專利名稱：密封裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于顯示面板的密封裝置，該顯示面板諸如液晶顯示面板或有機(jī) EL(Organic Electro-Luminescence 有機(jī)電致發(fā)光)顯示面板等，在貼合的一對基板的內(nèi) 部形成發(fā)光層，通過電性地驅(qū)動該發(fā)光層以獲得圖像或照明光。
背景技術(shù)：
作為顯示面板，代表性的液晶顯示面板的制造如圖9所示的例子，在形成有透明 電極的一對基板(例如玻璃基板)中的一個基板(下側(cè)基板50)，將紫外線固化型密封材 料51涂布成閉合環(huán)狀，在由該密封材料51所圍住的區(qū)域內(nèi)，散布透明球狀的間隔件，并且 滴下液晶材料52。然后，在真空處理室53內(nèi)，將該下基板50隔著彈性片材55而載置固定在定位桌 54上，其中該定位桌54被支持為可與下基板50的面在平行方向上移動。另一方面，同樣在 真空處理室53內(nèi)，將一對基板中的另一基板(上基板56)吸附固定于吸附盤57，其中該吸 附盤57被支持為可與上基板56的面往垂直方向移動。然后，將真空處理室53內(nèi)進(jìn)行真空排氣，達(dá)到特定真空度后，使吸附盤57下降，在 下基板50上的密封材料51及液晶材料52即將接觸到上基板56前的位置停止，通過移動 定位桌54來調(diào)整相對的上基板56與下基板50的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系，進(jìn)行兩基板50、56 的粗略對準(zhǔn)處理。接著，將真空處理室53內(nèi)進(jìn)一步進(jìn)行真空排氣，提高至特定真空度后，進(jìn)一步使 吸附盤57下降，將上基板56往下基板50側(cè)加壓，維持在由透明球狀的間隔件保持著上基 板56與下基板50間的單元(cell)間隙的狀態(tài)。此時，在兩基板50、56間，下側(cè)基板50上 的密封材料51受到擠壓，同樣受到擠壓的液晶材料52流動擴(kuò)散在由密封材料51及兩基板 50、56所圍住的區(qū)域內(nèi)，區(qū)域全體充滿液晶材料。接著，在真空處理室53內(nèi)進(jìn)行吸氣，使真空處理室53內(nèi)回復(fù)成大氣壓，在大氣壓 中，通過移動定位桌54來調(diào)整相對的上基板56與下基板50的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系，進(jìn)行 兩基板50、56的精密對準(zhǔn)處理。然后，最后對已施行對準(zhǔn)處理的一對基板50、56照射紫外 線，使密封材料51固化，液晶顯示面板的制造步驟(貼合步驟)結(jié)束(參考例如專利文獻(xiàn) 1)。另外，由于有機(jī)EL顯示面板的發(fā)光體具有因通電及氧或濕氣影響而逐漸劣化，從 而亮度降低的性質(zhì)，因此已提案一種去除接著劑中的氣泡或水分的方法(例如專利文獻(xiàn) 2)。該專利文獻(xiàn)2所揭示的技術(shù)對于由彈性體片材所隔開的第一空間及第二空間，具備可 將該兩空間進(jìn)行排氣的排氣手段，通過該排氣手段，將第一空間相對于第二空間控制在負(fù) 壓，隔著彈性片材，使在兩空間所產(chǎn)生的差壓作用于密封基板及組件基板中的一個，由此可 壓著兩基板。而且，在液晶顯示面板或有機(jī)EL顯示面板的制造步驟中，通過光壓法照射UV (紫 外線)以使光固化型接著劑固化的情況時，尤其若有機(jī)EL組件受到UV照射會顯著劣化，因此一般是石英遮光玻璃形成遮光屏蔽圖案，使得UV僅照射于光固化材料型接著材料(例如 專利文獻(xiàn)3)。由于該專利文獻(xiàn)3所揭示的技術(shù)是在形成有光電層的基板的背面?zhèn)?，配置遮光?璃，為了氣密地覆蓋前述光電層，在隔著光固化型接著材料壓接前述基板與密封構(gòu)件的狀 態(tài)下，從前述遮光玻璃側(cè)照射UV而令前述光固化型接著材料固化，由此使得基板與密封構(gòu) 件接合，因此在遮光玻璃與基板的接觸面施以撥水處理，防止遮光玻璃與基板黏住。前述專利文獻(xiàn)3所揭示的結(jié)構(gòu)是使用極為昂貴的石英玻璃的方法，因此從耐久度 等方面來看會構(gòu)成問題，因此本申請案的申請人采用具有柔軟性及透光性的片材構(gòu)件，在 該片材構(gòu)件壓接單元構(gòu)造體的上側(cè)基板，在片材構(gòu)件的初始性能降低至容許值以下的情況 時，可連續(xù)供給未使用部分。然后，形成能夠以該片材構(gòu)件作為界線進(jìn)行減壓的第一處理室 及第二處理室，并可從單元構(gòu)造體的兩面進(jìn)行壓力控制(參考專利文獻(xiàn)4)。〔先有技術(shù)文獻(xiàn)〕
〔專利文獻(xiàn)〕〔專利文獻(xiàn)1〕日本特開2002-296601號公報〔專利文獻(xiàn)2〕日本特開2005-276754號公報〔專利文獻(xiàn)3〕日本特開2006-004707號公報〔專利文獻(xiàn)4〕日本特開2009-058783號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明欲解決的問題然而，液晶顯示面板及有機(jī)EL顯示面板傾向大型化，伴隨著面板大型化，制造裝 置也大型化。而且，即便面板大型化，但進(jìn)行貼合的上下基板對于密封裝置的搬出/搬入必 須以專用的搬運(yùn)裝置進(jìn)行，不得伴隨有人為作業(yè)。如通過人為作業(yè)來進(jìn)行上下基板的搬出/ 搬入的情況下，塵埃從作業(yè)員的衣服等飛散，或從身體蒸發(fā)汗水而無法維持適當(dāng)濕度，未能 獲得相當(dāng)于無塵室的環(huán)境，會顯著降低生產(chǎn)良率。而且，為了提升生產(chǎn)效率，期望形成在單元(cell)構(gòu)造體上下的處理室盡可能為 所需要的最低限度容量。也就是說，進(jìn)行上下基板貼合的處理室內(nèi)必須在每一步驟，每次務(wù) 必成為高真空度，以使得基板間單元間隙內(nèi)的真空度變高。然而，該處理室的容量大的情況 下，由于其內(nèi)部空氣吸引量也變大，因此真空泵的動作時間也成比例而變長，這成為主要原 因而讓生產(chǎn)效率降低。尤其在制造有機(jī)EL顯示面板的情況下，由于要求極高的真空度，因此必須盡可能 將處理室小型化，以求效率良好地形成真空狀態(tài)。而且，即便不斷使處理室變得小型，但同 時仍必須具備可對該處理室內(nèi)搬入上下基板及搬出已完成的顯示面板，并可獲得氣密狀態(tài) 的開關(guān)門，以便可實現(xiàn)自動生產(chǎn)。本發(fā)明為了解決上述問題而完成，可提供一種密封裝置，其可提升液晶顯示面板、 有機(jī)EL顯示面板等的生產(chǎn)效率。解決問題的技術(shù)手段因此，本發(fā)明通過以下所述各種手段來解決上述問題。亦即，技術(shù)方案1所記載的 發(fā)明為一種密封裝置，其包括空室殼體，其在上面形成開口部而具有吸排氣口，并且在內(nèi)部可升降地設(shè)置有臺面和下側(cè)基板的支持桿及上側(cè)基板的支持桿；片材構(gòu)件，其覆蓋所述 空室殼體的開口部，具有柔軟性及透光性；UV屏蔽支持框，其外形為大致與所述空室殼體 一致的形狀，具有吸排氣口，并且在內(nèi)部容納UV穿透屏蔽并載置在所述片材構(gòu)件上；可動 密封盤，其覆蓋所述UV屏蔽支持框上面的開口部；及光源部，其配設(shè)在所述可動密封盤的 上方；在所述空室殼體上隔著片材構(gòu)件而配置有UV屏蔽支持框及可動密封盤時，以所述片 材構(gòu)件作為界線的下部的空室殼體內(nèi)成為可減壓的第一處理室，而另一方面，在以所述片 材構(gòu)件作為界線的上部，由UV屏蔽支持框及可動密封盤所圍住的內(nèi)部成為可減壓的第二 處理室。技術(shù)方案2所記載的發(fā)明如上述技術(shù)方案1的密封裝置，其包括第一支持桿，其 在所述空室殼體內(nèi)支持第一基板，并使其可升降；第二支持桿，其支持第二基板并使其可升 降；及臺面，其載置單元構(gòu)造體并使其可升降。技術(shù)方案3所記載的發(fā)明如上述技術(shù)方案2的密封裝置，其配置成所述第一支持 桿在所述臺面內(nèi)升降。技術(shù)方案4所記載之發(fā)明如上述技術(shù)方案2的密封裝置，其中在空室殼體的底面 下構(gòu)成驅(qū)動機(jī)構(gòu)，用以升降所述第一支持桿、第二支持桿及臺面。技術(shù)方案5所記載的發(fā)明如上述技術(shù)方案2的密封裝置，其中在所述空室殼體的 任意側(cè)面，設(shè)置可保持第一處理室的氣密狀態(tài)的開關(guān)門。技術(shù)方案6所記載的發(fā)明如上述技術(shù)方案2的密封裝置，其中在所述臺面的側(cè)部 設(shè)置對準(zhǔn)相機(jī)，用以進(jìn)行所述第一基板與第二基板的對準(zhǔn)調(diào)整。發(fā)明效果若依據(jù)本發(fā)明，由于在空室殼體上，隔著片材構(gòu)件配置UV屏蔽支持框及可動密封 盤而構(gòu)成，因此能夠盡可能縮小以前述片材構(gòu)件作為界線的下部的空室殼體內(nèi)的第一處理 室，由此可迅速進(jìn)行該第一處理室的排氣處理，因此可提升生產(chǎn)效率。而且，在上述結(jié)構(gòu)中，由于包括第一支持桿，其于空室殼體內(nèi)支持第一基板，并使 其可升降；第二支持桿，其支持第二基板并使其可升降；及臺面，其載置單元構(gòu)造體并使其 可升降；并進(jìn)一步在空室殼體的任意側(cè)面，設(shè)置可保持第一處理室的氣密狀態(tài)的開關(guān)門； 因此可將第一、第二基板的搬入予以自動化，然后將已成形的單元構(gòu)造體的搬出予以自動 化，可進(jìn)行無人為作業(yè)介于其中的連續(xù)自動生產(chǎn)。


圖1是說明本發(fā)明的密封裝置的結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖2是說明本發(fā)明的密封裝置的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖3是說明本發(fā)明的密封裝置的結(jié)構(gòu)的部分立體圖。圖4是說明本發(fā)明的密封裝置的要部的動作態(tài)樣的圖。圖5是說明本發(fā)明的密封裝置的吸排氣回路的結(jié)構(gòu)的圖。圖6是作為單元構(gòu)造體的第一基板的說明圖。圖7是作為單元構(gòu)造體的第二基板的說明圖。圖8-1是說明本發(fā)明的密封裝置的動作態(tài)樣的圖。圖8-2是說明本發(fā)明的密封裝置的動作態(tài)樣的圖。
圖8-3是說明本發(fā)明的密封裝置的動作態(tài)樣的圖。圖8-4是說明本發(fā)明的密封裝置的動作態(tài)樣的圖。圖8-5是說明本發(fā)明的密封裝置的動作態(tài)樣的圖。圖8-6是說明本發(fā)明的密封裝置的動作態(tài)樣的圖。圖8-7是說明本發(fā)明的密封裝置的動作態(tài)樣的圖。圖9是表示以往的密封裝置例子的剖面圖。
具體實施方式
以下根據(jù)圖來詳細(xì)說明本發(fā)明的實施方式。另外，在各圖中，同一部分附上同一符 號以使說明不重復(fù)。而且，由于以下所述實施方式是本發(fā)明的較佳的具體實例，因此雖被附 加了技術(shù)上較佳的各種限定，但只要在以下說明中未特別記載限定本發(fā)明的旨趣，本發(fā)明 的范圍均不受那些實施方式限定。在圖1及圖2中，符號1為空室殼體，其內(nèi)部作為第一處理室CHl的中空體；上面 形成有開口部la，任意側(cè)面形成有基板搬入窗l(fā)b。進(jìn)一步在空室殼體1，配設(shè)有連接到后述 吸排氣回路的吸排氣管P1。在空室殼體1的內(nèi)部中央設(shè)置有臺面2，固定在該臺面2的桿3從空室殼體1的底 部延伸設(shè)置到外部，通過馬達(dá)5給予齒輪箱4以驅(qū)動力，桿3進(jìn)行上下運(yùn)動，臺面2會在空 室殼體1的內(nèi)部升降。另外，在空室殼體1的底面的前述桿3的支持部分，設(shè)置有氣密封件 S，以保持該部分之氣密狀態(tài)。進(jìn)一步在空室殼體1的底面下配置固定有流體壓缸7，用以使支持桿6進(jìn)行上下運(yùn) 動，該支持桿6從下面支持搬入到空室殼體1內(nèi)部的第一基板(下基板)W1的對角線上的 4處角落部。而且，同樣在空室殼體1的底面下配置固定有流體壓缸9，用以使前端包括保 持器8a的支持桿8進(jìn)行上下運(yùn)動，該保持器8a從下面支持搬入到空室殼體1內(nèi)部的第二 基板(上基板)W2的四角落。另外，在空室殼體1的底面的前述支持桿6、8的支持部分，設(shè) 置有氣密封件S，以保持該部分的氣密狀態(tài)。支持第一基板Wl的支持桿6貫通臺面2內(nèi)而進(jìn)行上下運(yùn)動，這是考慮到將第一基 板Wl在盡可能寬廣的范圍內(nèi)載置于臺面2上，以使得成形時沒有壓力偏倚的部分。另外， 在臺面2的側(cè)部設(shè)置對準(zhǔn)相機(jī)10，以獲得用以進(jìn)行第一基板Wl與第二基板W2的水平對準(zhǔn) 的圖像信號。接著，在前述空室殼體1的上面，以覆蓋其全范圍的方式配設(shè)有UV穿透特殊片材 11，在構(gòu)造上，該UV穿透特殊片材11從供給滾筒12送出，并由卷取滾筒13所卷取。該UV 穿透特殊片材11使紫外線穿透且是具有柔軟性的材料，以例如PET樹脂所形成，由于密覆 在空室殼體1的凸緣Ic上面，因此該部分可保持氣密性。前述UV穿透特殊片材11上的載置于空室殼體1的凸緣Ic上的UV屏蔽支持框架 14，為形狀與空室殼體1之外形大致一致的框體，在其內(nèi)部，以凸緣14a支持而容納UV屏蔽 15。該UV屏蔽15形成有復(fù)數(shù)個通孔15a，用以將從配置于上方的后述燈屋19所射出的UV 的所需量，導(dǎo)引至空室殼體1內(nèi)。進(jìn)一步在UV屏蔽支持框14，配設(shè)有連接到后述吸排氣回 路的吸排氣管P2，在框體上面及下面配設(shè)有0形環(huán)16、17以保持氣密性。在前述UV屏蔽支持框14的上面，載置有用以覆閉其開口部14b的可動密封盤18。該可動密封盤18由圖示省略的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，從前后方向或橫側(cè)方向搬入到UV屏蔽支持框14 的定位，如圖1所示載置于UV屏蔽支持框14上，并由圖標(biāo)省略的加壓裝置向下方施加壓 力。由此，以UV穿透特殊片材11、UV屏蔽支持框14的內(nèi)面及可動密封盤18的背面所圍住 的空間成為第二處理室CH2。然后，由于通過來自前述加壓裝置的加壓而成為O形環(huán)16、17 被擠壓的狀態(tài)，因此該部分可充分保持氣密性。 在前述可動密封盤18的上方配設(shè)有燈屋19，在該燈屋19的內(nèi)部，朝向其開口 19a 依序容納有放射紫外線的UV燈20、遮斷來自該UV燈20的輻射熱的熱射線截止濾光片21 及開關(guān)自如的檔門22。本發(fā)明的機(jī)構(gòu)要素如以上構(gòu)成，但為了達(dá)成裝置自動化，需要在空室殼體1的基 板搬入窗Ib包括開關(guān)門。圖3表示該結(jié)構(gòu)的一個例子，如圖所示，覆蓋基板搬入窗Ib整面 的開關(guān)門23配置為，通過升降裝置24的齒輪機(jī)構(gòu)傳遞動力而進(jìn)行上下運(yùn)動。另外，在基板搬入窗Ib的凸緣部整圈，如圖4所示配設(shè)有流體壓管25，如圖4(A) 所示，使開關(guān)門24下降時，吸引流體壓管25內(nèi)的流體以避免與開關(guān)門23接觸。如此，在開 放基板搬入窗Ib時，如圖所示，可通過機(jī)器手臂RB1，RB2搬入第一基板W1、第二基板W2。 然后，當(dāng)?shù)谝换錡1、第二基板W2搬入結(jié)束時，如圖4(B)所示，升高開關(guān)門23，在流體壓管 25注入加壓流體而使其膨脹，以獲得氣密狀態(tài)。在此，根據(jù)圖5來說明本發(fā)明裝置的吸排氣回路的結(jié)構(gòu)。如圖所示，連接到空室殼 體1的吸排氣管Pl系隔著閥26a而相連于大氣A，而另一方面隔著閥26b、26c而相連于真 空泵28。另外，連接到UV屏蔽支持框14的吸排氣管P2隔著閥27a而相連于大氣A，而另 一方面隔著閥27b、27c而相連于真空泵28。另外，從閥26c及閥27c通往真空泵28的配管 在中途互相連結(jié)，以1條配管相連于真空泵28。而且，閥26c及閥27c為真空壓力調(diào)整用 閥，設(shè)置用以控制排氣后達(dá)到真空壓。本發(fā)明的密封裝置如以上而構(gòu)成，在以下說明中將第一基板Wl及第二基板W2搬 入到空室殼體1內(nèi)，且到單元構(gòu)造體30完成的處理步驟，由于第一基板Wl及第二基板W2 必須準(zhǔn)備已預(yù)先成形的物質(zhì)，因此首先以液晶顯示面板情況下的例子，來說明該預(yù)先成形 的第一基板W1、第二基板W2的加工態(tài)樣。如圖6所示，在第一基板Wl的一面，至少在長寬保持特定間隔的復(fù)數(shù)個液晶顯示 區(qū)域31a的區(qū)域內(nèi)，散布透明球狀的間隔件31b，或者形成光間隔件32b，以便于貼合第一基 板Wl與第二基板W2時，確保兩基板W1、W2間的液晶顯示區(qū)域31a的設(shè)定間距。進(jìn)一步在復(fù) 數(shù)個液晶顯示區(qū)域31a的外側(cè)，設(shè)置復(fù)數(shù)處的兩基板W1，W2的位置對齊用的對準(zhǔn)標(biāo)記31c。另外，在第二基板W2的一面，如圖7所示，長寬保持特定間隔而涂布復(fù)數(shù)個閉合環(huán) 狀的密封材料32a。該密封材料32a具有UV固化性及熱固化性兩方面的性質(zhì)，并且在密封 材料32a中事先混入圓柱狀的硅光纖32b，以便于兩基板Wl、W2貼合時，可確保兩基板Wl、 W2間的封件部分的設(shè)定間距。而且，以圍住涂布有復(fù)數(shù)個密封材料32a的區(qū)域全體的方式，涂布閉合環(huán)狀的密 封材料32c。在密封材料32c中同樣事先混入圓柱狀的硅光纖32b，以便于兩基板W1、W2貼 合時，可確保兩基板W1、W2間的封件部分的設(shè)定間距。另外，混入密封材料32a及密封材料 32c的硅光纖32b的材質(zhì)、形狀、大小均相同。進(jìn)一步在閉合環(huán)狀密封材料32c的外側(cè)，設(shè)置復(fù)數(shù)處對準(zhǔn)標(biāo)記32d及暫時固定用的UV固化樹脂32e。而且，在由各閉合環(huán)狀密封材料32a所圍住的內(nèi)側(cè)區(qū)域，在復(fù)數(shù)個位 置，通過分配器等液狀定量噴出裝置滴下特定量的液晶材料32f。另外，在本發(fā)明的裝置中，若以有機(jī)EL顯示面板的形成作為對象的情況，可使用 在第一基板Wl或第二基板W2的任一形成有機(jī)EL層的物質(zhì)，并將對應(yīng)于其其它基板作為密 封基板而成形。如以上預(yù)先成形的復(fù)數(shù)片第一基板Wl及第二基板W2存放于未圖標(biāo)的搬入裝置， 成形已準(zhǔn)備妥當(dāng)。該前提下的圖1所示的各機(jī)構(gòu)要素處于處理步驟開始的初始狀態(tài)，第一 基板Wl的支持桿6、第二基板W2的支持桿8及臺面2位于最靠下的位置。然后，當(dāng)裝置開 始運(yùn)轉(zhuǎn)時，首先如圖8(A)所示，流體壓缸7進(jìn)行動作，支持桿6如圖所示升高。此時，閥27b 開放，第二處理室CH2被抽取真空，UV穿透特殊片材11密覆于UV屏蔽15。接著，從如圖4(A)所示而開放的基板搬入窗l(fā)b，通過機(jī)器手臂RBl搬入第一基板 W1，并如圖8(B)所示載置于前述支持桿6的前端6a上。另外，也可通過機(jī)器手臂RBl先搬 入第一基板Wl，其后使流體壓缸7動作以升高支持桿6。當(dāng)通過前述步驟已將第一基板Wl載置于支持桿6的前端6a時，如圖8 (C)所示， 支持桿6下降，第一基板Wl配置在靠近臺面2的位置。當(dāng)?shù)谝换錡l成為圖8 (C)的配置 狀態(tài)時，流體壓缸9進(jìn)行動作，如圖8 (D)所示升高支持桿8。若已達(dá)到該狀態(tài)，通過機(jī)器手臂RB2搬入第二基板W2，該第二基板W2的四個角落 如圖8(E)所示，成為受到支持桿8的前端的保持器8a所支持而載置的狀態(tài)。另外，在該情 況下，也可通過機(jī)器手臂RB2先搬入第二基板W2，其后使流體壓缸9動作以升高支持桿8。 而且，在搬入第二基板W2時，對準(zhǔn)相機(jī)10檢測第一基板Wl的對準(zhǔn)標(biāo)記31c及第二基板W2 的對準(zhǔn)標(biāo)記32d，通過機(jī)器手臂RB2根據(jù)該圖像信號所進(jìn)行的微調(diào)，可進(jìn)行兩基板W1、W2的 水平方向?qū)?zhǔn)。如以上完成第一基板Wl及第二基板W2的搬入時，開關(guān)門23上升，如圖4 (B)所示， 在流體壓管25注入有加壓流體而膨脹，該部分由此成為氣密狀態(tài)，第一處理室CHl成為密 閉狀態(tài)。然后，在該狀態(tài)下，閥26b開放，如圖8(F)所示開始第一處理室CHl的真空抽取， 通過調(diào)整閥26c而成為約IPa(帕斯卡)的高真空度。另外，此時，為了使UV穿透特殊片材 11不被拉向第一處理室CHl側(cè)，調(diào)整閥27c以使得第二處理室CH2不致成為負(fù)壓。如此，讓第一處理室CHl成為高真空度，尤其在制造有機(jī)EL顯示面板的情況下有 意義，隨著排氣可去除第一處理室CHl內(nèi)的氧或濕氣，然后可去除空氣中的雜質(zhì)，可提高良 率。通過前述步驟，在高真空度下，第一處理室CHl的排氣結(jié)束時，如圖8(G)所示，使 流體壓缸7動作，通過支持桿6升高到第一基板Wl接觸第二基板W2的密封材料32c的程 度，進(jìn)行暫時固定。在此同時，調(diào)整閥26c，提高第一處理室 CHl的真空度到約50Pa，打開閥 29a,從氣體供給手段29導(dǎo)入氬或氮氣等經(jīng)充分干燥的惰性氣體G。圖8(H)的步驟表示進(jìn)一步升高臺面2，同時提高第一處理室CHl的真空度到約 IOOPa的狀態(tài)。另外，此時，流體壓缸7、9進(jìn)行動作，該支持桿6、8重新回復(fù)到初始位置。然 后，在圖8 (I)的步驟，臺面2升高到最高位，并且調(diào)整閥26c，提高第一處理室CHl的真空度 到約50kPa。圖8 (J)的步驟表示在將第一處理室CHl內(nèi)的真空度維持在約50kPa的狀態(tài)下，關(guān)閉閥27b，并且開放閥27a而將大氣A導(dǎo)入的第二處理室CH2的狀態(tài)。由此，當(dāng)大氣A充滿 第二處理室CH2時，由于大氣壓約為lOlkPa，因此第一處理室CH1內(nèi)成為負(fù)壓，第二處理室 CH2的正壓經(jīng)由通孔15a而將UV穿透特殊片材11下壓，密覆于第二基板W2整面而施加加 壓力。圖8 (K)的步驟表示通過搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，從UV支持框14的上面移動可動密封盤18而 去除的狀態(tài)，即使去除該可動密封盤18，由于UV穿透特殊片材11的上面依然為大氣壓，故 維持第一處理室CH1內(nèi)的負(fù)壓狀態(tài)。因此，在該狀態(tài)下，通過UV穿透特殊片材11對于第二 基板W2的加壓力未產(chǎn)生變化。如此，當(dāng)大氣壓對第二基板W2施加時，第二基板W2往第一基板W1側(cè)移動，兩基板 W1、W2間的間距縮短。若此為形成液晶顯示面板的情況，則兩基板W1、W2間的間距(單元 間距)會通過硅光纖32b及間隔件31b決定而靠近至例如約5 ym的程度。然后，在兩基板 WUW2及密封材料32a所圍住的區(qū)域充滿有液晶材料32f。接著，在圖8 (L)的步驟中，檔門22打開特定時間，已事先點燈的UV燈20隔著熱 射線截止濾光片21而由UV光的UV屏蔽15決定所需要的光量，該光量穿透UV穿透特殊片 材11而照射到第二基板W2。由此，位于第一基板W1與第二基板W2間的密封材料32a、32c 固化，具有特定單元間距的單元構(gòu)造體30完成。如此，當(dāng)單元構(gòu)造體30完成時，通過關(guān)閉閥26b且開放閥26a，將大氣A導(dǎo)入至第 一處理室CH2內(nèi)。由此，如圖8 (M)所示，解除UV穿透特殊片材11與第二基板W2的密覆， 該UV穿透特殊片材11重新回復(fù)到初始位置。然后，使臺面2下降至初始位置，通過升降裝 置24移動開關(guān)門23，從空室殼體1的基板搬入窗l(fā)b，可通過機(jī)器手臂RB1或RB2取出由升 高的支持桿8的保持器8a所支持的單元構(gòu)造體30。如以上詳細(xì)說明，本發(fā)明的密封裝置以UV穿透特殊片材11覆閉空室殼體1上面 的開口部，載置容納有UV屏蔽15的UV屏蔽支持框14，進(jìn)一步載置覆閉該UV屏蔽支持框 14的開口部的可動密封盤18。然后，通過在空室殼體1形成基板搬入窗l(fā)b，于其前面配設(shè) 開關(guān)門，能夠盡可能將空室殼體1小型化，因此可迅速進(jìn)行用以形成真空狀態(tài)的排氣處理， 可提升生產(chǎn)效率，可制成泛用性高的密封裝置，對應(yīng)液晶顯示面板或有機(jī)EL顯示面板等的
生產(chǎn)。
主要組件符號說明
1空室殼體
2臺面
3桿
4齒輪箱
5馬達(dá)
6支持桿
7流體壓缸
8支持桿
9流體壓缸
10對準(zhǔn)相機(jī)
11UV穿透特殊片材0091]12供給滾筒0092]13卷取滾筒0093]14uv屏蔽支持框0094]15uv屏蔽0095]160形環(huán) 0096]170形環(huán)0097]18可動密封盤0098]19燈屋0099]20UV燈0100]21熱射線截止濾光片0101]22檔門0102]23開關(guān)門0103]24升降裝置0104]25流體壓管0105]26a,26b,26c 閥0106]27a,27b,27c 閥0107]28真空泵0108]30單元構(gòu)造體0109]ffl第一基板0110]W2第二基板0111]CHI第一處理室0112]CH2第二處理室。
權(quán)利要求
一種密封裝置，其特征在于包括空室殼體，其在上面形成開口部而具有吸排氣口，并且在內(nèi)部可升降地設(shè)置有臺面和下側(cè)基板的支持桿及上側(cè)基板的支持桿；片材構(gòu)件，其覆蓋所述空室殼體的開口部，具有柔軟性及透光性；UV屏蔽支持框，其外形為大致與所述空室殼體一致的形狀，具有吸排氣口，并且在內(nèi)部容納UV穿透屏蔽并載置在所述片材構(gòu)件上；可動密封盤，其覆蓋所述UV屏蔽支持框上面的開口部；及光源部，其配設(shè)在所述可動密封盤的上方；在所述空室殼體上隔著片材構(gòu)件而配置有UV屏蔽支持框及可動密封盤時，以所述片材構(gòu)件作為界線的下部的空室殼體內(nèi)成為可減壓的第一處理室，而另一方面，在以所述片材構(gòu)件作為界線的上部，由所述UV屏蔽支持框及可動密封盤所圍住的內(nèi)部成為可減壓的第二處理室。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封裝置，其包括第一支持桿，其在所述空室殼體內(nèi)支持第一基板，并使其可升降；第二支持桿，其支持第二基板并使其可升降；及臺面，其載置單元構(gòu)造體并使其可升降。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的密封裝置，其配置成所述第一支持桿在所述臺面內(nèi)升降。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的密封裝置，其中在所述空室殼體的底面下構(gòu)成驅(qū)動機(jī)構(gòu)，用 以升降所述第一支持桿、所述第二支持桿及所述臺面。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的密封裝置，其中在所述空室殼體的任意側(cè)面，設(shè)置可保持所 述第一處理室的氣密狀態(tài)的開關(guān)門。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的密封裝置，其中在所述臺面的側(cè)部設(shè)置對準(zhǔn)相機(jī)，用以進(jìn)行 所述第一基板與所述第二基板的對準(zhǔn)調(diào)整。
全文摘要
本發(fā)明可貼合上下基板而提升液晶顯示面板、有機(jī)EL面板等單元(cell)構(gòu)造體的生產(chǎn)效率，并且獲得高質(zhì)量的單元構(gòu)造體。本發(fā)明包括空室殼體，其在上面形成開口部而具有吸排氣口，并且在內(nèi)部可升降地設(shè)置有臺面和下側(cè)基板的支持桿及上側(cè)基板的支持桿；片材構(gòu)件，其覆蓋所述空室殼體的開口部，具有柔軟性及透光性；UV屏蔽支持框，其外形為大致與所述空室殼體一致的形狀，具有吸排氣口，并且在內(nèi)部容納UV穿透屏蔽并載置在所述片材構(gòu)件上；可動密封盤，其覆蓋所述UV屏蔽支持框上面的開口部；及光源部，其配設(shè)在所述可動密封盤的上方；在所述空室殼體上隔著片材構(gòu)件而配置有UV屏蔽支持框及可動密封盤時，以所述片材構(gòu)件作為界線的下部之空室殼體內(nèi)成為可減壓的第一處理室，而另一方面，在以前述片材構(gòu)件作為界線的上部，由UV屏蔽支持框及可動密封盤所圍住的內(nèi)部成為可減壓的第二處理室。
文檔編號H01L51/56GK101866078SQ20091021235
公開日2010年10月20日 申請日期2009年11月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月14日
發(fā)明者奧山享司, 水流則幸, 西村誠, 高宗由夏 申請人:常陽工學(xué)股份有限公司