專利名稱：蝕刻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種蝕刻裝置，尤指一種蝕刻裝置。
背景技術(shù)：
蝕刻為一種通過化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊的方式對于材料進(jìn)行移除的技術(shù)，現(xiàn)有蝕刻技術(shù)大致可分為濕蝕刻(wet etching)及干蝕刻(dryetching)兩類,其中濕蝕刻是通過化學(xué)溶液進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)而達(dá)到蝕刻的效果，而干蝕刻則是通過一種等離子體蝕刻(Plasmaetching)，等離子體蝕刻可能是等離子體中離子撞擊晶片表面的物理作用或者可能是等離子體中活性自由基與晶片表面原子間的化學(xué)反應(yīng)，也可能是兩者的復(fù)合作用，隨著科技的發(fā)展，蝕刻技術(shù)已廣泛地應(yīng)用于航空、機(jī)械、化學(xué)及半導(dǎo)體制造過程上；目前業(yè)界所使用的蝕刻機(jī)臺80的配置如圖8所示，其主要于中心處設(shè)置一機(jī)器手臂81，于該機(jī)器手臂81的周圍依序環(huán)形間隔設(shè)置有數(shù)個(gè)傳送室82、一定位室83、數(shù)個(gè)反應(yīng)室84及一清潔室85，通過該機(jī)器手臂81將晶圓90于各室間進(jìn)行移動(dòng)、定位及蝕刻加工；然而，現(xiàn)有蝕刻機(jī)臺80雖可通過機(jī)器手臂81進(jìn)行移動(dòng)、定位及蝕刻加工，但機(jī)器手臂81于各室間進(jìn)行移動(dòng)需花費(fèi)不少的時(shí)間，且機(jī)器手臂81經(jīng)長時(shí)間的使用后，容易因磨耗或磨損而影響其操作的準(zhǔn)確性，使晶圓90可能于移動(dòng)的過程中發(fā)生掉落而毀損的情形，有加以改進(jìn)之處。

發(fā)明內(nèi)容
為了改善上述現(xiàn)有蝕刻機(jī)臺通過機(jī)器手臂進(jìn)行移動(dòng)、定位及蝕刻加工的缺失及不足，本發(fā)明的主要目的在于提供一種蝕刻裝置，其可使晶圓在不需設(shè)置機(jī)器手臂的情況下進(jìn)行移動(dòng)及加工，從而提供一節(jié)省成本、縮短制造過程時(shí)間及提高產(chǎn)能的蝕刻裝置?；谏鲜瞿康?，本發(fā)明的蝕刻裝置包含有一蝕刻組件、一輸送組件及一載具組件，其中:該蝕刻組件設(shè)有一蝕刻腔體、一上蓋板及一升降裝置，該上蓋板可翻轉(zhuǎn)地設(shè)于該蝕刻腔體頂面且設(shè)有一電極導(dǎo)入裝置、兩氣孔板及一遮板，該電極導(dǎo)入裝置固設(shè)于該上蓋板頂面且朝內(nèi)設(shè)有一電極，兩氣孔板間隔地設(shè)于該上蓋板底面，該遮板間隔地設(shè)于該上蓋板底面且貫穿設(shè)有與該兩氣孔板相對應(yīng)的穿孔，于兩穿孔間貫穿一供該電極伸入該遮板的開孔，該升降裝置固設(shè)于該蝕刻腔體底面且朝上設(shè)有一伸入該蝕刻腔體的升降桿；該輸送組件設(shè)于該蝕刻組件內(nèi)且于該蝕刻腔體內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)具有滾輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸；以及該載具組件于該輸送組件上而可移動(dòng)地設(shè)于該蝕刻腔體內(nèi)并設(shè)有數(shù)個(gè)載盤，各載盤與該輸送組件的滾輪相貼靠且于頂面設(shè)有一極板，該極板貫穿設(shè)有兩間隔設(shè)置并分別與該遮板兩穿孔相對應(yīng)的承載孔。進(jìn)一步，該蝕刻裝置另設(shè)有一進(jìn)料組件、一出料組件及一閥門組件，其中該進(jìn)料組件設(shè)有一前、后端呈開口狀且與該蝕刻腔體前端相結(jié)合的進(jìn)料腔體，該出料組件設(shè)有一與該蝕刻腔體異于該進(jìn)料腔體一端相結(jié)合的出料腔體，而該閥門組件設(shè)于該進(jìn)料組件、該蝕刻組件及該出料組件之間且設(shè)有數(shù)個(gè)閥門裝置，各閥門裝置分別該設(shè)于各腔體之間，該輸送組件于該進(jìn)料組件及該出料組件的各腔體內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)具有滾輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸，該載具組件設(shè)于該輸送組件上而可移動(dòng)地設(shè)于各腔體之間。優(yōu)選地，該進(jìn)料腔體于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一第一導(dǎo)軌，該蝕刻腔體于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體第一導(dǎo)軌直線相對的第二導(dǎo)軌，該升降裝置的升降桿伸設(shè)于該蝕刻腔體內(nèi)且介于兩第二導(dǎo)軌間，而該出料腔體于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體第一導(dǎo)軌及該蝕刻腔體第二導(dǎo)軌直線相對的第三導(dǎo)軌，該輸送組件的各滾動(dòng)軸設(shè)于各腔體的兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)。優(yōu)選地，該上蓋板于該遮板周圍的底面設(shè)有多個(gè)定位桿，各定位桿在異于該上蓋板的底端設(shè)有一套設(shè)蓋，而該載具組件的各載盤于該極板周圍的頂面設(shè)有數(shù)個(gè)定位凸粒，當(dāng)該載盤移動(dòng)至該蝕刻腔體內(nèi)時(shí)，各定位凸粒與該蝕刻組件各定位桿的套設(shè)蓋直線相對。優(yōu)選地，該上蓋板于兩相對側(cè)邊分別設(shè)有一與該蝕刻腔體頂面相固設(shè)結(jié)合的翻轉(zhuǎn)壓缸軸，使該上蓋體可相對該蝕刻腔體翻轉(zhuǎn)，且該上蓋板于頂面固設(shè)有一與該電極導(dǎo)入裝置相連接的輸出功率單兀。優(yōu)選地,該兩氣孔板分別于該上蓋板頂面設(shè)有一用以輸送氣體的輸送管，使氣體可經(jīng)由輸送管及氣孔板而進(jìn)入該蝕刻腔體內(nèi)。優(yōu)選地，該遮板設(shè)有數(shù)個(gè)與該上蓋板相固設(shè)結(jié)合的固定桿，使該遮板間隔地設(shè)于該上蓋板的底面。優(yōu)選地，該蝕刻組件另設(shè)有一與該蝕刻腔體相結(jié)合的高真空泵浦，使該蝕刻腔體內(nèi)部維持于一高真空的狀態(tài)。優(yōu)選地，各閥門裝置設(shè)有一閥門及一閥門氣壓缸，通過閥門氣壓缸的作動(dòng)，使兩相鄰腔體間呈現(xiàn)相通或封閉的狀態(tài)，而該輸送組件各轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端套設(shè)有一傳動(dòng)輪，該傳動(dòng)輪可為一鏈輪或一皮帶輪。優(yōu)選地，該蝕刻裝置在異于該蝕刻腔體的出料腔體一側(cè)設(shè)有一清潔腔體，從而對于蝕刻后的晶圓進(jìn)行表面清洗。通過上述的技術(shù)手段，本發(fā)明蝕刻裝置于操作時(shí)于各腔體內(nèi)分別設(shè)置一載盤，讓各腔體可于同一時(shí)段中對于各晶圓進(jìn)行不同的加工步驟，即可于本發(fā)明的蝕刻裝置上進(jìn)行的晶圓加工流程，讓各晶圓依序且連續(xù)地于各腔體內(nèi)進(jìn)行加工，而不需再通過機(jī)器手臂的夾持及移動(dòng)，即可形成一條龍的的生產(chǎn)線，不僅可提高產(chǎn)能且縮短制造過程時(shí)間，且晶圓通過各載盤而于各腔體間上進(jìn)行輸送，可有效避免晶圓可能于移動(dòng)的過程中發(fā)生掉落而毀損的現(xiàn)象，進(jìn)而達(dá)到節(jié)省成本的效果，從而構(gòu)成一節(jié)省成本、縮短制造過程時(shí)間及提高產(chǎn)能的蝕刻裝置。


圖1是本發(fā)明蝕刻裝置第一實(shí)施例的外觀立體示意圖。圖2是本發(fā)明蝕刻裝置第一實(shí)施例的另一外觀立體示意圖。圖3是本發(fā)明蝕刻裝置第一實(shí)施例的剖面?zhèn)纫暿疽鈭D。圖4是本發(fā)明蝕刻裝置第一實(shí)施例的局部放大剖面?zhèn)纫暿疽鈭D。圖5是本發(fā)明蝕刻裝置蝕刻組件的立體外觀示意圖。
圖6是本發(fā)明蝕刻裝置第一實(shí)施例的操作剖面?zhèn)纫暿疽鈭D。圖7是本發(fā)明蝕刻裝置第二實(shí)施例的外觀立體示意圖。圖8是現(xiàn)有蝕刻機(jī)臺的俯視示意圖。主要元件符號說明10進(jìn)料組件11進(jìn)料腔體111第一導(dǎo)軌20蝕刻組件21蝕刻腔體211第二導(dǎo)軌22上蓋板221翻轉(zhuǎn)壓缸軸23升降裝置231升降桿24電極導(dǎo)入裝置241電極25氣孔板251輸送管26遮板261固定桿262穿孔263開孔27定位桿 271套設(shè)蓋272定位孔28輸出功率單元29高真空泵浦30出料組件31出料腔體311第三導(dǎo)軌32清潔腔體40閥門組件41閥門裝置42閥門43閥門氣壓缸50輸送組件51轉(zhuǎn)動(dòng)軸52滾輪53傳動(dòng)輪60載具組件61載盤62極板621承載孔63定位凸粒70晶圓80蝕刻機(jī)臺81機(jī)器手臂82傳送室83定位室84反應(yīng)室85清潔室90晶圓。
具體實(shí)施例方式為能詳細(xì)了解本發(fā)明的技術(shù)特征及實(shí)用功效，并可依照說明書的內(nèi)容來實(shí)施，現(xiàn)進(jìn)一步以如圖所示的優(yōu)選實(shí)施例，詳細(xì)說明如后:本發(fā)明主要提供一種蝕刻裝置，請配合參看如圖1至3所示，由圖中可看出本發(fā)明蝕刻裝置，其設(shè)有一進(jìn)料組件10、一蝕刻組件20、一出料組件30、一閥門組件40、一輸送組件50及一載具組件60，其中:該進(jìn)料組件10設(shè)有一進(jìn)料腔體11，該進(jìn)料腔體11為一略呈長方形的中空腔體，該進(jìn)料腔體11的前、后端各呈一開口狀，該進(jìn)料腔體11于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一第一導(dǎo)軌111，進(jìn)一步，該進(jìn)料組件10與一真空泵浦(圖未示)相連接，從而使該進(jìn)料腔體11維持一真空狀態(tài)；
請進(jìn)一步配合參看如圖4及5所示,該蝕刻組件20與該進(jìn)料組件10相結(jié)合且設(shè)有一蝕刻腔體21、一上蓋板22及一升降裝置23，其中該蝕刻腔體21呈一與該進(jìn)料腔體11結(jié)構(gòu)相符合的中空腔體，該蝕刻腔體21與該進(jìn)料腔體11的后端相固設(shè)結(jié)合且于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體11第一導(dǎo)軌111直線相對的第二導(dǎo)軌211，該上蓋板22可翻轉(zhuǎn)地設(shè)于該蝕刻腔體21的頂面且設(shè)有一電極導(dǎo)入裝置24、兩氣孔板25、一遮板26及多個(gè)定位桿27，優(yōu)選地，該上蓋板22于兩相對側(cè)邊分別設(shè)有一與該蝕刻腔體21頂面相固設(shè)結(jié)合的翻轉(zhuǎn)壓缸軸221，該電極導(dǎo)入裝置24固設(shè)于該上蓋板22的頂面且朝內(nèi)伸設(shè)有一電極241，進(jìn)一步，該上蓋板22于頂面固設(shè)有一與該電極導(dǎo)入裝置24相連接的輸出功率單元28，該輸出功率單元28設(shè)有一射頻電源供應(yīng)器、一中頻電源供應(yīng)器及一用以調(diào)整輸出功率大小的匹配器；兩氣孔板25間隔地設(shè)于該上蓋板22的底面且分別于該上蓋板22頂面設(shè)有一用以輸送氣體的輸送管251，使氣體可經(jīng)由輸送管251及氣孔板25而進(jìn)入該蝕刻腔體21內(nèi)，該遮板26設(shè)有數(shù)個(gè)與該上蓋板22相固設(shè)結(jié)合的固定桿261，使該遮板26間隔地設(shè)于該上蓋板22的底面，該遮板26貫穿設(shè)有與該兩氣孔板25相對應(yīng)的穿孔262，且與兩穿孔262間貫穿設(shè)有一供該電極241伸入該遮板26的開孔263，各定位桿27與該上蓋板22的底面相固設(shè)結(jié)合而位于該遮板26的周圍，各定位桿27在異于該上蓋板22的底端設(shè)有一套設(shè)蓋271，優(yōu)選地，該套設(shè)蓋271凹設(shè)有一略呈半圓形的定位孔272 ；進(jìn)一步，該蝕刻組件20另設(shè)有一與該蝕刻腔體21相結(jié)合的高真空泵浦29，使該蝕刻腔體21內(nèi)部維持于一高真空的狀態(tài)，且可于該蝕刻腔體21內(nèi)設(shè)置至少一位置感測器，該升降裝置23固設(shè)于該蝕刻腔體21的底面且朝上設(shè)有一伸設(shè)于該蝕刻腔體21內(nèi)且介于兩第二導(dǎo)軌211間的升降桿231 ；該出料組件30與該蝕刻組件20相連接且設(shè)有一出料腔體31，該出料腔體31與該蝕刻腔體21異于該進(jìn)料腔體11的一端相結(jié)合，且于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體11第一導(dǎo)軌111及該蝕刻腔體21第二導(dǎo)軌211直線相對的第三導(dǎo)軌311 ；該閥門組件40設(shè)于該進(jìn)料組件10、該蝕刻組件20及該出料組件30之間且設(shè)有數(shù)個(gè)閥門裝置41，各閥門裝置41分別該設(shè)于各腔體11，21，31之間且設(shè)有一閥門42及一閥門氣壓缸43，通過閥門氣壓缸43的作動(dòng)，使兩相鄰腔體11，21，31間呈現(xiàn)相通或封閉的狀態(tài)；該輸送組件50設(shè)于該進(jìn)料組件10、該蝕刻組件20及該出料組件30之間且于各腔體11，21，31的兩導(dǎo)軌111，211，311內(nèi)側(cè)分別間隔設(shè)置有多個(gè)具有滾輪52的轉(zhuǎn)動(dòng)軸51，各轉(zhuǎn)動(dòng)軸51的一端套設(shè)有一傳動(dòng)輪53，其中各傳動(dòng)輪53可為一鏈輪一皮帶輪，進(jìn)而可通過一鏈條或一皮帶而使各轉(zhuǎn)動(dòng)軸51相對腔體11，21，31產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)；以及該載具組件60設(shè)于該輸送組件50上而可移動(dòng)地設(shè)于各腔體11，21，31之間并設(shè)有數(shù)個(gè)載盤61,各載盤61與該輸送組件50的滾輪52相貼靠且設(shè)有一極板62及數(shù)個(gè)定位凸粒63，其中該極板62設(shè)于該載盤61的頂面且貫穿設(shè)有兩間隔設(shè)置并分別與該遮板26兩穿孔262相對應(yīng)的承載孔621，該極板62的各承載孔621用以置放一晶圓70，各定位凸粒63設(shè)于該載盤61的頂面而位于該極板的62周圍，且當(dāng)該載盤61移動(dòng)至該蝕刻腔體21內(nèi)時(shí)，各定位凸粒63與該蝕刻組件20各定位桿27的套設(shè)蓋271直線相對。請配合參看如圖7所示，本發(fā)明蝕刻裝置另在異于該蝕刻腔體21的出料腔體31一側(cè)設(shè)有一清潔腔體32，從而對于蝕刻后的晶圓70進(jìn)行表面清洗，提供一清潔的效果。本發(fā)明蝕刻裝置于使用時(shí)，請配合參看如圖3及5所示，其先將欲加工的晶圓70置放于載盤61的極板62承載孔621內(nèi)，將該載盤61放入位于該進(jìn)料腔體11的各滾輪52上，經(jīng)由一真空泵浦對于該進(jìn)料腔體11進(jìn)行充氣，從而使該進(jìn)料腔體11呈現(xiàn)一真空狀態(tài)，待該進(jìn)料腔體11呈現(xiàn)一真空狀態(tài)后，通過開啟位于該進(jìn)料腔體11及該蝕刻腔體21間的閥門裝置41，以及該輸送組件50轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的方式，如圖4所示由各滾輪52將位于該進(jìn)料腔體11的載盤61移動(dòng)至該蝕刻腔體21內(nèi)，此時(shí)，可通過位置感測器感應(yīng)的方式，使該載盤61上的各定位凸粒63與各定位桿27的套設(shè)蓋271直線相對；如圖6所示通過該升降裝置23升降桿231上升的方式，將位于該蝕刻腔體21內(nèi)的載盤61朝該上蓋板22方向推升，使各定位凸粒63置于相對應(yīng)定位桿27的定位孔272中，且讓位于該極板62上的兩晶圓70分別靠近位于該上蓋板22上遮板26的兩穿孔262處，此時(shí)，將一蝕刻所需使用的氣體經(jīng)各輸送管251極相對應(yīng)的氣孔板25而輸送至該蝕刻腔體21內(nèi)，并且經(jīng)由該輸出功率單元28啟動(dòng)該電極導(dǎo)入裝置24的方式，使位于該蝕刻腔體21內(nèi)的氣體受到強(qiáng)電場的作用，而形成一部份解離氣體(Partially 1nized Gas),即可對于設(shè)置在極板62上的各晶圓70進(jìn)行等離子體蝕刻(Plasma Etching)；待各晶圓70完成蝕刻加工后，經(jīng)由該升降桿231下降至初始位置的方式，使各定位凸粒63與相對應(yīng)的定位桿27相分離，讓該載盤61可與位于該蝕刻腔體21內(nèi)的各滾輪52相貼靠，并通過開啟位于該蝕刻腔體21及該出料腔體31間的閥門裝置41，使該經(jīng)蝕刻完的晶圓70隨著載盤61移動(dòng)至該出料腔體31處進(jìn)行出料，另可如圖7所示，將由該出料腔體31送出的晶圓70輸送至該清潔腔體32中進(jìn)行清潔，即完成晶圓70的蝕刻加工。上述單一載盤61上晶圓70的蝕刻加工流程，于實(shí)際操作時(shí)于各腔體11，21，31，32內(nèi)分別設(shè)置一載盤61，讓各腔體11，21，31，32可于同一時(shí)段中對于各晶圓70進(jìn)行不同的加工步驟，即可于本發(fā)明的蝕刻裝置上進(jìn)行的晶圓70加工流程，讓各晶圓70依序且連續(xù)地于各腔體11，21，31，32內(nèi)進(jìn)行加工，而不需再通過機(jī)器手臂81的夾持及移動(dòng)，即可形成一條龍的的生產(chǎn)線，不僅可提高產(chǎn)能且縮短制造過程時(shí)間，且晶圓70通過各載盤61而于各腔體11，21，31，32間上進(jìn)行輸送，可有效避免晶圓70可能于移動(dòng)的過程中發(fā)生掉落而毀損的現(xiàn)象，進(jìn)而達(dá)到節(jié)省成本的效果，從而構(gòu)成一節(jié)省成本、縮短制造過程時(shí)間及提高產(chǎn)能的蝕刻裝置。以上所述，僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，若在不脫離本發(fā)明所提技術(shù)方案的范圍內(nèi)，利用本發(fā)明所揭示技術(shù)內(nèi)容所作出局部更動(dòng)或修飾的等效實(shí)施例，并且未脫離本發(fā)明的技術(shù)方案內(nèi)容，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種蝕刻裝置，其包含有一蝕刻組件、一輸送組件及一載具組件，其中: 該蝕刻組件設(shè)有一蝕刻腔體、一上蓋板及一升降裝置，該上蓋板可翻轉(zhuǎn)地設(shè)于該蝕刻腔體頂面且設(shè)有一電極導(dǎo)入裝置、兩氣孔板及一遮板，該電極導(dǎo)入裝置固設(shè)于該上蓋板頂面且朝內(nèi)設(shè)有一電極，兩氣孔板間隔地設(shè)于該上蓋板底面，該遮板間隔地設(shè)于該上蓋板底面且貫穿設(shè)有與該兩氣孔板相對應(yīng)的穿孔，于兩穿孔間貫穿一供該電極伸入該遮板的開孔，該升降裝置固設(shè)于該蝕刻腔體底面且朝上設(shè)有一伸入該蝕刻腔體的升降桿； 該輸送組件設(shè)于該蝕刻組件內(nèi)且于該蝕刻腔體內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)具有滾輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸；以及 該載具組件設(shè)于該輸送組件上而可移動(dòng)地設(shè)于該蝕刻腔體內(nèi)并設(shè)有數(shù)個(gè)載盤，各載盤與該輸送組件的滾輪相貼靠且于頂面設(shè)有一極板，該極板貫穿設(shè)有兩間隔設(shè)置并分別與該遮板兩穿孔相對應(yīng)的承載孔。
2.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中該蝕刻裝置另設(shè)有一進(jìn)料組件、一出料組件及一閥門組件，其中 該進(jìn)料組件設(shè)有一前、后端呈開口狀且與該蝕刻腔體前端相結(jié)合的進(jìn)料腔體，該出料組件設(shè)有一與該蝕刻腔體異于該進(jìn)料腔體一端相結(jié)合的出料腔體，而該閥門組件設(shè)于該進(jìn)料組件、該蝕刻組件及該出料組件之間且設(shè)有數(shù)個(gè)閥門裝置，各閥門裝置分別該設(shè)于各腔體之間，該輸送組件于該進(jìn)料組件及該出料組件的各腔體內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)具有滾輪的轉(zhuǎn)動(dòng)軸，該載具組件設(shè)于該輸送組件上而可移動(dòng)地設(shè)于各腔體之間。
3.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其中該進(jìn)料腔體于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一第一導(dǎo)軌，該蝕刻腔體于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體第一導(dǎo)軌直線相對的第二導(dǎo)軌，該升降裝置的升降桿伸設(shè)于該蝕刻腔體內(nèi)且介于兩第二導(dǎo)軌間，而該出料腔體于內(nèi)部兩側(cè)各設(shè)有一與該進(jìn)料腔體第一導(dǎo)軌及該蝕刻腔體第二導(dǎo)軌直線相對的第三導(dǎo)軌，該輸送組件的各滾動(dòng)軸設(shè)于各腔體的兩導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)。
4.如權(quán)利要求3所述的蝕刻裝置，其中該上蓋板于該遮板周圍的底面設(shè)有多個(gè)定位桿，各定位桿在異于該上蓋板的底端設(shè)有一套設(shè)蓋，而該載具組件的各載盤于該極板周圍的頂面設(shè)有數(shù)個(gè)定位凸粒，當(dāng)該載盤移動(dòng)至該蝕刻腔體內(nèi)時(shí)，各定位凸粒與該蝕刻組件各定位桿的套設(shè)蓋直線相對。
5.如權(quán)利要求4所述的蝕刻裝置，其中該上蓋板于兩相對側(cè)邊分別設(shè)有一與該蝕刻腔體頂面相固設(shè)結(jié)合的翻轉(zhuǎn)壓缸軸，使該上蓋體可相對該蝕刻腔體翻轉(zhuǎn)，且該上蓋板于頂面固設(shè)有一與該電極導(dǎo)入裝置相連接的輸出功率單元。
6.如權(quán)利要求5所述的蝕刻裝置，其中該兩氣孔板分別于該上蓋板頂面設(shè)有一用以輸送氣體的輸送管，使氣體可經(jīng)由輸送管及氣孔板而進(jìn)入該蝕刻腔體內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的蝕刻裝置，其中該遮板設(shè)有數(shù)個(gè)與該上蓋板相固設(shè)結(jié)合的固定桿，使該遮板間隔地設(shè)于該上蓋板的底面。
8.如權(quán)利要求7所述的蝕刻裝置，其中該蝕刻組件另設(shè)有一與該蝕刻腔體相結(jié)合的高真空泵浦，使該蝕刻腔體內(nèi)部維持于一高真空的狀態(tài)。
9.如權(quán)利要求8所述的蝕刻裝置，其中各閥門裝置設(shè)有一閥門及一閥門氣壓缸，通過閥門氣壓缸的作動(dòng)，使兩相鄰腔體間呈現(xiàn)相通或封閉的狀態(tài)，而該輸送組件各轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端套設(shè)有一傳動(dòng)輪，該傳動(dòng)輪可為一鏈輪或一皮帶輪。
10.如權(quán)利要求9所述的蝕刻裝置，其中該蝕刻裝置在異于該蝕刻腔體的出料腔體一側(cè)設(shè)有一清潔腔體，從而對于蝕刻 后的晶圓進(jìn)行表面清洗。
全文摘要
一種蝕刻裝置，其設(shè)有一蝕刻組件、一輸送組件及一載具組件，該蝕刻組件設(shè)有一蝕刻腔體、一上蓋板及一升降裝置，該上蓋板可翻轉(zhuǎn)地設(shè)于該蝕刻腔體頂面且設(shè)有一電極導(dǎo)入裝置、兩氣孔板及一遮板，該輸送組件設(shè)于該蝕刻組件內(nèi)且于該蝕刻腔體內(nèi)間隔設(shè)置有多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)軸，該載具組件設(shè)于該輸送組件上并設(shè)有數(shù)個(gè)載盤，各載盤與該輸送組件的滾輪相貼靠且于頂面設(shè)有一極板，該極板貫穿設(shè)有兩間隔設(shè)置并分別與該遮板兩穿孔相對應(yīng)的承載孔，提供一節(jié)省成本、縮短制造過程時(shí)間及提高產(chǎn)能的蝕刻裝置。
文檔編號H01L21/67GK103208438SQ201210008729
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月12日
發(fā)明者余端仁 申請人:余端仁