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相控陣天線輻射器屏蔽罩的制作方法

文檔序號:7232007閱讀:375來源:國知局
專利名稱:相控陣天線輻射器屏蔽罩的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于微波天線技術(shù),涉及一種相控陣天線輻射器屏蔽罩。
背景技術(shù)
天線作為有源相控陣?yán)走_(dá)前端的關(guān)鍵部件,對雷達(dá)整體性能的優(yōu)劣至關(guān)重要。大型有源相控陣天線的陣面有成百上千甚至數(shù)萬個收發(fā)組件和輻射單元,加上與之相關(guān)的饋電網(wǎng)絡(luò)、供電網(wǎng)絡(luò)、波控網(wǎng)絡(luò),使得相控陣天線比其他類型的天線要復(fù)雜得多而難以維護(hù)。這種維護(hù)的難處不僅體現(xiàn)在收發(fā)組件的數(shù)量和網(wǎng)絡(luò)的復(fù)雜程度上,更體現(xiàn)在天線裝備使用后,在陣面緊湊的結(jié)構(gòu)空間里對陣面狀態(tài)進(jìn)行測量,測量時經(jīng)常需要將某個收發(fā)組件連接的輻射器做失效處理。目前的失效方法是將該輻射器拆除。這種方法的缺點(diǎn)是第一、操作繁瑣、工作量大、效率低;第二、容易對其他單元造成損傷。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提出一種操作簡單、工作量小、效率高、不會對其他單元造成損傷的相控陣天線輻射器屏蔽罩。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是相控陣天線輻射器屏蔽罩,其特征在于,它由屏蔽罩本體I和吸收體2組成,屏蔽罩本體I由金屬材料制造,它的外形為長方體,屏蔽罩本體I的前表面的寬度W等于相控陣天線輻射器的寬度,在屏蔽罩本體I的下表面上有一個貫通左右側(cè)面的吸收體安裝槽,在吸收體安裝槽內(nèi)鑲嵌著具有長方體外形的吸收體2,吸收體2的下表面與屏蔽罩本體I的下表面齊平,在吸收體2下表面上有一個貫通左右側(cè)面的輻射器套裝槽3,輻射器套裝槽3的深度H大于輻射器的高度,輻射器套裝槽3的槽寬Wl等于輻射器厚度,吸收體2上輻射器套裝槽3兩側(cè)的槽壁厚度W2相等,W2 = Imm 2mm,吸收體2采用鐵氧體吸波材料制造。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是操作簡單,工作量小,效率高;不會對其他單元造成損傷。試驗(yàn)證明,采用目前方法失效一個輻射器需要2小時,而采用本實(shí)用新型后,失效一個輻射器僅用不到10秒鐘,效率提高了 700倍以上,

圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖I的左視圖。
具體實(shí)施方式
下面對本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明。參見圖I和圖2,相控陣天線輻射器屏蔽罩,其特征在于,它由屏蔽罩本體I和吸收體2組成,屏蔽罩本體I由金屬材料制造,它的外形為長方體,屏蔽罩本體I的前表面的寬度W等于相控陣天線輻射器的寬度,在屏蔽罩本體I的下表面上有一個貫通左右側(cè)面的吸收體安裝槽,在吸收體安裝槽內(nèi)鑲嵌著具有長方體外形的吸收體2,吸收體2的下表面與屏蔽罩本體I的下表面齊平,在吸收體2下表面上有一個貫通左右側(cè)面的輻射器套裝槽3,輻射器套裝槽3的深度H大于輻射器的高度,輻射器套裝槽3的槽寬Wl等于輻射器厚度,吸收體2上輻射器套裝槽3兩側(cè)的槽壁厚度W2相等,W2 = Imm 2mm,吸收體2采用鐵氧體吸波材料制造。本實(shí)用新型的工作原理是采用兩種途徑進(jìn)行輻射器失效處理。首先,吸收體2與輻射器表面緊密貼實(shí),有效衰減了輻射器表面電流,從而大幅度降低了表面電流形成的電磁波空間輻射;其次,屏蔽罩本體I采用金屬材料制造,有效地屏蔽了輻射器殘留電磁波的空間輻射。實(shí)施例I :
權(quán)利要求1.相控陣天線輻射器屏蔽罩,其特征在于,它由屏蔽罩本體[I]和吸收體[2]組成,屏蔽罩本體[I]由金屬材料制造,它的外形為長方體,屏蔽罩本體[I]的前表面的寬度W等于相控陣天線輻射器的寬度,在屏蔽罩本體[I]的下表面上有一個貫通左右側(cè)面的吸收體安裝槽,在吸收體安裝槽內(nèi)鑲嵌著具有長方體外形的吸收體[2],吸收體[2]的下表面與屏蔽罩本體[I]的下表面齊平,在吸收體[2]下表面上有一個貫通左右側(cè)面的輻射器套裝槽[3],輻射器套裝槽[3]的深度H大于輻射器的高度,輻射器套裝槽[3]的槽寬Wl等于輻射器厚度,吸收體[2]上輻射器套裝槽[3]兩側(cè)的槽壁厚度W2相等,W2 = Imm 2mm,吸收體[2]采用鐵氧體吸波材料制造。
專利摘要本實(shí)用新型屬于微波天線技術(shù),涉及一種相控陣天線輻射器屏蔽罩。其特征在于,它由屏蔽罩本體[1]和吸收體[2]組成,屏蔽罩本體[1]由金屬材料制造,在屏蔽罩本體[1]的下表面上有一個貫通左右側(cè)面的吸收體安裝槽,在吸收體安裝槽內(nèi)鑲嵌著具有長方體外形的吸收體[2]。本實(shí)用新型的操作簡單,工作量小,效率高;不會對其他單元造成損傷。
文檔編號H01Q17/00GK202474212SQ20112057447
公開日2012年10月3日 申請日期2011年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月27日
發(fā)明者徐志, 沈靜, 鐘茅 申請人:中國航空工業(yè)第六○七研究所
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