專利名稱：翻倒檢測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對(duì)電器等設(shè)備的翻倒?fàn)顟B(tài)進(jìn)行檢測(cè)的翻倒檢測(cè)裝置。
技術(shù)背景近年來(lái)，加濕器或除濕器等與水有關(guān)的設(shè)備或者油汀取暖器等使用 液體燃料的設(shè)備等對(duì)液體進(jìn)行處理的一般使用的電器已經(jīng)大量商品化。 在這種電器的設(shè)備中，由于大部分通常為移動(dòng)方式而非固定設(shè)置，因此 有時(shí)由于使用上的不注意或地震等外力會(huì)翻倒。如果發(fā)生設(shè)備的翻倒則 處理液體漏出，如果在這種處理液體泄漏的狀態(tài)下設(shè)備被通電而成為運(yùn) 轉(zhuǎn)狀態(tài)，則成為液體朝向設(shè)備內(nèi)部泄漏而導(dǎo)致電路故障或起火的原因。 并且，如果液體泄漏至設(shè)備的外部，則成為地面或家具損壞或者發(fā)生火 災(zāi)的原因，因此，對(duì)設(shè)備的翻倒?fàn)顟B(tài)進(jìn)行檢測(cè)并報(bào)警或者停止設(shè)備的運(yùn) 轉(zhuǎn)狀態(tài)這種安全對(duì)策很重要。以往，作為對(duì)這種設(shè)備的翻倒?fàn)顟B(tài)進(jìn)行檢測(cè)的方法， 一般公知有以 開(kāi)關(guān)的方式對(duì)設(shè)備的某種程度以上的傾斜進(jìn)行檢測(cè)的傾斜開(kāi)關(guān)(例如參 照專利文獻(xiàn)l)。以下，參照?qǐng)D16對(duì)該傾斜開(kāi)關(guān)進(jìn)行說(shuō)明。殼體101構(gòu)成傾斜開(kāi)關(guān)的主體的基礎(chǔ)，在殼體101內(nèi)部的大致圓錐 狀的凹陷102的前端具有圓柱狀的凹陷103，并將直徑比上述圓柱狀的凹 陷103的開(kāi)口直徑大的球體104放在該凹陷103上。進(jìn)一步，利用罩105 從上方覆蓋以便上述球體104能夠在大致圓錐狀的凹陷102上自由滾動(dòng)， 并且在上述圓柱狀的凹陷103的底部設(shè)置光傳感器106。此處，光傳感器 106是向?qū)ο笸渡涔?、并通過(guò)有無(wú)從對(duì)象反射光來(lái)檢測(cè)對(duì)象有無(wú)的反射型 光傳感器。在這樣構(gòu)成的實(shí)施例的傾斜開(kāi)關(guān)處于水平的情況下，球體104 滾入圓柱狀的凹陷103中，光傳感器106檢測(cè)到很多來(lái)自球體104的反4射光，由此能夠判斷為處于水平狀態(tài)。并且，在處于傾斜的情況下，球體104從圓柱狀的凹陷103朝傾斜方向滾動(dòng)，光傳感器106從球體104 接收的反射光少，或者接收不到反射光，從而無(wú)法檢測(cè)傾斜的狀態(tài)，因 此根據(jù)該狀態(tài)來(lái)判斷為翻倒。在這種現(xiàn)有的傾斜開(kāi)關(guān)中，由于球體104 是容易滾動(dòng)的形狀即球形，因此其容易通過(guò)翻倒以外的來(lái)自外部的沖擊 等越過(guò)圓柱狀的凹陷103而飛出，對(duì)于來(lái)自外部的振動(dòng)容易發(fā)生誤檢測(cè)。作為降低這種發(fā)生誤檢測(cè)的對(duì)策，考慮到以下的方式球體104形 成為呈更加難以滾動(dòng)的從上面觀察為圓形且在重力方向上被壓潰的準(zhǔn)橢 圓球的形狀，并且以具有與重力方向相同的磁通的方式起磁，從而成為 磁元件。進(jìn)而，將該磁元件以可動(dòng)狀態(tài)配置在凹面容器的內(nèi)部并利用容 器蓋密閉，該凹面容器具有漏斗狀的凹陷，且呈磁元件以一個(gè)點(diǎn)與其內(nèi) 表面接觸的內(nèi)表面形狀，并利用配置在凹面容器的中央最低處方向的磁 通檢測(cè)單元檢測(cè)該磁元件的磁通。由此，當(dāng)所搭載的設(shè)備傾斜某種程度 以上時(shí)，磁元件在凹面容器的內(nèi)表面上滑動(dòng)移動(dòng)，磁元件的磁通從磁通 檢測(cè)單元的磁通檢測(cè)范圍脫離，從而磁通檢測(cè)單元成為非檢測(cè)狀態(tài)。進(jìn) 而，根據(jù)該未檢測(cè)到磁通的狀態(tài)來(lái)判定設(shè)備翻倒。但是，在該方式中，當(dāng)在所搭載的設(shè)備中搭載有產(chǎn)生雖然微弱但周 期性地變動(dòng)的泄漏交流磁場(chǎng)的開(kāi)放型屏蔽磁極式感應(yīng)電動(dòng)機(jī)等磁力產(chǎn)生 源時(shí)，該泄漏交流磁場(chǎng)的磁力變動(dòng)對(duì)磁元件造成影響。進(jìn)而，在該泄漏 交流磁場(chǎng)的磁力與磁元件所具有的磁力之間周期性地作用有微弱的引力 或斥力，由此以一個(gè)點(diǎn)與凹面容器的內(nèi)表面接觸的磁元件自身最終達(dá)到 共振振動(dòng)并以切點(diǎn)為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)等，從而在凹面容器和磁元件之間產(chǎn) 生振動(dòng)音的情況。為了抑制該振動(dòng)音的產(chǎn)生考慮利用容器蓋將制動(dòng)液體 密閉在凹面容器的內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，但是，由于需要利用容器蓋將制動(dòng)液體 密閉在凹面容器的內(nèi)部，因此結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜，并且，存在在長(zhǎng)期的使用 中制動(dòng)液體漏出至外部從而抑制振動(dòng)的效果降低等課題。專利文獻(xiàn)l:日本實(shí)開(kāi)平04 — 112436號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明就是解決這種現(xiàn)有課題的發(fā)明，其目的在于提供一種具備能 夠利用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)更長(zhǎng)期地穩(wěn)定地抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的效果的翻倒 檢測(cè)裝置。對(duì)于本發(fā)明的翻倒檢測(cè)裝置，為了達(dá)成上述目的，將磁元件配置在 具有從上面的開(kāi)口呈漏斗狀凹陷的空間的凹面容器的內(nèi)部，在將該凹面 容器配置在水平面上的狀態(tài)下，所述磁元件呈從上面觀察為圓形且在重 力方向上被壓潰的準(zhǔn)橢圓球形，并且被磁化為以具有與重力方向相同的 磁通的方式起磁，利用配置在所述凹面容器的下方的磁通檢測(cè)單元對(duì)該 磁元件的磁力進(jìn)行檢測(cè)，在這樣的翻倒檢測(cè)結(jié)構(gòu)中，將抑制所述磁元件 振動(dòng)的振動(dòng)抑制單元配置在所述凹面容器的內(nèi)部的中央最低處。通過(guò)該方法，在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中，能夠利用配置在凹面容器 的內(nèi)部的中央最低處的振動(dòng)抑制單元來(lái)抑制磁元件的振動(dòng)。并且，振動(dòng)抑制單元是利用彈性體構(gòu)成凹面容器的內(nèi)部的中央最低 處的供磁元件所接觸的面而成。通過(guò)該方法，磁元件在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中與由彈性體構(gòu)成的凹 面容器的內(nèi)部的中央最低處接觸。并且，振動(dòng)抑制單元通過(guò)在凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)置凹部 構(gòu)成，所述凹部具有比磁元件的從上面觀察的直徑小的直徑，在將該凹 面容器配置在水平面上的狀態(tài)下，所述磁元件的一部分落入所述凹部。通過(guò)該方法，在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中，磁元件的一部分落入設(shè)置 在凹面容器的內(nèi)部的中央最低處的凹部。并且，振動(dòng)抑制單元通過(guò)在凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)置凸部 而構(gòu)成。通過(guò)該方法，在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中，磁元件與凹面容器的內(nèi)表 面和凸部的兩個(gè)點(diǎn)接觸。并且，振動(dòng)抑制單元通過(guò)在凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)置至少 一條與磁元件相切的凸棱而構(gòu)成。通過(guò)該方法，在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中，磁元件與凹面容器的內(nèi)表 面和凸棱的至少兩個(gè)點(diǎn)接觸。并且，在凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)有至少一條凸棱的振動(dòng)抑 制單元的結(jié)構(gòu)中，所述凸棱避開(kāi)設(shè)備的翻倒方向進(jìn)行配置。通過(guò)該方法，當(dāng)發(fā)生翻倒時(shí)磁元件難以與設(shè)在凹面容器的內(nèi)部的凸 棱接觸。并且，凸棱的位置朝向設(shè)備的側(cè)面與側(cè)面相交的邊的方向進(jìn)行配置。 通過(guò)該方法，當(dāng)發(fā)生翻倒時(shí)磁元件難以與設(shè)在凹面容器內(nèi)部的凸棱 接觸。并且，凹面容器以在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中位于水平面上的方式配置。通過(guò)該方法，能夠在呈漏斗狀凹陷的凹面容器的最低處，利用振動(dòng) 抑制單元抑制從上面觀察為圓形且在重力方向上被壓潰的準(zhǔn)橢圓球形的磁元件的振動(dòng)。并且，將磁元件配置在具有從上面的開(kāi)口呈漏斗狀凹陷的空間的凹 面容器的內(nèi)部，在將該凹面容器配置在水平面上的狀態(tài)下，所述磁元件 呈從上面觀察為圓形且在重力方向上被壓潰的準(zhǔn)橢圓球形，并且被磁化 為以具有與重力方向相同的磁通的方式起磁，利用配置在所述凹面容器 的下方的磁通檢測(cè)單元對(duì)該磁元件的磁力進(jìn)行檢測(cè)，在這樣的翻倒檢測(cè) 結(jié)構(gòu)中，配置有屏蔽配置于設(shè)備內(nèi)的磁力產(chǎn)生源和磁元件之間的磁通的 防磁單元。通過(guò)該方法，能夠利用防磁單元降低對(duì)磁元件造成影響的來(lái)自磁力 產(chǎn)生源的磁力。并且，將磁元件配置在具有從上面的開(kāi)口呈漏斗狀凹陷的空間的凹 面容器的內(nèi)部，在將該凹面容器配置在水平面上的狀態(tài)下，所述磁元件 呈從上面觀察為圓形且在重力方向上被壓潰的準(zhǔn)橢圓球形狀，并且被磁 化為以具有與重力方向相同的磁通的方式起磁，利用配置在所述凹面容 器的下方的磁通檢測(cè)單元對(duì)該磁元件的磁力進(jìn)行檢測(cè)，在這樣的翻倒檢 測(cè)結(jié)構(gòu)中，將抑制磁元件振動(dòng)的振動(dòng)抑制單元配置在凹面容器的內(nèi)部的 中央最低處，進(jìn)一步，還配置有屏蔽配置于設(shè)備內(nèi)的磁力產(chǎn)生源和磁元 件之間的磁通的防磁單元。通過(guò)該方法，在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中能夠利用配置在凹面容器的 內(nèi)部的中央最低處的振動(dòng)抑制單元抑制磁元件的振動(dòng)，進(jìn)一步還能夠利 用防磁單元降低對(duì)磁元件造成影響的來(lái)自磁力產(chǎn)生源的磁力。
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供具有以下效果的翻倒檢測(cè)裝置能夠利用配 置在凹面容器的內(nèi)部的中央最低處的振動(dòng)抑制單元，在設(shè)備的正常設(shè)置 狀態(tài)下抑制磁元件的振動(dòng)，且能夠利用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)更長(zhǎng)期且穩(wěn)定地降低 在凹面容器和磁元件之間產(chǎn)生的振動(dòng)音。
并且，能夠提供具有以下效果的翻倒檢測(cè)裝置能夠利用配置在磁 元件和對(duì)磁通檢測(cè)單元造成影響的磁力產(chǎn)生源之間的防磁單元使磁力降 低，能夠降低基于磁力的影響的磁元件的振動(dòng)和通過(guò)該振動(dòng)在凹面容器 和磁元件之間產(chǎn)生的振動(dòng)音。


圖1是示出本發(fā)明的實(shí)施方式1的翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)的主視剖視 圖以及示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的主視局部剖視圖(圖1A是示 出本翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)的主視剖視圖，圖1B是示出搭載有該裝置的設(shè) 備的結(jié)構(gòu)例的主視局部剖視圖)。
圖2是示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的正面立體局部透視圖。 圖3是示出從上方觀察到構(gòu)成該裝置的凹面容器的內(nèi)部的狀態(tài)的俯 視圖。
圖4A是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第一實(shí)施例的凹面容器的中 央最低處的放大主視剖視圖。
圖4B是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第一實(shí)施例的組裝結(jié)構(gòu)的凹 面容器的中央最低處的放大主視剖視圖。
圖5A是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第二實(shí)施例的凹面容器的中 央最低處的放大主視剖視圖。
圖5B是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第二實(shí)施例的組裝結(jié)構(gòu)的凹 面容器的中央最低處的放大主視剖視圖。
圖6是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第三實(shí)施例的凹面容器的中央最低處的放大主視剖視圖。
圖7是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第四實(shí)施例的凹面容器的中央 最低處的放大主視剖視圖。
圖8是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第五實(shí)施例的凹面容器的中央 最低處的放大主視剖視圖。
圖9是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第五實(shí)施例的從上方觀察凹面 容器的俯視圖。
圖10是示出搭載有該裝置的設(shè)備的翻倒方向例的正面立體局部透視圖。
圖11是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第五實(shí)施例的其他例的從上方 觀察凹面容器的俯視圖。
圖12是示出本發(fā)明的實(shí)施方式2的本翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)的主視剖 視圖。
圖13是示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的正面立體局部透視圖。 圖14是示出本發(fā)明的實(shí)施方式3的本翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)的主視剖 視圖。
圖15是示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的正面立體局部透視圖。 圖16是示出現(xiàn)有的翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)的主視剖視圖。
具體實(shí)施方式
(實(shí)施方式l)
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。另外，本發(fā)明并不 被本實(shí)施方式所限定。
圖1至圖11中示出本發(fā)明的實(shí)施方式l中的翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)圖。
此處，圖1A是示出本翻倒檢測(cè)裝置的實(shí)施方式1的結(jié)構(gòu)的主視剖視 圖。圖1B是示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的主視局部剖視圖。圖2 是示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的正面立體局部透視圖。圖3是示 出從上方觀察到構(gòu)成該裝置的凹面容器的內(nèi)部的狀態(tài)的俯視圖。
如圖1至圖3所示，翻倒檢測(cè)裝置1 (在圖上以雙點(diǎn)劃線包圍的范
9圍)內(nèi)置在設(shè)備主體2中。進(jìn)而，該翻倒檢測(cè)裝置1構(gòu)成為配置有以下 部件平板狀的電路基板3，在設(shè)備主體2的正常設(shè)置狀態(tài)中，該電路基 板3以相對(duì)于重力方向呈直角的方式配置，即大致水平地配置；磁通檢 測(cè)單元4，其配置在該電路基板3的下表面?zhèn)?，并檢測(cè)上表面?zhèn)鹊拇磐ǖ?有無(wú)；凹面容器5，其以中心與從所述磁通檢測(cè)單元4的中央心朝向電路 基板3的上表面?zhèn)鹊拇怪陛S對(duì)齊的方式配置，且具有漏斗狀的凹陷5A; 磁元件6，其以在該漏斗狀的凹陷5A的內(nèi)部活動(dòng)自如的方式配置；以及 振動(dòng)抑制單元7，其在漏斗狀的凹陷5A的中央最低處(圖上以點(diǎn)劃線包 圍的部位)抑制磁元件6的振動(dòng)。進(jìn)一步，翻倒檢測(cè)裝置1還具有容器 蓋8，在將上述磁元件6放入上述凹面容器5的內(nèi)部的狀態(tài)下，所述容器 蓋8以覆蓋上述凹面容器5的整個(gè)敞開(kāi)空間而成為蓋的狀態(tài)固定在上述 電路基板3上。另外，漏斗狀的凹陷5A具有朝向中央方向凹陷的形狀。
此處，漏斗狀的凹陷5A具有比磁元件6的從上面觀察的直徑僅大 lmm 2mm的程度的直徑，并且，形成為從側(cè)面觀察磁元件6時(shí)該磁元 件6的高度方向的大部分都落入該凹陷5A中的程度的凹陷深度，根據(jù)成 為檢測(cè)對(duì)象的設(shè)備的傾斜角度，以在該檢測(cè)對(duì)象角度以上的傾倒角度下 磁元件6越過(guò)漏斗狀的凹陷5A的端面滑出的方式根據(jù)翻倒檢測(cè)的規(guī)格和 磁元件6的大小來(lái)確定凹陷深度。另外，優(yōu)選從漏斗狀的凹陷5A的壁面 延續(xù)到底面的凹陷的內(nèi)壁為如下的形狀在處于未翻倒的穩(wěn)定狀態(tài)中磁 元件6自然地滑落至漏斗狀的凹陷5A的中央部并穩(wěn)定地被保持、并且內(nèi) 壁和磁元件6接觸的部分進(jìn)行點(diǎn)接觸使得摩擦力最低以盡量不妨礙磁元 件6移動(dòng)，考慮該點(diǎn)，將漏斗狀的凹陷5A的中央形成為曲率比磁元件6 的底面曲率大的半球面或半橢圓球面的曲面形狀。
此處，在凹面容器5的開(kāi)放空間中與漏斗狀的凹陷5A相連的內(nèi)壁面 需要設(shè)定為如下的光滑形狀具有在設(shè)備沒(méi)有翻倒的穩(wěn)定狀態(tài)中對(duì)磁元 件6進(jìn)行引導(dǎo)以使其滑落至漏斗狀的凹陷5A中的程度的斜面角度，并且 該內(nèi)壁面與磁元件6所接觸的部分進(jìn)行點(diǎn)接觸使得摩擦力最低以盡量不 妨礙磁元件6移動(dòng)，考慮該點(diǎn)，優(yōu)選為漏斗形狀，但也可以形成為曲率 比漏斗狀的凹陷5A的內(nèi)壁的曲率大的半球面或者半橢圓球面的曲面形狀。
并且，在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中，凹面容器5處于配置在電路基板 3的上表面?zhèn)惹遗渲迷谒矫嫔系臓顟B(tài)。
另外，所謂正常設(shè)置狀態(tài)表示為了正確地使用設(shè)備、制造商所推薦 的設(shè)備主體2的設(shè)置或者使用的姿態(tài)。
另外，翻倒檢測(cè)裝置1考慮作為檢測(cè)翻倒?fàn)顟B(tài)的裝置搭載在各種設(shè)
備中加以應(yīng)用。此處，作為搭載該翻倒檢測(cè)裝置1的設(shè)備主體2以圖2
所示的加濕裝置作為一例進(jìn)行表示，翻倒檢測(cè)裝置1配置在構(gòu)成控制電
路(用于控制該加濕裝置動(dòng)作)的電路基板3上。
并且，在加濕裝置中有的使用開(kāi)放型罩屏蔽磁極式感應(yīng)電動(dòng)機(jī)作為 送風(fēng)風(fēng)扇驅(qū)動(dòng)用的電動(dòng)機(jī)，從該電動(dòng)機(jī)泄漏的交流磁場(chǎng)有時(shí)作用在上述 磁元件6上從而對(duì)其賦予影響。g卩，交流磁場(chǎng)作用在磁元件6上，使磁 元件6振動(dòng)，通過(guò)該振動(dòng)在磁元件6與凹面容器5之間產(chǎn)生接觸音。將 此時(shí)的振動(dòng)稱為接觸振動(dòng)。
進(jìn)一步，該交流磁場(chǎng)的磁力變動(dòng)對(duì)磁元件6產(chǎn)生影響，在與磁元件 6所具有的磁力之間周期性地作用有微弱的引力或斥力，由此以一個(gè)點(diǎn)與 凹面容器5的內(nèi)表面接觸的磁元件6達(dá)到共振振動(dòng)從而以上述一個(gè)點(diǎn)作 為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)等，從而在凹面容器5和磁元件6之間產(chǎn)生振動(dòng)音。將 此時(shí)的振動(dòng)稱為旋轉(zhuǎn)振動(dòng)。
在本實(shí)施方式中，以上述泄漏的交流磁場(chǎng)作為影響磁力，并且、以 上述電動(dòng)機(jī)作為磁力產(chǎn)生源9進(jìn)行以下的說(shuō)明。
此處，磁通檢測(cè)單元4是非接觸地檢測(cè)有無(wú)磁通的部件，例如是使 用檢測(cè)磁通密度有無(wú)并變化為電信號(hào)狀態(tài)的一般的面安裝型的霍爾IC7 構(gòu)成的部件。
此處，磁元件6是形成為這樣形狀的部件在將凹面容器5配置在 水平面上的狀態(tài)、即設(shè)備主體2處于正常設(shè)置狀態(tài)中，在電路基板3水 平配置的狀態(tài)下，從上方觀察時(shí)為圓形且從側(cè)面方向觀察時(shí)為在重力方 向上被壓潰的橢圓形的準(zhǔn)橢圓球的形狀，即在厚度方向上為準(zhǔn)橢圓形狀 的扁平形狀。進(jìn)而，該磁元件6是將永磁鐵成形為預(yù)定大小而構(gòu)成的部件，且該永磁鐵以活動(dòng)自如的方式配置在漏斗狀的凹陷5A部分，被磁化 為在設(shè)備主體2處于的正常設(shè)置狀態(tài)(未翻倒的穩(wěn)定狀態(tài))中在與重力 方向相同的方向上具有磁通。作為其材料，例如優(yōu)選耐腐蝕性優(yōu)異、保 磁力大、難以退磁的鐵氧體磁鐵，是在成型為準(zhǔn)橢圓球的形狀并燒結(jié)之 后，利用電磁鐵的磁通在厚度方向上起磁從而使其磁化的部件。
此處，優(yōu)選凹面容器5和容器蓋8由在磁性方面不對(duì)磁元件6所具 有的磁通或磁通檢測(cè)單元4進(jìn)行檢測(cè)的磁通造成影響的材料形成，例如 是由ABS或PBT等樹(shù)脂材料成型而構(gòu)成的部件。
此處，漏斗狀的凹陷5A的中央最低處的形狀優(yōu)選為在與磁元件6 接觸的狀態(tài)中減小摩擦力，從而當(dāng)發(fā)生翻倒時(shí)盡量不妨礙磁元件6的移 動(dòng)。進(jìn)而，為了形成點(diǎn)接觸以減小摩擦力，漏斗狀的凹陷5A的中央最低 處的內(nèi)表面形狀形成為曲率比磁元件6的底面曲率大的的半球面或者半 橢圓球面的曲面形狀。
圖4A是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第一實(shí)施例的凹面容器的中 央最低處的放大主視剖視圖。圖4B是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第一 實(shí)施例的組裝結(jié)構(gòu)的凹面容器的中央最低處的放大主視剖視圖。圖5A是 示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第二實(shí)施例的凹面容器的中央最低處的放 大主視剖視圖。圖5B是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第二實(shí)施例的組裝 結(jié)構(gòu)的凹面容器的中央最低處的放大主視剖視圖。圖6是示出該裝置的 振動(dòng)抑制單元的第三實(shí)施例的凹面容器的中央最低處的放大主視剖視 圖。圖7是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第四實(shí)施例的凹面容器的中央 最低處的放大主視剖視圖。圖8是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第五實(shí) 施例的凹面容器的中央最低處的放大主視剖視圖。圖9是示出該裝置的 振動(dòng)抑制單元的第五實(shí)施例的從上方觀察凹面容器的內(nèi)部的狀態(tài)的俯視 圖。圖IO是示出搭載有該裝置的設(shè)備的翻倒方向例的正面立體局部透視 圖。圖11是示出該裝置的振動(dòng)抑制單元的第五實(shí)施例的其他例的從上方 觀察凹面容器的內(nèi)部的狀態(tài)的俯視圖。
并且，如圖4A、圖4B、圖5A、圖5B所示，在漏斗狀的凹陷5A 的中央最低處，振動(dòng)抑制單元7是通過(guò)將彈性體10配置在將凹面容器5配置在水平面上的狀態(tài)下磁元件6所接觸的面上構(gòu)成的部件。
另外，彈性體10適于如下材質(zhì)能夠充分吸收磁元件6的接觸振動(dòng)
的程度而硬度比作為凹面容器5的構(gòu)成材料的ABS或PBT等低的材質(zhì)， 相應(yīng)地通過(guò)其低硬度的作用加大內(nèi)部損失從而吸收由磁元件6的振動(dòng)引 起的接觸音的材質(zhì)，長(zhǎng)期穩(wěn)定的材質(zhì)，例如硅橡膠材料，彈性體10是由 上述材質(zhì)構(gòu)成的部件。
并且，如圖4B所示，彈性體10相對(duì)于凹面容器5以如下的方式固 定設(shè)置在漏斗狀的凹陷5A的中央最低處設(shè)有彈性體固定凹陷11，從 圖上以箭頭所示的方向、即上方將彈性體10插入該彈性體固定凹陷11 中并通過(guò)過(guò)盈配合(無(wú)理嵌力)或者粘接劑進(jìn)行固定。或者，如圖5B所 示，通過(guò)在漏斗狀的凹陷5A的中央最低處設(shè)置彈性體固定開(kāi)口部12， 并從下方將呈凸形狀的彈性體IOA嵌入插裝在該彈性體固定開(kāi)口部12中 構(gòu)成。
此處，重要的是，彈性體10的面不會(huì)相對(duì)于漏斗狀的凹陷5A的中 央最低處突出而是形成同一面，由此不會(huì)妨礙發(fā)生翻倒時(shí)磁元件6相對(duì) 于凹面容器5的內(nèi)表面動(dòng)作。并且，同樣地，如果與磁元件6相切的彈 性體10的表面例如涂敷有大約l|_im 100nm的厚度的聚乙烯或聚對(duì)苯二 甲酸乙二酯等硬質(zhì)樹(shù)脂材料來(lái)降低接觸阻力，則能夠進(jìn)一步降低對(duì)翻倒 檢測(cè)的性能下降的影響。
此處，凹面容器5的中央最低處的配置彈性體10的范圍可以是漏斗 狀的凹陷5A內(nèi)部的中央最低處且在未翻倒?fàn)顟B(tài)中磁元件6所接觸的范 圍，以盡量不妨礙發(fā)生翻倒時(shí)的磁元件6相對(duì)于凹面容器5的內(nèi)表面動(dòng) 作，例如當(dāng)磁元件6的從上方觀察時(shí)的圓直徑為cp5mm時(shí)，優(yōu)選為cp2mm 至(p3mm的范圍。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，未翻倒時(shí)磁元件6位于凹面容器5內(nèi)的漏斗狀的凹 陷5A的中央最低處，處于與漏斗狀的凹陷5A的中央最低處的內(nèi)表面進(jìn) 行點(diǎn)接觸的狀態(tài)，即使磁元件6受到來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的泄漏交流磁場(chǎng) 的磁力影響而誘發(fā)以與漏斗狀的凹陷5A的內(nèi)表面點(diǎn)接觸的部分作為中 心進(jìn)行振動(dòng)或旋轉(zhuǎn)動(dòng)作，通過(guò)配置在漏斗狀的凹陷5A的中央最低處的彈性體10的低硬度和較大的內(nèi)部損失的緩沖作用，磁元件6的振動(dòng)自身降低，從而抑制了振動(dòng)音的產(chǎn)生。
并且，如圖6所示，振動(dòng)抑制單元7也能夠通過(guò)在凹面容器5內(nèi)部的漏斗狀的凹陷5A的中央最低處設(shè)置凹部13而構(gòu)成，所述凹部13的直徑不大于磁元件6的從上面觀察的直徑，且未翻倒時(shí)磁元件6的一部分落入該凹部13。
此處，優(yōu)選凹部13的開(kāi)口的從上方觀察時(shí)的形狀為圓形，從而在磁元件6落入該凹部13的狀態(tài)下能夠增多該磁元件6與漏斗狀的凹陷5A之間的接觸部位并增大接觸阻力。進(jìn)而，凹部13的開(kāi)口直徑需要形成為當(dāng)未翻倒時(shí)磁元件6滑入漏斗狀的凹陷5A的中央最低處的狀態(tài)中不會(huì)成為阻力的程度的大小。例如，當(dāng)磁元件6的從上方觀察時(shí)的圓直徑為cp5mm時(shí)，優(yōu)選凹部13的開(kāi)口直徑為(p2mm至cp3mm的范圍。
此處，凹部13的開(kāi)口需要設(shè)定為如下的深度在磁元件6落入凹部13的狀態(tài)下，不會(huì)發(fā)生磁元件6與凹部13的底面接觸從而磁元件6與凹面容器5之間一個(gè)點(diǎn)接觸的狀態(tài)的程度。例如，當(dāng)磁元件6的從上方觀察時(shí)的圓直徑為cp5mm且從側(cè)面方向觀察時(shí)的高度方向的尺寸為3mm、凹部13的孔徑為cp3mm時(shí)，優(yōu)選該孔深度在0.4mm以上。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，在未翻倒時(shí)磁元件6位于凹面容器5的中央最低處的狀態(tài)中，磁元件6的一部分落入到配置在凹面容器5的中央最低處的凹部13中，磁元件6的表面與凹部13的開(kāi)口端呈線狀地接觸從而在磁元件6和凹面容器5之間產(chǎn)生較大的接觸阻力。因此，即使是在磁元件6受到來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的泄漏交流磁場(chǎng)的磁力的影響的狀態(tài)中，該接觸阻力也能夠防止振動(dòng)的產(chǎn)生從而使磁元件6不會(huì)到達(dá)共振狀態(tài)，能夠抑制由磁元件6的旋轉(zhuǎn)振動(dòng)或接觸振動(dòng)引起的振動(dòng)音的產(chǎn)生。
并且，如圖7所示，振動(dòng)抑制單元7也可以通過(guò)在凹面容器5內(nèi)部的漏斗狀的凹陷5A的中央最低處突出設(shè)置凸部14構(gòu)成。
此處，凸部14需要突出設(shè)置為如下形狀當(dāng)發(fā)生翻倒時(shí)盡量不妨礙在凹面容器5的內(nèi)表面上滑動(dòng)的磁元件6的動(dòng)作；并且在未發(fā)生翻倒時(shí)磁元件6位于漏斗狀的凹陷5A的中央最低處的狀態(tài)中，利用凸部14與磁元件6之間的接觸部分使磁元件6的一部分稍稍抬起。因此，例如如
果磁元件6的從上方觀察時(shí)的圓直徑為cp5mm且從側(cè)面方向觀察時(shí)的高度方向尺寸為3mm，則優(yōu)選凸部14為半徑0.2mm至0.3mm的半球形狀。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，在未翻倒時(shí)磁元件6位于凹面容器5的中央最低處的狀態(tài)中，形成磁元件6搭在突出設(shè)置于凹面容器5的中央最低處的凸部14上的狀態(tài)，磁元件6通過(guò)與凸部14的接觸部分和與凹面容器5的相切部分這兩個(gè)點(diǎn)被保持于凹面容器5。進(jìn)而，通過(guò)磁元件6相對(duì)于該凹面容器5內(nèi)的漏斗狀的凹陷5A的兩個(gè)點(diǎn)處的接觸在磁元件6和凹面容器5之間產(chǎn)生較大的接觸阻力，這樣即使是在磁元件6受到來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的泄漏交流磁場(chǎng)的磁力的影響的狀態(tài)中，該接觸阻力也能夠防止振動(dòng)的產(chǎn)生從而使磁元件6不會(huì)達(dá)到共振狀態(tài)。由此，能夠抑制由磁元件6的旋轉(zhuǎn)振動(dòng)引起的振動(dòng)音的產(chǎn)生。
并且，如圖8和圖9所示，振動(dòng)抑制單元7也可以通過(guò)在凹面容器5的內(nèi)部的中央最低處突出設(shè)置至少一條(在圖上作為一例有三條凸棱15)與磁元件相切的凸棱15。
此處，凸棱15需要從凹面容器5的中央朝向外側(cè)突出設(shè)置為放射狀的棱形狀，使得當(dāng)發(fā)生翻倒時(shí)盡量不妨礙磁元件6相對(duì)于凹面容器5的內(nèi)表面的動(dòng)作，并且在未翻倒時(shí)磁元件6位于凹面容器5的中央最低處的狀態(tài)中磁元件6與凸棱15的一個(gè)部分以上接觸。例如，如果磁元件6的從上方觀察時(shí)的圓直徑為cp5mm且從側(cè)面方向觀察時(shí)的高度方向尺寸為3mm，則優(yōu)選該凸棱15突出設(shè)置為從凹面容器5的中央朝向外側(cè)呈放射狀的高度為0.2mm至0.3mm的棱線形態(tài)的形狀。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，在未翻倒時(shí)磁元件6位于凹面容器5的中央最低處的狀態(tài)中，磁元件6在與凹面容器5的內(nèi)表面的一個(gè)點(diǎn)和從凹面容器5的中央最低處呈放射狀突出設(shè)置的凸棱15的棱線上的一部分接觸的狀態(tài)下被保持，磁元件6相對(duì)于該凹面容器5在兩個(gè)點(diǎn)以上接觸，由此在磁元件6和凹面容器5之間產(chǎn)生較大的接觸阻力。由此，即使是在磁元件6受到來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的泄漏交流磁場(chǎng)的磁力影響的狀態(tài)中，該接觸阻力也能夠防止振動(dòng)的產(chǎn)生從而使磁元件6不會(huì)達(dá)到共振狀態(tài)，因此能夠抑制由磁元件6的旋轉(zhuǎn)振動(dòng)或接觸振動(dòng)引起的振動(dòng)音的產(chǎn)生。
另外，如圖10所示，如果搭載翻倒檢測(cè)裝置的設(shè)備主體2的框體例如為四棱柱形狀，則設(shè)備主體2的翻倒方向也大致被限定在四個(gè)方向。即，如在圖中以粗箭頭所示那樣限定在框體的側(cè)面方向。當(dāng)能夠這樣限
定搭載翻倒檢測(cè)裝置的設(shè)備主體2的翻倒方向時(shí)，如圖11所示，如果在凹面容器5的內(nèi)表面中避開(kāi)與設(shè)備主體2的翻倒方向相同的方向(在圖上以粗箭頭表示的方向)配置凸棱15，則發(fā)生翻倒時(shí)當(dāng)磁元件6在凹面容器5的內(nèi)表面上朝翻倒方向滑動(dòng)移動(dòng)時(shí)能夠使磁元件6難以與凸棱15接觸。由此，能夠進(jìn)一步降低由磁元件6相對(duì)于凸棱15的接觸阻力產(chǎn)生的對(duì)翻倒檢測(cè)性能下降的影響。特別地，凸棱的方向由于朝向側(cè)面與側(cè)面相交的邊的方向，因此能夠容易地避開(kāi)與設(shè)備的翻倒方向相同的方向。
并且，在以上的實(shí)施方式的說(shuō)明中，在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中，凹面容器以位于水平面上的方式配置，由此，能夠使用簡(jiǎn)單形狀的凹面容器、磁元件以及振動(dòng)抑制單元來(lái)實(shí)現(xiàn)能夠利用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)更長(zhǎng)期地穩(wěn)定地抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的作用。
另外，在以上的說(shuō)明中，示出了翻倒檢測(cè)裝置1是由內(nèi)置在所搭載的設(shè)備主體2中的電路基板3、配置在該電路基板3的下表面?zhèn)鹊拇磐z測(cè)單元4、凹面容器5、磁元件6以及容器蓋8復(fù)合構(gòu)成的裝置，但是也可以將該構(gòu)成要素形成一體使其作為單獨(dú)設(shè)備部件發(fā)揮功能，在該單獨(dú)設(shè)備部件中，通過(guò)具備振動(dòng)抑制單元7，就同樣具有能夠抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的作用效果。
另外，在以上的說(shuō)明中，示出了翻倒檢測(cè)裝置1是構(gòu)成在大致水平地配置的平板狀電路基板3上的裝置，即該電路基板3在設(shè)備主體2的正常設(shè)置狀態(tài)中以相對(duì)于重力方向成直角的方式配置，但是，即使是在電路基板3傾斜、或者是呈大致垂直的角度的結(jié)構(gòu)中，只要考慮凹面容器5的形狀和磁通檢測(cè)單元4的配置角度就能夠使其作為翻倒檢測(cè)的裝置發(fā)揮功能，即使是在大致水平配置該翻倒檢測(cè)裝置1之外的結(jié)構(gòu)中，通過(guò)具備振動(dòng)抑制單元7，就同樣具有能夠抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的作用效果。(實(shí)施方式2)
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。另外，本發(fā)明并不由本實(shí)施方式限定。
圖12和圖13中示出本發(fā)明的實(shí)施方式2中的翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)圖。
另外，對(duì)與實(shí)施方式1相同功能的結(jié)構(gòu)賦予相同的標(biāo)號(hào)并省略以后的詳細(xì)說(shuō)明。
此處，圖12是示出本翻倒檢測(cè)裝置的實(shí)施方式2的結(jié)構(gòu)的主視剖視圖。圖13是示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的正面立體局部透視圖。
如圖12所示，通過(guò)在內(nèi)置于翻倒檢測(cè)裝置結(jié)構(gòu)1中的磁元件6和配置于同一設(shè)備內(nèi)的磁力產(chǎn)生源9之間配置遮斷磁通的防磁單元16，能夠降低來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的泄漏交流磁場(chǎng)對(duì)磁元件6的影響。
此處，防磁單元16是將以鐵材料或鎳材料作為主要成分的導(dǎo)磁率高的非結(jié)晶構(gòu)造或坡莫合金組成的軟質(zhì)磁性金屬材料加工成平板形狀而成的部件，或者是將這些軟質(zhì)磁性金屬材料蒸鍍?cè)跇?shù)脂薄膜上形成的部件。
此處，防磁單元16例如如圖所示通過(guò)螺釘17安裝在設(shè)備主體2上從而固定設(shè)置在設(shè)備主體2上。
另外，如果將防磁單元16配置在相對(duì)于磁元件6的距離較近的位置，則在該防磁單元16與作為磁鐵的磁元件6之間作用有磁引力，從而磁元件6被拉向凹面容器5的內(nèi)表面的防磁單元16的配置方向。因此，當(dāng)發(fā)生翻倒時(shí)成為磁元件6在凹面容器5的內(nèi)表面上滑動(dòng)移動(dòng)的障礙，因此需要使磁元件6和防磁單元16的間隔離開(kāi)大致能夠忽視磁引力的距離。例如，如果磁元件6的表面磁力大約為150mT、則期望磁元件6和防磁單元16最低隔開(kāi)13mm以上的間隔進(jìn)行配置。
另外，防磁單元16需要將其面積和軟質(zhì)磁性金屬材料的厚度調(diào)節(jié)為這樣的程度能夠充分地降低從磁力產(chǎn)生源9產(chǎn)生的對(duì)磁元件6賦予影響的影響磁力，以使磁元件6不會(huì)振動(dòng)或者旋轉(zhuǎn)，在實(shí)際的應(yīng)用中根據(jù)在所搭載的設(shè)備中確認(rèn)影響磁力的降低效果來(lái)確定。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，即使在搭載翻倒檢測(cè)裝置的設(shè)備中存在產(chǎn)生對(duì)磁元件6賦予使其振動(dòng)的影響的磁力的磁力產(chǎn)生源9，通過(guò)配置在該磁力產(chǎn)生
源9和磁元件6之間的防磁單元16，能夠降低來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的磁力對(duì)磁元件6的影響。由此，通過(guò)該直接降低對(duì)磁元件6的影響磁力能夠抑制磁元件6的振動(dòng)和旋轉(zhuǎn)自身的產(chǎn)生，能夠抑制由磁元件6的旋轉(zhuǎn)振動(dòng)和接觸振動(dòng)引起的振動(dòng)音的產(chǎn)生。
另外，在以上的說(shuō)明中，示出了翻倒檢測(cè)裝置1是由內(nèi)置在所搭載的設(shè)備主體2中的電路基板3、配置在該電路基板3的下表面?zhèn)鹊拇磐z測(cè)單元4、凹面容器5、磁元件6以及容器蓋8復(fù)合構(gòu)成的裝置，但是也可以將該構(gòu)成要素形成一體使其作為單獨(dú)設(shè)備部件發(fā)揮功能，在該單獨(dú)設(shè)備部件中，通過(guò)在翻倒檢測(cè)裝置1和磁力產(chǎn)生源9之間配置防磁單元16，就同樣具有能夠抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的作用效果。
另外，在以上的說(shuō)明中，示出了翻倒檢測(cè)裝置1是構(gòu)成在大致水平地配置的平板狀電路基板3上的裝置，即所述電路基板3在設(shè)備主體2的正常設(shè)置狀態(tài)中以相對(duì)于重力方向成直角的方式配置，但是，即使是在電路基板3傾斜、或者是呈大致垂直的角度的結(jié)構(gòu)中，只要考慮凹面容器5的形狀和磁通檢測(cè)單元4的配置角度就能夠使其作為翻倒檢測(cè)的裝置發(fā)揮功能。進(jìn)而，即使是在大致水平配置該翻倒檢測(cè)裝置1之外的結(jié)構(gòu)中，通過(guò)在翻倒檢測(cè)裝置1和磁力產(chǎn)生源9之間配置防磁單元16，就同樣具有能夠抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的作用效果。
(實(shí)施方式3)
圖14和圖15示出本發(fā)明的實(shí)施方式3中的翻倒檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)圖。另外，對(duì)相同功能的結(jié)構(gòu)賦予相同的標(biāo)號(hào)并省略以后的詳細(xì)說(shuō)明。此處，圖14是示出本翻倒檢測(cè)裝置的實(shí)施方式3的結(jié)構(gòu)的主視剖視
圖。圖15是示出搭載有該裝置的設(shè)備的結(jié)構(gòu)例的正面立體局部透視圖。如圖所示，翻倒檢測(cè)裝置1具備振動(dòng)抑制單元7，進(jìn)一步，在內(nèi)置
于翻倒檢測(cè)裝置結(jié)構(gòu)1中的磁元件6和磁力產(chǎn)生源9之間配置有防磁單
元16，由此能夠降低來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的磁力對(duì)磁元件6的影響，進(jìn)一
步，能夠抑制磁元件6的振動(dòng)自身。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，即使在搭載翻倒檢測(cè)裝置1的設(shè)備中存在產(chǎn)生對(duì)磁元件6賦予使其振動(dòng)的影響的磁力的磁力產(chǎn)生源9，通過(guò)配置在該磁力產(chǎn)
生源9和磁元件6之間的防磁單元16，能夠降低來(lái)自磁力產(chǎn)生源9的磁力對(duì)磁元件6的影響。進(jìn)一步，在未翻倒時(shí)磁元件6位于凹面容器5的中央最低處的狀態(tài)中，磁元件6通過(guò)振動(dòng)抑制單元7抑制振動(dòng)的誘發(fā)自身，進(jìn)一步，能夠有效地抑制由磁元件6的旋轉(zhuǎn)振動(dòng)或接觸振動(dòng)引起的振動(dòng)音的產(chǎn)生。
另外，在以上的說(shuō)明中，示出了翻倒檢測(cè)裝置1是由內(nèi)置在所搭載的設(shè)備主體2中的電路基板3、配置在該電路基板3的下表面?zhèn)鹊拇磐z測(cè)單元4、凹面容器5、磁元件6以及容器蓋8復(fù)合構(gòu)成的裝置，但是也可以將該構(gòu)成要素形成一體使其作為單獨(dú)設(shè)備部件發(fā)揮功能，在該單獨(dú)設(shè)備部件中，通過(guò)具備振動(dòng)抑制單元7、并且在翻倒檢測(cè)裝置1和磁力產(chǎn)生源9之間配置防磁單元16，就同樣具有能夠抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的作用效果。
另外，在以上的說(shuō)明中，示出了翻倒檢測(cè)裝置1是構(gòu)成在大致水平地配置的平板狀的電路基板3上的裝置，即所述電路基板3在設(shè)備主體2的正常設(shè)置狀態(tài)中以相對(duì)于重力方向成直角的方式配置，但是，即使是在電路基板3傾斜、或者是呈大致垂直的角度的結(jié)構(gòu)中，只要考慮凹面容器5的形狀和磁通檢測(cè)單元4的配置角度就能夠使其作為翻倒檢測(cè)的裝置發(fā)揮功能，即使是在大致水平配置該翻倒檢測(cè)裝置1之外的結(jié)構(gòu)中，通過(guò)具備振動(dòng)抑制單元7、并且在翻倒檢測(cè)裝置1和磁力產(chǎn)生源9之間配置防磁單元16，就同樣具有能夠抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音的作用效果。
產(chǎn)業(yè)上的利用可能性
對(duì)于本發(fā)明的翻倒檢測(cè)裝置，在加濕器、除濕器、電熱水瓶等與水有關(guān)的設(shè)備或者油汀取暖器等使用液體燃料的設(shè)備等對(duì)液體進(jìn)行處理的設(shè)備，或者電加熱器、電扇、熨斗等限定產(chǎn)品的使用時(shí)的姿態(tài)的電器中，在準(zhǔn)確地檢測(cè)翻倒?fàn)顟B(tài)的產(chǎn)生并促使設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)停止和報(bào)警的移動(dòng)設(shè)置型的裝置中是極其有效的。
權(quán)利要求
1、一種翻倒檢測(cè)裝置，其特征在于，所述翻倒檢測(cè)裝置配置有凹面容器，其具有從上面的開(kāi)口呈漏斗狀凹陷的空間；磁元件，其配置在所述凹面容器的內(nèi)部，在將所述凹面容器配置在水平面上的狀態(tài)下，該磁元件呈從上面觀察為圓形且在重力方向上被壓潰的準(zhǔn)橢圓球形，并且被磁化為以具有與重力方向相同的磁通的方式起磁；磁通檢測(cè)單元，其配置在所述凹面容器的下方，對(duì)所述磁元件的磁力進(jìn)行檢測(cè)；以及振動(dòng)抑制單元，其在所述凹面容器的內(nèi)部的中央最低處抑制所述磁元件的振動(dòng)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的翻倒檢測(cè)裝置，所述振動(dòng)抑制單元是利用彈性體構(gòu)成所述凹面容器的內(nèi)部的中央最 低處的供所述磁元件接觸的面而成。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的翻倒檢測(cè)裝置，所述振動(dòng)抑制單元通過(guò)在所述凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)置凹 部構(gòu)成，所述凹部具有比所述磁元件的從上面觀察的直徑小的直徑，在 將所述凹面容器配置在水平面上的狀態(tài)下，所述磁元件的一部分落入所 述凹部。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的翻倒檢測(cè)裝置，所述振動(dòng)抑制單元通過(guò)在所述凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)置凸 部而構(gòu)成。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的翻倒檢測(cè)裝置，所述振動(dòng)抑制單元通過(guò)在所述凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)置至 少一條與所述磁元件相切的凸棱而構(gòu)成。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1和5所述的翻倒檢測(cè)裝置，在所述凹面容器的內(nèi)部的中央最低處設(shè)有至少一條凸棱的振動(dòng)抑制 單元的結(jié)構(gòu)中，所述凸棱的位置避開(kāi)設(shè)備的翻倒方向進(jìn)行配置。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的翻倒檢測(cè)裝置，所述凸棱的位置朝向設(shè)備的側(cè)面與側(cè)面相交的邊的方向進(jìn)行配置。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的翻倒檢測(cè)裝置，所述凹面容器配置成在設(shè)備的正常設(shè)置狀態(tài)中位于水平面上。
9、 一種翻倒檢測(cè)裝置，其特征在于，所述翻倒檢測(cè)裝置配置有凹面容器，其具有從上面的開(kāi)口呈漏斗 狀凹陷的空間；磁元件，其配置在所述凹面容器的內(nèi)部，在將所述凹面容器配置在水平面上的狀態(tài)下，該磁元件呈從上面觀察為圓形且在重力 方向上被壓潰的準(zhǔn)橢圓球形，并且被磁化為以具有與重力方向相同的磁通的方式起磁；磁通檢測(cè)單元，其配置在所述凹面容器的下方，對(duì)所述 磁元件的磁力進(jìn)行檢測(cè)；以及防磁單元，其在配置于設(shè)備內(nèi)的磁力產(chǎn)生 源和所述磁元件之間屏蔽磁通。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的翻倒檢測(cè)裝置，所述翻倒檢測(cè)裝置還具備防磁單元，所述防磁單元在配置于設(shè)備內(nèi) 的磁力產(chǎn)生源和磁元件之間屏蔽磁通。
全文摘要
本發(fā)明能夠提供翻倒檢測(cè)裝置，振動(dòng)抑制單元在將凹面容器配置在水平面上的狀態(tài)下抑制磁元件的振動(dòng)，通過(guò)將該振動(dòng)抑制單元配置在該凹面容器的內(nèi)部的中央最低處，從而在搭載設(shè)備未翻倒的狀態(tài)下利用振動(dòng)抑制單元抑制磁元件的振動(dòng)，因此能夠降低在凹面容器和磁元件之間產(chǎn)生的振動(dòng)音，能夠利用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)更長(zhǎng)期且穩(wěn)定地抑制磁元件產(chǎn)生振動(dòng)音。
文檔編號(hào)H01H35/02GK101661851SQ200910163519
公開(kāi)日2010年3月3日 申請(qǐng)日期2009年8月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月27日
發(fā)明者宮原正芳 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社