi)部。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體和顯示設(shè)備的近期工業(yè)發(fā)展，并根據(jù)需要輕型、薄、簡(jiǎn)單且緊密的產(chǎn)品的消費(fèi)者的需求，已迫切需要使由玻璃自身制造或呈與玻璃耦合的形式的顯示面板變薄的開發(fā)技術(shù)。就是說(shuō)，已要求用于液晶顯示器(LCD)等等的襯底中的玻璃具有超微薄厚度，以便與設(shè)備的緊密度保持同步，且通過(guò)蝕刻顯示面板而實(shí)現(xiàn)超微薄厚度。舉例來(lái)說(shuō)，浸潰方法、噴射方法等等已被廣泛地稱為使面板變薄的常規(guī)化學(xué)蝕刻方法。然而，此類蝕刻方法必須不可避免地從外部噴射蝕刻劑或?yàn)榻⒅械奈g刻提供氣泡，且因此，由于蝕刻表面上的微小顆?；騽澓鄱y以實(shí)現(xiàn)玻璃蝕刻和基于玻璃蝕刻的變薄工序。為了解決此問(wèn)題，本申請(qǐng)人已在2010年2月23日申請(qǐng)名為“自頂向下噴射型襯底蝕刻器件(top-down sp ray type substrate etching device) ”的專利申請(qǐng)案(韓國(guó)專利申請(qǐng)案第10-2010-0016078號(hào))，且此專利已發(fā)布?！白皂斚蛳聡娚湫鸵r底蝕刻器件”使用噴射器件將蝕刻劑噴射到裝載于箱子中的多個(gè)襯底。具體來(lái)說(shuō)，如圖1所示，上述器件包括:箱子20，至少一個(gè)襯底垂直地裝載于箱子20中；和噴射器件10，噴射器件10排列于箱子20的頂部上并將蝕刻劑噴射到垂直地裝載于箱子20中的襯底。因此，垂直地裝載襯底，且接著將蝕刻劑從襯底的頂部噴射到襯底，使得可隨著所噴射的蝕刻劑以蝕刻劑自重流動(dòng)而蝕刻襯底的兩側(cè)。此處，噴射器件10排列于蝕刻腔的頂部上，且箱子20設(shè)置于蝕刻腔內(nèi)部，同時(shí)處于噴射器件10下方。在此結(jié)構(gòu)的情況下，噴射器件10將蝕刻劑從頂部向下噴射到裝載于箱子20中的多個(gè)襯底。噴射器件10由工人周期性地清理。在前述結(jié)構(gòu)中，噴射器件10固定于蝕刻腔內(nèi)部，且因此存在如下問(wèn)題:工人可能會(huì)不可避免地進(jìn)入蝕刻腔，以便維護(hù)或清理噴射器件10，或即使她/他不進(jìn)入蝕刻腔，也必須經(jīng)歷顯著麻煩且復(fù)雜的工序。此外，參看圖2，應(yīng)用于常規(guī)普通噴射器件10的噴射模塊11經(jīng)配置成使得噴嘴Ilb耦合到形成于噴嘴棒Ila中的噴射孔11a。然而，如圖2所示，噴嘴棒Ila的外徑與內(nèi)徑之間的厚度如此薄以致于當(dāng)噴嘴Ilb耦合到噴射孔Ila時(shí)，噴嘴Ilb的耦合部分可從噴嘴棒Ila向內(nèi)伸出。因此，當(dāng)將蝕刻劑供應(yīng)到噴嘴棒Ila的內(nèi)部且通過(guò)噴嘴Ilb而噴射蝕刻劑時(shí)，蝕刻劑連續(xù)地流入從噴嘴棒Ila向內(nèi)伸出的噴嘴Ilb的耦合部分，使得因?yàn)槲g刻劑未圍繞從噴嘴棒Ila向內(nèi)伸出的噴嘴Ilb的耦合部分平滑地流動(dòng)，所以渣滓可積聚于從噴嘴棒Ila向內(nèi)伸出的噴嘴b的耦合部分上。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明經(jīng)構(gòu)思以解決前述問(wèn)題，且本發(fā)明的一方面是提供一種蝕刻襯底的裝置，其中蝕刻劑是從頂部向下噴射到多個(gè)垂直裝載襯底，以便隨著蝕刻劑沿襯底的表面流動(dòng)而使襯底的厚度變微??；將蝕刻劑噴射到多個(gè)垂直裝載襯底的噴射器件經(jīng)排列為可從蝕刻腔的內(nèi)部取出，以便促進(jìn)維護(hù)；且安裝到構(gòu)成噴射器件的多個(gè)噴射模塊的噴嘴的耦合位置經(jīng)改進(jìn)以防止渣滓積聚于噴嘴棒內(nèi)部。根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例，提供一種蝕刻襯底的裝置，裝置包括:蝕刻腔；箱子，箱子以至少一個(gè)襯底垂直地裝載于箱子中的狀態(tài)排列于蝕刻腔內(nèi)部；和噴射器件，噴射器件排列于蝕刻腔內(nèi)部以在箱子上方噴射蝕刻劑，噴射器件包括:框架供應(yīng)管，框架供應(yīng)管是通過(guò)在蝕刻腔中使四個(gè)框架管彼此連接而形成，框架供應(yīng)管是矩形地且水平地安置并從外部接收蝕刻劑；支架，支架分別支撐構(gòu)成框架供應(yīng)管的四個(gè)框架管當(dāng)中彼此相對(duì)的框架管以穩(wěn)定地安放于蝕刻腔的內(nèi)壁上；和多個(gè)噴射模塊，每一個(gè)噴射模塊的兩端分別與構(gòu)成框架供應(yīng)管的四個(gè)框架管當(dāng)中的相對(duì)框架管連通并耦合，且多個(gè)噴射模塊從框架供應(yīng)管接收蝕刻劑并將蝕刻劑噴射到襯底。支架可固定地耦合到蝕刻腔`的內(nèi)壁。支架可滑動(dòng)地耦合到蝕刻腔的內(nèi)壁，使得可通過(guò)形成于蝕刻腔的側(cè)壁中的可拆卸門而取出噴射器件。支架可包括在支架的下端中的滑件，且蝕刻腔的內(nèi)壁包括導(dǎo)軌，滑件可在導(dǎo)軌上水平地移動(dòng)。噴射模塊可耦合到除了由支架支撐并安放的相對(duì)框架管之外的相對(duì)框架管。噴射模塊可包括:噴嘴棒，噴嘴棒的兩端都耦合到緊固部分，緊固部分分別形成于相對(duì)框架管中，且所述噴嘴棒具備多個(gè)噴射孔，多個(gè)噴射孔是按行縱長(zhǎng)地排列并彼此隔開；噴嘴耦合板，噴嘴耦合板附接于噴嘴棒的縱向方向上并具備多個(gè)噴嘴耦合孔，多個(gè)噴嘴耦合孔分別在垂直方向上與多個(gè)噴射孔連通；和噴嘴，噴嘴耦合到噴嘴耦合孔并將蝕刻劑噴射到襯底，蝕刻劑從噴射孔出來(lái)。耦合到噴嘴耦合孔的噴嘴的頂部可經(jīng)定位成低于噴射孔。如上文所描述，提供一種蝕刻襯底的裝置，且因此存在如下優(yōu)勢(shì):蝕刻劑是從頂部向下噴射到多個(gè)垂直裝載襯底，以便隨著蝕刻劑沿襯底的表面流動(dòng)而使襯底的厚度變微薄；將蝕刻劑噴射到多個(gè)垂直裝載襯底的噴射器件經(jīng)排列為可從蝕刻腔的內(nèi)部取出，以便促進(jìn)維護(hù)；且安裝到構(gòu)成噴射器件的多個(gè)噴射模塊的噴嘴的耦合位置經(jīng)改進(jìn)以防止渣滓積聚于噴嘴棒內(nèi)部。


根據(jù)示范性實(shí)施例的以下描述連同隨附圖式，本發(fā)明的上述方面和/或其他方面將變得顯而易見且更容易被了解，其中:圖1是常規(guī)自頂向下噴射型襯底蝕刻器件的示意圖；圖2是用于常規(guī)自頂向下噴射型襯底蝕刻器件中的噴射模塊的詳細(xì)視圖；圖3是根據(jù)示范性實(shí)施例的蝕刻襯底的裝置的透視圖；圖4是根據(jù)示范性實(shí)施例的噴射器件的第一配置圖，噴射器件用于蝕刻襯底的裝置中；圖5是根據(jù)示范性實(shí)施例的噴射器件的第二配置圖，噴射器件用于蝕刻襯底的裝置中；圖6是根據(jù)示范性實(shí)施例的圖示噴射器件的滑動(dòng)狀態(tài)的示意圖，噴射器件用于蝕刻襯底的裝置中；圖7是根據(jù)示范性實(shí)施例的包括于噴射器件中的噴射模塊的分解透視圖，噴射器件用于蝕刻襯底的裝置中；和圖8圖示根據(jù)示范性實(shí)施例的包括于噴射器件中的噴射模塊的耦合視圖和部分詳細(xì)視圖，噴射器件用于蝕刻襯底的裝置中。
具體實(shí)施例方式在下文中，將參看隨附圖式詳細(xì)地描述根據(jù)具有前述問(wèn)題、解決方案和效果的本發(fā)明的蝕刻襯底的裝置的示范性實(shí)施例。此處，圖式所示的元件的大小、形狀等等可出于說(shuō)明清晰性和便利性起見而夸示。此外，在特定地考慮本發(fā)明的配置和操作的情況下而界定的術(shù)語(yǔ)可取決于用戶或操作員的意圖或習(xí)慣而變化。另外，此類術(shù)語(yǔ)必須基于貫穿本說(shuō)明書的內(nèi)容予以界定。圖3是根據(jù)示范性實(shí)施例的蝕刻襯底的裝置的透視圖。如圖3所示，根據(jù)此示范性實(shí)施例的蝕刻襯底的裝置包括蝕刻腔30、放置于蝕刻腔30內(nèi)的箱子20，和放置于蝕刻腔30內(nèi)并安置于箱子20上方的噴射器件10。蝕刻腔30提供關(guān)于裝載于箱子20中的襯底而執(zhí)行蝕刻工序或變微薄工序的空間。蝕刻腔30可被獨(dú)立地配置，或直列式連接到裝載/卸載腔(未圖示)和清理腔(未圖示)，由此使襯底經(jīng)受各種工序。如果蝕刻腔30直列式連接到裝載/卸載腔(未圖示)和清理腔(未圖示)，那么連接到清理腔(未圖示)或裝載/卸載腔(未圖示)的部分經(jīng)形成有門，箱子20通過(guò)門而進(jìn)出。另外，蝕刻腔30經(jīng)形成有可拆卸門(參看圖6中的“33”)，可拆卸門具有預(yù)定形狀，使得噴射器件10可從蝕刻腔取出來(lái)。由于噴射器件10是通過(guò)可拆卸門33取出來(lái)，故易于實(shí)行對(duì) 噴射器件10的維護(hù)。箱子20和噴射器件10放置于蝕刻腔30內(nèi)部。具體來(lái)說(shuō)，箱子20放置于蝕刻腔30的內(nèi)底上,且噴射器件10安置于箱子20上方。箱子20可具有各種形狀以將待經(jīng)受蝕刻工序的襯底裝載于箱子20中。然而，箱子20必須具有垂直地將至少一個(gè)襯底裝載于箱子20中的結(jié)構(gòu)。箱子20在垂直方向上裝載至少一個(gè)襯底的原因是:當(dāng)蝕刻劑從安置于箱子20上方的噴射器件10朝向襯底I噴射時(shí)，蝕刻劑可蝕刻襯底I，同時(shí)歸因于蝕刻劑自重而向下流動(dòng)。因此，箱子20具有多個(gè)襯底I可在垂直方向上裝載的結(jié)構(gòu)。另外，如果提供多個(gè)腔(在蝕刻腔30直列式連接到裝載/卸載腔和清理腔的情況下)，那么箱子20經(jīng)配置以在腔之間移動(dòng)。舉例來(lái)說(shuō)，如果滾筒提供于箱子20的底部下方且軌道形成于腔的底部上，那么可驅(qū)動(dòng)箱子20以在腔之間移動(dòng)。噴射器件10安置于箱子20上方，箱子20放置于蝕刻腔30內(nèi)部，同時(shí)在垂直方向上裝載有至少一個(gè)襯底(如同上述)。噴射器件10經(jīng)配置以在箱子20上方噴射蝕刻劑。只要噴射器件10可在箱子20上方朝向裝載于箱子20中的多個(gè)襯底噴射蝕刻劑，噴射器件10就可具有各種結(jié)構(gòu)。本示范性實(shí)施例提出噴射器件10的結(jié)構(gòu)，此結(jié)構(gòu)可容易制造、具有簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)、無(wú)渣滓且容易維護(hù)。在此示范性實(shí)施例中，噴射器件10的配置是如圖4和圖5所示。圖4圖示噴射器件10固定于蝕刻腔30中，且圖5展示噴射器件10在蝕刻腔30內(nèi)可水平地移動(dòng)并可在外部取出。如圖4和圖5所示，噴射器件10是通過(guò)在蝕刻腔30內(nèi)部使四個(gè)框架管13a和13b彼此耦合而形成，且經(jīng)配置以包括:框架供應(yīng)管13，框架供應(yīng)管13是矩形地且水平地安置并從外部接收蝕刻劑；支架15，支架15分別支撐構(gòu)成框架供應(yīng)管13的四個(gè)框架管當(dāng)中彼此相對(duì)的框架管，使得框 架管可穩(wěn)定地安放于蝕刻腔30的內(nèi)壁上；和多個(gè)噴射模塊11，每一個(gè)噴射模塊11的兩端分別與構(gòu)成框架供應(yīng)管13的四個(gè)框架管當(dāng)中彼此相對(duì)的框架管連通并耦合，且多個(gè)噴射模塊11從框架供應(yīng)管13接收蝕刻劑并將蝕刻劑噴射到襯底I。如圖4和圖5所示，框架供應(yīng)管13是通過(guò)連接四個(gè)框架管13a和13b而配置，四個(gè)框架管13a和13b分別與蝕刻腔30的四個(gè)壁彼此平行地排列。四個(gè)框架管13a和13b彼此連接以由此形成矩形框架供應(yīng)管13，且四個(gè)框架管13a和13b水平地安置于蝕刻腔30中。換句話說(shuō)，框架供應(yīng)管13包括:第一對(duì)框架管13a，第一對(duì)框架管13a經(jīng)配置為形成一對(duì)的兩個(gè)相對(duì)框架管；和第二對(duì)框架管13b，第二對(duì)框架管13b經(jīng)配置為形成一對(duì)的兩個(gè)相對(duì)框架管(除了第一對(duì)框架管13a之外)?？蚣芄?yīng)管13與矩形管道相似，矩形管道形成蝕刻劑被裝填并流動(dòng)的空間。另夕卜，框架供應(yīng)管13從蝕刻腔30的外部接收蝕刻劑。具體來(lái)說(shuō)，放置于蝕刻腔30外部的蝕刻劑槽(未圖示)的蝕刻劑由蝕刻劑供應(yīng)泵(未圖示)抽吸且供應(yīng)到框架供應(yīng)管13。框架供應(yīng)管13經(jīng)形成有蝕刻劑入口管13d，蝕刻劑入口管13d彼此面對(duì)且從外部接收蝕刻劑并朝向框架供應(yīng)管13引導(dǎo)蝕刻劑。就是說(shuō)，如圖4和圖5所示，蝕刻劑入口管13d從外部接收蝕刻劑并將蝕刻劑引導(dǎo)到框架供應(yīng)管13，每一個(gè)蝕刻劑入口管13d的一端分別連接到構(gòu)成第一對(duì)框架管13a或第二對(duì)框架管13b且彼此相對(duì)的框架管。蝕刻劑入口管13d的另一端連接到蝕刻劑分配管(未圖示)，蝕刻劑分配管連接到放置于蝕刻腔30外部的蝕刻劑供應(yīng)泵(未圖示)。因此，由蝕刻劑供應(yīng)泵(未圖示)抽吸的蝕刻劑經(jīng)由蝕刻劑分配管(未圖示)而供應(yīng)到蝕刻劑入口管13d，且供應(yīng)到蝕刻劑入口管13d的蝕刻劑被引導(dǎo)到框架供應(yīng)管。因此，被引導(dǎo)到框架供應(yīng)管13的蝕刻劑被分割且供應(yīng)到與框架供應(yīng)管13連通并連接的噴射模塊11。由于框架供應(yīng)管13水平地排列于蝕刻腔30上方，故框架供應(yīng)管13必須穩(wěn)定地安裝到蝕刻腔30。為此，支架15分別支撐構(gòu)成框架供應(yīng)管13的四個(gè)框架管當(dāng)中彼此相對(duì)的兩個(gè)框架管，由此穩(wěn)定地將兩個(gè)框架管安放于蝕刻腔30的內(nèi)壁上。詳細(xì)地說(shuō)，支架15分別支撐彼此面對(duì)且構(gòu)成第一對(duì)框架管13a或第二對(duì)框架管13b的兩個(gè)框架管，由此穩(wěn)定地將兩個(gè)框架管安裝于蝕刻腔30的內(nèi)壁上。穩(wěn)定地支撐框架供應(yīng)管13的支架15緊固到(參看圖4)或可滑動(dòng)地耦合到(參看圖5)蝕刻腔30的內(nèi)壁，此稍后將予以描述。如同上述，由支架15穩(wěn)定地支撐的框架供應(yīng)管13接收蝕刻劑并將蝕刻劑供應(yīng)到分支噴射模塊11。因此，如圖4和圖5所75,多個(gè)噴射模塊11中的每一個(gè)與框架供應(yīng)管13連通并連接。舉例來(lái)說(shuō)， 多個(gè)噴射模塊11經(jīng)排列以從框架供應(yīng)管13接收蝕刻劑并將蝕刻劑噴射到垂直地裝載于箱子20中的多個(gè)襯底，每一個(gè)噴射模塊11的兩端分別與構(gòu)成框架供應(yīng)管13的四個(gè)框架管當(dāng)中彼此相對(duì)而排列的兩個(gè)框架管連通并耦合。參看圖4和圖5，每一個(gè)噴射模塊11的兩端分別緊固到彼此面對(duì)且分別形成于彼此相對(duì)而排列的兩個(gè)框架管中的緊固部分13c。在圖4和圖5中，緊固部分13c分別形成于構(gòu)成第二對(duì)框架管13b且彼此相對(duì)的框架管中。就是說(shuō)，多個(gè)緊固部分13c是按行水平地形成于彼此相對(duì)的每一個(gè)框架管上。另外，形成于個(gè)別框架管中的緊固部分13c彼此對(duì)應(yīng)并面對(duì)。因此，噴射模塊11的兩端分別緊固到彼此對(duì)應(yīng)并面對(duì)的兩個(gè)緊固部分13c。因此，框架供應(yīng)管13中的蝕刻劑被分割且經(jīng)由每一個(gè)噴射模塊11的兩端而供應(yīng)到個(gè)別噴射模塊11。就是說(shuō)，從每一個(gè)噴射模塊11的兩端引導(dǎo)的蝕刻劑供應(yīng)于襯底上方，此稍后將予以描述。稍后將描述噴射模塊11的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。如上文所描述，因?yàn)閲娚淠K11的兩端通過(guò)緊固部分13c而與框架供應(yīng)管13連通并緊固到框架供應(yīng)管13，所以經(jīng)由蝕刻劑入口管13d而引入的蝕刻劑經(jīng)由框架供應(yīng)管13而直接供應(yīng)到噴射模塊11且接著噴射到襯底。換句話說(shuō)，在未通過(guò)復(fù)雜結(jié)構(gòu)(其中，蝕刻劑分配管(未圖示)是一對(duì)一地連接到個(gè)別噴射模塊)將蝕刻劑噴射到襯底的情況下，蝕刻劑可通過(guò)簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)(其中，蝕刻劑是通過(guò)蝕刻劑入口管13d和一個(gè)框架供應(yīng)管13而從一個(gè)蝕刻劑分配管(未圖示)供應(yīng)到多個(gè)噴射模塊11)而供應(yīng)到多個(gè)襯底。前述噴射器件10被穩(wěn)定地支撐于蝕刻腔30的內(nèi)壁上(如上文所描述)。具體來(lái)說(shuō)，構(gòu)成噴射器件10的支架15穩(wěn)定地安放于蝕刻腔30的內(nèi)壁上，使得噴射器件10可穩(wěn)定地安裝到蝕刻腔30的內(nèi)壁。為了使支架15穩(wěn)定地安裝到蝕刻腔30的內(nèi)壁(如同上述)，底座部件31從蝕刻腔30中彼此面對(duì)的每一個(gè)內(nèi)壁水平地伸出(如圖4和圖5所示)。支架15固定地緊固到或可滑動(dòng)地耦合到蝕刻腔30的內(nèi)壁上的底座部件31。就是說(shuō)，支架15固定地緊固到或可滑動(dòng)地耦合到蝕刻腔30的內(nèi)壁上的底座部件31 (如圖4所示)，或可滑動(dòng)地耦合到蝕刻腔30的內(nèi)壁上的底座部件31 (如圖5所示)。
盡管圖4展示支架15固定地緊固到或可滑動(dòng)地耦合到蝕刻腔30的內(nèi)壁上的底座部件31，但支架15可滑動(dòng)地耦合到底座部件31，以便促進(jìn)維護(hù)。就是說(shuō)，如圖5和圖6所示，支架15可滑動(dòng)地耦合到蝕刻腔30的內(nèi)壁，使得噴射器件10可通過(guò)形成于蝕刻腔30的側(cè)壁中的可拆卸門33取出。具體來(lái)說(shuō)，滑件17提供于支架15的下端中，且導(dǎo)軌19形成于底座部件31 (底座部件31形成于蝕刻腔30的內(nèi)壁中)上，使得滑件17可在導(dǎo)軌19上水平地移動(dòng)。由此，由支架15穩(wěn)定地安放并支撐的噴射器件10可經(jīng)配置以在形成于蝕刻腔30的內(nèi)壁中的底座部件31上滑動(dòng)。為了從蝕刻腔30向外取出噴射器件10，在蝕刻腔30的側(cè)壁上形成具有預(yù)定形狀的可拆卸門33 (如圖6所示)。因此，在打開可拆卸門33之后，操作員用他/她的手或工具向外拉動(dòng)框架供應(yīng)管13，使得噴射器件10可從蝕刻腔30向外取出(如圖6所示)。只要噴射器件10可通過(guò)可拆卸門33向外取出，可拆卸門33就可具有各種形狀。舉例來(lái)說(shuō)，如圖6所示，如果噴射器件10經(jīng)設(shè)計(jì)為以蝕刻劑入口管13d耦合到框架供應(yīng)管13的狀態(tài)向外取出，那么可拆卸門33可呈“ pi ”形狀。此時(shí)，連接到蝕刻劑入口管13d的另一端和蝕刻劑供應(yīng)泵(未圖示)的蝕刻劑分配管(未圖示)在噴射器件10向外取出之前被分離，且因此不存在對(duì)取出噴射器件10的干擾。如此，噴射器件10可容易從蝕刻腔30向外取出，使得可提高工人的安全性且可基于噴射器件10的分離而促進(jìn)維護(hù)。同時(shí)，在對(duì)噴射器件10的維護(hù)工作完成之后，噴射器件10通常被組裝并放回到蝕刻腔30。此時(shí)，使用O型環(huán)和遮蓋物關(guān)閉可拆卸門33。

如上文所描述，根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例的蝕刻襯底的裝置具有如下優(yōu)勢(shì):簡(jiǎn)化了將蝕刻劑噴射到襯底的噴射器件10的結(jié)構(gòu)，且促進(jìn)了噴射器件10的維護(hù)。同時(shí)，由于構(gòu)成噴射器件10的多個(gè)噴射模塊11的兩端分別緊固到兩個(gè)相對(duì)框架管13a或13b，故多個(gè)噴射模塊11逐一耦合。噴射模塊11可緊固到由支架15支撐并安放的框架管，但更可取的是，噴射模塊11緊固到除了由支架15支撐并安放的框架管之外的框架管。就是說(shuō)，噴射模塊11可緊固到除了由支架15支撐并安放的相對(duì)框架管之外的相對(duì)框架管。舉例來(lái)說(shuō)，如圖4和圖5所示，需要如下簡(jiǎn)易排列:構(gòu)成框架供應(yīng)管13的第一對(duì)框架管13a由支架15支撐并安放，且噴射模塊11緊固到第二對(duì)框架管13b，第二對(duì)框架管13b對(duì)應(yīng)于除了第一對(duì)框架管13a之外的框架管。用于此示范性實(shí)施例中的噴射模塊11具有與現(xiàn)有普通噴射模塊的結(jié)構(gòu)不同的結(jié)構(gòu)。就是說(shuō)，此示范性實(shí)施例中的噴射模塊11具有使渣滓的積聚最小化的結(jié)構(gòu)。具體來(lái)說(shuō)，如圖7和圖8所示，用于此示范性實(shí)施例中的噴射模塊包括:噴嘴棒11a，噴嘴棒Ila的兩端都耦合到緊固部分13c，緊固部分13c分別形成于相對(duì)框架管中，且噴嘴棒Ila具備多個(gè)噴射孔11a’，多個(gè)噴射孔11a’是按行縱長(zhǎng)地排列并彼此隔開；噴嘴耦合板11c，噴嘴耦合板Ilc附接于噴嘴棒Ila的縱向方向上并具備多個(gè)噴嘴耦合孔11c’，多個(gè)噴嘴耦合孔11c’分別在垂直方向上與多個(gè)噴射孔11a’連通；和噴嘴11b，噴嘴Ilb耦合到噴嘴耦合孔He’并將蝕刻劑噴射到襯底，蝕刻劑從噴射孔11a’出來(lái)。噴嘴棒Ila是與普通噴射模塊的噴嘴棒相似地形成。就是說(shuō)，噴嘴棒Ila的形狀類似于由抵抗蝕刻劑的材料制成的管的形狀。然而，根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例的噴嘴棒Ila經(jīng)形成有待緊固到緊固部分13c (緊固部分13c在緊固部分13c的兩端處連接到框架供應(yīng)管13)的耦合部分11a”，使得不是一端而是兩端可連接到框架供應(yīng)管13。因此，如果在噴嘴棒Ila的兩端與緊固部分13c會(huì)合之后使耦合部分11a”旋轉(zhuǎn)，那么耦合部分11a”與緊固部分13c螺旋耦合，由此緊固噴嘴棒11a。此外，與噴嘴被螺旋耦合到的現(xiàn)有噴嘴棒相反，多個(gè)噴射孔11a’ (沿噴嘴棒Ila的縱長(zhǎng)方向以預(yù)定間隔而形成)不與噴嘴螺旋耦合，但充當(dāng)僅僅朝向噴嘴Ilb引導(dǎo)蝕刻劑的通道。噴嘴耦合板Ilc附接并耦合到噴嘴棒11a，噴嘴棒I Ia經(jīng)形成有沿噴嘴棒Ila的縱向方向的噴射孔11a’。另外，噴嘴耦合板Ilc經(jīng)形成有多個(gè)噴嘴耦合孔11c’，且噴嘴耦合板Uc耦合到噴嘴棒11a，使得噴嘴耦合孔Ilc可垂直地與噴射孔11a’連通。就是說(shuō)，噴嘴耦合孔11c’具有與噴射孔11a’的數(shù)目和間隔相同的數(shù)目和間隔。噴嘴耦合孔11c’為與噴嘴Ilb被耦合到的部分。就是說(shuō)，噴嘴Ilb不螺旋耦合到噴嘴棒11a，但螺旋耦合到形成于新加的噴嘴耦合板Ilc上的噴嘴耦合孔11c’。因此，噴嘴Ilb耦合到噴嘴耦合孔11c’，且將蝕刻劑噴射到襯底，蝕刻劑通過(guò)噴射孔而出來(lái)。由于噴嘴Ilb耦合到噴嘴耦合板Ilc的噴嘴耦合孔11c’，故耦合到噴嘴耦合孔lie’的噴嘴Ilb的頂部lib’經(jīng)定位成低于噴射孔11a’ (如圖8所示)。就是說(shuō)，噴嘴Ilb的頂部lib’未從噴嘴棒Ila向內(nèi)伸出。 因此，與常規(guī)噴射模塊相對(duì)比，根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例的噴射模塊11可防止渣滓積聚于噴嘴棒Ila內(nèi)部。因此，延長(zhǎng)了清理噴射模塊11的工作周期，且因此有可能減少維護(hù)的時(shí)間、成本和精力。此外，積聚于噴嘴棒內(nèi)部的渣滓顯著地少于常規(guī)噴嘴棒的渣滓，且因此進(jìn)一步有可能容易移除渣滓并減少移除渣滓的時(shí)間、成本和精力。盡管已圖示并描述本發(fā)明的少許示范性實(shí)施例，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)了解，可在此等實(shí)施例中進(jìn)行改變而不脫離本發(fā)明的原則和精神，本發(fā)明的范疇是在附加權(quán)利要求書和權(quán)利要求書等效者中予以界定。
權(quán)利要求
1.一種蝕刻襯底的裝置，所述裝置包含: 蝕刻腔； 箱子，所述箱子以至少一個(gè)襯底垂直地裝載于所述箱子中的狀態(tài)排列于所述蝕刻腔內(nèi)部；和 噴射器件，所述噴射器件排列于所述蝕刻腔內(nèi)部以在所述箱子上方噴射蝕刻劑， 所述噴射器件包含: 框架供應(yīng)管，所述框架供應(yīng)管是通過(guò)在所述蝕刻腔中使四個(gè)框架管彼此連接而形成，所述框架供應(yīng)管是矩形地且水平地安置并從外部接收所述蝕刻劑；支架，所述支架分別支撐構(gòu)成所述框架供應(yīng)管的所述四個(gè)框架管當(dāng)中彼此相對(duì)的框架管以穩(wěn)定地安放于所述蝕刻腔的內(nèi)壁上；和多個(gè)噴射模塊，每一個(gè)噴射模塊的兩端分別與構(gòu)成所述框架供應(yīng)管的所述四個(gè)框架管當(dāng)中的所述相對(duì)框架管連通并耦合，且所述多個(gè)噴射模塊從所述框架供應(yīng)管接收所述蝕刻劑并將所述蝕刻劑噴射到所述襯底。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述支架固定地耦合到所述蝕刻腔的所述內(nèi)壁。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述支架可滑動(dòng)地耦合到所述蝕刻腔的所述內(nèi)壁，使得可通過(guò)形成于所述蝕刻腔的側(cè)壁中的可拆卸門而取出所述噴射器件。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述支架包含在所述支架的下端中的滑件，且所述蝕刻腔的所述內(nèi)壁包含導(dǎo)軌，所述滑件可在所述導(dǎo)軌上水平地移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述噴射模塊耦合到除了由所述支架支撐并安放的所述相對(duì)框架管之外的所述相對(duì)框架管。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其中所述噴射模塊包含:噴嘴棒，所述噴嘴棒的兩端都耦合到緊固部分，所述緊固部分分別形成于所述相對(duì)框架管中，且所述噴嘴棒具備多個(gè)噴射孔，所述多個(gè)噴射孔是按行縱長(zhǎng)地排列并彼此隔開；噴嘴耦合板，所述噴嘴耦合板附接于所述噴嘴棒的縱向方向上并具備多個(gè)噴嘴耦合孔，所述多個(gè)噴嘴耦合孔分別在垂直方向上與所述多個(gè)噴射孔連通；和噴嘴，所述噴嘴耦合到所述噴嘴耦合孔并將所述蝕刻劑噴射到所述襯底，所述蝕刻劑從所述噴射孔出來(lái)。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中耦合到所述噴嘴耦合孔的所述噴嘴的頂部經(jīng)定位成低于所述噴射孔。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種蝕刻襯底的裝置，且更特定地說(shuō)，涉及一種蝕刻襯底的裝置，其中蝕刻劑是從頂部向下噴射到多個(gè)垂直裝載襯底，以便隨著蝕刻劑沿襯底的表面流動(dòng)而使襯底的厚度變微??；將蝕刻劑噴射到多個(gè)垂直裝載襯底的噴射器件經(jīng)排列為可從蝕刻腔的內(nèi)部取出，以便促進(jìn)維護(hù)；且安裝到構(gòu)成噴射器件的多個(gè)噴射模塊的噴嘴的耦合位置經(jīng)改進(jìn)以防止渣滓積聚于噴嘴棒內(nèi)部。
文檔編號(hào)H01L21/67GK103241956SQ20121013708
公開日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2012年5月2日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月3日
發(fā)明者張承逸 申請(qǐng)人:Mm技術(shù)股份有限公司