專利名稱：生產(chǎn)發(fā)光設(shè)備的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具備有機(jī)EL元件等發(fā)光元件的發(fā)光裝置以及電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
作為移動(dòng)電話機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)或PDA (Personal Digital Assistants)等電子設(shè)備 所使用的顯示裝置，或作為數(shù)字復(fù)印機(jī)、打印機(jī)等的圖像形成裝置中的曝光用頭，有機(jī)電致 發(fā)光(EL/Electroluminescence)裝置等發(fā)光裝置受到關(guān)注。當(dāng)將這種發(fā)光裝置構(gòu)成為用 于彩色時(shí)，以往，被構(gòu)成為通過在每個(gè)像素中改變構(gòu)成發(fā)光層的材料，而從各像素射出各色 的光。另一方面，提出了如下的技術(shù)，即在形成于發(fā)光層的下層側(cè)的下層側(cè)反射層、和 形成于發(fā)光層的上層側(cè)的上層側(cè)反射層之間形成光諧振器，并且通過改變由ITOandium Tin Oxide)等構(gòu)成的陽極的厚度來改變每個(gè)像素中光諧振器的光學(xué)長度，從各發(fā)光元件的 出射光提取各色的光(例如參照專利文獻(xiàn)1)。[專利文獻(xiàn)1]特許第2797883號公報(bào)利用上述專利文獻(xiàn)1中記載的技術(shù)，在構(gòu)成從發(fā)光層看、向基板側(cè)射出光的底部 發(fā)射型的有機(jī)EL裝置時(shí)，由半透過反射膜構(gòu)成下層側(cè)反射層。另外，在構(gòu)成從發(fā)光層看、向 基板的相反一側(cè)射出光的頂部發(fā)射型的有機(jī)EL裝置時(shí)，由鋁或銀等反射率高的金屬膜構(gòu) 成下層側(cè)反射層。另外，為了通過IT0膜形成陽極，在形成IT0膜之后，采用光刻技術(shù)在IT0膜的上 層形成抗蝕劑掩膜，進(jìn)行蝕刻。為此，為了使陽極的厚度在紅色用的像素、綠色用的像素以 及藍(lán)色用的像素中不同，需要反復(fù)3次上述工序。其結(jié)果，產(chǎn)生了如下問題，即由蝕刻IT0 膜時(shí)所使用的蝕刻液或蝕刻氣體而使下層側(cè)反射層被蝕刻，從而使下層側(cè)反射層的反射特 性降低或下層側(cè)反射層脫落。所述下層側(cè)反射層的蝕刻不限于下層側(cè)反射層從IT0暴露的 蝕刻末期，在IT0上開有微小的孔的情況下，有可能從蝕刻剛剛開始便發(fā)生。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述的問題點(diǎn)，本發(fā)明的課題在于提供一種即使在形成因像素不同而厚度不 同的陽極時(shí)、位于陽極下層側(cè)的光諧振器用的下層側(cè)反射層也不會(huì)劣化的發(fā)光裝置以及具 備該發(fā)光裝置的電子設(shè)備。為了解決上述課題，在本發(fā)明中是一種發(fā)光裝置，其在與基板上的紅色、綠色、藍(lán) 色對應(yīng)的多個(gè)像素的每一個(gè)中具備發(fā)光元件，所述發(fā)光元件通過層疊光透過性的陽極層、 至少包括發(fā)光層的功能層以及陰極層而構(gòu)成，其特征在于，在所述發(fā)光元件中形成所述陽極層的下層側(cè)具備下層側(cè)反射層額光諧振器，
所述多個(gè)像素中包括所述陽極層的厚度不同的像素，在所述陽極層和所述下層側(cè)反射層的層間，形成有用于覆蓋該下層側(cè)反射層的光 透過性的絕緣保護(hù)層。在本發(fā)明中，由于所述多個(gè)像素中包括所述陽極層的厚度不同的像素，所以在形 成這樣的陽極層時(shí)，雖然進(jìn)行多次蝕刻工序，但在本發(fā)明中，由于在陽極層和下層側(cè)反射層 的層間形成有用于覆蓋該下層側(cè)反射層的光透過性的絕緣保護(hù)層，所以在形成下層側(cè)反射 層以后，即使進(jìn)行幾次用于形成陰極層的蝕刻工序，也不會(huì)使下層側(cè)反射層因該蝕刻而劣 化。在本發(fā)明中，所述下層側(cè)反射層具備全反射性，由所述發(fā)光層產(chǎn)生的光從該發(fā)光 層看、向與所述基板的相反一側(cè)射出。在這樣的情況下，要求下層側(cè)反射層具有高的反射 率，但根據(jù)本發(fā)明，由于下層側(cè)反射層不會(huì)因形成陽極層時(shí)的蝕刻而劣化，所以可以構(gòu)成反 射率高的下層側(cè)反射層。另外，在提高下層側(cè)反射層的反射率時(shí)，可以通過鋁、鋁合金、銀或銀合金來形成 所述下層側(cè)反射層。這樣的金屬層容易因?yàn)镮T0膜的蝕刻時(shí)所使用蝕刻液或蝕刻氣體而劣 化，但根據(jù)本發(fā)明，下層側(cè)反射層不會(huì)因形成陽極層時(shí)的蝕刻而劣化。在本發(fā)明中，通過以使每個(gè)像素中所述光諧振器的光學(xué)長度成為與紅色光、綠色 光、藍(lán)色光的某一種對應(yīng)的長度的方式來設(shè)定所述陽極層的厚度，從而規(guī)定所述像素的對 應(yīng)的顏色。在這種結(jié)構(gòu)的發(fā)光裝置中，雖然多個(gè)像素分別與紅色、綠色、藍(lán)色對應(yīng)，但構(gòu)成發(fā) 光元件的有機(jī)功能層的材質(zhì)不管所對應(yīng)的顏色都是一樣的，到底對應(yīng)于哪種顏色是由陽極 層的厚度來決定的。即，在本發(fā)明中，在各像素中構(gòu)成光諧振器，根據(jù)陽極層的厚度，而將光 諧振器的光學(xué)長度設(shè)定成與紅色光、綠色光、藍(lán)色光的任一種對應(yīng)的長度。因此，像素不管 對應(yīng)于哪種顏色，各發(fā)光元件的壽命大致相等，所以可以延長發(fā)光裝置整體的壽命。另外， 在制造發(fā)光裝置時(shí)，由于在像素之間使用同一材料，所以可以提高生產(chǎn)率。在這樣的情況下，優(yōu)選所述絕緣保護(hù)層的折射率比所述陽極層的折射率還小。若 在下層側(cè)反射層和陽極層之間形成絕緣保護(hù)層，則該絕緣保護(hù)層的光學(xué)長度(厚度X折射 率)包含于光諧振器的光學(xué)長度內(nèi)。在這里，由于光諧振器所要求的光學(xué)長度由像素對應(yīng) 的每個(gè)顏色來決定，所以若絕緣保護(hù)層的折射率大，則必須使陽極層的厚度變薄，從而陽極 層的厚度精度降低。而且在本發(fā)明中，由于絕緣保護(hù)層的折射率小，所以可以增大陽極層的 厚度，若陽極層的厚度增加，則具有可以提高厚度精度的優(yōu)點(diǎn)。在這樣的情況下，優(yōu)選所述絕緣保護(hù)層由硅氮化膜、硅氧化膜以及樹脂中的任一 種構(gòu)成。若是這樣的絕緣膜，則折射率低，所以是優(yōu)選的。在本發(fā)明中，優(yōu)選在所述紅色像素的光出射側(cè)形成紅色濾色器，在所述綠色像素 的光出射側(cè)形成綠色濾色器，對所述藍(lán)色像素配有藍(lán)色濾色器?？梢赃M(jìn)一步提高從按上述 方式構(gòu)成的各像素射出的光的色純度。在本發(fā)明中，所述發(fā)光元件例如是電致發(fā)光元件。使用了本發(fā)明的發(fā)光裝置，在移動(dòng)電話機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)或PDA等各式各樣的電子 設(shè)備中，可以用作顯示裝置。另外，使用了本發(fā)明的發(fā)光裝置也可以作為數(shù)字復(fù)印機(jī)和打印 機(jī)等的成像裝置(電子設(shè)備)中的曝光用頭使用。


圖1是示意性地表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置(發(fā)光裝置)所使用 的有機(jī)EL元件(發(fā)光元件)的結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖2是示意性地表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置(發(fā)光裝置)所使用 的有機(jī)EL元件(發(fā)光元件)的結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖3是表示在使用了本發(fā)明的有機(jī)EL裝置中，使陽極層的厚度不相同的一個(gè)例子 的說明圖。圖4是表示有源矩陣型的有機(jī)EL裝置的電氣結(jié)構(gòu)的框圖。圖中1-有機(jī)EL顯示裝置；10-有機(jī)EL元件；11-基板；12-陽極層；13-空穴輸 送層；14-發(fā)光層；15-電子輸送層；16-陰極層；18-絕緣保護(hù)層；19-反射層(下層側(cè)反射 層)；21(R)、(G)、(B)-濾色器；40-光諧振器；100(R)、(G)、(B)-像素。
具體實(shí)施例方式下面，參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。另外，在用于進(jìn)行以下說明的各圖 中，由于將各層以及各部件做成在圖面上可以辨識的程度的大小，所以對于各層以及各部 件來說，其比例尺不同。(實(shí)施方式1)(發(fā)光裝置的基本結(jié)構(gòu))圖1是示意性地表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置(發(fā)光裝置)所使用 的有機(jī)EL元件(發(fā)光元件)的結(jié)構(gòu)的剖面圖。在圖1中，本方式的有機(jī)EL裝置1是朝向基板11的相反一側(cè)輸出顯示光的頂部 發(fā)射型的裝置，在紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色(B)的任一像素100 (R)、(G)、(B)中，形成有有機(jī) EL元件10。有機(jī)EL元件10具有的結(jié)構(gòu)是在由玻璃等構(gòu)成的基板11的上層側(cè)，依次層疊 了由IT0等構(gòu)成的透明的陽極層12、空穴輸送層13、發(fā)光層14、電子輸送層15、由鎂-銀合 金構(gòu)成的具有半透過反射性的陰極層16。另外，在基板11和陽極層12之間形成有由鋁、鋁合金、銀或銀合金構(gòu)成的反射層 19 (全反射層)，在由該反射層19構(gòu)成的下層側(cè)反射層和由陰極層16構(gòu)成的上層側(cè)反射層 之間構(gòu)成光諧振器40。在這里，用于有機(jī)EL元件10的空穴輸送層13或發(fā)光層14，無論在任一像素 100 (R)、(G)、⑶中均是由同一材料構(gòu)成，有機(jī)EL元件10射出白色光。但是，在本方式中，陰極層12的厚度在各像素100(R)、(G)、⑶中各不相同，陽極 層12的厚度是像素100(B) <像素100(G) <像素100 (R)。例如陽極層12的厚度，在各 像素100 (R)、(G)、(B)中被設(shè)定成以下的值像素100(B)的陽極層12的厚度=20nm像素100(G)的陽極層12的厚度=50nm像素100 (R)的陽極層12的厚度=90nm。因此，各像素100 (R)、(G)、⑶中的光 諧振器40的光學(xué)長度在各像素100(R)、(G)、(B)中各不相同。換言之，陽極層12的厚度被 調(diào)整為，光諧振器的光學(xué)長度可使規(guī)定的色光從各像素100(R)、(G)、(B)射出。在按照以上方式構(gòu)成的有機(jī)EL元件10中，若電流從陽極層12，經(jīng)過空穴輸送層13以及發(fā)光層14而流入陰極層16，則發(fā)光層14根據(jù)此時(shí)的電流量發(fā)光。并且，發(fā)光層14 射出的光透過陰極層16，向觀測者一側(cè)射出；另一方面，從發(fā)光層14向基板11射出的光被 形成于陰極層12的下層的反射層19反射，透過陰極層16向觀測者一側(cè)射出。此時(shí)，從發(fā)光 層14射出的光在光諧振器40的下層側(cè)反射層(反射層19)和上層側(cè)反射層(陰極層16) 之間多重反射，可以提高光諧振器40的光學(xué)長度相當(dāng)于1/4波長的整數(shù)倍的光的色度。因 此，有機(jī)EL元件10可以在內(nèi)部產(chǎn)生白色光，但從與紅色(R)對應(yīng)的像素100 (R)射出紅色 光，從與綠色(G)對應(yīng)的像素100(G)射出綠色光，與藍(lán)色(B)對應(yīng)的像素100(B)射出藍(lán)色 光。(絕緣保護(hù)層的結(jié)構(gòu))另外，在本方式中，在反射層19和陰極層12之間，形成光透過性的絕緣保護(hù)層18， 以便覆蓋反射層19的表面以及側(cè)面。作為這樣的絕緣保護(hù)層18，在本方式中，形成有厚度 約為30nm、折射率為1. 8的硅氮化膜。(制造方法)為了制造這樣結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL裝置1，首先，在基板11的表面上，通過濺射法或真空 蒸鍍法形成具有光反射性的金屬膜(鋁、鋁合金、銀或銀合金)后，使用光刻技術(shù)進(jìn)行圖案 形成，以形成反射層19。接著，在反射層19的表面?zhèn)韧ㄟ^CVD法等形成由硅氮化膜構(gòu)成的絕緣保護(hù)層18。接著，在絕緣保護(hù)層18的表面?zhèn)刃纬闪艘?guī)定厚度的IT0膜之后，使用光刻技術(shù)在 IT0膜的上層形成抗蝕劑掩膜，進(jìn)行蝕刻。但是，在本方式中，陽極層12的厚度在各像素 100(R)、(G)、(B)中不相同，所以反復(fù)3次這樣的工序。接著，利用被稱作所謂噴墨法等的液滴噴出法等，順次形成空穴輸送層13以及發(fā) 光層14。該液滴噴出法是如下的方法，即從液滴噴出頭以液滴的方式噴出構(gòu)成空穴輸送層 13或發(fā)光層14的材料的液狀物后，使其干燥，并使其固定為空穴輸送層13或發(fā)光層14。此 時(shí)，優(yōu)選在各像素100(R)、(G)、⑶的周圍預(yù)先形成被稱作圍堰的隔壁(未圖示)，以使噴 出的液滴或液狀物不向周圍濺出。當(dāng)采用這樣的方法時(shí)，空穴輸送層13，例如使用作為聚烯烴衍生物的3，4-聚亞乙 二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸(PED0T/PSS)來作為空穴注入材料，將以有機(jī)溶劑為主溶媒并 使它們分散而成的分散液向規(guī)定區(qū)域噴出后，通過使其干燥，從而可以形成所述空穴輸送 層13。另外，作為用于形成空穴輸送層13的材料，并不限定于上述的物質(zhì)，也可以使用聚合 物前體為聚四氫苯硫基亞苯基的聚亞苯基亞乙烯基、1，1-雙-(4-N，N- 二甲苯基氨基苯基) 環(huán)己烷等。另外，關(guān)于形成發(fā)光層14的材料，優(yōu)選使用高分子材料，例如分子量在1000以上 的高分子材料。具體而言，可以使用聚芴衍生物、聚亞苯基衍生物、聚乙烯基咔唑、聚噻吩衍 生物，或使用在這些高分子材料中摻雜了二萘嵌苯系色素、香豆素系色素、若丹明系色素、 例如紅熒烯、二萘嵌苯、9，10- 二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼羅紅、香豆素6、喹吖啶等而得到 的物質(zhì)。另外，作為這樣的高分子材料，雙鍵結(jié)合的n電子在聚合物鏈上非定域化的n共 軛系高分子材料也是導(dǎo)電性高分子，故發(fā)光性能出色，所以可以適當(dāng)使用。尤其，更優(yōu)選使 用在其分子內(nèi)具有芴骨架的化合物，即聚芴系化合物。另外，除了這樣的材料以外，作為發(fā) 光層形成材料，例如還可以使用特開平11-40358號公報(bào)中所示的有機(jī)EL元件用組成物，即包含共軛系高分子材料有機(jī)化合物的前驅(qū)體、和用于使發(fā)光特性變化的至少一種熒光色素 的有機(jī)EL元件用組成物。這樣，在形成空穴輸送層13以及發(fā)光層14后，順次形成電子輸送層15以及陰極 層16。(本方式的效果)如以上說明所示，在本方式中，雖然多個(gè)像素100分別與紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色 ⑶對應(yīng)，但構(gòu)成有機(jī)EL元件10的空穴輸送層13以及發(fā)光層14等的有機(jī)功能層的材質(zhì)不 管所對應(yīng)的顏色都是一樣的，到底對應(yīng)于哪種顏色是由陽極層12的厚度來決定的。即，在 本方式中，在各像素100中構(gòu)成光諧振器40，根據(jù)陽極層12的厚度，將光諧振器40的光學(xué) 長度設(shè)定成與紅色光、綠色光、藍(lán)色光的任一種對應(yīng)的長度。因此，像素100不管對應(yīng)于哪 種顏色，有機(jī)EL元件10的壽命都大致相等，所以可以延長有機(jī)EL裝置1整體的壽命。另 外，在制造有機(jī)EL裝置1時(shí)，由于在像素100之間使用同一材料，所以可以提高生產(chǎn)率。而且，在多個(gè)像素100中，由于包括陽極層12的厚度不同的像素，所以在形成這樣 的陽極層12時(shí)，進(jìn)行多次蝕刻工序，但在本方式中，由于在陽極層12和反射層19的層間形 成有覆蓋反射層19的光透過性的絕緣保護(hù)層18，所以在形成反射層19以后，即使為了形成 陽極層12而進(jìn)行幾次的蝕刻工序，也不會(huì)因該蝕刻而使反射層19劣化。尤其在本方式中， 由發(fā)光層14產(chǎn)生的光從發(fā)光層14看，向基板11的相反一側(cè)射出。在這種情況下，要求反 射層19的反射率要高，但根據(jù)本方式，由于不會(huì)因形成陽極層12時(shí)的蝕刻而使反射層19 劣化，所以可以構(gòu)成反射率高的反射層19。在這里，當(dāng)提高反射層19的反射率時(shí)，可以由 鋁、鋁合金、銀、或銀合金來形成反射層19。這樣的金屬層容易因?yàn)镮T0膜的蝕刻時(shí)所使用 的蝕刻液或蝕刻氣體而劣化，但根據(jù)本方式，由于反射層19不會(huì)因形成陽極層12時(shí)的蝕刻 而劣化，所以反射層19可以由鋁、鋁合金、銀、或銀合金形成。另外，在本方式中，由于絕緣保護(hù)層18介于反射層19與陽極層12之間，所以絕緣 保護(hù)層18的光學(xué)長度(厚度X折射率)包含于光諧振器40的光學(xué)長度內(nèi)。此時(shí)，若絕緣 保護(hù)層18的折射率大，則由于光諧振器40所要求的光學(xué)長度由像素對應(yīng)的每個(gè)顏色來決 定，所以若絕緣保護(hù)層18的折射率大，則必須使陽極層12的厚度變薄，從而陽極層12的厚 度精度降低。而且在本方式中，絕緣保護(hù)層18由硅氮化膜構(gòu)成，由于其折射率小，為1.8， 所以可以使陽極層12的厚度變厚，若增大陽極層12的厚度，則具有可以提高厚度精度的優(yōu) 點(diǎn)o在這里，優(yōu)選絕緣保護(hù)層18的折射率比陽極層12的折射率(=1. 95)小，作為這 樣的材料，除了硅氮化膜外，還有硅氧化膜或丙烯樹脂等。(實(shí)施方式2)圖2是示意性地表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置(發(fā)光裝置)所使用 的有機(jī)EL元件(發(fā)光元件)的結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖2所示的有機(jī)EL裝置1與第一實(shí)施方式同樣，也是朝向基板11的相反一側(cè)射 出顯示光的頂部發(fā)射型的裝置，在紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色(B)的任一像素100(R)、(G)、 (B)中，也形成有有機(jī)EL元件10。有機(jī)EL元件10具有的結(jié)構(gòu)是在由玻璃等構(gòu)成的基板 11的上層側(cè)，依次層疊了由IT0等構(gòu)成的透明的陽極層12、空穴輸送層13、發(fā)光層14、電子 輸送層15、由鎂-銀合金構(gòu)成的具有半透過反射性的陰極層16。另外，在基板11和陽極層12之間，形成有由鋁、鋁合金、銀、或銀合金構(gòu)成的反射層19(全反射層)，在由該反射層19 構(gòu)成的下層側(cè)反射層和由陰極層16構(gòu)成的上層側(cè)反射層之間構(gòu)成光諧振器40。而且，用于 有機(jī)EL元件10的空穴輸送層13或發(fā)光層14，不管在哪個(gè)像素100 (R)、(G)、(B)中均是由 同一材料構(gòu)成，有機(jī)EL元件10射出白色光。但是，在本方式中，陰極層12的厚度在各像素100(R)、(G)、⑶中各不相同，陽極 層12的厚度是像素100(B) <像素100(G) <像素100 (R)。例如陽極層12的厚度，在各 像素100 (R)、(G)、(B)中被設(shè)定成以下的值像素100 (B)的陽極層I2的厚度=40nm像素100(G)的陽極層12的厚度=70nm像素100(R)的陽極層12的厚度=llOnm。S卩，陽極層12的厚度被調(diào)整為，光諧振 器的光學(xué)長度可使規(guī)定的色光從各像素100(R)、(G)、(B)射出。另外，在本方式中，在反射層19和陰極層12的層間，形成光透過性的絕緣保護(hù)層 18，以便覆蓋反射層19的表面以及側(cè)面。作為這樣的絕緣保護(hù)層18，在本方式中，形成有厚 度約為30nm、折射率為1. 5的硅氧化膜。由于這樣結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL裝置1的制造方法與第一實(shí)施方式相同，所以省略說明， 但在本方式中，由于在反射層19和陰極層12之間，形成覆蓋反射層19的光透過性的絕緣 保護(hù)層18，所以在形成了反射層19以后，即使進(jìn)行幾次用于形成陽極層12的蝕刻工序，也 不會(huì)使反射層19因該蝕刻而劣化，起到與第一實(shí)施方式同樣的效果。而且，在本方式中，在陰極層16的上層側(cè)，通過環(huán)氧樹脂系的透明的粘接劑層30 來粘接透明基板20，所述透明基板20在與各像素100 (R)、(G)、(B)對應(yīng)的位置形成了紅色 (R)、綠色(G)、藍(lán)色(B)的濾色器21 (R)、(G)、(B)。因此，根據(jù)本方式，與第一實(shí)施方式相 比，可以從各像素100(R)、(G)、(B)射出顏色純度高的光。(其他的實(shí)施方式)在上述方式中，以朝向基板11的相反一側(cè)射出顯示光的頂部發(fā)射型為例進(jìn)行了 說明，但本發(fā)明可以適用于朝向基板側(cè)射出顯示光的底部發(fā)射型。即，在底部發(fā)射型的情況 下，在陰極層的下層側(cè)形成半透過反射性的下層側(cè)反射層，但若預(yù)先在陽極層和半透過反 射性的下層側(cè)反射層的層間形成絕緣保護(hù)層的話，則在蝕刻形成陽極層時(shí)，可以防止下層 側(cè)反射層劣化。另外，為了使陽極層12的厚度在各像素100 (R)、(G)、⑶中互不相同，在形成IT0 膜時(shí)，也可以在3次成膜處理中IT0膜的厚度各不相同，但例如，如圖3所示，采用以下結(jié) 構(gòu)在像素100 (R)中，使用第一次形成的IT0膜121、第二次形成的IT0膜122、第三次形成 的IT0膜123的三層結(jié)構(gòu)，在像素100(G)中，使用第二次形成的IT0膜122、第三次形成的 IT0膜123的兩層結(jié)構(gòu)，在像素100(B)中，僅使用第三次形成的IT0膜123。(對于顯示裝置的適用例)使用了本發(fā)明的有機(jī)EL裝置1，可以作為無源矩陣型顯示裝置或有源矩陣型顯示 裝置來使用。這些顯示裝置中的有源矩陣型顯示裝置被構(gòu)成為具有圖4所示的電氣結(jié)構(gòu)。圖4是表示有源矩陣型的有機(jī)EL裝置的電氣結(jié)構(gòu)的框圖。在圖中，在有機(jī)EL裝 置1中，構(gòu)成多根掃描線63、在與該掃描線63的延伸設(shè)置方向交叉的方向上延伸設(shè)置的 多根數(shù)據(jù)線64、與這些數(shù)據(jù)線64并聯(lián)的多根共通供電線65、與數(shù)據(jù)線64和掃描線63的交叉點(diǎn)對應(yīng)的像素100 (發(fā)光區(qū)域)，像素100以矩陣狀配置在像素顯示區(qū)域。相對于數(shù)據(jù)線 64，構(gòu)成有具備移位寄存器、電平移動(dòng)器、視頻線和模擬開關(guān)的數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路51。相對于 掃描線63，構(gòu)成有具備移位寄存器以及電平移動(dòng)器的掃描線驅(qū)動(dòng)電路54。另外，在像素100 的每一個(gè)中構(gòu)成通過掃描線63將掃描信號供給到柵電極的像素切換用薄膜晶體管6 ；保 持通過該薄膜晶體管6而從數(shù)據(jù)線64供給的圖像信號的保持電容33 ；將由該保持電容33 保持的圖像信號供給到柵電極43的電流控制用薄膜晶體管7 ；在通過薄膜晶體管7而與共 通供電線65電連接時(shí)從共通供電線65流入驅(qū)動(dòng)電流的有機(jī)EL元件10。另外，在有機(jī)EL 裝置1中，各像素100與紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色(B)中的任一種對應(yīng)。
(其他的實(shí)施方式) 在上述方式中，雖然作為發(fā)光元件使用了有機(jī)EL元件，但本發(fā)明也可以適用于使 用了其他發(fā)光元件的發(fā)光裝置。在任意的情況下，本發(fā)明的技術(shù)范圍不限定于上述實(shí)施方 式，在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)，可以進(jìn)行各種變更。(向電子設(shè)備裝載的例子)使用了本發(fā)明的發(fā)光裝置，在移動(dòng)電話機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)或PDA等各式各樣的電子 設(shè)備中，可以作為顯示裝置使用。另外，使用了本發(fā)明的發(fā)光裝置也可以作為數(shù)字復(fù)印機(jī)和 打印機(jī)等的圖像形成裝置中的曝光用頭來使用。
權(quán)利要求
一種生產(chǎn)發(fā)光設(shè)備的方法，所述方法包括形成具有反射性質(zhì)的金屬層；將所述金屬層構(gòu)圖為反射層；用光透射絕緣保護(hù)膜覆蓋所述反射層的頂部表面和側(cè)表面；在所述光透射絕緣保護(hù)膜上形成導(dǎo)電材料膜；以及將所述導(dǎo)電材料膜構(gòu)圖成陽極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，多次重復(fù)執(zhí)行形成所述導(dǎo)電材料膜并對所述導(dǎo)電材料 膜進(jìn)行構(gòu)圖的步驟，以形成不同厚度的陽極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述光透射絕緣保護(hù)膜填充相鄰反射層之間的內(nèi)反射 層間隔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，多次重復(fù)執(zhí)行形成所述導(dǎo)電材料膜并對所述導(dǎo)電材料 膜進(jìn)行構(gòu)圖的步驟，以形成不同厚度的陽極。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述光透射絕緣保護(hù)膜覆蓋所有的反射層。
全文摘要
本發(fā)明提供一種發(fā)光裝置以及具備該發(fā)光裝置的電子設(shè)備。在有機(jī)EL裝置(1)中，雖然多個(gè)像素(100)分別與紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色(B)對應(yīng)，但構(gòu)成有機(jī)EL元件(10)的空穴輸送層(13)以及發(fā)光層(14)等有機(jī)功能層的材質(zhì)不管所對應(yīng)的顏色如何，都是一樣的。在各像素(100)中構(gòu)成光諧振器(40)，根據(jù)陽極層(12)的厚度，將光諧振器(40)的光學(xué)長度設(shè)定成與紅色光、綠色光、藍(lán)色光的任一種對應(yīng)的長度。在光諧振器(40)的下層側(cè)的反射層(19)與陽極層(12)之間，形成由硅氮化膜等構(gòu)成的絕緣保護(hù)層(18)。這樣，即使在形成因像素不同而厚度不同的陽極時(shí)，位于陽極下層側(cè)的光諧振器用的下層側(cè)反射層也不會(huì)產(chǎn)生劣化。
文檔編號H01L51/56GK101950734SQ20101026106
公開日2011年1月19日 申請日期2006年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月25日
發(fā)明者前田強(qiáng), 松本友孝 申請人:精工愛普生株式會(huì)社