專利名稱：基板對位機構、使用其的真空預備室和基板處理系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及在對FPD、太陽能電池等基板進行真空處理時、對被收容在容器內的基 板進行對位的對位機構、使用了這樣的對位機構的真空預備室和設有這樣的真空預備室的 基板處理系統(tǒng)。
背景技術：
在平板顯示器(FPD)、太陽能電池等矩形基板的制造過程中，例如在專利文獻1中 公開有如下的多腔室型的基板處理系統(tǒng)，該多腔室型的基板處理系統(tǒng)具有實施蝕刻或成膜 等規(guī)定的真空處理的處理室，并具有共用輸送室和加載互鎖真空室，該共用輸送室被保持 為真空，與上述那樣的處理室、將基板預加熱到預處理溫度的預加熱室等相連接，并具有相 對于處理室、預加熱室輸送基板的輸送機構；該加載互鎖真空室作為真空預備室用于在輸 送室和大氣之間輸送基板。在這樣的基板處理系統(tǒng)中，在作為真空預備室的加載互鎖真空室中進行基板的對 位之后，利用輸送室的輸送機構將基板輸送到處理室等中，從而在處理室中將基板輸送到 準確的位置上。作為進行這樣的對位的技術，可使用呈直線狀地按壓矩形基板的對角的定 位器(positioner)(例如，專利文獻2)。專利文獻1 日本特開平10-98085號公報專利文獻2 日本特開2000-306980號公報隨著這種矩形基板大型化，要求反復在大氣氣氛和降壓氣氛之間進行切換的作為 真空預備室的加載互鎖真空室盡可能地小型化，但在專利文獻2的技術中，由于利用定位 器呈直線狀地按壓矩形基板的對角，因此，相應地需要較多的空間，無法使作為真空預備室 的加載互鎖真空室充分地小型化。

發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于上述的情況而做成的，其目的在于提供一種能使對基板進行對位的 容器內的用于基板對位的空間盡量縮小的基板對位機構、使用了這樣的基板對位機構的真 空預備室和具有這樣的真空預備室的基板處理系統(tǒng)。為了解決上述課題，本發(fā)明的第1技術方案提供一種基板對位機構，其是在收容 基板的容器內、對支承在基板支承部上的基板進行對位的基板對位機構，其特征在于，該基 板對位機構具有通過轉動與上述容器內的基板的端面接觸的對位構件。在上述第1技術方案中，上述基板呈矩形狀，上述對位構件至少具有3個，能夠構 成為其中一個對位構件與上述基板的一個邊接觸，其他的兩個對位構件與上述一個邊相鄰 的邊接觸，從而進行基板的對位。在這種情況下，能夠具有至少3個按壓構件，該3個按壓 構件通過分別按壓上述基板的與上述至少3個對位構件接觸位置相對的位置而對基板進 行對位。在上述第1技術方案中，上述基板支承部以沿鉛垂方向重疊的狀態(tài)具有多個，能支承以在受各基板支承部支承的狀態(tài)被進行對位的基板。此外，上述基板支承部以沿鉛垂 方向呈多層重疊的狀態(tài)設置，上述對位構件相對于各基板支承部至少各設有3個，上述對 位構件中的、與沿鉛垂方向重疊的狀態(tài)的上述多個基板支承部相對應的那些對位構件彼此 安裝在共用的能夠旋轉的軸上，通過使上述軸轉動，能夠使對位構件與支承在上述多個基 板支承部上的多張基板同時接觸。在上述第1技術方案中，上述基板支承部能夠為由多個支承銷和多個可動支承部 支承基板的構成。在這樣的情況下，上述基板支承部能夠為多個支承銷和多個可動支承部 交替配置的構成。此外，上述基板支承部被分為多個，能夠為支承銷與可動支承部的比例各 自不同的構成。本發(fā)明的第2技術方案提供一種真空預備室，其用于收容要在降壓氣氛的處理室 中進行處理的基板，在將基板輸送到處理室之前，在降壓氣氛中保持基板，其特征在于，包 括用于收容基板的容器；用于在上述容器內支承基板的基板支承部；用于對支承在上述 基板支承部上的基板進行對位的上述第1技術方案的基板對位機構。本發(fā)明的第3技術方案提供一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于，包括多個處理室， 用于在降壓氣氛中對基板實施規(guī)定的處理；上述第2技術方案的真空預備室，用于收容要 在上述處理室中進行處理的基板，在將基板輸送到處理室之前，將基板保持在降壓氣氛中； 基板輸送裝置，用于在上述真空預備室和上述處理室之間輸送基板。在上述第3技術方案中，上述基板處理系統(tǒng)具有與各處理室相對應的多個基準位 置，以便上述輸送裝置將基板能夠輸送到多個上述處理室的規(guī)定位置上。在這種情況下，上 述基準位置的確定是能夠通過使上述基板對位構件與基板接觸來確定的。根據(jù)本發(fā)明，在收容基板的容器內對支承在基板支承部上的基板進行對位的情況 下，作為基板對位機構，因為使用了具有通過轉動而與上述容器內的基板的端面接觸的對 位構件的基板對位機構，所以對位構件在退避位置和接觸位置之間轉動即可，能盡可能地 縮小基板對位用的空間。


圖1是概略地表示本發(fā)明的一實施方式的搭載有作為真空預備室的加載互鎖真 空室的基板處理系統(tǒng)的俯視圖。圖2是表示圖1的基板處理系統(tǒng)的基板輸送裝置的概略圖。圖3是表示圖1的基板處理系統(tǒng)的加載互鎖真空室的鉛垂剖視圖。圖4是表示圖1的基板處理系統(tǒng)的加載互鎖真空室的水平剖視圖。圖5是用于說明圖4的加載互鎖真空室的對位支承部所用的支承銷103和可動支 承部104的構造的概略圖。圖6是表示圖4的加載互鎖真空室的搬入用支架85和搬出用支架120的構成以 及它們的配置關系的側視圖。圖7是表示設于圖4的加載互鎖真空室中的對位機構86的按壓部90、91的概略 圖。圖8是表示設于圖4的加載互鎖真空室中的對位機構86的按壓部92的側視圖和 俯視圖。
圖9是用于說明圖4的加載互鎖真空室中的對位機構86的對位順序的圖。圖10是用于說明設于圖4的加載互鎖真空室中的對位支承部的另一例的示意圖。
具體實施例方式以下，參照

本發(fā)明的實施方式。在所參照的所有的附圖中，對相同的部分 標注相同的附圖標記。圖1是概略地表示本發(fā)明的一實施方式的搭載有作為真空預備室的加載互鎖真 空室的基板處理系統(tǒng)的俯視圖。該基板處理系統(tǒng)1例如構成為對被用作如液晶顯示器 (LCD)那樣的FPD用玻璃基板或太陽能電池用玻璃基板的矩形基板進行諸如蝕刻、成膜的裝置。如圖1所示，基板處理系統(tǒng)1包括共用輸送室10 ；預加熱室20，其與該共用輸送 室10連接，用于對基板G進行預加熱；兩個處理室30a、30b，其用于對基板G實施蝕刻、成 膜等處理；加載互鎖真空室40，其用于在配置于大氣側的基板收容容器(未圖示)和被保 持為真空的共用輸送室10之間交換基板G ；基板輸送裝置50，其設于共用輸送室10中，用 于輸送基板G。共用輸送室10俯視形狀呈矩形狀，預加熱室20、處理室30a、30b、加載互鎖 真空室40分別經(jīng)由閘閥61、62a、62b、63與共用輸送室10的各側面連接。此外，在加載互 鎖真空室40的大氣側設有閘閥64。另外，在本例子中，共用輸送室10的俯視形狀構成為矩 形狀，但是共用輸送室10的俯視形狀也可以構成為多邊形，例如六邊形或八邊形，形成追 加有預加熱室、處理室或加載互鎖真空室的構成。在本例子中，共用輸送室10、預加熱室20、處理室30a、30b構成為真空室，分別在 各自內部具有用于載置基板G的載置臺21、31a、31b，并被保持為規(guī)定的降壓氣氛。此外，作 為真空預備室的加載互鎖真空室40用于在配置于大氣側的基板收容容器(未圖示)和被 保持為真空的共用輸送室10之間交換基板G，作為能夠在大氣氣氛和降壓氣氛之間進行切 換的真空預備室而發(fā)揮作用。該基板處理系統(tǒng)1構成為一次將多張例如3張基板G沿高度方向水平載置并進行 處理的結構，利用未圖示的大氣側輸送裝置將多張基板G從外部的基板收容容器經(jīng)由閘閥 64搬入到加載互鎖真空室40中，被搬入的基板G從加載互鎖真空室40經(jīng)由閘閥63向共用 輸送室10輸送，從該共用輸送室10經(jīng)由間閥61向預加熱室20輸送，從該預加熱室20經(jīng) 由閘閥62a或62b向處理室30a或30b輸送。然后，在處理室30a或30b中處理完畢的基 板G從處理室30a或30b經(jīng)由閘閥62a或62b向共用輸送室10輸送，從該共用輸送室10經(jīng) 由閘閥63向加載互鎖真空室40輸送，處理完畢的基板G從加載互鎖真空室40輸送出。另 外，在本例子中，處理室30a和處理室30b是進行相同處理的處理室，但是它們也可以構成 為進行不同處理的處理室。即，也可以構成為在處理室30a中處理第一工序，在處理室30b 中連續(xù)地處理接下來進行的第二工序。基板輸送裝置50用于在共用輸送室10、預加熱室20、處理室30a、30b和加載互鎖 真空室40相互之間一并輸送多張例如3張基板G，如圖2所示，構成為沿鉛垂方向排列的3 個基板支承臂51a、51b、51c在能夠旋轉的基座構件52上能直線移動，由此，利用進入-退 回動作和旋轉動作，能夠進入預加熱室20、處理室30a、30b和加載互鎖真空室40。另外，附 圖標記53是用于實現(xiàn)基座構件52的旋轉動作的驅動系統(tǒng)。
基板處理系統(tǒng)1的各構成部由控制部(計算機)70控制。控制部70包括具有微 處理器的處理控制器71，在該處理控制器71上連接有用戶接口 72和存儲部73，該用戶接 口 72由用于供操作者管理基板處理系統(tǒng)1而進行命令的輸入操作等的鍵盤、將基板處理系 統(tǒng)1的工作狀況可視化地顯示的顯示器等構成；該存儲部73存儲有用于利用處理控制器 71的控制實現(xiàn)在基板處理系統(tǒng)1中執(zhí)行的各種處理的控制程序、用于根據(jù)處理條件使基板 處理系統(tǒng)1執(zhí)行規(guī)定處理的控制程序、制程程序。存儲部73具有存儲介質，制程程序等被 存儲在該存儲介質中。存儲介質既可以是硬盤、半導體存儲器，也可以是CD-R0M、DVD、閃存 等可攜帶的存儲介質。通過來自用戶接口 72的指令等，根據(jù)需要從存儲部73讀出制程程 序等，使處理控制器71執(zhí)行該制程程序等，由此在處理控制器71的控制下，進行基板處理 系統(tǒng)1的期望的處理。在如上所述那樣被構成的基板處理系統(tǒng)1中，首先，打開閘閥64，利用大氣側基板 輸送裝置(未圖示)將多張例如3張未處理的基板G搬入大氣氣氛的加載互鎖真空室40， 關閉閘閥64，使加載互鎖真空室40內為降壓氣氛。然后，打開閘閥63，一并使基板輸送裝 置50的基板支承臂51a、51b、51c進入加載互鎖真空室40內，接收被搬入加載互鎖真空室 40內的未處理的基板G。接著，使基板輸送裝置50的基板支承臂51a、51b、51c退回到共用 輸送室10中，關閉間閥63。接著，使基板輸送裝置50的基座構件52旋轉，使基板支承臂 51a.51b.51c與預加熱室20相對。接著，打開閘閥61，使基板支承臂51a.51b.51c進入到 預加熱室20中，向預加熱室20輸送未處理的基板G。接著，使基板支承臂51a、51b、51c退 回到共用輸送室10中、關閉了閘閥61之后，在預加熱室20中開始基板G的預加熱。預加 熱結束之后，打開閘閥61，使基板支承臂51a、51b、51c進入到預加熱室20中，接收預加熱完 畢的基板G。接著，使基板支承臂51a、51b、51c退回到共用輸送室10中，關閉閘閥61。接 著，使基座構件52旋轉，使基板支承臂51a，51b, 51c與處理室30a或30b相對。接著，打開 閘閥62a或62b，使基板支承臂51a、51b、51c進入處理室30a或30b，向處理室30a或30b 輸送預加熱完畢的基板G。接著，使基板支承臂51a、51b、51c退回到共用輸送室10中，關閉 閘閥62a或62b，開始在處理室30a或30b中的處理。處理結束之后，打開閘閥62a或62b， 使基板支承臂51a、51b、51c進入處理室30a或30b，接收處理完畢的基板G。接著，使基板 支承臂51a、51b、51c退回到共用輸送室10中，關閉閘閥62a或62b。接著，使基座構件52 旋轉，使基板支承臂51a、51b、51c與加載互鎖真空室40相對。接著，打開閘閥63，使基板支 承臂51a、51b、51c進入到加載互鎖真空室40，向加載互鎖真空室40輸送處理完畢的基板 G。接著，使基板支承臂51a、51b、51c退回到共用輸送室10中，關閉閘閥63，使加載互鎖真 空室40內為大氣氣氛。之后，打開閘閥64，利用大氣側基板輸送裝置(未圖示)從加載互 鎖真空室40搬出處理完畢的基板G。接著，詳細地說明加載互鎖真空室40。圖3是表示加載互鎖真空室40的鉛垂剖視 圖，圖4是其水平剖視圖。加載互鎖真空室40具有容器81，在容器81的一方的側壁設有能夠與被保持為真 空的共用輸送室10連通的開口 82，在與該一方的側壁相對的側壁設有能夠與大氣連通的 開口 83。而且，開口 82能由閘閥63打開或關閉，開口 83能由閘閥64打開或關閉。在容器81內，以固定在容器81的底部的狀態(tài)設有用于對3張基板G進行對位的 對位支架84，在對位支架84的內側，為了搬入基板，能夠升降地設有用于保持基板G的搬入用支架85。此外，在搬入用支架85的內側，為了搬出基板，設有用于保持基板的搬出用支架，然而，因為其構成與搬入用支架85大致相同，所以在圖3、4中省略圖示。矩形狀的基板 G以其短邊與開口 82、83平行的狀態(tài)呈3層地載置在上述對位支架84、搬入用支架85和搬 出用支架上。此外，在容器81內具有用于對載置在對位支架84上的狀態(tài)的基板G進行對位的 對位機構86。該對位機構86包括2個對位部87、88，其設于基板G的一長邊側；1個對位 部89，其設于基板G的一短邊側；2個按壓部90、91，其與對位部87、88相對地設置，用于按 壓基板G的另一長邊；按壓部92，其與對位部89相對地設置，用于按壓基板G的另一短邊。 而且，利用對位部87、88限定基板G的短邊方向位置和角度，利用對位部89限定基板G的 長邊方向位置，利用按壓部90、91、92按壓基板G，由此進行基板G的對位。對位支架84包括4根支柱95，其從容器81的底部向上方延伸 ’第2層對位支承 部97，其形成在上述支柱95的與第2層基板G的高度位置相對應的部分，用于支承第2層 基板G ；第3層對位支承部98，其形成在支柱95的與最上層的第3層基板G的高度位置相 對應的部分，用于支承第3層基板。此外，在容器81的底面形成有支承第1層(最下層) 的基板G的第1層對位支承部96。第2層對位支承部97和第3層對位支承部98由3根 沿著基板短邊方向的短邊方向框101a、101b、101c和2根沿著基板長邊方向的長邊方向框 102a、102b構成。第1層對位支承部96由設于容器81的底面的、3根沿著基板短邊方向的 短邊方向框101a、101b、IOlc構成。第1層對位支承部第96、第2層對位支承部97和第3 層對位支承部98分別具有用于支承基板的4個支承銷103和5個可動支承部104，上述4 個支承銷103和5個可動支承部104交替設置。具體而言，在與基板G的中心相對應的第 2根短邊方向框IOlb的中央設有可動支承部104，在其兩側設有支承銷103，在短邊方向框 IOlaUOlc的中央設有支承銷103，在其兩側設有可動支承部104。如圖5的(a)所示，支承銷103用于利用呈半球狀的頂端部支承基板G，且固定地 設置，所以移動基板G時作用有較大的摩擦力。另一方面，如圖5的(b)所示，可動支承部 104具有球狀體106能夠旋轉自如地嵌入承托部105的構造，利用球狀體106支承基板G， 所以移動基板G時幾乎不作用有摩擦力。因此，通過組合支承銷103和可動支承部104，對 基板G產(chǎn)生適度的摩擦力地支承基板G。如圖6所示，搬入用支架85具有框構造，該框構造包括4根鉛垂框111 ；連結鉛垂 框111的上端部的4根上部水平框112 ；連結4根鉛垂框111的下端部的4根下部水平框 113，搬入用支架85整體呈長方體狀。該搬入用支架85利用設于容器81的下方的作動缸 機構114而升降，搬入用支架85能夠與基板輸送裝置50的基板支承臂51a、51b、51c進入 加載互鎖真空室40的動作相對應地進行升降，將基板G交給基板支承臂51a、51b、51c。在搬入用支架85上分別設有用于支承第1層(最下層)的基板G的第1層搬入 用支承部115 ；用于支承第2層基板G的第2層搬入用支承部116 ；用于支承第3層(最上 層)的基板G的第3層搬入用支承部117。在這些第1層搬入用支承部第115、2層搬入用 支承部116和第3層搬入用支承部117的各支承部的高度位置分別具有從4根鉛垂框111 延伸出的4根支承構件和設于該支承構件上的基板支承銷118。如上所述，搬出用支架具有與搬入用支架85同樣的構造，其構成和與搬入用支架 85的配置關系如圖6所示。即，搬出用支架120設于搬入用支架85的內側，具有框構造，該框構造包括4根鉛垂框121 ；連結鉛垂框121的上端部的4根上部水平框122 ；連結4根鉛垂框121的下端部的4根下部水平框123，該搬出用支架120整體呈長方體狀。該搬出用支 架120利用設于容器81的下方的作動缸機構124而升降，搬出用支架120能夠與基板輸送 裝置50的基板支承臂51a、51b、51c以載置有處理后的基板G的狀態(tài)進入加載互鎖真空室 40的動作相對應地進行升降，從基板支承臂51a、51b、51c接收基板G。在搬出用支架120分別設有用于支承第1層(最下層)的基板G的第1層搬出 用支承部125 ；用于支承第2層基板G的第2層搬出用支承部126 ；用于支承第3層(最上 層)的基板G的第3層搬出用支承部127。在這些第1層搬入用支承部第125、第2層搬入 用支承部126和第3層搬入用支承部127的各支承部的高度位置分別具有從4根鉛垂框 121延伸出的4根支承構件和設于該支承構件上的基板支承銷128。在更換基板G時，將處理后的基板G從基板輸送裝置50的基板支承臂51a、51b、 51c交給第1 3層搬出用支承部125 127的基板支承銷128之后，基板支承臂51a、51b、 51c能夠接收支承在第1 3層搬入用支承部115 117的基板支承銷118上的未處理的 基板G。另外，圖6是從共用輸送室10側觀察加載互鎖真空室40內部的搬入用支架85和 搬出用支架120的側視圖。對位機構86的3個對位部87、88、89均包括沿鉛垂方向延伸且能旋轉的軸131 ； 安裝在軸131上并與支承在第1 3層對位支承部96 98上的基板G接觸而對各層的基 板G進行對位的3個對位構件132 ；用于使軸131旋轉來調節(jié)對位構件132的位置的旋轉 驅動機構133。對位構件132具有從軸131延伸的臂134和與基板G接觸的樹脂制的接觸 件 135。如圖7所示，對位機構86的按壓部90、91包括對支承在第1 3層對位支承部 96 98上的基板G進行按壓的3個按壓件141 ；安裝有3個按壓件141的、沿鉛垂方向延 伸的按壓構件142 ；具有用于對按壓構件142進行按壓的活塞143的作動缸機構144。如圖8的(a)、(b)所示，對位機構86的按壓部92包括沿鉛垂方向延伸且能旋 轉的軸151 ；安裝在軸151上、用于對支承在第1 3層對位支承部96 98上的基板G進 行按壓的3個按壓構件152 ；用于使軸151旋轉而使按壓構件152按壓基板G的旋轉驅動 機構153。按壓構件152包括從軸151延伸的第1臂154 ；利用連桿155與第1臂154連 結的第2臂156 ；設于第2臂156的頂端、按壓基板G的樹脂制的按壓件157 ；將第1臂154 和第2臂156連結起來的螺旋彈簧158。利用該螺旋彈簧158，在基板G與對位部89抵接 時防止基板G受損。在容器81的底部設有排氣口 161和吹掃氣體供給口 171。在排氣口 161連接有排 氣管線162，在排氣管線162上設有開閉閥163、真空泵165。此外，在吹掃氣體供給口 171 連接有吹掃氣體供給管線172，吹掃氣體供給管線172連接有開閉閥173、流量調整閥174、 吹掃氣體供給源175。而且，在使容器81內為降壓氣氛的情況下，關閉開閉閥173，打開開 閉閥163，利用真空泵進行真空排氣。此外，在使容器81內為大氣氣氛的情況下，關閉開閉 閥163，打開開閉閥173，一邊用流量調整閥174調整流量一邊從吹掃氣體供給源175向容 器81內供給氮氣等吹掃氣體。接著，詳細地說明這樣構成的作為真空預備室的加載互鎖真空室40的對位動作。
首先，在使容器81內處于大氣氣氛的狀態(tài)下，打開閘閥64，從開口 83搬入基板G， 將基板G支承在第1 3層對位支承部96 98的支承銷103和可動支承部104上，利用 對位機構86，按照以下的順序進行基板G的對位。參照圖9的示意圖說明此時的順序。如圖9的(a)所示，在搬入基板G時，對位部87 89、按壓部90 92處于待命狀態(tài)。然后，在基板G支承在第1 3層對位支承部96 98上的時刻，首先，如圖9的 (b)所示，使對位部87、88、89的對位構件132轉動到成為基準的位置，并調整位置，設定基 板G的位置的基準。此時的順序，例如，首先進行對位部89的位置調整，設定基板G的長邊 方向位置的基準，接著進行對位部87、88的位置調整，設定基板G的短邊方向位置和角度的基準。接著，如圖9的(c)所示，使按壓部92的按壓構件152轉動，對基板G的與對位部 89側的短邊相對的短邊進行按壓，進行基板G的長邊方向的對位。接著，如圖9的(d)所示，使按壓部90、91的活塞143伸出，對基板G的與對位部 87,88側的長邊相對的長邊進行按壓，進行基板G的短邊方向的位置和角度對位。此時，按 壓部92的按壓構件152為退避狀態(tài)，以便容易進行基板G的對位。由此，基板G被對位于設定的位置。該對位用于基板輸送裝置50將基板G輸送到 處理室30a、30b的規(guī)定位置上。即，在處理室30a、30b中進行蝕刻、成膜等處理，然而，從處 理的均勻性等觀點出發(fā)，基板G的位置很重要，因此，這樣對基板G進行對位。以往，使用呈直線狀地按壓基板對角的定位器來進行加載互鎖真空室內的矩形的 基板的對位，因此，相應地需要較多的空間，不得不使加載互鎖真空室大型化。相對于此，在本實施方式中，在對位機構86的對位部87 89中，使對位構件132 轉動而設定基板G的位置的基準，對于通過按壓基板G而使基板G對位的按壓部來說，按壓 部92使按壓構件152轉動，按壓部90、91利用設于容器81外的作動缸機構144使活塞143 伸出而按壓基板G，所以無需如以往那樣的大的空間，能使加載互鎖真空室40小型化。另 外，鑒于基板G對位的重要性，也可以在處理室30a或30b中設有同樣的對位機構，也可以 在處理室30a或30b中進行同樣的基板G的對位。此外，對位支承部96 98成為4個支承銷103和5個可動支承部104交替配置 的構成，所以能良好地進行基板G的對位。即，為了可靠地進行矩形基板G的對位，優(yōu)選這 樣地9點支承，但是若全部由支承銷103支承，則由于摩擦，基板G難以移動，難以進行基板 G的對位。此外，若全部由可動支承部104支承，則基板G容易移動，容易對位，但是有時基 板G難以停止。相對于此，通過這樣交替配置支承銷103、可動支承部104，能夠使基板G適 度地移動而得到良好的對位性。當然，在重視基板G的移動容易性的情況下，也可以全部為 可動支承部104。此外，作為對位支承部96 98，使用利用內側支承臺和外側支承臺能獨立升降的 構成，例如，如圖10所示，在內側載置臺181上只設有多個(在圖中為4個)可動支承部 104，在外側載置臺182上只設有多個(在圖中為8個)支承銷103，也可以靈活運用上述 可動支承部104和支承銷103。具體而言，能夠在進行基板G的對位的情況下，使內側載置 臺181上升，利用可動支承部104支承基板G，在對位結束之后，使外側載置臺182上升，利用支承銷103可靠地支承基板G。此外，在進行基板G的對位時，能夠在需要使基板G大幅 移動的情況下使用內側載置臺181，在基板G的移動量較小即可的情況下使用外側載置臺 182。另外，不限于圖10的例子，例如，也可以在內側載置臺181和外側載置臺182上使 支承銷103和可動支承部104的比率變化，根據(jù)所需的基板G的移動性，靈活運用內側載置 臺181和外側載置臺182。此外，載置臺的分割方式、分割數(shù)量也不限于圖10的例子。另外，利用基板輸送裝置50的基板輸送臂51a、51b、51c，向加載互鎖真空室40反 向輸送已放置于處理室30a、30b的規(guī)定的載置位置的基板G，使對位部87、88、89的按壓構 件132與此時的基板G接觸，以此來確定基板G在加載互鎖真空室40內的基準位置。只要 這些對位部87、88、89的按壓構件132的位置被確定，就確定了基板G的位置，因為該位置 能夠從由設于旋轉驅動機構133的編碼器檢測出的旋轉位置求出，所以將該位置作為對位 部87、88、89的基準位置，作為數(shù)據(jù)而向存儲部73預先存儲。此外，在向處理部30a輸送基 板G的情況和向處理部30b輸送基板G的情況下，有時對位部87、88、89的基準位置不同。 例如，向共用輸送室10安裝處理室30a和處理室30b時，考慮到會產(chǎn)生微小的誤差的情況 等。在這樣的情況下，優(yōu)選分別預先存儲在處理室30a中的基準位置和在處理室30b中的 基準位置這兩個基準位置，在向處理部30a輸送基板G的情況和向處理部30b輸送基板G 的情況下，調出不同的基準位置來進行對位。此外，該基準位置的確定既可以以自動模式進 行，也可以由操作者手動進行。在進行了以上那樣的基板G的對位之后或與基板G的對位同時，在關閉開閉閥 173，打開開閉閥163的狀態(tài)下，使真空泵165動作，使容器81內為規(guī)定壓力的降壓氣氛。然 后，在基板G的對位結束了之后，使搬入用支架85上升，由第1 3層用搬入用支承部115、 116、117的支承銷118接收基板G，打開閘閥63，使基板輸送裝置50的基板輸送臂51a、51b、 51c進入加載互鎖真空室40的容器81內的規(guī)定位置，使搬入用支架85下降，將基板G載 置到基板輸送臂51a、51b、51c上。然后，使基板輸送臂51a、51b、51c退回到共用輸送室10 內，關閉閘閥63，進行上述的一連串的動作。在加載互鎖真空室40內，在交換處理后的基板G和未處理的基板G時，同樣在加 載互鎖真空室40內進行未處理的基板G的對位，使容器81內為降壓氣氛，在由第1 3層 用搬入用支承部115、116、117的支承銷118接收未處理的基板G的狀態(tài)下，打開閘閥63，使 載置有處理后的基板G的基板輸送臂51a、51b、51c進入到加載互鎖真空室40的容器內，使 搬出用支架120上升，由第1 3層因搬出用支承部125 127的基板支承銷128接收處 理后的基板G，接著，使基板輸送臂51a、51b、51c退回后，使搬入用支架85上升，接著將基 板輸送臂51a、51b、51c插入到支承在第1 3層搬入用支承部115、116、117上的未處理的 基板G下，通過使搬入用支架85下降，將基板G載置到基板輸送臂51a、51b、51c上。然后， 使基板輸送臂51a、51b、51c退回到共用輸送室10內，關閉閘閥63，進行上述的一連串的動 作。在搬出用支架120的第1 3層搬出用支承部125 127上支承有基板G的狀態(tài) 的加載互鎖真空室40中，關閉開閉閥163，打開開閉閥173，一邊用流量調整閥174調整流 量一邊將N2氣體等吹掃氣體從吹掃氣體源175導入到容器81內，使容器81為大氣氣氛， 打開閘閥84，搬出被支承在搬出用支架120的第1 3層搬出用支承部125 127上的基板G。根據(jù)本實施方式，在加載互鎖真空室40內進行基板G的對位的對位機構86中，確 定對位基準的對位部87 89使動對位構件132轉動而確定對位基準，按壓構件92使按壓 構件152轉動而按壓基板G，按壓構件90、91利用設于容器81外的作動缸機構144使活塞 143伸出而按壓基板G，因此，無需如以往那樣的大空間，能使加載互鎖真空室40小型化。此外，在進行基板G的對位時支承基板G的對位支承部96 98中，通過交替配置 支承銷103和可動支承部104，在對位時使基板G適度地移動，能得到良好的對位性。另外，也能夠將對位支承部96 98分成基板G的移動性不同的部分，根據(jù)所需的 基板G的移動性靈活運用上述部分。而且，因為能夠一并進行多張基板例如3張基板G的對位、輸送、處理，所以能提高
處理效率。另外，本發(fā)明不限定于上述實施方式，能進行各種變形。例如，在上述實施方式中， 例示了加載互鎖真空室中的基板G的對位，但是不限于此，也可以像上述那樣在處理室中 進行基板G的對位。此外，在上述實施方式中，表示了一并進行3張基板的輸送、處理的基 板處理系統(tǒng)，但是不限于此，既可以是1張，也可以是3張以上的多張基板，基板處理系統(tǒng)的 配置方式也不限定于圖1的配置方式。而且，在上述實施方式中，例示了設有3個對位部和 3個按壓部，然而按壓部未必是必需的，而且，對位部的數(shù)量也不限定于3個。而且，在對位 支承部上交替配置了支承銷和可動支承部，但是只要能得到期望的基板的移動性，就不限 于此，能以適宜的配置方式配置這些支承銷和可動支承部。
權利要求
一種基板對位機構，其是在收容基板的容器內對支承在基板支承部上的基板進行對位的基板對位機構，其特征在于，該基板對位機構具有通過轉動而與上述容器內的基板的端面接觸的對位構件。
2.根據(jù)權利要求1所述的基板對位機構，其特征在于，上述基板呈矩形狀，上述對位構 件至少具有3個，其中一個對位構件與上述基板的一個邊接觸、其他兩個對位構件與上述 基板中與該一個邊相鄰的邊相接觸來進行基板的對位。
3.根據(jù)權利要求2所述的基板對位機構，其特征在于，具有至少3個按壓構件，該至少 3個按壓構件通過分別對上述基板的與上述至少3個對位構件接觸位置相對的位置進行按 壓來對基板進行對位。
4.根據(jù)權利要求1 3中任一項所述的基板對位機構，其特征在于，上述基板支承部以 在沿鉛垂方向重疊的狀態(tài)具有多個，用于支承以在受各基板支承部支承的狀態(tài)被進行對位 的基板。
5.根據(jù)權利要求3所述的基板對位機構，其特征在于，上述基板支承部以沿鉛垂方向 呈多層重疊的狀態(tài)設置多個，上述對位構件相對于各基板支承部至少各設有3個，上述對 位構件中的、與沿鉛垂方向重疊的狀態(tài)的上述多個基板支承部相對應的那些對位構件安裝 在共用的能夠旋轉的軸上，通過使上述軸轉動，能夠使對位構件與支承在上述多個基板支 承部上的多張基板一并接觸。
6.根據(jù)權利要求1 3中任一項所述的基板對位機構，其特征在于，上述基板支承部利 用多個支承銷和多個可動支承部支承基板。
7.根據(jù)權利要求6所述的基板對位機構，其特征在于，上述基板支承部為交替配置多 個支承銷和多個可動支承部而構成的。
8.根據(jù)權利要求6所述的基板對位機構，其特征在于，上述基板支承部被分為多個，各 自的支承銷與可動支承部的比率不同。
9.一種真空預備室，其用于收容要在降壓氣氛的處理室中進行處理的基板，在將基板 輸送到處理室之前，在降壓氣氛中保持基板，其特征在于，包括容器，其用于收容基板；基板支承部，其用于在上述容器內支承基板；權利要求1 8中任一項所述的基板對位機構，其用于對支承在上述基板支承部上的 基板進行對位。
10.一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于，包括多個處理室，其用于在降壓氣氛中對基板實施規(guī)定的處理；權利要求9所述的真空預備室，其用于收容要在上述處理室中進行處理的基板，在將 基板輸送到處理室之前，將基板保持在降壓氣氛中；基板輸送裝置，其用于在上述真空預備室和上述處理室之間輸送基板。
11.根據(jù)權利要求10所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，上述基板對位機構具有與各 處理室相對應的多個基板基準位置，以便上述輸送裝置能夠將基板輸送到多個上述處理室 的規(guī)定位置上。
12.根據(jù)權利要求11所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，上述基準位置的確定是通過 使上述基板對位構件與基板接觸來確定的。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能使對基板進行對位的容器內的用于基板對位的空間盡量縮小的基板對位機構、使用其的真空預備室和基板處理系統(tǒng)。在收容基板(G)的容器(81)內對支承在基板支承部(96、97、98)上的基板(G)進行對位的基板對位機構(86)具有通過轉動而與容器(81)內的基板(G)的端面接觸的對位構件(132)。
文檔編號H01L21/68GK101989559SQ201010233770
公開日2011年3月23日 申請日期2010年7月20日 優(yōu)先權日2009年7月30日
發(fā)明者小澤潤, 熊坂肇 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社