專利名稱：樹脂，抗蝕劑組合物和用于制造抗蝕劑圖案的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及樹脂，抗蝕劑組合物和用于制造抗蝕劑圖案的方法。
背景技術(shù)：
在采用光刻技術(shù)的半導(dǎo)體的微制造中使用的抗蝕劑組合物含有樹脂。在專利文獻(xiàn)JP2006-276851-A中描述了一種具有下面的結(jié)構(gòu)單元的樹脂和一種
含有該樹脂的化學(xué)放大型光致抗蝕劑組合物。
權(quán)利要求
1.一種樹脂，所述樹脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樹脂，其中由式(I)表示的化合物是由式(III)表示的化合物；
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的樹脂，其中所述由式(I)表示的化合物是由式(IV)表示 的化合物；其中R9表示氫原子，鹵素原子或任選具有一個(gè)或多個(gè)鹵素原子的C1至C6烷基； R10至R19獨(dú)立地表示氫原子，或C1至C12烴基，并且Riq至R19中的至少兩個(gè)可以結(jié)合在 一起形成C3至C24環(huán)，包含在所述烴基或所述環(huán)中的一個(gè)或多個(gè)氫原子可以被鹵素原子，羥 基，C1至C12烷基，C1至C12烷氧基，C2至C4酰基或C2至C4酰氧基代替，并且包含在所述烴
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的樹脂，其中所述由式(I)表示的化合物是由式 (VI)表示的化合物；
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樹脂，其中由式⑴表示的化合物是由式(V)表示的化合物；
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樹脂，其中由式(I)表示的化合物是由式(VII)表示的化合物；
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的樹脂，所述樹脂包含酸不穩(wěn)定基團(tuán)，并且不溶或 難溶于堿水溶液，但是通過酸的作用變得可以溶于堿水溶液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的樹脂，其中所述樹脂包含衍生自由式(I)表示 的化合物的結(jié)構(gòu)單元和衍生自由式(III)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元；其中R41表示氫原子，鹵素原子或任選具有一個(gè)或多個(gè)鹵素原子的C1至C6烷基； Z1表示二價(jià)C1至C17飽和烴基，并且包含在所述飽和烴基中的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以 被-0-，-CO-或-S-代替；
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的樹脂，其中所述樹脂包含衍生自由式(I)表示 的化合物的結(jié)構(gòu)單元和衍生自由式(Π2)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元；其中R41表示氫原子，鹵素原子或任選具有一個(gè)或多個(gè)鹵素原子的C1至C6烷基； Z1表示二價(jià)C1至C17飽和烴基，并且包含在所述飽和烴基中的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以 被-0-，-CO-, -S-或-N (R45)-代替； R45表示氫原子或C1至C6烷基；T表示含有-SO2-作為骨架的雜環(huán)基，包含在所述雜環(huán)基中的一個(gè)或多個(gè)氫原子可 以被鹵素原子，羥基，C1至C12烷基，C1至C12烷氧基，C6至C12芳基，C7至C13芳烷基，縮 水甘油基氧基或C2至C4?；?，并且包含在所述雜環(huán)基中的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以 被-C0-, -0-，-S-, -SO2-或-N(R4s)-代替。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的樹脂，其中T是具有降冰片烷骨架的基團(tuán)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的樹脂，其中T是由式(T3)表示的基團(tuán)；
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的樹脂，其中所述樹脂包含衍生自由式(I)表 示的化合物的結(jié)構(gòu)單元和衍生自由式(Π3)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元；
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的樹脂，其中T是具有降冰片烷骨架的基團(tuán)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的樹脂，其中T是由式(T3)表示的基團(tuán)
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的樹脂，其中所述樹脂包含衍生自由式(I)表 示的化合物的結(jié)構(gòu)單元和衍生自由式(Π4)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元；
16. 一種抗蝕劑組合物，所述抗蝕劑組合物包含根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的 樹脂，以及酸生成劑。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的抗蝕劑組合物，所述抗蝕劑組合物還包含堿性化合物。
18. 一種用于制造抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括以下步驟(1)將根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的抗蝕劑組合物涂覆到基底上；(2)干燥涂覆的組合物以形成組合物層；(3)使用曝光裝置將所述組合物層曝光；(4)烘焙經(jīng)曝光的組合物層，和(5)使用顯影設(shè)備將經(jīng)烘焙的組合物層顯影。
全文摘要
本發(fā)明提供一種樹脂，所述樹脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的結(jié)構(gòu)單元，其中R1表示氫原子，鹵素原子或任選具有一個(gè)或多個(gè)鹵素原子的C1至C6烷基；X1表示C2至C36雜環(huán)基，包含在所述雜環(huán)基中的一個(gè)或多個(gè)氫原子可以被鹵素原子，羥基，C1至C24烴，C1至C12烷氧基，C2至C4?；?，C2至C4酰氧基代替，并且包含在所述雜環(huán)基中的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-CO-或-O-代替。
文檔編號(hào)H01L21/027GK102002121SQ201010269819
公開日2011年4月6日 申請(qǐng)日期2010年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月31日
發(fā)明者向井優(yōu)一, 市川幸司, 釜淵明 申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社