專利名稱：具有散熱座及增層電路的散熱增益型半導(dǎo)體組件制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種半導(dǎo)體組件的制備方法，尤其是指一種散熱增益型半導(dǎo)體組件的制備方法，其中該組件包括半導(dǎo)體元件、散熱座、黏著層及增層電路。
背景技術(shù)：
為了整合行動(dòng)、通信及計(jì)算功能，半導(dǎo)體封裝產(chǎn)業(yè)面臨極大的熱、電及成本方面的挑戰(zhàn)。例如，半導(dǎo)體元件在高溫操作下易產(chǎn)生效率衰退及使用壽命縮短的問題，甚至可能立即因此障。雖然芯片級(jí)設(shè)計(jì)可持續(xù)降低操作偏壓，有利于降低功率，但若在有限空間中整合更多功能時(shí)，此潛在解決方案往往無法符合需求。此外，當(dāng)將半導(dǎo)體元件密集地封裝在一起時(shí)，通常會(huì)衍生電磁干擾(EMI)或元件間干擾等不理想問題。據(jù)此，當(dāng)元件進(jìn)行高頻率傳輸或接收時(shí)，上述問題會(huì)對(duì)元件信號(hào)完整性造成不好的影響。因此，目前亟需發(fā)展一種可提供足夠散熱效果、提高信號(hào)完整性、確保高可靠度并維持低制作成本的半導(dǎo)體組件。為適應(yīng)各種需求，目前已廣泛發(fā)展出多種封裝技術(shù)，例如，塑封球柵陣列電子封裝(Plastic Ball Grid Array, PBGA)、方形扁平無引腳封裝(Quad-Flat No-lead, QFN)、 晶圓級(jí)封裝(Wafer Level Package，WLP)及擴(kuò)散型晶圓級(jí)封裝(Fan-out Wafer Level Package,FOWLP)等。塑封球柵陣列電子封裝(PBGA)是將一芯片及一多層連線基板包裹于塑料外殼中，并通過錫球接置于印刷電路板(PCB)上。此層壓基板包括一通常含有玻璃纖維的介電層。芯片所釋出的熱需經(jīng)由塑料外殼及介電層傳至焊料球，進(jìn)而再傳至印刷電路板。然而，塑料外殼及介電層一般具有低導(dǎo)熱性，因此PBGA的散熱效果不佳。方形扁平無引腳封裝(QFN)是將芯片設(shè)置在一焊接于印刷電路板的銅質(zhì)晶粒座上。芯片釋出的熱可經(jīng)過銅質(zhì)晶粒座而傳至PCB。然而，打線I/O焊墊及導(dǎo)線架中介層的布線能力有限，因此QFN封裝不適于高效率、高輸入/輸出(I/O)元件。晶圓級(jí)封裝(WLP)或晶圓級(jí)芯片尺寸封裝(Wafer-Level Chip-Scale Packaging, WL-CSP)是指半導(dǎo)體芯片仍為晶圓形式的封裝技術(shù)。由于晶圓級(jí)封裝的尺寸與芯片本身相同，因此，此封裝形式非常適于便攜式方面的應(yīng)用。晶圓級(jí)封裝的典型特征在于芯片表面上的增層電路，以將周邊的接觸墊轉(zhuǎn)化成更寬更大面積陣列的組件用端子。增層電路是直接形成于芯片表面上，且細(xì)微連接線有利于更大的布線密度，因此可以提高信號(hào)完整度。然而，半導(dǎo)體芯片的硅區(qū)域會(huì)嚴(yán)重局限晶圓級(jí)封裝的連接電路，因此晶圓級(jí)封裝不適于高引腳數(shù)元件。Yokogawa的美國專利(專利案號(hào)3，903，590)公開一種組件，其是將半導(dǎo)體元件穩(wěn)固地嵌埋于金屬基板中，以提供一支撐平臺(tái)。在此方法中，介電層及導(dǎo)線是覆蓋于嵌埋芯片及金屬基板上，以電性連接半導(dǎo)體芯片的接觸電極。熱會(huì)由芯片傳經(jīng)該金屬基板，而該金屬基板也可以對(duì)擴(kuò)散型連線電路提供機(jī)械支撐力。雖然此法可提供支撐平臺(tái)并解決熱問題但在100°C至200°C下施加約370kg/cm2壓力以將芯片壓入金屬塊中的作業(yè)非常費(fèi)工，且容易導(dǎo)致芯片受損。此外，由于芯片容易側(cè)向位移，難以精準(zhǔn)對(duì)位于金屬基板中，且此法未使用固定嵌埋芯片用的接合材料，因此芯片與散熱塊間容易產(chǎn)生空隙及打線不均的問題。據(jù)此，該組件會(huì)有合格率損失(yield loss)偏高、可靠度低及成本過高的問題。Eichelberger等人的美國專利(專利案號(hào)5，111，278)公開一種半導(dǎo)體芯片設(shè)置于基板平坦表面上的組件。在制作穿透封裝材至接觸墊以連接該等芯片的盲孔及內(nèi)連線前，其會(huì)先于芯片正面及側(cè)邊覆蓋上一層以上的封裝/介電層。該基板可包括玻璃、陶瓷、 塑料、硅及復(fù)合基板，而封裝材可包括熱塑及熱固性材料。芯片釋出的熱需經(jīng)過封裝外殼及基板方能散至外界或PCB。由于塑料外殼及塑料材料的導(dǎo)熱性一般偏低，因此，此組件散熱效果差。此外，在進(jìn)行層壓前，半導(dǎo)體芯片是放置于平坦表面上，因此黏晶粒時(shí)發(fā)生的錯(cuò)位及增層工藝中層壓導(dǎo)致芯片破裂的問題都會(huì)提高合格率損失度。Fillion等人的美國專利(專利案號(hào)5，353，498)、Ma等人的美國專利(專利案號(hào) 6，154，366)及Ding等人的美國專利(專利案號(hào)6，701,614)都公開一種使用封裝材以提供額外區(qū)域的組件，其是以該封裝材來包裹用于制作集成電路模塊的待設(shè)置半導(dǎo)體芯片。其中，此方法是以接觸墊面向支撐膜的方式將芯片放置于支撐膜上。據(jù)此，將成形材料加至芯片周圍后，該些接觸墊會(huì)與封裝材形成共平面。具有盲孔的介電層可對(duì)準(zhǔn)接觸墊，而延伸穿過盲孔的導(dǎo)電體則位于基板上。由于成形材料一般為低導(dǎo)熱體，因此封埋芯片所產(chǎn)生的熱將會(huì)累積于成形化合物中。即使可使用機(jī)械研磨裝置磨去封裝材的背側(cè)，以顯露芯片進(jìn)而降低熱阻，但移除硬化成形化合物的研磨工藝非常耗時(shí)，可能在量產(chǎn)時(shí)造成高額成本。此夕卜，由于磨除封裝材背側(cè)后會(huì)使芯片與封裝材間的界面顯露，因此界面處的水氣滲入、空隙及裂痕產(chǎn)生問題都可能對(duì)可靠度造成嚴(yán)重影響。Cole等人的美國專利(專利案號(hào)5，073，814)、Gorczyca等人的美國專利(專利案號(hào)5，161，093) ,Mowatt等人的美國專利(專利案號(hào)5，432，677)及Cole等人的美國專利 (專利案號(hào)5，745，984)公開一種組件，其是在形成連接芯片接觸墊的電路前，先將半導(dǎo)體芯片容置于基板表面上的凹陷區(qū)域。由于芯片頂面與基板表面為共平面，因此可避免層壓導(dǎo)致的錯(cuò)位或芯片破裂現(xiàn)象。然而，塑料基板(如環(huán)氧或聚酰亞胺)的導(dǎo)熱性低，散熱效果有限，而介電層(如填充有陶瓷或碳化硅的環(huán)氧材料)雖具有高導(dǎo)熱性，但卻有黏著力低及量產(chǎn)時(shí)成本過高的缺點(diǎn)。Ito等人的美國專利(專利案號(hào)7，929，313)公開一種制備方法，其是在開口內(nèi)表面形成金屬層，可保護(hù)嵌埋的半導(dǎo)體芯片免于電磁干擾。與其它形成開口的方法一樣，樹脂開孔形成不一致的現(xiàn)象將導(dǎo)致此方法面臨制備產(chǎn)量差的問題。此外，由于金屬是通過電鍍工藝沉積于開口中，因此其厚度有限，對(duì)封裝的熱效率沒什么改善效果。Towel等人的美國專利(專利案號(hào)6，555，906)及Ou等人的美國專利(專利案號(hào) 6，750，397)公開一種將半導(dǎo)體芯片容置于散熱座(如金屬塊)開口中的組件。由于金屬塊中的開口是經(jīng)由刻蝕、微加工或磨除部分材料而形成，因此其主要缺點(diǎn)包括合格率偏低及成本偏高。此外，金屬塊下凹深度控制不一致的現(xiàn)象也造成量產(chǎn)時(shí)產(chǎn)量及合格率偏低的問題。有鑒于現(xiàn)有高功率及高效率半導(dǎo)體元件封裝種種發(fā)展情形及限制，目前仍需發(fā)展一種符合成本效益、產(chǎn)品可靠、適于生產(chǎn)、多功能、提供良好信號(hào)完整性、具有優(yōu)異散熱性的半導(dǎo)體組件
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體組件的制備方法，其中該組件包括一半導(dǎo)體元件、一散熱座、一黏著層及一增層電路。該半導(dǎo)體組件的制備方法可包括以下步驟提供一凸塊、一凸緣層、一黏著層及一具有通孔的導(dǎo)電層，其中該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且在相反于第一垂直方向的第二垂直方向上覆蓋凹穴，同時(shí)凸塊鄰接凸緣層并與凸緣層一體成形，且自凸緣層朝第二垂直方向延伸，而凸緣層則自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸；然后通過黏著層將凸緣層及凸塊黏附至導(dǎo)電層，其中黏著層介于凸緣層與導(dǎo)電層之間及凸塊與導(dǎo)電層之間，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)該通孔；然后將包含一或多個(gè)接觸墊的半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上且位于凹穴處；以及提供一增層電路及一基座，其中該增層電路自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸，且電性連接至半導(dǎo)體元件，而基座在第二垂直方向上覆蓋并鄰接凸塊，且自凸塊側(cè)向延伸，同時(shí)該基座包括鄰接通孔且與凸塊保持距離的導(dǎo)電層部分。將該凸緣層及該凸塊黏附至該導(dǎo)電層的步驟可包括將未固化的黏著層設(shè)置于凸緣層與導(dǎo)電層之間，此步驟包括將該凸塊對(duì)準(zhǔn)黏著層的開口及導(dǎo)電層的通孔；然后使黏著層流入通孔內(nèi)介于凸塊與導(dǎo)電層間的一缺口 ；以及固化黏著層。將黏著層設(shè)置于凸緣層與導(dǎo)電層間的步驟可包括將黏著層設(shè)置于凸緣層上，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)黏著層的開口 ；以及將導(dǎo)電層設(shè)置于黏著層上，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)導(dǎo)電層的通孔。將導(dǎo)電層設(shè)置于黏著層上的步驟可包括將導(dǎo)電層單獨(dú)設(shè)置于黏著層上，使導(dǎo)電層接觸黏著層，而該通孔僅延伸貫穿導(dǎo)電層?；蛘撸瑢?dǎo)電層設(shè)置于黏著層上的步驟可包括將一層壓結(jié)構(gòu)設(shè)置于黏著層上，其中該層壓結(jié)構(gòu)包括該導(dǎo)電層及一基板，以使基板接觸并介于導(dǎo)電層與黏著層之間，而導(dǎo)電層則與黏著層保持距離，且該通孔延伸貫穿導(dǎo)電層及基板。抑或，將導(dǎo)電層設(shè)置于黏著層上的步驟可包括將導(dǎo)電層及一載體設(shè)置于黏著層上， 以使導(dǎo)電層接觸并介于黏著層與載體之間，然后待黏著層固化后再移除該載體。本發(fā)明還提供還包括一基板的半導(dǎo)體組件制備方法。該半導(dǎo)體組件的制備方法可包括以下步驟提供一凸塊、一凸緣層、一黏著層及一具有通孔的基板，其中凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且在相反于第一垂直方向的第二垂直方向上覆蓋凹穴，同時(shí)凸塊鄰接凸緣層并與凸緣層一體成形，且自凸緣層朝第二垂直方向延伸，而凸緣層則自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸；然后通過該黏著層將凸緣層及凸塊黏附至基板，其中黏著層介于凸緣層與基板之間及凸塊與基板之間，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)通孔；然后將包含一或多個(gè)接觸墊的半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上且位于凹穴處；以及提供一增層電路及一基座，其中該增層電路自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸，且電性連接至半導(dǎo)體元件，而基座在第二垂直方向上覆蓋并鄰接凸塊，且自凸塊側(cè)向延伸。將凸緣層及凸塊黏附至基板的步驟可包括將未固化的黏著層設(shè)置于凸緣層與基板之間，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)黏著層的開口及基板的通孔；然后使黏著層流入通孔內(nèi)介于凸塊與基板間的一缺口 ；以及固化黏著層。將黏著層設(shè)置于凸緣層與基板間的步驟可包括將黏著層設(shè)置于凸緣層上，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)黏著層的開口 ；以及將基板設(shè)置于黏著層上，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)基板的通孔。將基板設(shè)置于黏著層上的步驟包括將一層壓結(jié)構(gòu)設(shè)置于黏著層上，其中該層壓結(jié)構(gòu)包括基板及一導(dǎo)電層，以使基板接觸并介于導(dǎo)電層與黏著層之間，而導(dǎo)電層則與黏著層保持距離，同時(shí)該通孔延伸貫穿導(dǎo)電層及基板，且基座包括導(dǎo)電層部分。使黏著層流入缺口的步驟可包括加熱熔化黏著層；并使凸緣層及基板(或?qū)щ妼?彼此靠合，借此使凸塊在通孔中朝第二垂直方向移動(dòng)，并對(duì)凸緣層與基板(或?qū)щ妼? 間的熔化黏著層施加壓力，其中該壓力迫使熔化黏著層朝第二垂直方向流入通孔內(nèi)介于凸塊與基板(或?qū)щ妼?間的缺口。固化黏著層的步驟可包括加熱固化該熔化黏著層，借此將凸塊及凸緣層機(jī)械性黏附至基板(或?qū)щ妼?。該增層電路可包括介電層、一或多個(gè)盲孔及一或多條導(dǎo)線。據(jù)此，提供增層電路的步驟可包括提供一介電層在半導(dǎo)體元件及凸緣層上，其中介電層自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸，且介電層包括一或多個(gè)盲孔，而盲孔是對(duì)準(zhǔn)接觸墊，且可選擇性對(duì)準(zhǔn)凸緣層；以及提供一或多條導(dǎo)線在該介電層上，其中導(dǎo)線自介電層朝第一垂直方向延伸，并在介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過盲孔而延伸至接觸墊，且可選擇性延伸至凸緣層，以使半導(dǎo)體元件電性連接至導(dǎo)線，且使凸緣層選擇性電性連接至導(dǎo)線。若需其它信號(hào)路由，增層電路也可以包括額外的介電層、盲孔及導(dǎo)線層。例如，該增層電路可還包括一第二介電層、一或多個(gè)第二盲孔及一或多條第二導(dǎo)線。據(jù)此，提供增層電路的步驟可還包括提供一第二介電層于介電層及導(dǎo)線上，其中第二介電層自介電層及導(dǎo)線朝第一垂直方向延伸，且第二介電層包括一或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)導(dǎo)線的第二盲孔；以及提供一或多條第二導(dǎo)線于第二介電層上，其中第二導(dǎo)線自第二介電層朝第一垂直方向延伸，并在第二介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過第二盲孔而延伸至導(dǎo)線，以使導(dǎo)線電性連接至第二導(dǎo)線。增層電路可延伸于凹穴的內(nèi)外。例如，增層電路的介電層可延伸進(jìn)入并填滿凹穴的剩余空間?；蛘?，增層電路可與凹穴保持距離，并延伸于凹穴外。例如，固晶材料可填滿凹穴，以使介電層不延伸進(jìn)入凹穴且與凹穴保持距離。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方面，該半導(dǎo)體組件的制備方法可包括提供一凸塊、一凸緣層、一黏著層及一導(dǎo)電層，其中(i)該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且在相反于第一垂直方向的第二垂直方向上覆蓋該凹穴，同時(shí)該凸塊鄰接凸緣層并與凸緣層一體成形，且自凸緣層朝第二垂直方向垂直延伸，并延伸進(jìn)入黏著層的開口，且對(duì)準(zhǔn)導(dǎo)電層的通孔，(ii)該凸緣層自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸，(iii)該黏著層位于凸緣層與導(dǎo)電層之間且未固化，且(iv)該導(dǎo)電層是設(shè)置于黏著層上；然后使黏著層流入通孔內(nèi)介于凸塊與導(dǎo)電層間的缺口 ；固化該黏著層；然后將包含一或多個(gè)接觸墊的半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上，借此將半導(dǎo)體元件機(jī)械黏附且熱連結(jié)至該凸塊，其中半導(dǎo)體元件延伸進(jìn)入該凹穴；提供一介電層于半導(dǎo)體元件及凸緣層上，其中該介電層自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸，且該介電層包括一或多個(gè)盲孔，而盲孔是對(duì)準(zhǔn)顯露接觸墊，且可選擇性對(duì)準(zhǔn)顯露凸緣層；提供一或多條導(dǎo)線于該介電層上，其中導(dǎo)線自介電層朝第一垂直方向延伸，并在介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過盲孔而延伸至接觸墊，且可選擇性延伸至凸緣層，以使半導(dǎo)體元件電性連接至導(dǎo)線，且使凸緣層選擇性電性連接至導(dǎo)線；提供一基座，其鄰接該凸塊并自凸塊朝第二垂直方向延伸，且在第二垂直方向上覆蓋凸塊，同時(shí)該基座自凸塊側(cè)向延伸，并包括鄰接通孔且與凸塊保持距離的導(dǎo)電層部分；以及提供一散熱座，其包括該凸塊、該基座及該凸緣層，其中該半導(dǎo)體元件通過凸塊熱連結(jié)至該基座。根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方面，該半導(dǎo)體組件的制備方法可包括提供一凸塊及一凸緣層，其中該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且鄰接凸緣層并與凸緣層一體成形，并自凸緣層朝與第一垂直方向相反的第二垂直方向垂直延伸，而該凸緣層則自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸，且該凹穴在第二垂直方向上是由凸塊覆蓋；提供一黏著層，其中一開口延伸貫穿該黏著層；提供一導(dǎo)電層，其中一通孔延伸貫穿該導(dǎo)電層；將黏著層設(shè)置于凸緣層上，此步驟包括將凸塊插入該開口 ；將導(dǎo)電層設(shè)置于黏著層上， 此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)該通孔，其中黏著層是位于凸緣層與導(dǎo)電層之間且未固化；然后加熱熔化黏著層；使凸緣層及導(dǎo)電層彼此靠合，借此使凸塊在通孔中朝第二垂直方向移動(dòng)，并對(duì)凸緣層與導(dǎo)電層間的熔化黏著層施加壓力，其中該壓力迫使熔化黏著層朝第二垂直方向流入通孔內(nèi)介于凸塊與導(dǎo)電層間的缺口 ；加熱固化該熔化黏著層，借此將凸塊及凸緣層機(jī)械性黏附至導(dǎo)電層；然后將包含一或多個(gè)接觸墊的半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上，借此將半導(dǎo)體元件機(jī)械黏附且熱連結(jié)至該凸塊，其中半導(dǎo)體元件延伸進(jìn)入該凹穴；然后提供一介電層于半導(dǎo)體元件及凸緣層上，其中該介電層自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸，且該介電層包括一或多個(gè)盲孔，而盲孔是對(duì)準(zhǔn)顯露接觸墊，且可選擇性對(duì)準(zhǔn)顯露凸緣層；然后提供一或多條導(dǎo)線于該介電層上，其中導(dǎo)線自介電層朝第一垂直方向延伸，并在介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過盲孔而延伸至接觸墊，且可選擇性延伸至凸緣層，以使半導(dǎo)體元件電性連接至導(dǎo)線，且使凸緣層選擇性電性連接至導(dǎo)線；提供一基座，其鄰接該凸塊并自凸塊朝第二垂直方向延伸，且于第二垂直方向上覆蓋凸塊，同時(shí)該基座自凸塊側(cè)向延伸，并包括鄰接通孔且與凸塊保持距離的導(dǎo)電層部分；以及提供一散熱座，其包括該凸塊、該基座及該凸緣層，其中該半導(dǎo)體元件通過凸塊熱連結(jié)至該基座。根據(jù)本發(fā)明的再一實(shí)施方面，該半導(dǎo)體組件的制備方法可包括提供一凸塊、一凸緣層、一黏著層及一層壓結(jié)構(gòu)，該層壓結(jié)構(gòu)包括一導(dǎo)電層及一基板，其中(i)該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且在相反于第一垂直方向的第二垂直方向上覆蓋該凹穴，同時(shí)該凸塊鄰接凸緣層并與凸緣層一體成形，且自凸緣層朝第二垂直方向垂直延伸，并延伸進(jìn)入黏著層的開口，且對(duì)準(zhǔn)層壓結(jié)構(gòu)的通孔，(ii)該凸緣層自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸，(iii)該黏著層位于凸緣層與層壓結(jié)構(gòu)之間且未固化，且(iv)該層壓結(jié)構(gòu)是設(shè)置于黏著層上，以使基板位于黏著層與導(dǎo)電層之間；然后使黏著層流入通孔內(nèi)介于凸塊與層壓結(jié)構(gòu)間的缺口 ；固化該黏著層；然后將包含一或多個(gè)接觸墊的半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上，借此將半導(dǎo)體元件機(jī)械黏附且熱連結(jié)至該凸塊，其中半導(dǎo)體元件延伸進(jìn)入該凹穴；提供一介電層于半導(dǎo)體元件及凸緣層上，其中該介電層自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸，且該介電層包括一或多個(gè)盲孔，而盲孔是對(duì)準(zhǔn)顯露接觸墊，且可選擇性對(duì)準(zhǔn)顯露凸緣層；提供一或多條導(dǎo)線于該介電層上，其中導(dǎo)線自介電層朝第一垂直方向延伸，并在介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過盲孔而延伸至接觸墊，且可選擇性延伸至凸緣層，以使半導(dǎo)體元件電性連接至導(dǎo)線，且使凸緣層選擇性電性連接至導(dǎo)線；提供一基座，其鄰接該凸塊并自凸塊朝第二垂直方向延伸，且在第二垂直方向上覆蓋凸塊，同時(shí)該基座自凸塊側(cè)向延伸，并包括鄰接通孔且與凸塊保持距離的導(dǎo)電層部分；以及提供一散熱座，其包括該凸塊、該基座及該凸緣層，其中該半導(dǎo)體元件通過凸塊熱連結(jié)至該基座。根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施方面，該半導(dǎo)體組件的制備方法可包括提供一凸塊及一凸緣層，其中該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且鄰接凸緣層并與凸緣層一體成形，并自凸緣層朝與第一垂直方向相反的第二垂直方向垂直延伸，而該凸緣層則自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸，且該凹穴在第二垂直方向上是由凸塊覆蓋；提供一黏著層，其中一開口延伸貫穿該黏著層；提供包括一導(dǎo)電層及一基板的一層壓結(jié)構(gòu)，其中一通孔延伸貫穿該導(dǎo)電層及該基板；將黏著層設(shè)置于凸緣層上，此步驟包括將凸塊插入該開口 ；將層壓結(jié)構(gòu)設(shè)置于黏著層上，此步驟包括將凸塊對(duì)準(zhǔn)該通孔，其中黏著層是位于凸緣層與層壓結(jié)構(gòu)之間且未固化，而基板是位于黏著層與導(dǎo)電層之間；然后加熱熔化黏著層；使凸緣層及層壓結(jié)構(gòu)彼此靠合，借此使凸塊在通孔中朝第二垂直方向移動(dòng)，并對(duì)凸緣層與層壓結(jié)構(gòu)間的熔化黏著層施加壓力，其中該壓力迫使熔化黏著層朝第二垂直方向流入通孔內(nèi)介于凸塊與層壓結(jié)構(gòu)間的缺口 ；加熱固化該熔化黏著層，借此將凸塊及凸緣層機(jī)械性黏附至導(dǎo)電層及基板；然后將包含一或多個(gè)接觸墊的半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上，借此將半導(dǎo)體元件機(jī)械黏附且熱連結(jié)至該凸塊，其中半導(dǎo)體元件延伸進(jìn)入該凹穴；然后提供一介電層于半導(dǎo)體元件及凸緣層上，其中該介電層自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸， 且該介電層包括一或多個(gè)盲孔，而盲孔是對(duì)準(zhǔn)顯露接觸墊，且可選擇性對(duì)準(zhǔn)顯露凸緣層 ’然后提供一或多條導(dǎo)線于該介電層上，其中導(dǎo)線自介電層朝第一垂直方向延伸，并在介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過盲孔而延伸至接觸墊，且可選擇性延伸至凸緣層，以使半導(dǎo)體元件電性連接至導(dǎo)線，且使凸緣層選擇性電性連接至導(dǎo)線；提供一基座，其鄰接該凸塊并自凸塊朝第二垂直方向延伸，且在第二垂直方向上覆蓋凸塊，同時(shí)該基座自凸塊側(cè)向延伸，并包括鄰接通孔且與凸塊保持距離的導(dǎo)電層部分；以及提供一散熱座，其包括該凸塊、該基座及該凸緣層，其中該半導(dǎo)體元件通過凸塊熱連結(jié)至該基座。設(shè)置半導(dǎo)體元件的步驟可包括使用位于凹穴內(nèi)的固晶材料，將半導(dǎo)體元件機(jī)械黏附且熱連結(jié)至凸塊。提供該導(dǎo)線的步驟可包括沉積一被覆層于該介電層上，且該被覆層穿過該盲孔而延伸至該接觸墊，并可選擇性延伸至凸緣層，然后再使用一定義該導(dǎo)線的掩模層，以移除該被覆層的選定部位。提供該基座的步驟可包括研磨凸塊、黏著層及導(dǎo)電層，使凸塊、黏著層及導(dǎo)電層在面朝第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后沉積一被覆層于凸塊、黏著層及導(dǎo)電層上，其中該被覆層于第二垂直方向上覆蓋凸塊，并自凸塊側(cè)向延伸至導(dǎo)電層。此研磨步驟可包括研磨黏著層而不研磨凸塊；而后研磨凸塊、黏著層及導(dǎo)電層。提供導(dǎo)線及基座的步驟可包括同時(shí)沉積第一被覆層于介電層上及第二被覆層于凸塊、黏著層及導(dǎo)電層上。提供介電層、導(dǎo)線及基座的步驟可包括研磨凸塊、黏著層及導(dǎo)電層，使凸塊、黏著層及導(dǎo)電層在面朝第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后形成介電層于半導(dǎo)體元件及凸緣層上；然后形成盲孔于該介電層中；然后沉積第一被覆層于介電層上，其中該第一被覆層穿過該盲孔而延伸至接觸墊，且選擇性延伸至凸緣層；沉積第二被覆層于凸塊、 黏著層及導(dǎo)電層上，其中該第二被覆層在該第二垂直方向上覆蓋該凸塊；然后形成一定義該導(dǎo)線的掩模層于第一被覆層上；刻蝕第一被覆層以形成該掩模層所定義的圖案；然后移除該掩模層。在一優(yōu)選具體實(shí)施例中，該半導(dǎo)體組件的制備方法可包括提供一凸塊及一凸緣層，其中該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且該凸塊鄰接凸緣層并與凸緣層一體成形，同時(shí)凸塊自凸緣層朝與第一垂直方向相反的第二垂直方向垂直延伸，而凸緣層則自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸，且凹穴在第二垂直方向上是由該凸塊覆蓋；提供一黏著層，其中一開口延伸貫穿該黏著層；提供一層壓結(jié)構(gòu)，其包括一導(dǎo)電層及一基板，且一通孔延伸貫穿該層壓結(jié)構(gòu)；將該黏著層設(shè)置于凸緣層上，此步驟包括將凸塊插入開孔；將該層壓結(jié)構(gòu)設(shè)置于黏著層上，此步驟包括將凸塊插入通孔，其中該基板接觸并介于導(dǎo)電層與黏著層之間，該導(dǎo)電層則與黏著層保持距離，而黏著層接觸并介于凸緣層與基板之間且未固化；然后加熱熔化該黏著層；使凸緣層及層壓結(jié)構(gòu)彼此靠合，借此使凸塊在通孔中朝第二垂直方向移動(dòng)，并對(duì)凸緣層與層壓結(jié)構(gòu)間的該熔化黏著層施加壓力，其中該壓力迫使該熔化黏著層朝第二垂直方向流入通孔內(nèi)介于凸塊與層壓結(jié)構(gòu)間的缺口 ；加熱固化該熔化黏著層，借此將凸塊與凸緣層機(jī)械性黏附至導(dǎo)電層及基板；然后研磨凸塊、黏著層及導(dǎo)電層，使凸塊、黏著層及導(dǎo)電層在面朝第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后使用一固晶材料，將包含一或多個(gè)接觸墊的半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上，借此將半導(dǎo)體元件機(jī)械黏附且熱連結(jié)至凸塊，其中該半導(dǎo)體元件延伸進(jìn)入該凹穴，而該凸塊為半導(dǎo)體元件提供一凹形晶粒座；然后形成一介電層于半導(dǎo)體元件及凸緣層上，其中該介電層自半導(dǎo)體元件及凸緣層朝第一垂直方向延伸，并延伸進(jìn)入且填滿該凹穴的剩余空間；然后形成一或多個(gè)盲孔，其延伸貫穿該介電層，并對(duì)準(zhǔn)顯露接觸墊，且選擇性對(duì)準(zhǔn)顯露凸緣層；然后沉積第一被覆層于介電層上，并移除該第一被覆層的選定部位，以形成一掩模層所定義的圖案，其中一或多條導(dǎo)線包括該第一被覆層的選定部位，其自介電層朝第一垂直方向延伸，并在介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過盲孔而延伸至接觸墊，且選擇性延伸至凸緣層， 借此將半導(dǎo)體元件電性連接至導(dǎo)線，并選擇性將凸緣層電性連接至導(dǎo)線；沉積第二被覆層于凸塊、黏著層及導(dǎo)電層上，其中一基座鄰接該凸塊，并自凸塊朝第二垂直方向延伸，且在第二垂直方向覆蓋該凸塊，同時(shí)該基座自凸塊側(cè)向延伸，并包括鄰接基板且與凸塊保持距離的該導(dǎo)電層部分，同時(shí)包括鄰接凸塊、黏著層及導(dǎo)電層且在第二垂直方向覆蓋凸塊的該第二被覆層部分；以及提供一散熱座，其包括該凸塊、該基座及該凸緣層，其中半導(dǎo)體元件通過該凸塊熱連結(jié)至基座。根據(jù)上述優(yōu)選具體實(shí)施例，該制備方法可還包括形成一第二介電層于該介電層及該導(dǎo)線上，其中該第二介電層自介電層及導(dǎo)線朝第一垂直方向延伸，且與半導(dǎo)體元件、凸緣層及凹穴保持距離；然后形成一或多個(gè)第二盲孔，其延伸貫穿該第二介電層，且對(duì)準(zhǔn)顯露該導(dǎo)線；然后形成一或多條第二導(dǎo)線，其自第二介電層朝第一垂直方向延伸，并于第二介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝第二垂直方向穿過第二盲孔而延伸至該導(dǎo)線，借此將導(dǎo)線電性連接至第二導(dǎo)線。提供該凸塊的步驟可包括對(duì)一金屬板進(jìn)行機(jī)械沖壓，以于金屬板上形成凸塊以及在凸塊中形成凹穴，該凸塊是金屬板上一受沖壓的部分，而凸緣層則為金屬板上一未受沖壓的部分。此金屬板可由銅、鋁、鎳、鐵或其合金制成。提供該黏著層的步驟可包括提供一未固化環(huán)氧樹脂的膠片。使該黏著層流入缺口的步驟可包括熔化該未固化環(huán)氧樹脂，并擠壓凸緣層與導(dǎo)電層間或凸緣層與基板間的該未固化環(huán)氧樹脂。固化該黏著層的步驟可包括固化該未固化環(huán)氧樹脂。使黏著層流入缺口的步驟可包括使該黏著層填滿缺口，并迫使黏著層朝第二垂直方向超出凸塊及導(dǎo)電層，以使黏著層接觸凸塊與導(dǎo)電層面向第二垂直方向的表面。提供該介電層的步驟可包括形成該介電層于半導(dǎo)體元件、凸塊及凸緣層上并與的接觸，且該凸緣層分隔介電層與黏著層?；蛘?，在固化黏著層后且設(shè)置半導(dǎo)體元件前，該半導(dǎo)體組件的制備方法可還包括一步驟移除與凸塊保持距離的該凸緣層選定部分，而提供該介電層的步驟可包括形成該介電層于半導(dǎo)體元件、凸塊、凸緣層及黏著層上并與之接觸，且該黏著層分隔介電層與基板(或?qū)щ妼?。沉積第一被覆層與第二被覆層的步驟可包括通過無電電鍍法及電解電鍍法，同時(shí)沉積第一被覆層及第二被覆層。該些介電層可通過各種技術(shù)形成并可延伸至組件的外圍邊緣，其包括膜壓合、輥輪涂布、旋轉(zhuǎn)涂布及噴涂沉積法。該些盲孔可通過各種技術(shù)貫穿介電層，其包括激光鉆孔、 等離子體刻蝕及微加工技術(shù)。該些被覆層可通過各種技術(shù)沉積形成單層或多層結(jié)構(gòu)，其包括電鍍、無電電鍍、蒸鍍、濺射及其組合。該些被覆層可通過各種技術(shù)圖案化，以定義出該些導(dǎo)線，其包括濕刻蝕、電化學(xué)刻蝕、激光輔助刻蝕及其組合。通過上述制備方法，該散熱增益型半導(dǎo)體組件的散熱座可包括一凸塊、一基座及一凸緣層，其中(i)該凸塊鄰接基座及凸緣層，且與凸緣層一體成形，該凸塊自基座朝第一垂直方向延伸，并自凸緣層朝與該第一垂直方向相反的第二垂直方向延伸；(ii)該基座自凸塊朝第二垂直方向延伸，并自凸塊朝垂直于該等垂直方向的側(cè)面方向側(cè)伸而出；(iii) 該凸緣層自凸塊側(cè)向延伸，且與基座保持距離；且(iv)該凸塊具有面朝第一垂直方向的凹穴，而該凹穴在第二垂直方向上是由該凸塊覆蓋，該凸塊分隔該凹穴與該基座，且該凹穴于凸緣層處設(shè)有一入口。該散熱座可由任何導(dǎo)熱性材料制成。優(yōu)選為，該散熱座可由金屬制成。舉例說明， 該散熱座基本上可由銅、鋁、鎳、鐵或其合金制成。無論何種方式，該散熱座都可提供散熱作用，將半導(dǎo)體元件的熱量擴(kuò)散至下一層組件。承上所述，凸緣層與基板(或?qū)щ妼?間的黏著層可流入通孔內(nèi)介于凸塊與基板 (或?qū)щ妼?間的缺口。據(jù)此，該黏著層于鄰接凸緣層處可具有第一厚度(朝垂直方向)， 而鄰接凸塊處則具有第二厚度(朝側(cè)面方向)，且第二厚度不同于第一厚度。半導(dǎo)體元件可為封裝或未封裝的半導(dǎo)體芯片。舉例說明，半導(dǎo)體元件可為包含半導(dǎo)體芯片的柵格陣列(land grid array, LGA)封裝或晶圓級(jí)封裝(WLP)?；蛘撸雽?dǎo)體元件可為半導(dǎo)體芯片。該基板可延伸至組件的外圍邊緣，且可由有機(jī)材料(如環(huán)氧、玻璃-環(huán)氧及聚酰亞胺)制成。該基板也可以由導(dǎo)熱性材料(如氧化鋁(A1203)、氮化鋁(A1N)、氮化硅(SiN)、硅 (Si)等)制成?；蛘?，該基板可為單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)，如層壓電路板或多層陶瓷板。此外，該基板可與一導(dǎo)電層壓合，且該通孔可延伸穿過該基板及導(dǎo)電層。該凸塊可與凸緣層一體成形。例如，凸塊與凸緣層可為單一金屬體，或于界面處包含單一金屬體，其中該單一金屬體可為銅。此外，該凸塊與該黏著層可于基座處呈共平面。 該凸塊可包含一鄰接基座的第一彎折角與一鄰接凸緣層的第二彎折角。該凸塊也可以具有沖壓而成的特有不規(guī)則厚度。此外，該凸塊于凸緣層處的直徑或尺寸可大于該凸塊在基座處的直徑或尺寸。例如，該凸塊可呈平頂錐柱形或金字塔形，其直徑或尺寸自基座沿著第一垂直方向朝凸緣層處遞增。據(jù)此，由于黏著層朝第二垂直方向延伸進(jìn)入凸塊與基板間或凸塊與基座間的缺口，因此鄰接凸塊處的黏著層厚度呈遞增趨勢。該凸塊也可以為直徑固定的圓柱形。據(jù)此，黏著層在凸塊與基板間或凸塊與基座間的缺口處可具有固定厚度。該凸塊也可以為該半導(dǎo)體元件提供一凹形晶粒座。凸塊凹穴入口處的直徑或尺寸可大于該凹穴底板處的直徑或尺寸。例如，該凹穴可呈平頂錐柱形或金字塔形，其直徑或尺寸自其底板沿著第一垂直方向朝其入口處遞增。 或者，該凹穴也可以為一直徑固定的圓柱形。該凹穴的入口及底板也可以具有圓形、正方形或矩形的周緣。該凹穴也可以具有與凸塊相符的形狀，并延伸進(jìn)入該開口及該通孔，同時(shí)沿該等垂直及側(cè)面方向延伸跨越該凸塊的大部分。該基座可包括與凸塊保持距離的導(dǎo)電層部分，同時(shí)可包括被覆層部分。據(jù)此，該基座可在鄰接凸塊處具有第一厚度，并在鄰接基板處具有第二厚度。此外，該基座也可以具有面向第二垂直方向的平坦表面。該基座鄰接黏著層且與基板保持距離的部分可具有該第一厚度，而在鄰接黏著層與基板間角形界面處則可具有該第二厚度。該基座也可以接觸黏著層與基板，于第二垂直方向覆蓋凸緣層，并側(cè)向延伸超過凸緣層，且支撐黏著層并延伸至組件的外圍邊緣。該基座在側(cè)向平面上的表面積可大于凸塊與凸緣層在側(cè)向平面上的結(jié)合表面積。該凸緣層可位于增層電路與黏著層間。該凸緣層也可以具有圓形、正方形或矩形的周緣。此外，該凸緣層可與組件的外圍邊緣保持距離或延伸至組件的外圍邊緣。該組件可為第一級(jí)或第二級(jí)單晶或多晶裝置。例如，該組件可為包含單一芯片或多枚芯片的第一級(jí)封裝體。或者，該組件可為包含單一封裝體或多個(gè)封裝體的第二級(jí)模塊， 其中每一封裝體可包含單一芯片或多枚芯片。本發(fā)明具有多項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)。該散熱座可提供優(yōu)異的散熱效果，并使熱量不流經(jīng)該黏著層。因此，該黏著層及基板可為低成本介電材料且不易脫層。凸塊與凸緣層可一體成形，以對(duì)半導(dǎo)體元件提供優(yōu)異的電磁屏蔽作用并阻隔水氣，進(jìn)而提高電性效率及環(huán)境可靠度。機(jī)械形成的凸塊凹穴可提供定義明確的空間，以放置半導(dǎo)體元件。因此，可避免層壓過程中的半導(dǎo)體元件偏移及破裂問題，進(jìn)而提高制備合格率并降低成本。該基座可包含連結(jié)于基板的該金屬層的一選定部分，以提高熱效率。該基座可為該基板提供機(jī)械性支撐，防止其彎曲變形。該黏著層可位于凸塊與基板之間、基座與基板之間以及凸緣層與基板之間，以于散熱座與基板之間提供堅(jiān)固的機(jī)械性連結(jié)。該增層電路可通過被覆金屬，以電性連接半導(dǎo)體元件，其無需使用打線或焊接，因此可提高可靠度。該增層電路可提供具有簡單電路圖案的信號(hào)路由或具有復(fù)雜電路圖案的靈活多層信號(hào)路由。本發(fā)明的上述及其它特征與優(yōu)點(diǎn)將于下文中通過各種優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)一步加以說明。


圖IA及IB為本發(fā)明一實(shí)施例的凸塊與凸緣層剖視圖。圖IC及ID分別為圖IB的俯視圖及仰視圖。圖2A及2B為本發(fā)明一實(shí)施例的黏著層剖視圖。圖2C及2D分別為圖2B的俯視圖及仰視圖。圖3A及;3B為本發(fā)明一實(shí)施例的基板與導(dǎo)電層壓合結(jié)構(gòu)剖視圖。
圖3C及3D分別為圖:3B的俯視圖及仰視圖。圖4A至4E為本發(fā)明一實(shí)施例的導(dǎo)熱板制作方法剖視圖。圖5A至5J為本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件制作方法剖視圖，其中該組件包括導(dǎo)熱板、半導(dǎo)體芯片及增層電路。圖6為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其中該組件包括一導(dǎo)熱板，而第一介電層與凹穴保持距離。圖7為本發(fā)明再一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其中該組件包括一導(dǎo)熱板，而第
一導(dǎo)線與凸緣層保持距離。圖8為本發(fā)明又一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其中該組件包括一導(dǎo)熱板，而凸緣層與組件外圍邊緣保持距離。圖9為本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板中不包含基板。圖10為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板不含基板，且第一介電層與凹穴保持距離。圖11為本發(fā)明再一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板不含基板，且第一導(dǎo)線
與凸緣層保持距離。圖12為本發(fā)明又一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板不含基板，且凸緣層與組件外圍邊緣保持距離。主要元件符號(hào)說明10 金屬板12，14 表面16 凸塊18凸緣層20 凹穴22，M 彎折角26 漸縮側(cè)壁28底板30 黏著層32開口34 基板36導(dǎo)電層40 通孔42缺口50 散熱座60被覆層64基座100 半導(dǎo)體組件101，102，103，104導(dǎo)熱板 110 半導(dǎo)體芯片111頂面112 底面113固晶材料 114 接觸墊201增層電路 211 第一介電層221第一盲孔 241 第一導(dǎo)線261第二介電層 281 第二盲孔291第二導(dǎo)線 301 防焊層311開孔341 端子焊墊401錫球D1，D2 距離Tl第一厚度 T2 第二厚度
具體實(shí)施方式
參考隨附附圖，本發(fā)明可通過下述優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)敘述更加清楚明了?！秾?shí)施例1》圖IA及IB為本發(fā)明一實(shí)施例的凸塊與凸緣層制作方法剖視圖，而圖IC及ID分別為圖IB的俯視圖及仰視圖。圖IA為金屬板10的剖視圖，金屬板10包含相對(duì)的主要表面12及14。圖示的金屬板10是一厚度為100微米的銅板。銅具有導(dǎo)熱性高、可撓性佳及低成本等優(yōu)點(diǎn)。金屬板 10可由多種金屬制成，如銅、鋁、鐵鎳合金42、鐵、鎳、銀、金、其混合物及其合金。圖IB、IC及ID分別為金屬板10形成凸塊16、凸緣層18及凹穴20后的剖視圖、俯視圖及仰視圖。凸塊16及凹穴20是由金屬板10以機(jī)械方式?jīng)_壓而成。因此，凸塊16為金屬板10受沖壓的部分，而凸緣層18則為金屬板10未受沖壓的部分。凸塊16鄰接凸緣層18，并與凸緣層18 —體成形，且自凸緣層18朝向下方向延伸。 凸塊16包含彎折角22及M、漸縮側(cè)壁沈與底板觀。彎折角22及M是因沖壓作業(yè)而彎折。彎折角22鄰接凸緣層18與漸縮側(cè)壁沈，而彎折角M則鄰接漸縮側(cè)壁沈與底板觀。 漸縮側(cè)壁26是朝向上方向往外延伸，而底板觀則沿著垂直于向上及向下方向的側(cè)面方向 (如左、右)延伸。因此，凸塊16呈平頂金字塔形(類似一平截頭體)，其直徑自凸緣層18 處朝底板觀向下遞減，也就是自底板觀處朝凸緣層18向上遞增。凸塊16的高度(相對(duì)于凸緣層18)為300微米，在凸緣層18處的尺寸為10. 5毫米X 8. 5毫米，在底板觀處的尺寸則為10. 25毫米X8. 25毫米。此外，凸塊16因沖壓作業(yè)而具有不規(guī)則的厚度。例如， 因沖壓而拉長的漸縮側(cè)壁沈較底板28為薄。為便于圖示，凸塊16在圖中具有均一厚度。呈平坦?fàn)畹耐咕墝?8是沿側(cè)面方向自凸塊16側(cè)伸而出，其厚度為100微米。凹穴20是面朝向上方向，且延伸進(jìn)入凸塊16，并由凸塊16從下方覆蓋。凹穴20 于凸緣層18處設(shè)有一入口。此外，凹穴20的形狀與凸塊16相符。因此，凹穴20亦呈平頂金字塔形(類似一平截頭體)，其直徑自其位于凸緣層18的入口處朝底板觀向下遞減，也就是自底板觀處朝其位于凸緣層18的入口向上遞增。此外，凹穴20沿垂直及側(cè)面方向延伸跨越凸塊16的大部分，且凹穴20的深度為300微米。圖2A及2B圖為本發(fā)明一實(shí)施例的黏著層制作方法剖視圖，而圖2C及2D分別為圖2B的俯視圖及仰視圖。圖2A為黏著層30的剖視圖，其中黏著層30為乙階(B-stage)未固化環(huán)氧樹脂的膠片，其為未經(jīng)固化及圖案化的片體，厚150微米。黏著層30可為多種有機(jī)或無機(jī)電性絕緣體制成的各種介電膜或膠片。例如，黏著層30起初可為一膠片，其中樹脂形式的熱固性環(huán)氧樹脂摻入一加強(qiáng)材料后部分固化至中期。所述環(huán)氧樹脂可為FR-4，但其它環(huán)氧樹脂(如多官能與雙馬來酰亞胺-三氮雜苯 (BT)樹脂等)也適用。在特定應(yīng)用中，也適用氰酸酯、聚酰亞胺及聚四氟乙烯(PTFE)。該加強(qiáng)材料可為電子級(jí)玻璃(E-glass)，也可以為其它加強(qiáng)材料，如高強(qiáng)度玻璃(S-glass)、 低誘電率玻璃(D-glass)、石英、克維拉纖維(kevlar aramid)及紙等。該加強(qiáng)材料也可為織物、不織布或無方向性微纖維?？蓪⒅T如硅(研粉熔融石英)等填充物加入膠片中，以提升導(dǎo)熱性、熱沖擊阻抗力與熱膨脹匹配性?？衫檬惺垲A(yù)浸材，如美國威斯康星州奧克萊 W. L. Gore&Associates 的 SPEEDB0ARD C 膠片即為一例。圖2B、2C及2D分別為具有開口 32的黏著層30剖視圖、俯視圖及仰視圖。開口 32為貫穿黏著層30且尺寸為10. 55毫米X8. 55毫米的窗口。開口 32是以機(jī)械方式擊穿該膠片而形成，但也可以以其它技術(shù)制作，如激光切割等。圖3A及;3B為本發(fā)明一實(shí)施例的基板制作方法剖視圖而圖3C及3D則分別為圖;3B 的俯視圖及仰視圖。圖3A是一層壓結(jié)構(gòu)的剖視圖，其包含基板34及導(dǎo)電層36。舉例說明，基板34可為厚度150微米的玻璃-環(huán)氧材料，而與基板34接觸、壓合且延伸于基板34上方的導(dǎo)電層 36可為未經(jīng)圖案化且厚度30微米的銅板。圖3B、3C及3D分別為具有通孔40的層壓結(jié)構(gòu)(包括基板34及導(dǎo)電層36)剖視圖、俯視圖及仰視圖。通孔40為一窗口，其貫穿基板34及導(dǎo)電層36且尺寸為10. 55毫米X 8. 55毫米通孔40是以機(jī)械方式擊穿基板34與導(dǎo)電層36而形成，但也可以以其它技術(shù)制作，如激光切割等。開口 32與通孔40具有相同尺寸。此外，開口 32與通孔40可以相同的沖頭在同一沖床上透過相同方式形成?；?4在此繪示為一單層介電結(jié)構(gòu)，但基板34也可以為一電性互連體，如多層印刷電路板或多層陶瓷板。同樣地，基板34可另包含額外的內(nèi)嵌電路層。圖4A至4E為本發(fā)明一實(shí)施例的導(dǎo)熱板制作方法剖視圖，如圖4E所示，該導(dǎo)熱板包含凸塊16、凸緣層18、黏著層30、基板34及導(dǎo)電層36。圖4A及4B中的結(jié)構(gòu)是呈凹穴向下的倒置狀態(tài)，以便利用重力將黏著層30、基板 34及導(dǎo)電層36設(shè)置于凸緣層18上，而圖4C至4E中的結(jié)構(gòu)依舊維持凹穴向下。之后，圖 5A至5J中的結(jié)構(gòu)則再次翻轉(zhuǎn)至如圖IA至ID所示的凹穴向上狀態(tài)。簡言之，凹穴20在圖 4A至4E中朝下，而在圖5A至5J中則朝上。盡管如此，該結(jié)構(gòu)體的相對(duì)方位并未改變。無論該結(jié)構(gòu)體是否倒置、旋轉(zhuǎn)或傾斜，凹穴20始終面朝第一垂直方向，并在第二垂直方向上由凸塊16覆蓋。同樣地，無論該結(jié)構(gòu)體是否倒置、旋轉(zhuǎn)或傾斜，凸塊16都是朝第一垂直方向延伸至基板34外，并自凸緣層18朝第二垂直方向延伸。因此，第一與第二垂直方向是相對(duì)于該結(jié)構(gòu)體而定向，彼此始終相反，且恒垂直于前述的側(cè)面方向。圖4A為黏著層30設(shè)置于凸緣層18上的結(jié)構(gòu)剖視圖。黏著層30是下降至凸緣層 18上，使凸塊16向上插入并貫穿開口 32，最終則使黏著層30接觸并定位于凸緣層18。優(yōu)選為，凸塊16插入且貫穿開口 32后是對(duì)準(zhǔn)開口 32且位于開口 32內(nèi)的中央位置而不接觸黏著層30。圖4B為基板34及導(dǎo)電層36設(shè)置于黏著層上的結(jié)構(gòu)剖視圖。將壓合有導(dǎo)電層36 的基板34下降至黏著層30上，使凸塊16向上插入通孔40，最終則使基板34接觸并定位于黏著層30。凸塊16在插入(但并未貫穿)通孔40后是對(duì)準(zhǔn)通孔40且位于通孔40內(nèi)的中央位置而不接觸基板34。因此，凸塊16與基板34之間具有一位于通孔40內(nèi)的缺口 42。缺口 42側(cè)向環(huán)繞凸塊16，同時(shí)被基板34側(cè)向包圍。此外，開口 32與通孔40是相互對(duì)齊且具有相同尺寸。此時(shí)，壓合有導(dǎo)電層36的基板34是安置于黏著層30上并與之接觸，且延伸于黏著層30上方。凸塊16延伸通過開口 32后進(jìn)入通孔40。凸塊16較導(dǎo)電層36的頂面低 30微米，且透過通孔40朝向上方向外露。黏著層30接觸凸緣層18與基板34且介于該兩者之間。黏著層30接觸基板34但與導(dǎo)電層36保持距離。在此階段，黏著層30仍為乙階(B-stage)未固化環(huán)氧樹脂的膠片，而缺口 42中則為空氣。圖4C為黏著層30流入缺口 42中的結(jié)構(gòu)剖視圖。黏著層30經(jīng)由施加熱及壓力而流入缺口 42中。在此圖中，迫使黏著層30流入缺口 42的方法是對(duì)導(dǎo)電層36施以向下壓力及/或?qū)ν咕墝?8施以向上壓力，也就是將凸緣層18與基板34相對(duì)壓合，藉以對(duì)黏著層30施壓；在此同時(shí)也對(duì)黏著層30加熱。受熱的黏著層30可在壓力下任意成形。因此， 位于凸緣層18與基板34間的黏著層30受到擠壓后，改變其原始形狀并向上流入缺口 42。 凸緣層18與基板34持續(xù)朝彼此壓合，直到黏著層30填滿缺口 42為止。此外，黏著層30 仍位于凸緣層18與基板34之間，且持續(xù)填滿凸緣層18與基板34間縮小的間隙。舉例說明，可將凸緣層18及導(dǎo)電層36設(shè)置于一壓合機(jī)的上、下壓臺(tái)(圖未示)之間。此外，可將一上擋板及上緩沖紙(圖未示)夾置于導(dǎo)電層36與上壓臺(tái)之間，并將一下?lián)醢寮跋戮彌_紙(圖未示)夾置于凸緣層18與下壓臺(tái)之間。以此構(gòu)成的迭合體由上到下依次為上壓臺(tái)、上擋板、上緩沖紙、基板34、導(dǎo)電層36、黏著層30、凸緣層18、下緩沖紙、下?lián)醢寮跋聣号_(tái)。此外，可利用從下壓臺(tái)向上延伸并穿過凸緣層18對(duì)位孔(圖未示)的工具接腳(圖未示)，將此迭合體定位于下壓臺(tái)上。而后，將上、下壓臺(tái)加熱并相向推進(jìn)，借此對(duì)黏著層30加熱并施壓。擋板可將壓臺(tái)的熱分散，使熱均勻施加于凸緣層18與基板34乃至于黏著層30。緩沖紙則將壓臺(tái)的壓力分散，使壓力均勻施加于凸緣層18與基板34乃至于黏著層30。起初，基板34接觸并向下壓合至黏著層30上。隨著壓臺(tái)持續(xù)動(dòng)作與持續(xù)加熱，凸緣層18與基板34間的黏著層30 受到擠壓并開始熔化因而向上流入缺口 42，并在通過基板34后抵達(dá)導(dǎo)電層36。例如，未固化環(huán)氧樹脂遇熱熔化后，被壓力擠入缺口 42中，但加強(qiáng)材料及填充物仍留在凸緣層18與基板34之間。黏著層30在通孔40內(nèi)上升的速度大于凸塊16，終至填滿缺口 42。黏著層30 也上升至稍高于通孔40的位置，并在壓臺(tái)停止動(dòng)作前，溢流至凸塊16頂面及導(dǎo)電層36頂面。若膠片厚度略大于實(shí)際所需厚度便可能發(fā)生上述狀況。如此一來，黏著層30便在凸塊 16頂面及導(dǎo)電層36頂面形成一覆蓋薄層。壓臺(tái)在觸及凸塊16后停止動(dòng)作，但仍持續(xù)對(duì)黏著層30加熱。黏著層30在缺口 42內(nèi)向上流動(dòng)的方向如圖中向上粗箭號(hào)所示，凸塊16與凸緣層 18相對(duì)于基板34的向上移動(dòng)如向上細(xì)箭號(hào)所示，而基板34相對(duì)于凸塊16與凸緣層18的向下移動(dòng)則如向下細(xì)箭號(hào)所示。圖4D為黏著層30已固化的結(jié)構(gòu)剖視圖。舉例說明，壓臺(tái)停止移動(dòng)后仍持續(xù)夾合凸塊16與凸緣層18并供熱，借此將已熔化而未固化的乙階(B-stage)環(huán)氧樹脂轉(zhuǎn)換為丙階(C-stage)固化或硬化的環(huán)氧樹脂。因此， 環(huán)氧樹脂是以類似現(xiàn)有多層壓合的方式固化。環(huán)氧樹脂固化后，壓臺(tái)分離，以便將結(jié)構(gòu)體從壓合機(jī)中取出。固化的黏著層30可在凸塊16與基板34之間以及凸緣層18與基板34之間提供牢固的機(jī)械性連結(jié)。黏著層30可承受一般操作壓力而不致變形損毀，遇過大壓力時(shí)則僅暫時(shí)扭曲。此外，黏著層30可吸收凸塊16與基板34之間以及凸緣層18與基板34之間的熱膨脹不匹配。在此階段，凸塊16與導(dǎo)電層36大致共平面，而黏著層30與導(dǎo)電層36則延伸至面朝向上方向的頂面。例如，凸緣層18與基板34間的黏著層30厚120微米，較其初始厚度150微米減少30微米；也就是凸塊16在通孔40中升高30微米，而基板34則相對(duì)于凸塊 16下降30微米。凸塊16的高度300微米基本上等同于導(dǎo)電層36(30微米)、基板34(150 微米)與下方黏著層30 (120微米)的結(jié)合高度。此外，凸塊16仍位于開口 32與通孔40 內(nèi)的中央位置并與基板34保持距離，而黏著層30則填滿凸緣層18與基板34間的空間并填滿缺口 42。黏著層30在缺口 42內(nèi)延伸跨越基板34。換言之，缺口 42中的黏著層30是朝向上方向及向下方向延伸并跨越缺口 42外側(cè)壁的基板34厚度。黏著層30也包含缺口 42上方的薄頂部分，其接觸凸塊16的頂面與導(dǎo)電層36的頂面，并在凸塊16上方延伸10微米。圖4E為研磨移除凸塊16、黏著層30及導(dǎo)電層36頂部后的結(jié)構(gòu)剖視圖。例如，利用旋轉(zhuǎn)鉆石砂輪及蒸餾水處理結(jié)構(gòu)體的頂部。起初，鉆石砂輪僅對(duì)黏著層30進(jìn)行研磨。持續(xù)研磨時(shí)，黏著層30則因受磨表面下移而變薄。最后，鉆石砂輪將接觸凸塊16與導(dǎo)電層 36 (不一定同時(shí)接觸)，因而開始研磨凸塊16與導(dǎo)電層36。持續(xù)研磨后，凸塊16、黏著層30 及導(dǎo)電層36均因受磨表面下移而變薄。研磨持續(xù)至去除所需厚度為止。之后，以蒸餾水沖洗結(jié)構(gòu)體去除污物。上述研磨步驟將黏著層30的頂部磨去20微米，將凸塊16的頂部磨去10微米，并將導(dǎo)電層36的頂部磨去10微米。厚度減少對(duì)凸塊16或黏著層30均無明顯影響，但導(dǎo)電層36的厚度卻從30微米大幅縮減至20微米。在研磨后，凸塊16、黏著層30及導(dǎo)電層36 會(huì)于基板34上方面朝向上方向的平滑拼接側(cè)頂面上呈共平面。在此階段中，如圖4E所示，導(dǎo)熱板101包括黏著層30、基板34、導(dǎo)電層36及散熱座50。此時(shí)該散熱座50包括凸塊16及凸緣層18。凸塊16于彎折角22處與凸緣層18鄰接，并自凸緣層18朝向上方向延伸，且與凸緣層18 —體成形。凸塊16進(jìn)入開口 32及通孔 40，并位于開口 32與通孔40內(nèi)的中央位置。此外，凸塊16的頂部與黏著層30的鄰接部分呈共平面。凸塊16與基板34保持距離，并呈尺寸沿向下延伸方向遞增的平頂金字塔形。凹穴20面朝向上方向，并延伸進(jìn)入凸塊16、開口 32及通孔40，且始終位于凸塊 16、開口 32及通孔40內(nèi)的中央位置。此外，凸塊16于向上方向覆蓋凹穴20。凹穴20具有與凸塊16相符的形狀，且沿垂直及側(cè)面方向延伸跨越凸塊16的大部分，并維持平頂金字塔形，其尺寸自位于凸緣層18處的入口向上遞減。凸緣層18自凸塊16側(cè)向延伸，同時(shí)延伸于黏著層30、基板34、開口 32與通孔40 下方，并與黏著層30接觸，但與基板34保持距離。黏著層30在缺口 42內(nèi)與凸塊16及基板34接觸，并位于凸塊16與基板34之間， 同時(shí)填滿凸塊16與基板34間的空間。此外，黏著層30在缺口 42外則與基板34及凸緣層 18接觸。黏著層30沿側(cè)面方向覆蓋且包圍凸塊16的漸縮側(cè)壁26，并自凸塊16側(cè)向延伸至組件外圍邊緣并固化。據(jù)此，黏著層30于鄰接凸緣層18處具有第一厚度Tl，而于鄰接凸塊16處具有第二厚度T2，其中第一厚度Tl與第二厚度T2不同。也就是，凸緣層18與基板 34間垂直方向上的距離D1，不同于凸塊16與基板34間側(cè)面方向上的距離D2。此外，當(dāng)黏著層30延伸離開凸緣層18而進(jìn)入凸塊16與基板34間的缺口 42時(shí)，由于凸塊16朝凸緣層18延伸時(shí)的尺寸呈遞增狀態(tài)，因此黏著層30于鄰接凸塊16處的厚度也呈現(xiàn)遞增趨勢。 導(dǎo)熱板101可通過單一凸塊或多個(gè)凸塊來容納多個(gè)半導(dǎo)體元件，而非僅可容納單一半導(dǎo)體元件。因此，可將多個(gè)半導(dǎo)體元件設(shè)置于單一凸塊上，或?qū)雽?dǎo)體元件分別設(shè)置于不同凸塊上。若欲在導(dǎo)熱板101上形成多個(gè)凸塊以容納多個(gè)半導(dǎo)體元件，則可在金屬板10上沖壓出額外的凸塊16，并調(diào)整黏著層30以包含更多開口 32，同時(shí)調(diào)整基板34及導(dǎo)電層36以包含更多通孔40。圖5A至5J為本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件制作方法剖視圖，其中該半導(dǎo)體組件包括導(dǎo)熱板、半導(dǎo)體元件及增層電路。如圖5J所示，半導(dǎo)體組件100包括導(dǎo)熱板101、半導(dǎo)體芯片110、固晶材料113、增層電路201、防焊層301及錫球401。導(dǎo)熱板101包括黏著層30、基板34及散熱座50。散熱座50包括凸塊16、凸緣層18及基座64。半導(dǎo)體芯片110包括頂面111、底面112及接觸墊114。頂面111為包含接觸墊114的作用表面，而底面112為熱接觸表面。增層電路201 包括第一介電層211、第一導(dǎo)線Ml、第二介電層261及第二導(dǎo)線四1。圖5A為圖4E反轉(zhuǎn)后的導(dǎo)熱板101剖視圖。圖5B為導(dǎo)熱板101通過固晶材料113將半導(dǎo)體芯片110設(shè)置于凸塊16上的剖視圖。將頂面111(即作用表面)含有接觸墊114的半導(dǎo)體芯片Iio下降至凹穴20中，并留置于固晶材料113上與之接觸。尤其，凸塊16會(huì)從下方覆蓋半導(dǎo)體芯片110，并提供用于容置半導(dǎo)體芯片110的凹形晶粒座。固晶材料113會(huì)與凸塊16及半導(dǎo)體芯片110接觸，并夾置于凸塊16與半導(dǎo)體芯片110之間。固晶材料113原為具有高導(dǎo)熱性的含銀環(huán)氧樹脂膏，并以網(wǎng)版印刷的方式選擇性印刷于凸塊16的凹穴20內(nèi)，然后利用一抓取頭及一自動(dòng)化圖案辨識(shí)系統(tǒng)，以步進(jìn)重復(fù)的方式將半導(dǎo)體芯片110放置于該環(huán)氧樹脂銀膏上。隨后，加熱該環(huán)氧樹脂銀膏，使其于相對(duì)低溫(如190°C )下硬化形成固化的固晶材料113。半導(dǎo)體芯片110的厚度為275微米，固晶材料113的厚度為20微米，因此，半導(dǎo)體芯片110與下方固晶材料113的結(jié)合高度為四5 微米，此高度較凹穴20的深度(300微米)少5微米。半導(dǎo)體芯片110的長度為10毫米、 寬度為8毫米。接著，在半導(dǎo)體芯片110及導(dǎo)熱板101上形成增層電路，其步驟如下所述。圖5C為具有第一介電層211的結(jié)構(gòu)剖視圖。第一介電層211(如環(huán)氧樹脂、玻璃-環(huán)氧、聚酰亞胺及其類似材料)是設(shè)置于半導(dǎo)體芯片頂面111(即作用表面)、接觸墊 114、固晶材料113、凸塊16及凸緣層18上。第一介電層211延伸進(jìn)入凹穴20并填滿凹穴 20中的剩余空間，以在凹穴20內(nèi)與凸塊16、半導(dǎo)體芯片110及固晶材料113接觸，并在凹穴20內(nèi)夾置于凸塊16與半導(dǎo)體芯片110之間。第一介電層211也于凹穴20外與凸緣層 18接觸，并與黏著層30保持距離。可通過各種技術(shù)來制作第一介電層211，其包括壓合、輥輪涂布、旋轉(zhuǎn)涂布及噴涂沉積法。在沉積前，可對(duì)第一介電層211進(jìn)行等離子體刻蝕，或使用附著力促進(jìn)劑(圖未示)涂布第一介電層211，以提高黏著力。在此，第一介電層211可具有約50微米的厚度。圖5D為第一介電層211形成有第一盲孔221的結(jié)構(gòu)剖視圖。第一盲孔221是穿過第一介電層211，且對(duì)準(zhǔn)并顯露接觸墊114及凸緣層18的選定部位。該些第一盲孔221 可通過各種技術(shù)形成，其包括激光鉆孔、等離子體刻蝕及微加工工藝。可使用脈沖激光，以提高激光鉆孔效率?；蛘撸部梢允褂眉す鈷呙韫馐钆浣饘倨帘?。在此，第一盲孔221具有約50微米的直徑。
參見圖5E，將第一導(dǎo)線241形成于第一介電層211上，其中第一導(dǎo)線Ml自第一介電層211向上延伸，并于第一介電層211上側(cè)向延伸，同時(shí)向下延伸進(jìn)入第一盲孔221，以與半導(dǎo)體芯片110的接觸墊114及凸緣層18形成電性接觸?？赏ㄟ^各種技術(shù)沉積第一導(dǎo)線 M0，其包括電解電鍍、無電電鍍、蒸鍍、濺射及其組合。舉例說明，可先將結(jié)構(gòu)體浸入一活化劑溶液中，因而使黏著層30及第一介電層 211可與無電鍍銅產(chǎn)生催化劑反應(yīng)，接著以無電電鍍方式形成薄銅層，以作為晶種層，然后再以電鍍方式將具有預(yù)定厚度的第二銅層鍍于晶種層上，以沉積形成第一導(dǎo)線241 (為第一導(dǎo)電層)。或者，在沉積電鍍銅層于晶種層上前，可利用濺射方式，在第一介電層211上及第一盲孔221上內(nèi)成作為晶種層的薄膜(如鈦/銅)。一旦達(dá)到預(yù)定厚度，可通過各種技術(shù)(包括濕刻蝕、電化學(xué)刻蝕、激光輔助刻蝕及其組合)，并使用定義第一導(dǎo)線241的掩模層 (圖未示)，再對(duì)第一導(dǎo)電層(電鍍銅層與晶種層的結(jié)合體)進(jìn)行圖案化，以形成第一導(dǎo)線 241。又如圖5E所示，凸塊16、黏著層30及導(dǎo)電層36上更形成有被覆層60。被覆層60 可通過制作第一導(dǎo)線241所使用的相同溶液沉積而成。優(yōu)選為，被覆層60與第一導(dǎo)線Ml 是通過相同方式同時(shí)沉積相同材料而形成。該被覆層60是沉積于凸塊16、黏著層30及導(dǎo)電層36的側(cè)向底面上并與的接觸，且從下方覆蓋此三者。為便于圖示，凸塊16、導(dǎo)電層36 及被覆層60均以單層顯示。由于銅為同質(zhì)被覆，凸塊16與被覆層60間的界線及導(dǎo)電層36 與被覆層60間的界線(均以虛線繪示)可能不易察覺甚至無法察覺。然而，黏著層30與被覆層60間的界線則清楚可見。為便于圖標(biāo)，第一導(dǎo)線241于剖視圖中是繪示為一連續(xù)電路跡線。第一導(dǎo)線Ml 可提供X與Y方向的水平信號(hào)路由，并可透過第一盲孔221以提供垂直信號(hào)路由(由上至下)。此外，第一導(dǎo)線241可電性連接半導(dǎo)體芯片110及凸緣層18。被覆層60是未經(jīng)圖案化的銅層，并視為基座64的一部分?；?4鄰接凸塊16， 并自凸塊16下方及側(cè)向延伸，同時(shí)熱連結(jié)至凸塊16。此外，基座64從下方覆蓋凸塊16及凸緣層18。此外，基座64鄰接凸塊16處具有被覆層60厚度，而鄰接基板34處則具有被覆層60與導(dǎo)電層36的結(jié)合厚度。在此階段中，如圖5E所示，導(dǎo)熱板101包括黏著層30、基板34及散熱座50。其中， 散熱座50包括凸塊16、凸緣層18及基座64。導(dǎo)熱板101及半導(dǎo)體芯片110上的增層電路包括第一介電層211及第一導(dǎo)線Ml。凸塊16在彎折角22處鄰接凸緣層18，并在彎折角M及底板觀處鄰接基座64。 凸塊16自基座64朝向上方向延伸，自凸緣層18朝向下方向延伸，并與凸緣層18—體成形。凸塊16延伸進(jìn)入開口 32及通孔40后，仍位于開口 32及通孔40內(nèi)的中央位置。凸塊 16的底部與黏著層30其接觸基座64的相鄰部分共平面。凸塊16也接觸黏著層30，并與基板34保持距離，同時(shí)維持平頂金字塔形，其尺寸自基座64處朝凸緣層18向上遞增?；?4自凸塊16側(cè)向延伸，并側(cè)向延伸超過開口 32與通孔40，且從下方覆蓋凸塊16、開口 32及通孔40。基座64接觸黏著層30與基板34，并向下延伸超過黏著層30及基板34?；?4支撐黏著層30及基板34，并延伸至導(dǎo)熱板101的外圍邊緣?；?4鄰接凸塊16處具有第一厚度，鄰接基板34處則具有大于第一厚度的第二厚度，基座64尚具有面朝向下方向的平坦表面。
黏著層30在缺口 42內(nèi)接觸且介于凸塊16與基板34之間，并填滿凸塊16與基板 34間的空間。黏著層30在缺口 42外則接觸基板34與凸緣層18，同時(shí)也接觸基座64。黏著層30延伸于凸塊16與凸緣層18之間以及凸塊16與基座64之間，同時(shí)位于凸緣層18 與基座64之間以及凸緣層18與基板34之間。黏著層30也從凸塊16側(cè)向延伸至組件的外圍邊緣。此時(shí)黏著層30已固化。黏著層30沿側(cè)面方向覆蓋且包圍凸塊16的漸縮側(cè)壁 26，且于向上方向覆蓋基座64位于凸塊16周緣外的部分，同時(shí)也于向上方向覆蓋基板34 且于向下方向覆蓋凸緣層18。黏著層30鄰接凸緣層18處具有第一厚度，而鄰接凸塊16處則具有第二厚度，其中第一厚度與第二厚度不同。若需要的話，可再新增額外的連線層。散熱座50可將設(shè)置于凸塊16上的半導(dǎo)體元件110所產(chǎn)生的熱量散出。該半導(dǎo)體元件110所產(chǎn)生的熱量流入凸塊16，并經(jīng)由凸塊16進(jìn)入基座64。熱量再由基座64沿向下散出，例如擴(kuò)散至下方的散熱裝置。圖5F為形成第二介電層261的結(jié)構(gòu)剖視圖，其中第二介電層261是設(shè)置于第一導(dǎo)線241及第一介電層211上。第二介電層261與第一介電層211 —樣，可通過各種技術(shù)沉積，其包括膜壓合、旋轉(zhuǎn)涂布、輥輪涂布及噴涂沉積法。圖5G為第二介電層261形成有第二盲孔的結(jié)構(gòu)剖視圖。第二盲孔281是穿透第二介電層沈1，并對(duì)準(zhǔn)且顯露第一導(dǎo)線對(duì)1。第二盲孔281可通過各種技術(shù)形成，其包括激光鉆孔、等離子體刻蝕及微加工工藝。圖5H為形成第二導(dǎo)線于第二介電層上的結(jié)構(gòu)剖視圖，其中第二導(dǎo)線自第二介電層261向上延伸，并于第二介電層261上側(cè)向延伸，且向下延伸進(jìn)入第二盲孔 281,以與第一導(dǎo)線241電性接觸，進(jìn)而電性連接半導(dǎo)體芯片110與凸緣層18。據(jù)此，已完成包含第一介電層211、第一導(dǎo)線Ml、第二介電層261及第二導(dǎo)線的增層電路201。圖51為防焊層301設(shè)置于第二介電層261及第二導(dǎo)線291上的結(jié)構(gòu)剖視圖。防焊層301包括顯露第二導(dǎo)線291選定部位的防焊層開孔311，以定義出端子焊墊341。防焊層開孔311可通過各種技術(shù)形成，其包括微加工工藝、激光鉆孔及等離子體刻蝕。端子焊墊 341可用于形成導(dǎo)電連接件(如焊料凸塊、錫球、接腳及其類似物)，以與外部元件或印刷電路板導(dǎo)通。圖5J為形成有多個(gè)錫球401的結(jié)構(gòu)剖視圖，其中錫球401是設(shè)置于端子焊墊341 上?？赏ㄟ^各種技術(shù)形成錫球401，其包括通過網(wǎng)印法涂上錫膏后再進(jìn)行回火工藝或通過現(xiàn)有電鍍技術(shù)。可再增加額外的連線層，直到端子焊墊341位于適當(dāng)位置。形成介電層211J61、 盲孔221，281及導(dǎo)線M1J91的各種方法都可從文獻(xiàn)中找到?！秾?shí)施例2》圖6為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板同樣具有基板，但第一介電層211與凹穴20保持距離。本實(shí)施例的半導(dǎo)體組件制作方法與實(shí)施例1所述大致相同，只是不同處在于，本實(shí)施例的固晶材料113已填滿凹穴20剩余空間。因此，固晶材料113已填滿凸塊16與半導(dǎo)體芯片110間的間隙，而第一介電層211是設(shè)置于半導(dǎo)體芯片頂面111(即作用表面)上， 并與接觸墊114、固晶材料113及凸緣層18接觸，但不接觸凸塊16且未延伸進(jìn)入凹穴20。為求簡明，凡導(dǎo)熱板101及增層電路201的相關(guān)說明適用于此實(shí)施例者均并入此處，相同的說明不予重復(fù)。同樣地，本實(shí)施例導(dǎo)熱板及增層電路的元件與導(dǎo)熱板101及增層電路201 的元件相仿者，均采對(duì)應(yīng)的元件符號(hào)?！秾?shí)施例3》圖7為本發(fā)明再一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板同樣具有基板，但第一導(dǎo)線241與凸緣層18保持距離。本實(shí)施例的半導(dǎo)體組件制作方法與實(shí)施例1所述大致相同，只是不同處在于，本實(shí)施例的第一盲孔221未顯露凸緣層18，而第一導(dǎo)線241未延伸至凸緣層18，因此未于凸緣層18上形成電性連接。為求簡明，凡導(dǎo)熱板101及增層電路201的相關(guān)說明適用于此實(shí)施例者均并入此處，相同的說明不予重復(fù)。同樣地，本實(shí)施例導(dǎo)熱板及增層電路的元件與導(dǎo)熱板101及增層電路201的元件相仿者，均采對(duì)應(yīng)的元件符號(hào)?！秾?shí)施例4》圖8為本發(fā)明又一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板102同樣具有基板，但凸緣層18與組件外圍邊緣保持距離。在本實(shí)施例中，部分凸緣層18已被移除，而凸緣層18自凸塊16側(cè)向延伸但未延伸至組件外圍邊緣。此外，第一盲孔221未顯露凸緣層18，因此未在凸緣層18上形成電性連接。為求簡明，凡導(dǎo)熱板101及增層電路201的相關(guān)說明適用于此實(shí)施例者均并入此處， 相同的說明不予重復(fù)。同樣地，本實(shí)施例導(dǎo)熱板及增層電路的元件與導(dǎo)熱板101及增層電路201的元件相仿者，均采對(duì)應(yīng)的元件符號(hào)。導(dǎo)熱板102的制作方法與實(shí)施例1中的導(dǎo)熱板101制備方法大致相同，只是不同處在于，本實(shí)施例在形成第一介電層211前先移除部分凸緣層18，而所形成的第一盲孔221 僅顯露接觸墊114但未顯露凸緣層18。據(jù)此。本實(shí)施例的第一介電層211是設(shè)置于半導(dǎo)體頂面111(即作用表面)、接觸墊114、固晶材料113、凸塊16、凸緣層18及黏著層30上，并與黏著層30接觸。《實(shí)施例5》圖9為本發(fā)明一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板103中不包含基板。本實(shí)施例是使用厚導(dǎo)電層36，且未使用基板。為求簡明，凡導(dǎo)熱板101及增層電路 201的相關(guān)說明適用于此實(shí)施例者均并入此處，相同的說明不予重復(fù)。同樣地，本實(shí)施例導(dǎo)熱板及增層電路的元件與導(dǎo)熱板101及增層電路201的元件相仿者，均采對(duì)應(yīng)的元件符號(hào)。本實(shí)施例的導(dǎo)電層36較實(shí)施例1中的導(dǎo)電層36為厚。例如，導(dǎo)電層36的厚度為 130微米(而非30微米)，如此一來便可防止導(dǎo)電層36彎曲或晃動(dòng)，而基座64也因此增厚。導(dǎo)熱板103則未使用基板。據(jù)此，基座64于鄰接凸塊16處具有第一厚度，而鄰接黏著層30處則具有大于第一厚度的第二厚度。此外，如實(shí)施例1所述，黏著層30于鄰接凸緣層 18處可具有第一厚度，而鄰接凸塊16處則可具有不同于第一厚度的第二厚度。也就是，凸緣層18與導(dǎo)電層36間垂直方向上的距離，可不同于凸塊16與導(dǎo)電層36 (視為基座64的一部分)間側(cè)面方向上的距離。另外，如實(shí)施例1所述，當(dāng)黏著層30向下延伸進(jìn)入凸塊16 與導(dǎo)電層36間的缺口時(shí)，由于凸塊16向上延伸時(shí)的尺寸呈遞增狀態(tài)因此黏著層30于鄰接凸塊16處的厚度也呈現(xiàn)遞增趨勢。導(dǎo)熱板103的制作方式與導(dǎo)熱板101類似，但必須對(duì)導(dǎo)電層36進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整。例如，先將黏著層30設(shè)置于凸緣層18上，再將導(dǎo)電層36單獨(dú)設(shè)置于黏著層30上，接著對(duì)黏著層30加熱及加壓，使黏著層30流動(dòng)并固化，最后再以研磨方式使凸塊16、黏著層30及導(dǎo)電層36的側(cè)向表面成為平面。據(jù)此，本實(shí)施例的黏著層30接觸凸塊16、基座64及凸緣層 18，并側(cè)向覆蓋、包圍且同形被覆凸塊16的漸縮側(cè)壁26?！秾?shí)施例6》圖10為本發(fā)明另一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板不含基板，且第一介電層211未延伸進(jìn)入凹穴20。本實(shí)施例的半導(dǎo)體組件制作方法與實(shí)施例5所述大致相同，只是不同處在于，本實(shí)施例的固晶材料113已填滿凸塊16與半導(dǎo)體芯片110間的間隙，因此第一介電層211是設(shè)置于半導(dǎo)體芯片頂面111(即作用表面)上，并與接觸墊114、固晶材料113及凸緣層18 接觸，但不接觸凸塊16且未延伸進(jìn)入凹穴20。為求簡明，凡導(dǎo)熱板101及增層電路201的相關(guān)說明適用于此實(shí)施例者均并入此處，相同的說明不予重復(fù)。同樣地，本實(shí)施例導(dǎo)熱板及增層電路的元件與導(dǎo)熱板101及增層電路201的元件相仿者，均采對(duì)應(yīng)的元件符號(hào)?！秾?shí)施例7》圖11為本發(fā)明再一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板不含基板，且第一導(dǎo)線 241與凸緣層18保持距離。本實(shí)施例的半導(dǎo)體組件制作方法與實(shí)施例5所述大致相同，只是不同處在于，本實(shí)施例的第一盲孔221未顯露凸緣層18，而第一導(dǎo)線241未延伸至凸緣層18，因此未于凸緣層18上形成電性連接。為求簡明，凡導(dǎo)熱板101及增層電路201的相關(guān)說明適用于此實(shí)施例者均并入此處，相同的說明不予重復(fù)。同樣地，本實(shí)施例導(dǎo)熱板及增層電路的元件與導(dǎo)熱板101及增層電路201的元件相仿者，均采對(duì)應(yīng)的元件符號(hào)。《實(shí)施例8》圖12為本發(fā)明又一實(shí)施例的半導(dǎo)體組件剖視圖，其導(dǎo)熱板104不含基板，且凸緣層18與組件外圍邊緣保持距離。在本實(shí)施例中，部分凸緣層18已被移除，因此凸緣層18自凸塊16側(cè)向延伸但未延伸至組件外圍邊緣。此外，第一盲孔221未顯露凸緣層18，因此未于凸緣層18上形成電性連接。為求簡明，凡導(dǎo)熱板101及增層電路201的相關(guān)說明適用于此實(shí)施例者均并入此處，相同的說明不予重復(fù)。同樣地，本實(shí)施例導(dǎo)熱板及增層電路的元件與導(dǎo)熱板101及增層電路201的元件相仿者，均采對(duì)應(yīng)的元件符號(hào)。導(dǎo)熱板104的制作方法與實(shí)施例5中的導(dǎo)熱板103制備方法大致相同，只是不同處在于，本實(shí)施例于形成第一介電層211前先移除部分凸緣層18，而所形成的第一盲孔221 僅顯露接觸墊114但未顯露凸緣層18。據(jù)此。本實(shí)施例的第一介電層211是設(shè)置于半導(dǎo)體頂面111(即作用表面)、接觸墊114、固晶材料113、凸塊16、凸緣層18及黏著層30上，且與凸緣層18及黏著層30接觸。上述的半導(dǎo)體組件與導(dǎo)熱板僅為說明范例，本發(fā)明尚可透過其它多種實(shí)施例實(shí)現(xiàn)。此外，上述實(shí)施例可基于設(shè)計(jì)及可靠度的考慮，彼此混合搭配使用或與其它實(shí)施例混合搭配使用。例如，基板可包括陶瓷材料或環(huán)氧類層壓體，且可嵌埋有單層導(dǎo)線或多層導(dǎo)線。 導(dǎo)熱板可包含多個(gè)凸塊，且該些凸塊是排成一陣列以供多個(gè)半導(dǎo)體元件使用。此外，增層電路為配合額外的半導(dǎo)體元件，可包含更多導(dǎo)線。
本發(fā)明的半導(dǎo)體元件可獨(dú)自使用一散熱座，或與其它半導(dǎo)體元件共享一散熱座。 例如，可將單一半導(dǎo)體元件設(shè)置于一散熱座上，或?qū)⒍鄠€(gè)半導(dǎo)體元件設(shè)置于一散熱座上。舉例而言，可將四枚排列成陣列的小型芯片黏附于凸塊，而增層電路可包括額外的導(dǎo)線以連接更多的接觸墊。相比每一芯片設(shè)置一微小凸塊，此作法更具經(jīng)濟(jì)效益。本發(fā)明的半導(dǎo)體元件可為已封裝或未封裝芯片。此外，該半導(dǎo)體元件可為裸芯片、 柵格陣列封裝(LGA)或方形扁平無引腳封裝(QFN)等?？衫枚喾N連結(jié)媒介將半導(dǎo)體元件機(jī)械性連結(jié)、電性連結(jié)及熱連結(jié)至導(dǎo)熱板，包括利用焊接及使用導(dǎo)電及/或?qū)狃ぶ鴦┑确绞竭_(dá)成。本發(fā)明的散熱座可將半導(dǎo)體元件所產(chǎn)生的熱量迅速、有效且均勻散發(fā)至下一層組件而不需使熱流通過黏著層、基板或?qū)岚宓乃帯Ｈ绱艘粊肀憧墒褂脤?dǎo)熱性較低的黏著層，進(jìn)而大幅降低成本。散熱座可包含一體成形的凸塊與凸緣層，以及與該凸塊為冶金連結(jié)及熱連結(jié)的基座，借此提高可靠度并降低成本。此外，凸塊可依半導(dǎo)體元件量身訂做，而基座則可依下一層組件量身訂做，借此加強(qiáng)自半導(dǎo)體元件至下一層組件的熱連結(jié)。例如，凸塊的底板可為正方形或矩形，以與半導(dǎo)體元件熱接點(diǎn)的形狀相同或相似。在上述任一設(shè)計(jì)中， 散熱座均可采用多種不同的導(dǎo)熱金屬結(jié)構(gòu)。散熱座可與半導(dǎo)體元件電性連結(jié)或電性分隔。例如，第一導(dǎo)線延伸進(jìn)入接觸墊及凸緣層上方的第一盲孔，以可將半導(dǎo)體元件電性連接至凸緣層及凸塊。而后，散熱座可進(jìn)一步電性接地，藉以將半導(dǎo)體元件電性接地并提供電磁屏蔽作用?；蔀樵摻M件提供重要的散熱溝槽?；谋巢靠砂蛳峦簧斓啮捚?。舉例說明，可利用鉆板機(jī)切削基座的外露側(cè)向表面以形成側(cè)向溝槽，而此等側(cè)向溝槽即形成鰭片。在此例中，基座的厚度可為500微米，前述溝槽的深度可為300微米，也即鰭片的高度可為300微米。該等鰭片可增加基座的表面積，若該等鰭片是曝露于空氣中而非設(shè)置于一散熱裝置上，則可提升基座經(jīng)由熱對(duì)流的導(dǎo)熱性?；捎陴ぶ鴮庸袒螅远喾N沉積技術(shù)制成，包括以電鍍、無電電鍍、蒸鍍及濺射等技術(shù)形成單層或多層結(jié)構(gòu)?；刹捎门c凸塊相同或不同的金屬材質(zhì)。此外，基座可跨越通孔并延伸至基板，或坐落于通孔的周緣內(nèi)。因此，基座可接觸基板或與基板保持距離。 在上述任一情況下，基座均鄰接凸塊，并自凸塊朝背向凹穴的方向垂直延伸。本發(fā)明的黏著層可在散熱座與基板之間提供堅(jiān)固的機(jī)械性連結(jié)。例如，黏著層可自凸塊側(cè)向延伸并越過導(dǎo)線，最后到達(dá)組件的外圍邊緣。黏著層可填滿散熱座與基板間的空間，且為一具有結(jié)合線均勻分布的無孔洞結(jié)構(gòu)。黏著層也可以吸收散熱座與基板之間因熱膨脹所產(chǎn)生的不匹配現(xiàn)象。黏著層的材料可與介電層相同或不同。此外，黏著層可為低成本的介電材料，其無需具備高導(dǎo)熱性。此外，本發(fā)明的黏著層不易脫層。另外，可調(diào)整黏著層的厚度，使黏著層實(shí)質(zhì)填滿所述缺口，并使幾乎所有黏著劑在固化及/或研磨后均位于結(jié)構(gòu)體內(nèi)。例如，可通過試誤法來決定理想的膠片厚度?；蹇蔀閷?dǎo)熱板提供機(jī)械性支撐。例如，基板可防止導(dǎo)熱板于金屬研磨、芯片設(shè)置及增層電路制作的過程中彎曲變形?；蹇蛇x用低成本材料，其無需具備高導(dǎo)熱性。據(jù)此， 基板可由現(xiàn)有有機(jī)材料(如環(huán)氧、玻璃-環(huán)氧、聚酰亞胺等)制成。此外，也可以使用導(dǎo)熱材料(如氧化鋁(Al2O3)、氮化鋁(AlN)、氮化硅(SiN)、硅(Si)等)作為基板材料。在此， 基板可為單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)，如層壓電路板或多層陶瓷板。據(jù)此，基板可包括額外的嵌埋式電路層?？上葘?dǎo)電層設(shè)置于基板上，再于導(dǎo)電層及基板中形成通孔，接著將導(dǎo)電層及基板設(shè)置于黏著層上，以使導(dǎo)電層于向上方向顯露，而基板則與導(dǎo)電層及黏著層接觸，并介于兩者之間，以分隔導(dǎo)電層及黏著層。此外，凸塊延伸進(jìn)入通孔，并通過通孔而朝向上方向顯露。在此例中，該導(dǎo)電層的厚度可為10至50微米，例如30微米，此厚度一方面夠厚，足以提供可靠的信號(hào)傳導(dǎo)，一方面則夠薄，有利于降低重量及成本。此外，該基板恒為導(dǎo)熱板的一部分。導(dǎo)電層可單獨(dú)設(shè)置于黏著層上。例如，可先在導(dǎo)電層上形成通孔，然后將該導(dǎo)電層設(shè)置于黏著層上，使該導(dǎo)電層接觸該黏著層并朝向上方向外露，在此同時(shí)，凸塊則延伸進(jìn)入該通孔，并透過該通孔朝向上方向外露。在此例中，該導(dǎo)電層的厚度可為100至200微米， 例如125微米，此厚度一方面夠厚，因此搬運(yùn)時(shí)不致彎曲晃動(dòng)，一方面則夠薄，因此不需過度刻蝕即可形成圖案。也可以將導(dǎo)電層與一載體同時(shí)設(shè)置于黏著層上。例如，可先利用一薄膜將導(dǎo)電層黏附于一諸如雙定向聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膠膜(Mylar)的載體，然后僅在導(dǎo)電層上形成通孔(即，不在載體上形成通孔)，接著將導(dǎo)電層及載體設(shè)置于黏著層上，使載體覆蓋導(dǎo)電層且朝向上方向外露，并使薄膜接觸且介于載體與導(dǎo)電層之間，至于導(dǎo)電層則接觸且介于薄膜與黏著層之間，在此同時(shí)，凸塊則對(duì)準(zhǔn)該通孔，并由載體從上方覆蓋。待黏著層固化后，可利用紫外光分解該薄膜，以便將載體從導(dǎo)電層上剝除，從而使導(dǎo)電層朝向上方向外露，之后便可對(duì)導(dǎo)電層進(jìn)行研磨及圖案化，以形成基座。在此例中，導(dǎo)電層的厚度可為10至50微米， 例如30微米，此厚度一方面夠厚，足以提供可靠的信號(hào)傳導(dǎo)，一方面則夠薄，可降低重量及成本；至于載體的厚度可為300至500微米，此厚度一方面夠厚，因此搬運(yùn)時(shí)不致彎曲晃動(dòng)， 一方面又夠薄，有助于減少重量及成本。該載體僅為一暫時(shí)固定物，并非永久屬于導(dǎo)熱板的一部分。增層電路可作為信號(hào)層、功率層或接地層，其端視其相應(yīng)半導(dǎo)體元件焊墊的目的而定。導(dǎo)線也可以包含各種導(dǎo)電金屬，例如銅、金、鎳、銀、鈀、錫、其混合物及其合金。理想的組成既取決于外部連結(jié)媒介的性質(zhì)，也取決于設(shè)計(jì)及可靠度方面的考慮。此外，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)可了解，在本發(fā)明半導(dǎo)體組件中所用的銅可為純銅，但通常是以銅為主的合金，如銅-鋯(99.9%銅)、銅-銀-磷-鎂(99.7%銅)及銅-錫-鐵-磷(99.7%銅)，藉以提高如抗張強(qiáng)度與延展性等機(jī)械性能。在一般情況下，最好設(shè)有所述的基板、被覆層及防焊層，但在某些實(shí)施例中則可省略。例如，若需使用厚導(dǎo)電層，則可省去基板，以降低成本。本發(fā)明導(dǎo)熱板的作業(yè)格式可為單一或多個(gè)導(dǎo)熱板，端視制造設(shè)計(jì)而定。例如，可個(gè)別制作單一導(dǎo)熱板?；蛘?，可利用單一金屬板、單一黏著層、單一基板及單一被覆層同時(shí)批次制造多個(gè)導(dǎo)熱板，而后再行分離。同樣地，針對(duì)同一批次中的各導(dǎo)熱板，也可以利用單一金屬板、單一黏著層、單一基板及單一被覆層同時(shí)批次制造多組分別供單一半導(dǎo)體元件使用的散熱座與導(dǎo)線。例如，可在一金屬板上沖壓出多個(gè)凸塊；而后將具有對(duì)應(yīng)該等凸塊的開口的未固化黏著層設(shè)置于凸緣層上，使每一凸塊均延伸貫穿其對(duì)應(yīng)開口 ；然后將基板(其具有對(duì)應(yīng)該等凸塊的通孔)設(shè)置于黏著層上，使每一凸塊均延伸貫穿其對(duì)應(yīng)開口并進(jìn)入對(duì)應(yīng)通孔；而后利用壓臺(tái)將凸緣層與該基板彼此靠合，迫使黏著層進(jìn)入該等通孔內(nèi)介于該等凸塊與基板間的缺口 ；然后固化黏著層，繼而研磨該等凸塊、黏著層及導(dǎo)電層以形成一側(cè)向表面。本發(fā)明半導(dǎo)體組件的作業(yè)格式可為單一組件或多個(gè)組件，其取決于制造設(shè)計(jì)。例如，可單獨(dú)制造單一組件，或者，可同時(shí)批次制造多個(gè)組件，之后再將各導(dǎo)熱板一一分離。同樣地，也可以將多個(gè)半導(dǎo)體元件電性連結(jié)、熱連結(jié)及機(jī)械性連結(jié)至批次量產(chǎn)中的每一導(dǎo)熱板?？赏高^單一步驟或多道步驟使各導(dǎo)熱板彼此分離。例如，可將多個(gè)導(dǎo)熱板批次制成一平板，接著將多個(gè)半導(dǎo)體元件設(shè)置于該平板上，然后再將該平板所構(gòu)成的多個(gè)半導(dǎo)體組件一一分離。或者，可將多個(gè)導(dǎo)熱板批次制成一平板，而后將該平板所構(gòu)成的多個(gè)導(dǎo)熱板分切為多個(gè)導(dǎo)熱板條，接著將多個(gè)半導(dǎo)體元件分別設(shè)置于該等導(dǎo)熱板條上，最后再將各導(dǎo)熱板條所構(gòu)成的多個(gè)半導(dǎo)體組件分離為個(gè)體。此外，在分割導(dǎo)熱板時(shí)可利用機(jī)械切割、激光切割、分劈或其它適用技術(shù)。在本文中，「鄰接」一詞意指元件是一體成形(形成單一個(gè)體)或相互接觸(彼此無間隔或未隔開)。例如，凸塊鄰接基座與凸緣層，但并未鄰接基板?！钢丿B」一詞意指位于上方并延伸于一下方元件的周緣內(nèi)?！钢丿B」包含延伸于該周緣的內(nèi)、外或坐落于該周緣內(nèi)。例如，在凹穴朝上的狀態(tài)下，本發(fā)明的半導(dǎo)體元件是重疊于凸塊，此乃因一假想垂直線可同時(shí)貫穿該半導(dǎo)體元件與該凸塊，不論半導(dǎo)體元件與凸塊之間是否存有另一同樣被該假想垂直線貫穿的元件(如固晶材料)，且也不論是否有另一假想垂直線僅貫穿凸塊而未貫穿半導(dǎo)體元件(也就是位于半導(dǎo)體元件的周緣外)。同樣地， 凸塊是重疊于基座，凸緣層是重疊于黏著層，且基座被凸塊重疊。此外，「重疊」與「位于上方」同義，「被重疊」則與「位于下方」同義?！附佑|」一詞意指直接接觸。例如，基板接觸基座但并未接觸凸塊。「覆蓋」一詞意指于垂直及/或側(cè)面方向上完全覆蓋。例如，在凹穴朝上的狀態(tài)下， 若基座側(cè)向延伸超出通孔外且接觸基板，則該基座是從下方覆蓋凸塊，但該凸塊并未從上方覆蓋該基座?！笇印棺职瑘D案化及未圖案化的層體。例如，當(dāng)層壓結(jié)構(gòu)體包括導(dǎo)電層且基板設(shè)置于黏著層上時(shí)，導(dǎo)電層可為基板上一空自未圖案化的平板；而當(dāng)半導(dǎo)體元件設(shè)置于散熱座上之后，第一導(dǎo)電層可為第一介電層上具有間隔導(dǎo)線的電路圖案。此外，「層」可包含多
層迭合層ο「開口」、「通孔」與「穿孔」等詞同指貫穿孔洞。例如，凹穴朝下的狀態(tài)下，凸塊插入黏著層的開口后，其是朝向上方向從黏著層中露出。同樣地，凸塊插入層壓結(jié)構(gòu)的通孔后， 其是朝向上方向從層壓結(jié)構(gòu)中露出。「插入」一詞意指元件間的相對(duì)移動(dòng)。例如，「將凸塊插入通孔中」包含凸緣層固定不動(dòng)而由基板朝凸緣層移動(dòng)；基板固定不動(dòng)而由凸緣層朝基板移動(dòng)；以及凸緣層與基板兩者彼此靠合。又例如，「將凸塊插入(或延伸至)通孔內(nèi)」包含凸塊貫穿(穿入并穿出) 通孔；以及凸塊插入但未貫穿(穿入但未穿出)通孔。「彼此靠合」一短語意指元件間的相對(duì)移動(dòng)。例如，「凸緣層與基板彼此靠合」包含 凸緣層固定不動(dòng)而由基板朝凸緣層移動(dòng)；基板固定不動(dòng)而由凸緣層朝基板移動(dòng)；以及凸緣層與基板相互靠近。
「對(duì)準(zhǔn)」一詞意指元件間的相對(duì)位置。例如，當(dāng)黏著層已設(shè)置于凸緣層上、基板及導(dǎo)電層已設(shè)置于黏著層上、凸塊已插入并對(duì)準(zhǔn)開口且通孔已對(duì)準(zhǔn)開口時(shí)，無論凸塊是插入通孔或位于通孔下方且與其保持距離，凸塊均已對(duì)準(zhǔn)通孔?！冈O(shè)置于」一短語包含與單一或多個(gè)支撐元件間的接觸與非接觸。例如，一半導(dǎo)體元件是設(shè)置于凸塊上，不論此半導(dǎo)體元件是實(shí)際接觸該凸塊或與該凸塊以一固晶材料相隔?！葛ぶ鴮佑谌笨趦?nèi)...」一短語意指位于缺口中的黏著層。例如，「黏著層在缺口內(nèi)延伸跨越基板」意指缺口內(nèi)的黏著層延伸跨越基板。同樣地，「黏著層于缺口內(nèi)接觸且介于凸塊與基板之間」意指缺口中的黏著層接觸且介于缺口內(nèi)側(cè)壁的凸塊與缺口外側(cè)壁的基板之間?！富酝箟K側(cè)向延伸」一短語意指基座于鄰接凸塊處側(cè)向延伸而出。例如，在凹穴朝上的狀態(tài)下，基座自凸塊側(cè)向延伸并因而接觸黏著層，此與基座是否側(cè)向延伸至凸塊夕卜、側(cè)向延伸至凸緣層或從下方覆蓋凸塊無關(guān)。同樣地，若基座與凸塊于凸塊底板處占據(jù)相同的空間范圍，則基座并未側(cè)向延伸超過凸塊?！鸽娦赃B接(或連結(jié))」一詞意指直接或間接電性連接(或連結(jié))。例如，半導(dǎo)體元件的接觸墊鄰接且電性連接至第一導(dǎo)線，同時(shí)與第二導(dǎo)線保持距離，且通過第一導(dǎo)線而電性連接至第二導(dǎo)線。「上方」一詞意指向上延伸，且包含鄰接與非鄰接元件以及重疊與非重疊元件。例如，在凹穴朝上的狀態(tài)下，凸塊是延伸于基座上方，同時(shí)鄰接、重疊于基座并自基座突伸而出ο「下方」一詞意指向下延伸，且包含鄰接與非鄰接元件以及重疊與非重疊元件。例如，在凹穴朝上的狀態(tài)下，基座是延伸于凸塊下方，鄰接凸塊，被凸塊重疊，并自凸塊向下突伸而出。同樣地，凸塊即使并未鄰接基板或被基板重疊，其仍可延伸于基板下方?！傅谝淮怪狈较颉辜啊傅诙怪狈较颉共⒎侨Q于半導(dǎo)體組件(或?qū)岚?的定向， 凡本領(lǐng)域技術(shù)人員即可輕易了解其實(shí)際所指的方向。例如，凸塊是朝第一垂直方向垂直延伸至基座外，并朝第二垂直方向垂直延伸至凸緣層外，此與組件是否倒置及/或組件是否是設(shè)置于一散熱裝置上無關(guān)。同樣地，凸緣層是沿一側(cè)向平面自凸塊「側(cè)向」伸出，此與組件是否倒置、旋轉(zhuǎn)或傾斜無關(guān)。因此，該第一及第二垂直方向是彼此相對(duì)且垂直于側(cè)面方向， 此外，側(cè)向?qū)R的元件是在垂直于第一與第二垂直方向的側(cè)向平面上彼此共平面。此外，當(dāng)凹穴向上時(shí)，第一垂直方向?yàn)橄蛏戏较?，第二垂直方向?yàn)橄蛳路较?；?dāng)凹穴向下時(shí)，第一垂直方向?yàn)橄蛳路较?，第二垂直方向?yàn)橄蛏戏较?。本發(fā)明的半導(dǎo)體組件具有多項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)。該組件的可靠度高、價(jià)格實(shí)惠且極適合量產(chǎn)。 該組件尤其適用于易產(chǎn)生高熱且需優(yōu)異散熱效果方可有效及可靠運(yùn)作的高功率半導(dǎo)體元件、大型半導(dǎo)體芯片以及多個(gè)半導(dǎo)體元件(例如以陣列方式排列的多枚小型半導(dǎo)體芯片)。本發(fā)明的制作方法具有高度適用性，且是以獨(dú)特、進(jìn)步的方式結(jié)合運(yùn)用各種成熟的電性連結(jié)、熱連結(jié)及機(jī)械性連結(jié)技術(shù)。此外，本發(fā)明的制作方法不需昂貴工具即可實(shí)施。 因此，相比于傳統(tǒng)封裝技術(shù)，此制作方法可大幅提升產(chǎn)量、合格率、效率與成本效益。此外， 本發(fā)明的組件極適合于銅芯片及無鉛的環(huán)保要求。在此所述的實(shí)施例是為例示之用，其中該些實(shí)施例可能會(huì)簡化或省略本技術(shù)領(lǐng)域已熟知的元件或步驟，以免模糊本發(fā)明的特點(diǎn)。同樣地，為使附圖清晰，附圖也可能省略重復(fù)或非必要的元件及元件符號(hào)。 本領(lǐng)域技術(shù)人員針對(duì)本文所述的實(shí)施例可以輕易得出各種變化及修改的方式。例如，前述的材料、尺寸、形狀、大小、步驟的內(nèi)容與步驟的順序都僅為范例。本領(lǐng)域技術(shù)人員可在不悖離如隨附權(quán)利要求書所定義的本發(fā)明精神與范疇的條件下，進(jìn)行變化、調(diào)整與等同替換。
權(quán)利要求
1.一種散熱增益型半導(dǎo)體組件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟提供一凸塊、一凸緣層、一黏著層及一具有通孔的導(dǎo)電層，其中該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且在相反于該第一垂直方向的第二垂直方向上覆蓋該凹穴，同時(shí)該凸塊鄰接該凸緣層并與該凸緣層一體成形，且自該凸緣層朝該第二垂直方向延伸，而該凸緣層則自該凸塊朝垂直于該第一及第二垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸；然后通過該黏著層將該凸緣層及該凸塊黏附至該導(dǎo)電層，其中該黏著層介于該凸緣層與該導(dǎo)電層之間及該凸塊與該導(dǎo)電層之間，此步驟包括將該凸塊對(duì)準(zhǔn)該通孔；然后將包含一接觸墊的一半導(dǎo)體元件設(shè)置于該凸塊上且位于該凹穴處；以及提供一增層電路及一基座，其中該增層電路自該半導(dǎo)體元件及該凸緣層朝該第一垂直方向延伸，且電性連接至該半導(dǎo)體元件，而該基座在該第二垂直方向上覆蓋并鄰接該凸塊， 且自該凸塊側(cè)向延伸，同時(shí)該基座包括鄰接該通孔且與該凸塊保持距離的該導(dǎo)電層部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，提供該凸塊的步驟包括對(duì)一金屬板進(jìn)行機(jī)械沖壓。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，將該凸緣層及該凸塊黏附至該導(dǎo)電層的步驟包括將未固化的該黏著層設(shè)置于該凸緣層上，此步驟包括將該凸塊對(duì)準(zhǔn)該黏著層的一開Π ；將該導(dǎo)電層設(shè)置于該黏著層上，此步驟包括將該凸塊對(duì)準(zhǔn)該導(dǎo)電層的該通孔，其中該黏著層位于該凸緣層與該導(dǎo)電層之間；然后使該黏著層流入該通孔內(nèi)介于該凸塊與該導(dǎo)電層間的一缺口 ；以及固化該黏著層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，使該黏著層流入該缺口的步驟包括加熱熔化該黏著層，并使該凸緣層及該導(dǎo)電層彼此靠合，借此使該凸塊在該通孔中朝該第二垂直方向移動(dòng)，并對(duì)該凸緣層與該導(dǎo)電層間的該熔化黏著層施加壓力，其中該壓力迫使該熔化黏著層朝該第二垂直方向流入該通孔內(nèi)介于該凸塊與該導(dǎo)電層間的該缺口 ；且固化該黏著層的步驟包括加熱固化該熔化黏著層，借此將該凸塊及該凸緣層機(jī)械性黏附至該導(dǎo)電層。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于， 提供該黏著層的步驟包括提供一未固化環(huán)氧樹脂的膠片；使該黏著層流入該缺口的步驟包括熔化該未固化環(huán)氧樹脂，并擠壓該凸緣層與該導(dǎo)電層間的該未固化環(huán)氧樹脂；且固化該黏著層的步驟包括固化該未固化環(huán)氧樹脂。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，使該黏著層流入該缺口的步驟包括 使該黏著層填滿該缺口，并迫使該黏著層朝該第二垂直方向超出該凸塊及該導(dǎo)電層，以使該黏著層接觸該凸塊與該導(dǎo)電層面向該第二垂直方向的表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，設(shè)置該導(dǎo)電層的步驟包括將該導(dǎo)電層單獨(dú)設(shè)置于該黏著層上，以使該導(dǎo)電層接觸該黏著層，而該通孔僅延伸貫穿該導(dǎo)電層。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，設(shè)置該導(dǎo)電層的步驟包括將一層壓結(jié)構(gòu)設(shè)置于該黏著層上，其中該層壓結(jié)構(gòu)包括該導(dǎo)電層及一基板，以使該基板接觸并介于該導(dǎo)電層與該黏著層之間，該導(dǎo)電層則與該黏著層保持距離，且該通孔延伸貫穿該導(dǎo)電層及該基板。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，提供該增層電路的步驟包括提供一介電層于該半導(dǎo)體元件及該凸緣層上，其中該介電層自該半導(dǎo)體元件及該凸緣層朝該第一垂直方向延伸，且該介電層包括一對(duì)準(zhǔn)該接觸墊的盲孔；以及提供一導(dǎo)線于該介電層上，其中該導(dǎo)線自該介電層朝該第一垂直方向延伸，并于該介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝該第二垂直方向穿過該盲孔而延伸至該接觸墊，以使該半導(dǎo)體元件電性連接至該導(dǎo)線。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，提供該導(dǎo)線的步驟包括沉積一被覆層于該介電層上，且該被覆層穿過該盲孔而延伸至該接觸墊然后再使用一定義該導(dǎo)線的掩模層，以移除該被覆層的選定部位。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，提供該基座的步驟包括研磨該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層，使該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層在面朝該第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后沉積一被覆層于該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層上，其中該被覆層在該第二垂直方向上覆蓋該凸塊，并自該凸塊側(cè)向延伸至該導(dǎo)電層。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，提供該導(dǎo)線及該基座的步驟包括 同時(shí)沉積一第一被覆層于該介電層上及一第二被覆層于該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層上。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，提供該介電層、該導(dǎo)線及該基座的步驟包括研磨該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層，使該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層在面朝該第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后形成該介電層于該半導(dǎo)體元件及該凸緣層上；然后形成該盲孔于該介電層中；然后沉積一第一被覆層于該介電層上，其中該第一被覆層穿過該盲孔而延伸至該接觸墊； 沉積一第二被覆層于該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層上，其中該第二被覆層在該第二垂直方向上覆蓋該凸塊；然后形成一定義該導(dǎo)線的掩模層于該第一被覆層上； 刻蝕該第一被覆層以形成該掩模層所定義的圖案；然后移除該掩模層。
14.一種散熱增益型半導(dǎo)體組件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟提供一凸塊、一凸緣層、一黏著層及一具有通孔的基板，其中該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且在相反于該第一垂直方向的第二垂直方向上覆蓋該凹穴，同時(shí)該凸塊鄰接該凸緣層并與該凸緣層一體成形，且自該凸緣層朝該第二垂直方向延伸，而該凸緣層則自該凸塊朝垂直于該第一及第二垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸；然后通過該黏著層將該凸緣層及該凸塊黏附至該基板，其中該黏著層介于該凸緣層與該基板之間及該凸塊與該基板之間，此步驟包括將該凸塊對(duì)準(zhǔn)該通孔；然后將包含一接觸墊的一半導(dǎo)體元件設(shè)置于該凸塊上且位于該凹穴處；以及提供一增層電路及一基座，其中該增層電路自該半導(dǎo)體元件及該凸緣層朝該第一垂直方向延伸，且電性連接至該半導(dǎo)體元件，而該基座在該第二垂直方向上覆蓋并鄰接該凸塊， 且自該凸塊側(cè)向延伸。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制備方法，其特征在于，提供該凸塊的步驟包括對(duì)一金屬板進(jìn)行機(jī)械沖壓。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制備方法，其特征在于，將該凸緣層及該凸塊黏附至該基板的步驟包括將未固化的該黏著層設(shè)置于該凸緣層上，此步驟包括將該凸塊對(duì)準(zhǔn)該黏著層的一開Π ；將該基板設(shè)置于該黏著層上，此步驟包括將該凸塊對(duì)準(zhǔn)該基板的該通孔，其中該黏著層位于該凸緣層與該基板之間；然后使該黏著層流入該通孔內(nèi)介于該凸塊與該基板間的一缺口 ；以及固化該黏著層。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的制備方法，其特征在于，使該黏著層流入該缺口的步驟包括加熱熔化該黏著層，并使該凸緣層及該基板彼此靠合，借此使該凸塊在該通孔中朝該第二垂直方向移動(dòng)，并對(duì)該凸緣層與該基板間的該熔化黏著層施加壓力，其中該壓力迫使該熔化黏著層朝該第二垂直方向流入該通孔內(nèi)介于該凸塊與該基板間的該缺口 ；且固化該黏著層的步驟包括加熱固化該熔化黏著層，借此將該凸塊及該凸緣層機(jī)械性黏附至該基板。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的制備方法，其特征在于，提供該黏著層的步驟包括提供一未固化環(huán)氧樹脂的膠片；使該黏著層流入該缺口的步驟包括熔化該未固化環(huán)氧樹脂，并擠壓該凸緣層與該基板間的該未固化環(huán)氧樹脂；且固化該黏著層的步驟包括固化該未固化環(huán)氧樹脂。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的制備方法，其特征在于，設(shè)置該基板的步驟包括將一層壓結(jié)構(gòu)設(shè)置于該黏著層上，其中該層壓結(jié)構(gòu)包括該基板及一導(dǎo)電層，以使該基板接觸并介于該導(dǎo)電層與該黏著層之間，該導(dǎo)電層則與該黏著層保持距離，同時(shí)該通孔延伸貫穿該導(dǎo)電層及該基板，且該基座包括該導(dǎo)電層部分。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的制備方法，其特征在于，使該黏著層流入該缺口的步驟包括使該黏著層填滿該缺口，并迫使該黏著層朝該第二垂直方向超出該凸塊及該導(dǎo)電層，以使該黏著層接觸該凸塊與該導(dǎo)電層面向該第二垂直方向的表面。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的制備方法，其特征在于，提供該增層電路的步驟包括提供一介電層于該半導(dǎo)體元件及該凸緣層上，其中該介電層自該半導(dǎo)體元件及該凸緣層朝該第一垂直方向延伸，且該介電層包括一對(duì)準(zhǔn)該接觸墊的盲孔；以及提供一導(dǎo)線于該介電層上，其中該導(dǎo)線自該介電層朝該第一垂直方向延伸，并于該介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝該第二垂直方向穿過該盲孔而延伸至該接觸墊，以使該半導(dǎo)體元件電性連接至該導(dǎo)線。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的制備方法，其特征在于，提供該導(dǎo)線的步驟包括沉積一被覆層于該介電層上，且該被覆層穿過該盲孔而延伸至該接觸墊，然后再使用一定義該導(dǎo)線的掩模層，以移除該被覆層的選定部位。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的制備方法，其特征在于，提供該基座的步驟包括研磨該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層，使該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層在面朝該第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后沉積一被覆層于該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層上，其中該被覆層在該第二垂直方向上覆蓋該凸塊，并自該凸塊側(cè)向延伸至該導(dǎo)電層。
24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的制備方法，其特征在于，提供該導(dǎo)線及該基座的步驟包括 同時(shí)沉積一第一被覆層于該介電層上及一第二被覆層于該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層上。
25.根據(jù)權(quán)利要求21所述的制備方法，其特征在于，提供該介電層、該導(dǎo)線及該基座的步驟包括研磨該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層，使該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層在面朝該第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后形成該介電層于該半導(dǎo)體元件及該凸緣層上；然后形成該盲孔于該介電層中；然后沉積一第一被覆層于該介電層上，其中該第一被覆層穿過該盲孔而延伸至該接觸墊； 沉積一第二被覆層于該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層上，其中該第二被覆層在該第二垂直方向上覆蓋該凸塊；然后形成一定義該導(dǎo)線的掩模層于該第一被覆層上； 刻蝕該第一被覆層以形成該掩模層所定義的圖案；然后移除該掩模層。
26.一種散熱增益型半導(dǎo)體組件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟提供一凸塊及一凸緣層，其中該凸塊定義出面朝第一垂直方向的一凹穴，且該凸塊鄰接該凸緣層并與該凸緣層一體成形，同時(shí)該凸塊自該凸緣層朝與該第一垂直方向相反的第二垂直方向垂直延伸，而該凸緣層則自該凸塊朝垂直于該第一及第二垂直方向的側(cè)面方向側(cè)向延伸，且該凹穴在該第二垂直方向上是由該凸塊覆蓋； 提供一黏著層，其中一開口延伸貫穿該黏著層；提供一層壓結(jié)構(gòu)，其包括一導(dǎo)電層及一基板，且一通孔延伸貫穿該層壓結(jié)構(gòu)； 將該黏著層設(shè)置于該凸緣層上，此步驟包括將該凸塊插入該開孔； 將該層壓結(jié)構(gòu)設(shè)置于該黏著層上，此步驟包括將該凸塊插入該通孔，其中該基板接觸并介于該導(dǎo)電層與該黏著層之間，該導(dǎo)電層則與該黏著層保持距離，而該黏著層接觸并介于該凸緣層與該基板之間且未固化；然后加熱熔化該黏著層；使該凸緣層及該層壓結(jié)構(gòu)彼此靠合，借此使該凸塊于該通孔中朝該第二垂直方向移動(dòng)，并對(duì)該凸緣層與該層壓結(jié)構(gòu)間的該熔化黏著層施加壓力，其中該壓力迫使該熔化黏著層朝該第二垂直方向流入該通孔內(nèi)介于該凸塊與該層壓結(jié)構(gòu)間的一缺口；加熱固化該熔化黏著層，借此將該凸塊與該凸緣層機(jī)械性黏附至該導(dǎo)電層及該基板；然后研磨該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層，使該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層在面朝該第二垂直方向的一側(cè)向表面上彼此側(cè)向?qū)R；然后使用一固晶材料，將包含一接觸墊的一半導(dǎo)體元件設(shè)置于該凸塊上，借此將該半導(dǎo)體元件機(jī)械黏附且熱連結(jié)至該凸塊，其中該半導(dǎo)體元件延伸進(jìn)入該凹穴，而該凸塊為該半導(dǎo)體元件提供一凹形晶粒座；然后形成一介電層于該半導(dǎo)體元件及該凸緣層上，其中該介電層自該半導(dǎo)體元件及該凸緣層朝該第一垂直方向延伸，并延伸進(jìn)入且填滿該凹穴的剩余空間；然后形成一盲孔，其延伸貫穿該介電層，且對(duì)準(zhǔn)顯露該接觸墊；然后沉積一第一被覆層于該介電層上，并移除該第一被覆層的選定部位，以形成一掩模層所定義的圖案，其中一導(dǎo)線包括該第一被覆層的選定部位，其自該介電層朝該第一垂直方向延伸，并于該介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝該第二垂直方向穿過該盲孔而延伸至該接觸墊， 借此將該半導(dǎo)體元件電性連接至該導(dǎo)線；沉積一第二被覆層于該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層上，其中一基座鄰接該凸塊，并自該凸塊朝該第二垂直方向延伸，且在該第二垂直方向覆蓋該凸塊，同時(shí)該基座自該凸塊側(cè)向延伸，并包括鄰接該基板且與該凸塊保持距離的該導(dǎo)電層部分，同時(shí)包括鄰接該凸塊、該黏著層及該導(dǎo)電層且在該第二垂直方向覆蓋該凸塊的該第二被覆層部分；以及提供一散熱座，其包括該凸塊、該基座及該凸緣層，其中該半導(dǎo)體元件通過該凸塊熱連結(jié)至該基座。
27.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，提供該凸塊的步驟包括對(duì)一金屬板進(jìn)行機(jī)械沖壓，以在該金屬板上形成該凸塊以及在該凸塊中形成該凹穴，該凸塊是該金屬板上一受沖壓的部分，而該凸緣層則為該金屬板上一未受沖壓的部分。
28.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于， 提供該黏著層的步驟包括提供一未固化環(huán)氧樹脂的膠片；使該黏著層流入該缺口的步驟包括熔化該未固化環(huán)氧樹脂，并擠壓該凸緣層與該基板間的該未固化環(huán)氧樹脂；且固化該黏著層的步驟包括固化該未固化環(huán)氧樹脂。
29.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，使該黏著層流入該缺口的步驟包括使該黏著層填滿該缺口，并迫使該黏著層朝該第二垂直方向超出該凸塊及該導(dǎo)電層，以使該黏著層接觸該凸塊與該導(dǎo)電層面向該第二垂直方向的表面。
30.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，包括通過無電電鍍法及電解電鍍法，同時(shí)沉積該第一被覆層及該第二被覆層。
31.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，在固化該黏著層后且設(shè)置該半導(dǎo)體元件前，該制備方法還包括一步驟移除與該凸塊保持距離的該凸緣層選定部分，然后形成該介電層于該半導(dǎo)體元件、該凸塊、該凸緣層及該黏著層上并與之接觸，且該黏著層分隔該介電層與該基板。
32.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，包括形成該介電層于該半導(dǎo)體元件、該凸塊及該凸緣層上并與之接觸，且該凸緣層分隔該介電層與該黏著層。
33.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，包括 形成另一盲孔，其延伸貫穿該介電層，且對(duì)準(zhǔn)顯露該凸緣層；然后提供具有該第一被覆層一選定部位的該導(dǎo)線，其朝該第二垂直方向穿過該另一盲孔而延伸至該凸緣層，借此將該凸緣層電性連接至該導(dǎo)線。
34.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，包括 形成另一盲孔，其延伸貫穿該介電層，且對(duì)準(zhǔn)顯露該凸緣層；然后提供另一導(dǎo)線，其包括該第一被覆層的一選定部位，其中該選定部位自該介電層朝該第一垂直方向延伸，并于該介電層上側(cè)向延伸，且朝該第二垂直方向穿過該另一盲孔而延伸至該凸緣層，借此將該凸緣層電性連接至該另一導(dǎo)線。
35.根據(jù)權(quán)利要求沈所述的制備方法，其特征在于，還包括形成一第二介電層于該介電層及該導(dǎo)線上，其中該第二介電層自該介電層及該導(dǎo)線朝該第一垂直方向延伸，且與該半導(dǎo)體元件、該凸緣層及該凹穴保持距離；然后形成一第二盲孔，其延伸貫穿該第二介電層，且對(duì)準(zhǔn)顯露該導(dǎo)線；然后形成一第二導(dǎo)線，其自該第二介電層朝該第一垂直方向延伸，并于該第二介電層上側(cè)向延伸，同時(shí)朝該第二垂直方向穿過該第二盲孔而延伸至該導(dǎo)線，借此將該導(dǎo)線電性連接至該第二導(dǎo)線。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體組件的制備方法，其中該組件包括半導(dǎo)體元件、散熱座、黏著層及增層電路。該散熱座包括一凸塊、一基座及一凸緣層。該凸塊定義出一凹穴。該半導(dǎo)體元件設(shè)置于凸塊上且位于凹穴處，并電性連接至該增層電路，并與凸塊熱連結(jié)。該凸塊自基座延伸進(jìn)入黏著層的開口，且該基座自凸塊朝相反于凹穴的方向垂直延伸，同時(shí)該凸緣層于凹穴入口處自凸塊側(cè)向延伸。該增層電路包括一介電層及導(dǎo)線，其是位于半導(dǎo)體元件及凸緣層上。該導(dǎo)線可提供半導(dǎo)體元件的信號(hào)路由。本發(fā)明具有多項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)，其散熱座可提供優(yōu)異的散熱效果，并使熱量不流經(jīng)該黏著層。
文檔編號(hào)H01L21/48GK102479725SQ201110378910
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2011年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月22日
發(fā)明者林文強(qiáng), 王家忠 申請(qǐng)人:鈺橋半導(dǎo)體股份有限公司