專利名稱：預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，更詳細(xì)涉及用于對(duì)搬送到曝光裝置的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法。
背景技術(shù)：
圖9是表示將玻璃基板曝光時(shí)的步驟的一例。首先，洗凈的玻璃基板由涂料器 101被涂敷上抗蝕劑，在搬送過程中由熱板102 (HP)加溫而使抗蝕劑干燥之后，由冷凝板 103 (CP)消除余熱。然后，由搬送用機(jī)器人104搬送到精密溫度調(diào)整裝置105，以對(duì)基板進(jìn)行冷卻調(diào)溫。接著，由搬送用機(jī)器人106將基板搬送到異物檢查機(jī)107，并檢查是否存在異物。再接著，由搬送用機(jī)器人106將不存在異物的基板搬送到預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置108，并進(jìn)行基板的預(yù)對(duì)準(zhǔn)。預(yù)對(duì)準(zhǔn)后的基板由搬送用機(jī)器人109搬送到曝光裝置本體110，從而掩膜M的圖案被曝光轉(zhuǎn)印。曝光后的基板由搬送用機(jī)器人10傳送到下游的輸送機(jī)111，而輸送到下一工序。并且，作為曝光前對(duì)基板進(jìn)行溫度調(diào)整的裝置，提出了各種裝置(例如參照專利文獻(xiàn)1以及幻。專利文獻(xiàn)1所述的曝光裝置具有搬送玻璃基板的一對(duì)載物臺(tái)裝置，設(shè)有進(jìn)行玻璃基板的曝光的曝光位置和在所述位置左右對(duì)載物臺(tái)裝置進(jìn)行加載/卸載玻璃基板的一對(duì)加載/卸載位置。并且，公開了如下構(gòu)成在一臺(tái)載物臺(tái)裝置曝光的期間，另一臺(tái)載物臺(tái)裝置對(duì)基板進(jìn)行溫度調(diào)整。并且，專利文獻(xiàn)2所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置使晶片旋轉(zhuǎn)以進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)的同時(shí)，將光從晶片的下表面照射出以加熱晶片。并且，在專利文獻(xiàn)3中公開了如下的構(gòu)成作為在接近曝光前檢測(cè)出基板的異物的裝置，將用于進(jìn)行異物檢測(cè)的載置臺(tái)作為預(yù)對(duì)準(zhǔn)載物臺(tái)或溫度調(diào)整功能板，并且，作為異物檢測(cè)裝置具有多個(gè)激光照射部、對(duì)異物的散射光進(jìn)行攝像的多個(gè)攝像機(jī)構(gòu)以及圖像處理部。專利文獻(xiàn)1 日本專利第402(^61號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2005_3四06號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 日本特開2007-40862號(hào)公報(bào)但是，在如圖9所示的單元中，由于分別配置有精密溫度調(diào)整裝置105、異物檢查機(jī)107以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置108，因而需要依次進(jìn)行基板的溫度調(diào)整、異物檢查和預(yù)對(duì)準(zhǔn)，并發(fā)生管道(阻力)損失，并且，還需要多個(gè)搬送用機(jī)器人104、106、109，從而導(dǎo)致單元整體變得大型化。并且，在專利文獻(xiàn)1所述的曝光裝置中，如果一臺(tái)載物臺(tái)裝置的曝光時(shí)間與另一臺(tái)載物臺(tái)裝置的溫度調(diào)整時(shí)間發(fā)生時(shí)間差，就會(huì)出現(xiàn)發(fā)生管道損失的問題。并且，專利文獻(xiàn) 2所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置是在通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)對(duì)晶片進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)時(shí)進(jìn)行溫度調(diào)整的，而不同于對(duì)制造平板顯示器時(shí)所用的母體玻璃那種基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)的裝置
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于所述問題而作出的，其目的在于提供一種能夠使曝光單元整體變得小型化，并且縮短生產(chǎn)節(jié)拍(tact time)時(shí)間的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法。
通過下述構(gòu)成實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的所述目的。(1) 一種預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，用于對(duì)搬送到曝光裝置的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，其特征在于，具有基板保存部，其用于載置所述基板；基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其沿預(yù)定方向以及與該預(yù)定方向正交的方向驅(qū)動(dòng)所述基板保存部，并且繞與所述方向正交的軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；以及基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)，其對(duì)載置在所述基板保存部上的基板進(jìn)行溫度調(diào)整。(2)根據(jù)(1)項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，還具有用于檢測(cè)出載置在所述基板保存部上的基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)。(3) 一種預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，用于對(duì)搬送到曝光裝置的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，其特征在于，具有基板保存部，其用于載置所述基板；基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其沿預(yù)定方向以及與該預(yù)定方向正交的方向驅(qū)動(dòng)所述基板保存部，并且繞與所述方向正交的軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)； 以及異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)，其用于檢測(cè)出載置在所述基板保存部上的基板的異物。(4)根據(jù)( 或( 項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)具有多個(gè)攝像機(jī)，其配置在所述基板保存部的上方，沿所述預(yù)定方向配置成直線狀；和光源，其向該攝像機(jī)所攝像的基板的位置照射光。(5)根據(jù)(4)項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)還具有用于向所述正交方向搬送所述多個(gè)攝像機(jī)和所述光源的搬送機(jī)構(gòu)。(6)根據(jù)(4)項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述多個(gè)攝像機(jī)和所述光源沿所述正交方向配置在靠近搬送用機(jī)器人的位置，所述搬送用機(jī)器人用于向所述基板保存部傳遞所述基板。(7)根據(jù)( 或( 項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)具有分別配置在所述預(yù)定方向上的所述基板保存部的側(cè)方激光投光器和激光受光器。(8)根據(jù)(7)項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)還具有向所述正交方向搬送所述激光投光器和激光受光器的搬送機(jī)構(gòu)。(9)根據(jù)(7)項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述激光投光器和激光受光器沿所述基板保存部的正交方向配置在靠近搬送用機(jī)器人的位置，所述搬送用機(jī)器人用于向所述基板保存部傳遞所述基板。(10) 一種預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置具有基板保存部，用于載置基板；基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，能夠沿預(yù)定方向以及與該預(yù)定方向正交的方向驅(qū)動(dòng)所述基板保存部， 并且能夠繞與所述方向正交的軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；以及基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)，對(duì)載置在所述基板保存部上的基板進(jìn)行溫度調(diào)整，其特征在于，具有
對(duì)載置在所述基板保存部上的基板進(jìn)行溫度調(diào)整的工序；和對(duì)進(jìn)行所述溫度調(diào)整的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)的工序。(11)根據(jù)(10)項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，由用于檢測(cè)基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出進(jìn)行所述溫度調(diào)整中的基板的異物。(12)根據(jù)(10)項(xiàng)所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，還具有在搬送用機(jī)器人向所述基板保存部傳遞所述基板時(shí)，由用于檢測(cè)基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出所述基板的異物的工序。根據(jù)本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，能夠通過具有對(duì)載置在基板保存部上的基板進(jìn)行溫度調(diào)整的基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)，使預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置和基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)成為簡(jiǎn)單的裝置，使曝光單元整體變得小型化。并且，能夠通過對(duì)進(jìn)行溫度調(diào)整中的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。根據(jù)本發(fā)明的另一預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，能夠通過具有載置在基板保存部上的、檢測(cè)出基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)，使預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置和異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)成為簡(jiǎn)單的裝置，并使曝光單元 (曝光裝置，exposal unit)整體變得小型化。


圖1是用于對(duì)適用本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的第1實(shí)施方式的曝光單元進(jìn)行說明的概略圖。圖2是表示本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的側(cè)視圖。圖3是表示本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的俯視圖。圖4(a)是表示本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的第一變形例的俯視圖，圖4(b)是圖4(a)的側(cè)視圖。圖5是表示本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的第二變形例的側(cè)視圖。圖6是表示本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的第三變形例的側(cè)視圖。圖7是圖6的預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元的俯視圖。圖8是表示本發(fā)明的變形例的噴出干空氣的裝置的俯視圖。圖9是表示適用以往的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的曝光單元的概略圖。 附圖標(biāo)記的說明
10曝光單元 14處理單元 15曝光裝置本體 16輸送機(jī)(搬出裝置) 17第一搬送用機(jī)器人 18第二搬送用機(jī)器人 20預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置
22精密溫度調(diào)整板(基板保存部，基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)) 24基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 30攝像機(jī)31光源 33搬送機(jī)構(gòu) 34異物檢測(cè)機(jī)構(gòu) 40激光投光器 41激光受光器
具體實(shí)施例方式以下，參照附圖對(duì)適用本發(fā)明的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法的一實(shí)施方式的曝光單元進(jìn)行詳細(xì)說明。(第1實(shí)施方式)圖1所示的一實(shí)施方式的曝光單元10具有處理單元14，其具有涂料器11、熱板 12以及冷凝板13 ；預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20 ；曝光裝置本體15 ；作為搬出裝置的輸送機(jī)16 ；第一搬送用機(jī)器人17，其用于在處理單元14和預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20之間傳遞基板；第二搬送用機(jī)器人18， 其用于在預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20、曝光機(jī)本體15和輸送機(jī)16之間傳遞基板。其中，處理單元14、曝光機(jī)本體15、輸送機(jī)16、第一以及第二搬送用機(jī)器人17、18與圖8所示的同樣，適用公開的這樣機(jī)構(gòu)。并且，涂料器11可以與熱板12以及冷凝板13分開設(shè)置，此時(shí)，通過未圖示的另一搬送用機(jī)器人進(jìn)行基板的傳遞。如圖2以及圖3所示，本實(shí)施方式的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20具有基臺(tái)21 ；精密溫度調(diào)整板 (PCP) 22，其成為保存基板W的基板保存部；支承部件23，其用于支承精密溫度調(diào)整板22 ； 基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)，其相對(duì)于基臺(tái)21沿著X方向、與X方向正交的Y方向以及繞著與X、Y方向垂直的軸的θ方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；銷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)沈，其相對(duì)于支承部件23沿上下方向(Ζ 方向)驅(qū)動(dòng)多個(gè)銷25，從形成在精密溫度調(diào)整板22上的多個(gè)銷孔22a中進(jìn)行前進(jìn)、后退動(dòng)作；多個(gè)對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)(邊緣傳感器器)27，其安裝在基臺(tái)21上，設(shè)置在X方向和Y方向中的一方向上的兩個(gè)部位以及另一方向的一個(gè)部位。并且，精密溫度調(diào)整板22成為對(duì)基板W進(jìn)行溫度調(diào)整的基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)，利用流通過迂回銷孔2 地形成的內(nèi)部冷卻管道中的冷卻介質(zhì)來(lái)釋放基板W的熱量，從而冷卻基板W。并且，在預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20中設(shè)有異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)34，該異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)34具有多個(gè)攝像機(jī)30，其配置在精密溫度調(diào)整板22的上方，沿X方向配置成直線狀；光源31，其用于向攝像機(jī)30所攝像的基板W的位置照射光；搬送機(jī)構(gòu)33，其用于將安裝有多個(gè)攝像機(jī)30以及光源31的可動(dòng)部件32向Y方向搬送。搬送機(jī)構(gòu)33由對(duì)如滾珠絲杠那樣的驅(qū)動(dòng)裝置和引導(dǎo)裝置進(jìn)行組合而成的公開機(jī)構(gòu)構(gòu)成，并在基臺(tái)21的X方向兩側(cè)支承可動(dòng)部件32，可動(dòng)部件 32以跨躍精密溫度調(diào)整板22的方式進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。并且，本實(shí)施方式的光源31由棒狀的LED 照明構(gòu)成，并使攝像機(jī)30的視野內(nèi)的亮度均衡地設(shè)置在可動(dòng)部件32的Y方向兩側(cè)，但也可以設(shè)置在可動(dòng)部件32的Y方向單側(cè)。該光源31的LED的波長(zhǎng)為可見光線的波長(zhǎng)(590nm 以上)。由此，在本實(shí)施方式的曝光單元10中，所洗凈的玻璃基板W由涂料器11被涂敷上抗蝕劑，由熱板12加溫而使抗蝕劑干燥之后，由冷凝板13消除余熱。其后，基板W通由第一搬送用機(jī)器人17傳遞至處于多個(gè)銷25上升的狀態(tài)的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20。銷25下降使基板 W接觸到精密溫度調(diào)整板22以進(jìn)行吸附保存。由此，利用精密溫度調(diào)整板22冷卻了基板 I
并且，在對(duì)基板W進(jìn)行冷卻的期間，由邊緣傳感器27對(duì)基板W的端面進(jìn)行位置檢測(cè)，并沿Y、θ方向驅(qū)動(dòng)精密溫度調(diào)整板22從而進(jìn)行基板W的預(yù)對(duì)準(zhǔn)。并且，從光源31對(duì)結(jié)束預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板W照射光，并由搬送機(jī)構(gòu)33移動(dòng)可動(dòng)部件32，同時(shí)由攝像機(jī)30進(jìn)行異物檢測(cè)。具體地說，在存在異物的情況下，通過攝像機(jī)30對(duì)因異物而擴(kuò)散了的光進(jìn)行攝像來(lái)進(jìn)行異物檢測(cè)。并且，若完成異物檢查和溫度調(diào)整，則使銷25上升，從而由第二搬送用機(jī)器人18 將基板W搬送到曝光裝置本體15，掩膜M的圖案被曝光轉(zhuǎn)印。曝光后的基板W由第二搬送用機(jī)器人18搬送到下游的輸送機(jī)16，并搬送到下一工序。如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，能夠通過將在進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)時(shí)用于保存基板的基板保存部作為對(duì)基板進(jìn)行溫度調(diào)整的精密溫度調(diào)整板22，能夠使預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20和基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)成為簡(jiǎn)單的裝置，減少搬送用機(jī)器人的數(shù)量，使曝光單元整體變得小型化。并且，通過對(duì)進(jìn)行溫度調(diào)整中的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間的縮短。并且，根據(jù)預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20，由于具有檢測(cè)出基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)34，因而能夠使預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20和異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)；34成為簡(jiǎn)單的裝置，并使曝光單元整體變得小型化。并且，如本實(shí)施方式那樣，對(duì)進(jìn)行溫度調(diào)整中的基板W進(jìn)行異物檢測(cè)，因而能夠縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。此外，由于如本實(shí)施方式那樣，異物檢測(cè)工序在預(yù)對(duì)準(zhǔn)工序后進(jìn)行，因而不會(huì)存在產(chǎn)生因基板W的傾斜引起攝像機(jī)30不能進(jìn)行攝像的區(qū)域的可能性，并能夠提高異物檢測(cè)的精度。但是，即使基板W傾斜載置在精密溫度調(diào)整板22上，在攝像機(jī)30充分能夠進(jìn)行攝像的情況下，異物檢查也可以在進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)之前進(jìn)行。并且，如圖4所示，異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)34可以不設(shè)置如所述實(shí)施方式的搬送機(jī)構(gòu)，作為替代，可以固定地配置多個(gè)攝像機(jī)30，使其能夠?qū)φ麄€(gè)基板W進(jìn)行攝像，并在基板W的X方向兩側(cè)配置光源31而從側(cè)面照射光。并且，在存在異物f的情況下，通過攝像機(jī)30對(duì)通過異物擴(kuò)散的光進(jìn)行攝像進(jìn)行異物檢測(cè)。此外，在所述實(shí)施方式以及該變形例中的任一方式中，異物檢查時(shí)的光源31的位置可以從針對(duì)基板W的面的側(cè)面、正上方、傾斜方向中的任一方向照射。并且，在所述實(shí)施方式中，是對(duì)進(jìn)行溫度調(diào)整中的基板W進(jìn)行異物檢測(cè)，但可以如圖5所示，異物檢測(cè)可以在第一搬送用機(jī)器人17將基板W傳遞到精密溫度調(diào)整板221時(shí)進(jìn)行。在這種情況下，異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)34不需要設(shè)置搬送機(jī)構(gòu)，沿X方向配置成直線狀的多個(gè)攝像機(jī)30以及光源31沿Y方向固定地配置在靠近第一搬送用機(jī)器人17的位置。并且，通過第一搬送用機(jī)器人17搬送的基板W經(jīng)過多個(gè)攝像機(jī)30的下方時(shí)，進(jìn)行異物檢查。并且，如圖6以及圖7所示，異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)34可以是具有分別配置于基板保存部的X方向兩側(cè)的激光投光器40和激光受光器41的激光穿透式結(jié)構(gòu)。作為激光，使用波長(zhǎng)為670nm以上的光，例如使用紅色半導(dǎo)體光。在這種情況下，由于激光投光器40水平地射出激光，并在不存在異物的情況下，激光受光器41直接接受該激光，因而能夠防止激光照射基板W，并抑制基板的溫度上升。并且，優(yōu)選激光投光器40的激光高于基板的表面，而且在曝光時(shí)的掩膜M與基板W之間的間隙(例如500μπι以下)的范圍內(nèi)進(jìn)行水平射出。在這種情況下，也能夠由搬送機(jī)構(gòu)33使激光投光器40和激光受光器41沿Y方向
8同步地移動(dòng)，同時(shí)對(duì)進(jìn)行溫度調(diào)整中的基板W進(jìn)行異物檢查?；蛘弋愇餀z測(cè)機(jī)構(gòu)34不設(shè)置搬送機(jī)構(gòu)，可以沿Y方向在靠近第一搬送用機(jī)器人17的位置固定地配置激光投光器40和激光受光器41，并在第一搬送用機(jī)器人17將基板W傳遞到精密溫度調(diào)整板22時(shí)進(jìn)行異物檢測(cè)。另外，本發(fā)明不局限于上述實(shí)施方式，可以進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖冃?、改良等。本?shí)施方式的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置同時(shí)具有基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)和異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)雙者，但即使只具有其中一者也能發(fā)揮本發(fā)明的效果。并且，本發(fā)明的異物檢查也可以通過在檢查前向基板W的上面噴吹入空氣，吹飛基板W的上面的異物之后進(jìn)行，并且，也可以通過干空氣除去異物檢查后所發(fā)現(xiàn)的基板W上面的異物。例如、如圖8所示，可以在第一搬送用機(jī)器人17與預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20之間配置噴吹干空氣的裝置50，并在正將基板W搬送到預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20的時(shí)候，吹飛基板W的上面的異物。 當(dāng)然，也可以在預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20與第二搬送用機(jī)器人18之間配置該裝置50，從而正在從預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置20取得基板的時(shí)候，吹飛基板W上面的異物。并且，考慮到掩膜與基板的間隙以及成本方面，可以選擇使用作為檢查裝置的攝像機(jī)。
本發(fā)明基于2009年11月25日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)(特愿2009-267917)，在這里作為參考援引了其內(nèi)容。
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權(quán)利要求
1.一種預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，用于對(duì)搬送到曝光裝置的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，其特征在于，具有基板保存部，用于載置所述基板；基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，沿預(yù)定方向以及與該預(yù)定方向正交的方向驅(qū)動(dòng)所述基板保存部，并且繞與所述方向正交的軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)，對(duì)載置在所述基板保存部上的基板進(jìn)行溫度調(diào)整。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置還具有用于檢測(cè)出載置在所述基板保存部上的基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)。
3.一種預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，用于對(duì)搬送到曝光裝置的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)，其特征在于，具有基板保存部，其用于載置所述基板；基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其沿預(yù)定方向以及與該預(yù)定方向正交的方向驅(qū)動(dòng)所述基板保存部，并且繞與所述方向正交的軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；以及異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)，其用于檢測(cè)出載置在所述基板保存部上的基板的異物。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)具有多個(gè)攝像機(jī)，其配置在所述基板保存部的上方，沿所述預(yù)定方向配置成直線狀；和光源，其向該攝像機(jī)所攝像的基板的位置照射光。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)還具有用于向所述正交方向搬送所述多個(gè)攝像機(jī)和所述光源的搬送機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述多個(gè)攝像機(jī)和所述光源沿所述正交方向配置在靠近搬送用機(jī)器人的位置，所述搬送用機(jī)器人用于向所述基板保存部傳遞所述基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)具有分別配置在所述預(yù)定方向的所述基板保存部的側(cè)方的激光投光器和激光受光器。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)還具有向所述正交方向搬送所述激光投光器和激光受光器的搬送機(jī)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述激光投光器和激光受光器沿所述基板保存部的正交方向配置在靠近搬送用機(jī)器人的位置，所述搬送用機(jī)器人用于向所述基板保存部傳遞所述基板。
10.一種預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，所述預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置具有基板保存部，用于載置基板； 基板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，能夠沿預(yù)定方向以及與該預(yù)定方向正交的方向驅(qū)動(dòng)所述基板保存部，并且能夠繞與所述方向正交的軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；以及基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)，對(duì)載置在所述基板保存部上的基板進(jìn)行溫度調(diào)整，其特征在于，具有對(duì)載置在所述基板保存部上的基板進(jìn)行溫度調(diào)整的工序；和對(duì)進(jìn)行所述溫度調(diào)整中的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)的工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，由用于檢測(cè)基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出進(jìn)行所述溫度調(diào)整中的基板的異物。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法，其特征在于，還具有在搬送用機(jī)器人向所述基板保存部傳遞所述基板時(shí)，由用于檢測(cè)基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出所述基板的異物的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠使曝光單元整體變得小型化，并且能夠縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間的預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置以及預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法。通過預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置(20)具有對(duì)載置在精密溫度調(diào)整板(22)上的基板W進(jìn)行溫度調(diào)整的基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)；和檢測(cè)載置在精密溫度調(diào)整板(22)上的基板的異物的異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)(34)；這樣能夠使預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置(20)、基板溫度調(diào)整機(jī)構(gòu)和異物檢測(cè)機(jī)構(gòu)成為簡(jiǎn)單的裝置，并且能夠減少搬送用機(jī)器人的數(shù)量，并使曝光單元整體變得小型化。并且，通過對(duì)進(jìn)行溫度調(diào)整中的基板進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)和異物檢測(cè)，能夠縮短生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間。
文檔編號(hào)H01L21/683GK102257437SQ201080002389
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2010年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月25日
發(fā)明者橋永宙 申請(qǐng)人:日本精工株式會(huì)社