專利名稱：：光阻圖案的形成方法及光掩模的制造方法
技術領域：
：本發(fā)明是關于一種光阻圖案形成方法及光掩模的制造方法，該光阻是在半導體、空白光掩模(photomaskblank)基板等的微加工中所使用的光阻、特別是在KrF準分子激光、極紫外線(EUV)、電子射線曝光中所使用的化學增幅型光阻。
背景技術：
：隨著大規(guī)模集成電路(LSI)的高集成化和高速度化，而被要求圖案規(guī)則的微細化，是已被熟知。伴隨著，曝光方法或光阻材料也產生重大的變化，特別在進行0.2微米以下的圖案的微影術時，在曝光光源是使用KrF或ArF準分子激光或電子射線等，而且對于進而切割30納米這樣的圖案規(guī)則是打算應用EUV。在此種微影方法所應用的光阻，因為必須在高能量線顯示良好的敏感度，而已開發(fā)許多能夠賦予高敏感度及高解像度的化學增幅型者。此種光阻之中，已有提案揭示一種在正型光阻所使用的各種用以構筑光阻圖案的基質聚合物，實際上所使用的正型光阻其是具有將通過照射高能量線而從光酸產生劑所產生的酸作為催化劑，來使基質聚合物所具有的酸分解性保護基(其是掩蔽側鏈的酸性官能基)脫離而成為對堿性顯性顯像液具有可溶性的機構。因此，于曝光步驟前后，在光阻組合物所添加的基質聚合物分子量變化不大。另一方面，因為光阻圖案形狀的控制是與是否能夠以微細狀態(tài)控制曝光后在光阻膜中的聚合物的溶解特性有關，自化學增幅型光阻的實用化開始的非常早期以來，關于基質聚合物的分子量分散的控制，受到注目(日本特開平5-132513號公報)。而且，關于基質聚合物的分子量，雖然在先前的專利等有各種記載，但是實際上使用聚羥基苯乙烯基質的聚合物時，以往通常是使用重量平均分子量Mw為8000至15000左右者。事實上使用被縮醛保護的聚羥基苯乙烯的光阻時，若使用分子量Mw為5000左右的光阻，光阻圖案的形狀是顯示從矩形變?yōu)閳A頭的傾向，若使用分子量Mw為20000以上的光阻，則在溶解后，由于部分未溶解的聚合物或溶解的聚合物再黏附，會顯示容易殘留浮渣的傾向。又，關于使聚羥基苯乙烯及被酸不穩(wěn)定基保護的丙烯酸衍生物進而使其與在堿性顯像液不溶解的單元也即如苯乙烯這樣的物質進行自由基共聚合而制成的基質聚合物，例如在日本特開平7-209868號公報中，揭示使用比羥基苯乙烯的比較例稍大的基質聚合物而成者。但是，使用丙烯酸系的聚合物的光阻的開發(fā)，直接沿襲先前的方法時，清楚明白分子量Mw為10000左右時會產生大量的浮渣。因此，通常是如日本特開2008-122932號公報等所記載，多半是使用分子量Mw為5000至9000左右者。但是，依照本發(fā)明者等的提案，使用將具有羥基苯乙烯與芳香環(huán)的環(huán)烯烴的共聚物，通過縮醛保護基而不溶于堿性顯像液的基質聚合物而成的光阻(例如日本特開2007-132998號公報、日本特開2008-95009號公報等)，是具有高解像度及高蝕刻耐性的有用的光阻。在此所揭示的光阻是具體上分子量Mw為大約9000至15000者，是完全不會產生如上述浮渣的問題。又，上述日本特開2007-132998號公報、日本特開2008-95009號公報等的光阻組合物，特別是用以通過如電子射線或EUV的高能量線形成微細圖案是有用的材料，作為其重要的應用對象有空白光掩模的加工。在光掩模上所描畫的電路，雖然曝光時通常是縮小投影為四分之一左右，但是在光掩模上所描畫的圖案的線寬并不是目標圖案規(guī)則的4倍即可，為了進行光的繞射等的修正，是加工成為比實際電路圖案更復雜的形狀(也即應用OPC:光學近接效果修正；OpticalProximityCorrection等的形狀)。因此，在例如用以制造例如具有45納米圖案規(guī)則的半導體所使用的光掩模的加工，結果必須使用能夠將45納米的圖案解像的光阻。因此，為了制造用以將45納米以下的圖案解像所使用的光掩模的光阻，被要求進一步改善。
發(fā)明內容依照作為目標的圖案規(guī)則的微細化，目前要求解決的課題之一，有線邊緣粗糙度。被解像的光阻圖案的線寬的雜亂度，是被稱為線邊緣粗糙度，即便微細的光阻圖案是能夠分離，只要線邊緣粗糙度大時，會變?yōu)闊o法依照設計來進行微影。該線邊緣粗糙度的問題是在形成0.2微米左右的圖案時也已被提出作為問題。以往通常是通過選擇酸產生劑或堿性化合物的材料或調整添加量來解決。但是，通過酸產生劑或堿性化合物來進行的解決方式，結果會有稱為稍微增加酸的擴散長的作業(yè)，從可達到的解像度是控制酸的擴散長來看，在與解像性之間產生對立(取舍(tradeoff))。因此，本發(fā)明是關于將具有高解像性及高蝕刻耐性的被酸不穩(wěn)定基保護的羥基苯乙烯、與具有芳香環(huán)的環(huán)烯烴的共聚物，作為基質聚合物的光阻組合物，進而是以提供一種光阻圖案的形成方法作為主要的目的，該光阻圖案的形成方法，能夠抑制線邊緣粗糙度，能夠使用于依照65納米以下的圖案規(guī)則，進而依照45納米以下的圖案規(guī)則所進行的半導體加工及使用于利用此加工的空白光掩模的精密加工等。為了達成上述目的，本發(fā)明者重復專心研討的結果，發(fā)現(xiàn)對于具有1種或2種以上的以下述通式(l)表示的單體單元，進而具有1種或2種以上的以下述通式(2)表示的單體單元、及/或具有1種或2種以上的以下述通式(3)表示的單體單元，并且，在下述通式(1)(3)的單體的合計占有構成聚合物的總單體單元的95摩爾％以上，且以下述通式(l)表示的單體是含有2種以上時，相對于上述通式(l)整體，t為1以上者的占有比率為70摩爾%以上；進而，相對于構成聚合物的總單體單元，以下述通式(2)及下述通式(3)表示的單體單元的合計為530摩爾％的聚合物；將下述通式(l)的單體單元的酚性羥基是一部分被酸分解性保護基保護的聚合物，作為基質聚合物，并使用其重量平均分子量比先前認為最佳范圍更小者即重量平均分子量為4，0007，000的高分子化合物、特別是4,5005,500的高分子化化合物，來組成化學增幅型正型光阻組合物；若使用此種組合物來進行圖案形成時，即便形成最小線寬或最小間隔寬度為65納米以下的圖案時，也能夠形成高解像性且線邊緣粗糙度小的光阻圖案。進而，發(fā)現(xiàn)通過使用上述光阻組合物，在制造圖案規(guī)則為65納米以下的半導體所使用的光掩模時，能夠形成精密的光阻圖案，而完成了本發(fā)明。也即，本發(fā)明是一種光阻圖案的形成方法，其特征在于-是在被加工基板上形成最小線寬或最小間隔寬為65納米以下的圖案，其中包含以下步驟將含有基質聚合物的化學增幅型正型光阻組合物，涂布在被加工基板上，并通過加熱來除去殘留在涂布膜中的過剩的溶劑成分而得到光阻膜的步驟；以高能量線來將圖案曝光的步驟；以及使用顯像液進行顯像的步驟；其中，將至少含有1種或2種以上的以下述通式(1)表示的單體單元(其中，必須包含t為1以上的單元)，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(式中，R'是表示氫原子或甲基，W是表示碳數(shù)l6的烴基、烷氧基烴基的任一種；又，t是02的整數(shù)，s是04的整數(shù)，0《s+t《5)進而，含有1種或2種以上的以下述通式(2)表示的單體單元，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(式中，W是表示羥基、碳數(shù)16的烴基、垸氧基烴基的任一種，u是04的整數(shù))；及減1種或2種以上的以下述通式(3)表示的單體單元，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>(式中，R"是表示羥基、碳數(shù)16的烴基、垸氧基烴基的任一種，v是04的整數(shù))；并且，上述通式(1)(3)的單體的合計是占有構成聚合物的總單體單元的95摩爾°/。以上，且以上述通式(1)表示的單體是含有2種以上時，相對于上述通式(l)整體，t為1以上者的占有比率為70摩爾％以上；進而，相對于構成聚合物的總單體單元，以上述通式(2)及上述通式(3)表示的單體單元的合計為530摩爾％，且其重量平均分子量為4,0007,000的聚合物；將上述通式(l)的單體單元的酚性羥基的一部分是被酸分解性保護基保護的聚合物，作為上述基質聚合物。相對于先前所使用的的分子量8,000至1,5000的聚羥基苯乙烯系的基質聚合物，在上述聚合物，意外地，不會因降低分子量而圖案變?yōu)閳A頭，能夠得到高解像性，同時未采用調整酸產生劑及堿性化合物而能夠將線邊緣粗糙度降低至比先前小。而且，上述重量平均分子量，優(yōu)選是4，5005，500。又，用以保護上述通式(l)的單體單元的酚性羥基的酸分解性保護基，優(yōu)選是以下述通式(4)表示的縮醛基，人(4)—〇O-Y(式中，RS是表示氫原子、碳數(shù)1至10的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀的烷基。而且，Y是表示碳數(shù)l至30的直鏈、支鏈、環(huán)狀(包含多環(huán)者)的烷基)。通過采用上述的縮醛基作為酸分解性保護基，能夠得到更高的解像性。又，本發(fā)明是一種光掩模的制造方法，其是使用于制造圖案規(guī)則為65納米以下的半導體裝置，其中包含依照上述任一種的光阻圖案形成方法，在空白光掩模上形成光阻圖案并將空白光掩模加工的步驟。因為通過使用上述的光阻組合物，能夠同時達成高解像度及小的線邊緣粗糙度，在制造先前難以確保信賴性的依照65納米以下、特別是依照45納米以下的圖案規(guī)則的半導體時所使用的光掩模的情況，能夠賦予高信賴性。在本發(fā)明，基質聚合物是具有羥基及羥基被酸分解性基保護的苯乙烯單元、及茚單元或苊烯單元的聚合物之中，使用重量平均分子量為4000至7000、特別是4500至5500的聚合物而成的光阻組合物，來形成光阻圖案，即便形成最小線寬(殘留光阻圖案所具有的寬度)、或是最小間隔寬(殘留光阻圖案與光阻圖案之間的寬度)為65納米以下的圖案時，也能夠得到具有良好的線邊緣粗糙度(LER)的光阻圖案。而且，通過具有將碳數(shù)7以上的脂肪族多環(huán)垸基的縮醛基作為保護基，即便形成45納米以下的圖案時，也能夠得到具有良好的LER的光阻圖案。而且，該結果能夠提升在制造用以制造特別是具有65納米以的圖案規(guī)則、進而45納米以下的圖案規(guī)則的半導體時所使用的光掩模的微影術的信賴性。圖1是高分子化合物的分子量(Mw)與線邊緣粗糙度(LER)的關系圖。具體實施例方式本發(fā)明是進一步改良本發(fā)明者等在日本特開2007-132998號公報、日本特開2008-95009號公報所揭示的具有高蝕刻耐性的光阻組合物，能夠使要求極微細的光阻圖案(65納米以下的圖案規(guī)則、特別是難以得到高精確度的45納米以下的圖案規(guī)則)的半導體的制造及該制造所使用的光掩模的制造變?yōu)槿菀?。即便使用具有日本特開2007-132998號公報、日本特開2008-95009號公報的實施例所揭示的分子量的聚合物的光阻組合物來進行圖案形成，雖然在當時能夠得到比較良好的解像性，且不會產生由于顯像后的溶解聚合物的再黏附等所造成的浮渣的問題，但是打算減少線邊緣粗糙度時，會有必須稍微犧牲解像性的缺點。然而，通常未產生浮渣等問題時，若將分子量降低時，會產生圖案形狀變差、或者不如說是由于對比降低會有致使線邊緣粗糙度增大的可能性，但是本發(fā)明者等特意地嘗試將分子量降低時，令人吃驚地發(fā)現(xiàn)能夠改善線邊緣粗糙度，且同時能夠提升解像性。在本發(fā)明的光阻組合物所使用的基質聚合物，是以下述之物作為主要的基質聚合物。也即，一種基質聚合物，對于至少含有1種或2種以上的以下述通式(1)表示的單體單元(其中，必須包含t為1以上的單元)，(式中，R'是表示氫原子或甲基，W是表示碳數(shù)l6的烴基、烷氧基烴基的任一種；又，t是02的整數(shù)，s是04的整數(shù))進而，含有1種或2種以上的以下述通式(2)表示的單體單元，(式中，RS是表示羥基、碳數(shù)16的烴基、烷氧基烴基的任一種，u是04的整數(shù))；及/或1種或2種以上的以下述通式(3)表示的單體單元，(式中，W是表示羥基、碳數(shù)16的烴基、烷氧基烴基的任一種，v是04的整數(shù))，且重量平均分子量為4，0007,000的聚合物；其上述通式(l)的單體單元的酚性羥基的一部分是被酸分解性保護基保護的基質聚合物。上述的基質聚合物，是上述通式(1)(3)的單體的合計為占有構成聚合物的總單體單元的95摩爾％以上，優(yōu)選為98摩爾％以上，且上述通式(l)所示單體是含有2種以上時，相對于上述通式(l)所示的單元整體，t為1以上者(但是，在此羥基是被酸不穩(wěn)定基保護者及未被酸不穩(wěn)定基保護者的合計)的占有比率為70摩爾％以上，優(yōu)選為85摩爾％以上，更優(yōu)選為100摩爾％;而且，相對于構成聚合物的總單體單元，上述通式(2)及上述通式(3)所示單體單元的合計為530摩爾％。上述基質聚合物的基本骨架是以苯乙烯單元(上述通式(l)及茚單元(上述通式(2))、苯乙烯單元與苊烯單元(通式(3))、或苯乙烯單元與茚單元及苊烯單元作為主要構成單元的任一種，也可依照情況，含有被其他如叔垸基的酸不穩(wěn)定基保護、或是被酸穩(wěn)定基保護的(甲基)丙烯酸酯單元等。苯乙烯單元是a-位置(^)為氫或甲基，羥基或被酸不穩(wěn)定基保護的羥基取代者，必須占有總苯乙烯單元中的70摩爾％以上，更優(yōu)選80摩爾％以上，優(yōu)選100摩爾％。又，在被酸不穩(wěn)定基保護的狀態(tài)的聚合物，相對于聚合物的總構成單元，具有未被保護的羥基的單元為5摩爾％以上、80摩爾％以下，優(yōu)選為30摩爾％以上、80摩爾％以下。又，相對于聚合物的總構成單元，具有上述被酸不穩(wěn)定基保護的羥基的單元為0以上、50摩爾％以下，優(yōu)選10摩爾％以上、30摩爾％以下。在苯乙烯單元的也可取代的其他取代基，可例示碳數(shù)16的烴基或烷氧基烴基。烴基可例示甲基、乙基、含各種異構體的丙基、丁基、戊基、環(huán)戊基、己基、環(huán)己基，苯基等。茚單元及苊烯單元是任一種也可被羥基或碳數(shù)16的烴基或垸氧基烴基取代。烴基可例示甲基、乙基、或含各種異構體的丙基、丁基、戊基、環(huán)戊基、己基、環(huán)己基、苯基等。該等單元是如特開2008-122932號公報所揭示，能夠賦予從光阻組合物所得到的光阻膜使其成為具有高蝕刻耐性的膜，但是依照本發(fā)明所得到的結果，認為在與后述的酸產生劑的組合，也有能夠賦予高解像度或良好圖案形狀的作用。在聚合物的總構成單元中，該等單元優(yōu)選為530摩爾％，更優(yōu)選520摩爾％。小于5摩爾％時，蝕刻耐性高的特征變?yōu)椴幻鞔_，大于30摩爾％時，難以得到分子的控制或聚合的再現(xiàn)性。上述基質聚合物的重量平均分子量依照通常的方法以聚苯乙烯作為標準試樣，且通過凝膠滲透色譜儀GPC進行測定時，能夠采用重量平均分子量在4,0007,000的范圍者，更優(yōu)選4，5005，500。重量平均分子量小于4,000時，如先前已知，圖案的頭變圓且解像力低落，同時線邊緣粗糙度變差。相反地，大于7,000時，容易產生線邊緣粗糙顯著出現(xiàn)的現(xiàn)象。因此，以重量平均分子量為4,000以上、7，000以下，更優(yōu)選是4,500以上、5，500以下的極狹窄的范圍為最優(yōu)選。而且，在上述本發(fā)明所使用的聚合物，分子量分布(Mw/Mn)為1.02.0、特別是1.01.8時，因為是狹窄分散，乃是優(yōu)選。分子量分布廣闊時，顯像后，會有在圖案上產生異物、或圖案形狀變差的情形。保護上述通式(l)的羥基的通過酸分解的酸不穩(wěn)定基，能夠使用縮醛基、叔烷基等各種物，因為能夠賦予高解像性，下述通式(4)人(4)一OO—Y(式中，RS是表示氫原子、碳數(shù)110的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀的烷基。通式(4)中的Y是碳數(shù)130的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀(包含多環(huán)者)的垸基)所示的縮醛基，是適合使用。通式(4)中的Y是碳數(shù)130的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀(包含多環(huán)者)的烷基，優(yōu)選含有碳數(shù)730的多環(huán)烷基。又，Y是含有多環(huán)烷基時，優(yōu)選在構成該多環(huán)環(huán)結構的仲碳與縮醛的氧之間形成鍵結。這是因為若在環(huán)結構的叔碳上鍵結時，高分子化合物會有變?yōu)椴环€(wěn)定，缺乏作為光阻材料的保存穩(wěn)定性，且解像力也差的情形。相反地，Y是透過碳數(shù)1以上的直鏈垸基而在伯碳上鍵結時，會有高分子化合物的玻璃轉移溫度(Tg)降低，且顯像后的光阻圖案因烘烤而產生形狀不良的情形。通式(4)的優(yōu)選例子可例示下述之物。\\\。\O卜R5o又，Rs是氫、或碳數(shù)110的直鏈、支鏈狀或環(huán)狀的垸基，能夠按照對酸的分解性基的敏感度設計而適當?shù)剡x擇。例如為了確保比較高的穩(wěn)定性，設計以強酸分解時可選擇氫，使用較高反應性而對pH變化高敏感度化的設計時，可選擇直鏈的烷基。雖然也取決于在光阻組合物所調配的酸產生劑或堿性化合物的組合，在上述的末端被較大的垸基取代，且通過分解而溶解性變化大的設計時，RS是具有與縮醛的碳鍵結的碳優(yōu)選為仲碳者。通過仲碳與縮醛的碳鍵結的R5，可舉出例如異丙基、第二丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基等。上述聚合物的制造能夠依照許多已知的聚合方法，也即依照自由基聚合或陽離子聚合來進行。依照自由基聚合制造時，是以已經被酸分解性保護基保護的(甲基)丙烯酸衍生物與乙酰氧基苯乙烯的聚合(例如特開2002-62652號公報)的方式，使用預先導入酸分解性基的單體(此時，在酚性OH加入酸分解性保護基而成者)，就具有游離的酚性羥基的單元而言，也有在乙酰氧基化狀態(tài)進行聚合，隨后進行脫乙酰氧基化的方法。但是進行陽離子聚合時或通過敏感的縮醛基進行保護時，以通過聚合來制造未保護狀態(tài)的聚合物，再對其進行保護的方法為優(yōu)選。又，上述自由基聚合法或脫乙酰氧基化反應是已被熟悉，且在特開2007-132998號公報或特開2008-95009號公報也有揭示。堿加水分解時的堿，能夠使用氨水、三乙胺等。又，反應溫度優(yōu)選為-20100。C，以060°C，反應速度為0.2100小時，優(yōu)選0.530小時。將聚合物在聚合后使用縮醛基保護的方法，已知使用乙烯醚及酸催化劑的方法(例如特開2008-95009號公報)、或將具有鹵垸氧基的縮醛化劑與堿一同使用的方法(例如特開2007-132998號公報)等，在此能夠使用任一種方法。例如使用乙烯醚與酸催化劑的方法時，反應時使用的酸催化劑可例示甲磺酸、三氟乙酸、草酸、甲磺酸吡啶鹽等。反應溫度優(yōu)選5°C20°C，反應時間為0.210小時，優(yōu)選0.55小時。又，將具有鹵烷氧基的縮醛化劑與堿一同使用的方法，是在聚合物溶液在三乙胺等堿性化合物的存在下，滴加下述通式(5)所示的縮醛化劑的方法，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>(X是表示氯原子、溴原子、碘原子，Y"是表示碳數(shù)130的烷基或芳基)此時的反應溫度為-205(TC，反應時間為0.210小時，優(yōu)選是以0.55小時作為目標，但是未限定于該等制造方法。又，除了基質聚合物以外，也可例外地添加其他的聚合物。例如將氟在附近取代而酸性度提升的羥基作為堿可溶性基而含有的聚合物，已知有(甲基)丙烯酸酯系(特開2007-297590號公報)或羥基苯乙烯系(特開昭62-240953號公報)。該等材料具有使光阻膜的表面狀態(tài)改變，并提升圖案的面內均勻性的效果。又，在不損害本發(fā)明效果的范圍也可添加常用的羥基苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物系等的聚合物。但是，該等聚合物以不大于聚合物整體的30質量°/。為佳，以10質量％以下為優(yōu)選，為了得到本發(fā)明本身的效果，并不須要添加。而且，在本發(fā)明所使用的化學增幅型正型光阻組合物，將固體成分溶解用以能夠進行涂布的有機溶劑，可舉出乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸環(huán)己酯、乙酸3-甲氧基丁酯、甲基乙基酮、甲基戊基酮、環(huán)己酮、環(huán)戊酮、丙酸3-乙氧基乙酯、丙酸3-乙氧基甲酯、丙酸3-甲氧基甲酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、二丙酮醇、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙二醇一甲基醚、丙二醇一乙基醚、丙二醇一甲基醚丙酸酯、丙二醇一乙基醚丙酸酯、乙二醇一甲基醚、乙二醇一乙基醚、二甘醇一甲基醚、二甘醇一乙基醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、N-甲基吡咯啶酮、二甲基亞砜、Y-丁內酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇乙基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、四亞甲基砜等，但是未限定于該等。以丙二醇垸基醚乙酸酯、乳酸烷酯為特佳。該等溶劑可單獨或混合2種以上。優(yōu)選的混合溶劑的例子是丙二醇烷基醚乙酸酯與乳酸烷酯。又，在本發(fā)明的丙二醇烷基醚乙酸酯的烷基是碳數(shù)14者，可舉出例如甲基、乙基、丙基等，其中，優(yōu)選甲基、乙基。又，在該丙二醇垸基醚乙酸酯，有1，2取代物、1,3取代物及組合取代位置的3種異構體，單獨或混合的任一情況均可。又，上述乳酸垸酯的烷基是碳數(shù)14者，可舉出例如甲基、乙基、丙基等，其中，優(yōu)選甲基、乙基。又，作為上述有機溶劑，調制光曝光用光阻時，為了將酸產生劑添加量控制為較少，主要溶劑優(yōu)選選擇丙二醇垸基醚乙酸酯，此時，相對于總溶劑，優(yōu)選50質量％以上。又，追加的副溶劑優(yōu)選選擇乳酸垸酯或丙二醇一垸基醚。又，作為電子射線曝光用光阻時，因為酸產生劑添加量是使用比較多，主要溶劑優(yōu)選選擇具有羥基的乳酸烷酯或丙二醇一垸基醚，此時，相對于總溶劑，乳酸烷酯或丙二醇一烷基醚的其中一方或混合兩者而成者，優(yōu)選50質量％以上。而且，使用丙二醇烷基醚乙酸酯、乳酸烷酯及/或丙二醇一烷基醚的混合溶劑作為溶劑時，相對于總溶劑，其合計量優(yōu)選使用50質量％以上，更優(yōu)選80%以上。此時，優(yōu)選2095質量°/。的丙二醇烷基醚乙酸酯、580質量％的乳酸烷酯及/或丙二醇一烷基醚的比率，該比率能夠如上述考慮酸產生劑添加量而決定。丙二醇烷基醚乙酸酯較少時，會有涂布性變差等問題，太多會有溶解性不充分、產生微粒、異物的問題。乳酸烷酯及/或丙二醇一垸基醚太少時，會有溶解性不充分、微粒、異物增加等的問題，太多時，會有黏度變高、涂布性變差，而且保存穩(wěn)定性變差等的問題。相對于化學增幅型正型光阻材料的固體成分為100質量份，該等溶劑的添加量為3002,000質量份，優(yōu)選4001，000質量份，若是通過既存的成膜方法的可能的濃度時，未限定于該等。在本發(fā)明所使用的光阻組合物所含有的光酸產生劑，若是通過照射高能量線而產生酸的化合物時是任一種均無妨。優(yōu)選的光酸產生劑有锍鹽、鎩鹽、磺酰基二偶氮甲烷、N-磺酰氧基酰亞胺型酸產生劑等。以下進行詳述，該等可單獨使用或混合使用2種以上。锍鹽是锍陽離子與磺酸鹽或雙(取代烷基磺?；?酰亞胺、三(取代烷基磺?；?甲基金屬化合物(methide)的鹽，作為锍陽離子可舉出三苯基锍、4-第三丁氧基苯基二苯基锍、雙(4-第三丁氧基苯基)苯基锍、三(4-第三丁氧基苯基)锍、3-第三丁氧基苯基二苯基锍、雙(3-第三丁氧基苯基)苯基锍、三(3-第三丁氧基苯基)锍、3，4-二-第三丁氧基苯基二苯基锍、雙(3,4-二-第三丁氧基苯基)苯基锍、三(3，4-二-第三丁氧基苯基)锍、二苯基(4-硫苯氧基)锍、4-第三丁氧基羰基甲氧基苯基二苯基锍、三(4-第三丁氧基羰基甲氧基苯基)锍、(4-第三丁氧基苯基)雙(4-二甲胺基苯基)锍、三(4-二甲胺基苯基)锍、4-甲基苯基二苯基锍、4-第三丁基苯基二苯基锍、雙(4-甲基苯基)苯基锍、雙(4-第三丁基苯基)苯基锍、三(4-甲基苯基)锍、三(4-第三丁基苯基)锍、三(苯基甲基)锍、2-萘基二苯基锍、二甲基(2-萘基)锍、4-羥基苯基二甲基锍、4-甲氧基苯基二甲基锍、三甲基锍、2-氧代環(huán)己基環(huán)己基甲基锍、三萘基锍、三芐基锍、二苯基甲基锍、二甲基苯基锍、2-氧代丙基硫環(huán)戊鑰(2-oxopropylthiacyclopentanium)、2-氧代丁基硫環(huán)戊錄、2-氧代_3,3_二甲基丁基硫環(huán)戊鑰、2-氧代-2-苯基乙基硫環(huán)戊鎗、4-正丁氧基萘基-l-硫環(huán)戊鐵、2-正丁氧基萘基-1-硫環(huán)戊鐵等；作為磺酸鹽可舉出三氟甲烷磺酸鹽、五氟乙烷磺酸鹽、七氟丙烷磺酸鹽、九氟丁烷磺酸鹽、十三氟己垸磺酸鹽、全氟(4-乙基環(huán)己垸)磺酸鹽、十七氟辛垸磺酸鹽、2，2，2-三氟乙烷磺酸鹽、五氟苯磺酸鹽、4-(三氟甲基)苯磺酸鹽、4-氟苯磺酸鹽、均三甲苯(mesitylene)磺酸鹽、2,4,6-三異丙基苯磺酸鹽、甲苯磺酸鹽、苯磺酸鹽、4-(對甲苯磺酰氧基)苯磺酸鹽、6-(對甲苯磺酰氧基)萘-2-磺酸鹽、4-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、5-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、8-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、萘磺酸鹽、樟腦磺酸鹽、辛烷磺酸鹽、十二烷基苯磺酸鹽、丁烷磺酸鹽、甲垸磺酸鹽、1,1-二氟-2-萘基乙垸磺酸鹽、1,1,2,2-四氟-2-(降冰片烷-2-基)乙烷磺酸鹽、1,1,2，2-四氟-2-(四環(huán)[4.4.0.12，5.17，10]十二_3_烯_8_基)乙垸磺酸鹽、2-苯甲酰氧基-l，l,3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1，3，3，3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙垸磺酸鹽、1，1，3，3，3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙垸磺酸鹽、2-環(huán)己烷羰氧基-l,l，3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、1,1,3,3,3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙烷磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l，l,3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1,1，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-(l-金剛垸羰氧基)-1,1,3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-乙酰氧基-l，l，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、1,1,3,3,3-五氟-2-羥基丙垸磺酸鹽、1，1,3,3,3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、l，l-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙烷磺酸鹽、金剛垸甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛垸)甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基(methano)-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲垸磺酸鹽、4-氧代-1-金剛烷氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽等；作為雙(取代垸基磺酰基)酰亞胺可舉出雙(三氟甲基磺?；?酰亞胺、雙(五氟乙基酰氧基)酰亞胺、雙(五氟丙基磺?；?酰亞胺、全氟(1,3-亞丙基雙磺?；?酰亞胺等；作為三(取代烷基磺酰基)甲基金屬化合物可舉出三(三氟甲基磺?；?甲基金屬化合物，以及此等組合的锍鹽。鍋鹽是鎩陽離子和磺酸鹽或雙(取代烷基磺酰基)酰亞胺、三(取代烷基磺酰基)甲基金屬化合物的鹽，作為鍋陽離子可舉出二苯基鎩、雙(4-第三丁基苯基)鐄、4-第三丁氧基苯基苯基鎩、4-甲氧基苯基苯基鋏等；作為磺酸鹽可舉出三氟甲烷磺酸鹽、五氟乙垸磺酸鹽、七氟丙垸磺酸鹽、九氟丁烷磺酸鹽、十三氟己烷磺酸鹽、全氟(4-乙基環(huán)己垸)磺酸鹽、十七氟辛烷磺酸鹽、2，2，2-三氟乙烷磺酸鹽、五氟苯磺酸鹽、4-(三氟甲基)苯磺酸鹽、4-氟苯磺酸鹽、均三甲苯磺酸鹽、2,4，6-三異丙基苯磺酸鹽、甲苯磺酸鹽、苯磺酸鹽、4-(對甲苯磺酰氧基)苯磺酸鹽、6-(對甲苯磺酰氧基)萘-2-磺酸鹽、4-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、5-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、8-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、萘磺酸鹽、樟腦磺酸鹽、辛烷磺酸鹽、十二垸基苯磺酸鹽、丁烷磺酸鹽、甲烷磺酸鹽、1，1-二氟-2-萘基乙烷磺酸鹽、1，1，2,2-四氟-2-(降冰片烷-2-基)乙垸磺酸鹽、1,1,2，2-四氟-2-(四環(huán)[4.4.0.12，5.17'1()]十二-3-烯-8-基)乙垸磺酸鹽、2-苯甲酰氧基-l,l,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1，1,3,3，3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙烷磺酸鹽、1,1,3,3，3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙垸磺酸鹽、2-環(huán)己烷羰氧基-l,l，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、1,1，3,3，3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙垸磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l,l，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1,1,3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(l-金剛垸羰氧基)-1,1，3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-乙酰氧基-l，l，3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1，1，3，3，3-五氟-2-羥基丙垸磺酸鹽、1，1,3,3,3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、1,1-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙烷磺酸鹽、金剛垸甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛垸)甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲烷磺酸鹽、4-氧代-l-金剛烷氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽等；作為雙(取代烷基磺酰基)酰亞胺可舉出雙(三氟甲基磺?；?酰亞胺、雙(五氟乙基酰氧基)酰亞胺、雙(五氟丙基磺酰基)酰亞胺、全氟(1,3-亞丙基雙磺?；?酰亞胺等；作為三(取代垸基磺?；?甲基金屬化合物可舉出三(三氟甲基磺?；?甲基金屬化合物，以及此等組合的鍋鹽。作為磺?；氐综膳e出雙(乙基磺?；?重氮甲垸、雙(l-甲基丙基磺?；?重氮甲烷、雙(2-甲基丙基磺酰基)重氮甲垸、雙(l,l-二甲基乙基磺?；?重氮甲垸、雙(環(huán)己基磺?；?重氮甲烷、雙(全氟異丙基磺?；?重氮甲烷、雙(苯基磺酰基)重氮甲烷、雙(4-甲基苯基磺酰基)重氮甲垸、雙(2,4-二甲基苯基磺酰基)重氮甲垸、雙(4-乙酰氧基苯基磺酰基)重氮甲烷、雙(4-(甲烷磺酰氧基)苯基磺?；?重氮甲烷、雙(4-(對甲苯磺酰氧基)苯基磺?；?重氮甲垸、雙(4-正己氧基苯基磺?；?重氮甲烷、雙(2-甲基-4-正己氧基苯基磺?；?重氮甲烷、雙(2，5-二甲基-4-正己氧基苯基磺?；?重氮甲垸、雙(3,5-二甲基-4-正己氧基苯基磺?；?重氮甲垸、雙(2-甲基-5-異丙基-4-正己氧基)苯基磺?；氐淄?、雙(2-萘基磺?；?重氮甲烷、4-甲基苯基磺?；郊柞；氐综?、第三丁基羰基-4-甲基苯基磺?；氐淄椤?-萘基磺?；郊柞；氐综?、4-甲基苯基磺?；?2-萘甲?；氐淄椤⒓谆酋；郊柞；氐淄?、第三丁氧基羰基-4-甲基苯基磺酰基重氮甲烷等雙磺酰基重氮甲垸與磺?；驶氐综?。作為N-磺酰氧基二羧基酰亞胺型光酸產生劑，可舉出琥珀酸酰亞胺、萘二羧基酰亞胺、鄰苯二甲酸酰亞胺、環(huán)己基二羧基酰亞胺、5-降冰片烯-2，3-二羧基酰亞胺、7-氧代雙環(huán)[2.2.1]-5-庚烯-2,3-二羧基酰亞胺等酰亞胺骨架與三氟甲烷磺酸鹽、五氟乙垸磺酸鹽、七氟丙垸磺酸鹽、九氟丁垸磺酸鹽、十三氟己烷磺酸鹽、全氟(4-乙基環(huán)己垸)磺酸鹽、十七氟辛烷磺酸鹽、2,2，2-三氟乙烷磺酸鹽、五氟苯磺酸鹽、4-(三氟甲基)苯磺酸鹽、4-氟苯磺酸鹽、均三甲苯磺酸鹽、2,4，6-三異丙基苯磺酸鹽、甲苯磺酸鹽、苯磺酸鹽、4-(對甲苯磺酰氧基)苯磺酸鹽、6-(對甲苯磺酰氧基)萘-2-磺酸鹽、4-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、5-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、8-(對甲苯磺酰氧基)萘-l-磺酸鹽、萘磺酸鹽、樟腦磺酸鹽、辛烷磺酸鹽、十二烷基苯磺酸鹽、丁烷磺酸鹽、甲垸磺酸鹽、1，1-二氟-2-萘基乙垸磺酸鹽、1，1,2，2-四氟-2-(降冰片烷-2-基)乙烷磺酸鹽、1,1，2,2-四氟-2-(四環(huán)[4.4.0.12，5.^'1()]十二-3-烯-8-基)乙烷磺酸鹽、2-苯甲酰氧基-l,l,3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、1,1，3，3,3-五氟_2_(4-苯基苯甲酰氧基)丙烷磺酸鹽、1，1,3，3，3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙烷磺酸鹽、2-環(huán)己烷羰氧基-l，l，3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、1，1，3，3，3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙烷磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l,l,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1,1,3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、2-(l-金剛垸羰氧基)-1，1，3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-乙酰氧基-l,l,3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、1,1,3，3,3-五氟-2-羥基丙垸磺酸鹽、1,1,3，3，3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、1，1-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙烷磺酸鹽、金剛垸甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛烷)甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲垸磺酸鹽、4-氧代-l-金剛垸氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽等的組合的化合物。作為O-芳基磺酰肟化合物或O-垸基磺酰肟化合物(磺酸肟)型光酸產生劑，可舉出乙二肟衍生物型；間隔著噻吩或環(huán)己二烯的共軛系長躬磺酸鹽型；以三氟甲基般的吸電子基團來增加化合物的穩(wěn)定性的磺酸肟型；使用苯基乙腈、取代乙腈衍生物的磺酸肟型；以及雙磺酸肟型等。作為乙二肟衍生物型的光酸產生劑，可舉出雙-O-(對甲苯磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(對甲苯磺?；?-a-二苯基乙二月虧、雙-O-(對甲苯磺?；?-a-二環(huán)己基乙二肟、雙-O-(對甲苯磺?；?-2,3-戊二酮=肟、雙-O-(正丁烷磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(正丁垸磺?；?-a-二苯基乙二肟、雙-O-(正丁垸磺?；?-a-二環(huán)己基乙二肟、雙-O-(甲烷磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(三氟甲烷磺酰基)-a_二甲基乙二肟、雙_0-(2，2,2-三氟乙烷磺酰基)-a-二甲基乙二肟、雙-O-(10-樟腦磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(苯磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(4-氟苯磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(4-三氟甲基苯磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(二甲苯磺?；?-a-二甲基乙二肟、雙-O-(三氟甲烷磺酰基)-1，2-環(huán)己二酮二肟(Nioxime)、雙-O-(2，2，2-三氟乙烷磺?；?-1,2-環(huán)己二酮二月虧、雙-O-(10-樟腦磺?；?-1,2-環(huán)己二酮二肟、雙-O-(苯磺酰基)-1,2-環(huán)己二酮二肟、雙-0-(4-氟苯磺酰基)-1,2-環(huán)己二酮二肟、雙-O-(4-(三氟甲基)苯磺?；?-1，2-環(huán)己二酮二肟、雙-O-(二甲苯磺?；?-1,2-環(huán)己二酮二肟等，進而可舉出于上述骨架上以下述物質取代而成的化合物2-苯甲酰氧基-l,l,3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、1，1,3,3,3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙烷磺酸鹽、1,1,3,3,3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙烷磺酸鹽、2-環(huán)己垸羰氧基-1,1,3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、U，3,3，3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙烷磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l,l,3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1,1，3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(1-金剛烷羰氧基)-1，1，3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-乙酰氧基-l,l，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、1,1,3，3，3-五氟-2-羥基丙烷磺酸鹽、1，1,3,3,3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、1，1-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙烷磺酸鹽、金剛烷甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛垸)甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲烷磺酸鹽、4-氧代-l-金剛烷氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽等。作為間隔著噻吩或環(huán)己二烯的共軛系長磺酸肟型的光酸產生劑，可舉出(5-(對甲苯磺酰基)氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)苯基乙腈、(5-(lO-樟腦磺酰基)氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)苯基乙腈、(5-正辛垸磺酰氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)苯基乙腈、(5-(對甲苯磺?；?氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)(2-甲基苯基)乙腈、(5-(10-樟腦磺?；?氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)(2-甲基苯基)乙腈、(5-正辛烷磺酰氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)(2-甲基苯基)乙腈、(5-(4-(對甲苯磺酰氧基)苯磺?；?氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)苯基乙腈、(5-(2,5-雙(對甲苯磺酰氧基)苯磺?；?氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)苯基乙腈等，進而可舉出于上述骨架上以下述物質取代而成的化合物2-苯甲酰氧基-l，l，3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1,3,3,3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙烷磺酸鹽、1，1,3，3,3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙烷磺酸鹽、2-環(huán)己烷羰氧基-l，l,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1,3，3,3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙垸磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l，l，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1，1,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(1-金剛烷羰氧基)-1，1,3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-乙酰氧基-l,l，3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、1，1，3，3，3-五氟-2-羥基丙烷磺酸鹽、1，1,3,3,3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、1，1-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙烷磺酸鹽、金剛垸甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛烷)甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲烷磺酸鹽、4-氧代-l-金剛烷氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽等。作為以三氟甲基般的吸電子基團來增加化合物的穩(wěn)定性的磺酸肟型酸產生劑，可舉出2，2,2-三氟-1-苯基乙酮=0-(甲基磺?；?月虧、2,2，2-三氟-1-苯基乙酮二O-OO-樟腦磺?；?肟、2，2，2-三氟-1-苯基乙酮=0-(4-甲氧基苯磺酰基)肟、2，2,2-三氟-1-苯基乙酮=0-(l-萘基磺?；?肟、2,2,2-三氟-1-苯基乙酮=0-(2-萘基磺?；?肟、2,2,2-三氟-1-苯基乙酮=0-(2,4,6-三甲基苯磺?；?肟、2，2，2-三氟-1-(4-甲基苯基)乙酮二O-(10-樟腦磺?；?肟、2,2，2-三氟-1-(4-甲基苯基)乙酮=0-(甲基磺?；?月虧、2,2，2-三氟-1-(2-甲基苯基)乙酮=0-(10-樟腦磺酰基)肟、2，2,2-三氟-1-(2,4-二甲基苯基)乙酮=0-(10-樟腦磺?；?肟、2,2,2-三氟-1-(2,4-二甲基苯基)乙酮=0-(l-萘基磺?；?月虧、2，2,2-三氟-1-(2，4-二甲基苯基)乙酮-O-(2-萘基磺酰基)肟、2，2，2-三氟-1-(2，4，6-三甲基苯基)乙酮二O-(10-樟腦磺?；?月虧、2，2,2-三氟-1-(2，4，6-三甲基苯基)乙酮二O-(l-萘基磺?；?后、2，2,2-三氟-l-(2，4，6-三甲基苯基)乙酮=0-(2-萘基磺?；?月虧、2,2，2-三氟-1-(4-甲氧基苯基)乙酮二O-(甲基磺?；?肟、2，2，2-三氟-1-(4-甲基硫苯基)乙酮二O-(甲基磺酰基)肟、2，2,2-三氟-1-(3,4-二甲氧基苯基)乙酮=0-(甲基磺?；?肟、2,2，2-三氟-1-(4-甲氧基苯基)乙酮二O-(4-甲基苯磺酰基)肟、2，2,2-三氟-1-(4-甲氧基苯基)乙酮=0-(4-甲氧基苯磺?；?肟、2，2,2-三氟-l-(4-甲氧基苯基)乙酮=0-(4-十二烷基苯磺?；?肟、2，2,2-三氟-1-(4-甲氧基苯基)乙酮=0-(辛基磺?；?肟、2,2,2-三氟-1-(4-硫基甲基苯基)乙酮=0-(4-甲氧基苯磺?；?肟、2，2,2-三氟-1-(4-硫基甲基苯基)乙酮二O-(4-十二垸基苯磺酰基)肟、2,2，2-三氟-1-(4-硫基甲基苯基)乙酮=0-(辛垸基磺?；?肟、2，2,2-三氟-1-(4-硫基甲基苯基)乙酮二O-(2-萘基磺酰基)肟、2,2,2-三氟-1-(2-甲基苯基)乙酮=0-(甲基磺?；?肟、2，2，2-三氟-l-(4-甲基苯基)乙酮=0-(苯磺酰基)肟、2，2,2-三氟-1-(4-氯苯基)乙酮=0-(苯磺?；?肟、2，2,3，3，4，4，4-七氟-1-苯基丁酮=0-(10-樟腦磺?；?月虧、2,2，2畫三氟-l國(l-萘基)乙酮二O-(甲基石黃?；?月虧、2,2，2國三氟-1-(2-萘基)乙酮=0-(甲基磺?；?肟、2,2，2-三氟-1-(4-芐基苯基)乙酮=0-(甲基磺?；?肟、2,2，2-三氟-1-(4-(苯基-l，4-二氧代-丁-l-基)苯基)乙酮=0-(甲基磺?；?肟、2，2，2-三氟-1-(l-萘基)乙酮二O-(丙基磺?；?月虧、2，2，2-三氟-1-(2-萘基)乙酮二O-(丙基磺酰基)月虧、2,2，2-三氟-1-(4畫芐基苯基)乙酮=0-(丙基磺?；?肟、2，2，2-三氟-1-(4-甲基磺酰基苯基)乙酮=0-(丙基磺?；?肟、2，2,2-三氟-1-(4-甲基磺酰氧基苯基)乙酮=0-(丙基磺酰基)肟、2,2,2-三氟-1-(4-甲基羰氧基苯基)乙酮=0-(丙基磺?；?肟、2，2，2-三氟-1-(6H,7H-5，8-二氧代萘-2-基)乙酮二O-(丙基磺?；?肟、2，2，2-三氟-1-(4-甲氧基羰基甲氧基苯基)乙酮二O-(丙基磺?；?肟、2，2,2-三氟-1-(4-(甲氧基羰基)-(4-胺基-l-氧代-戊-l-基)苯基)乙酮二O-(丙基磺?；?月虧、2,2，2-三氟-1-(3，5-二甲基-4-乙氧基苯基)乙酮=0-(丙基磺?；?肟、2,2,2-三氟-1-(4-芐氧基苯基)乙酮=0-(丙基磺?；?肟、2，2,2-三氟-1-(2-硫苯基)乙酮=0-(丙基磺?；?肟、2,2,2-三氟-1-(l-二氧代噻吩-2-基)乙酮=0-(丙基磺酰基)月虧、2，2,2-三氟-1-(4-(3-(4-(2,2,2-三氟-l-(三氟甲垸磺酰氧基亞胺基)乙基)苯氧基)丙氧基)苯基)乙酮=0-(三氟甲烷磺?；?躬、2，2,2-三氟-1-(4-(3-(4-(2，2，2-三氟-1-(l陽丙烷磺酰氧基亞胺基)乙基)苯氧基)丙氧基)苯基)乙酮=0-(丙基磺?；?月虧、2，2，2-三氟-1-(4-(3-(4-(2，2,2-三氟-1誦(l-丁烷磺酰氧基亞胺基)乙基)苯氧基)丙氧基)苯基)乙酮=0-(丁基磺?；?肟、2,2,2-三氟-1-(4-(3-(4-(2，2，2-三氟-1-(4-(4-甲基苯基磺酰氧基)苯基磺酰氧基亞胺基)乙基)苯氧基)丙氧基)苯基)乙酮二O-(4-(4-甲基苯基磺酰氧基)苯基磺?；?月虧、2，2,2-三氟-1畫(4-(3-(4-(2,2，2-三氟匿1-(2,5-雙(4-甲基苯基磺酰氧基)苯磺酰氧基)苯基磺酰氧基亞胺基)乙基)苯氧基)丙氧基)苯基)乙酮=O-(2,5-雙(4-甲基苯基磺酰氧基)苯磺酰氧基)苯基磺?；?躬等，進而可舉出于上述骨架上以下述物質取代而成的化合物2-苯甲酰氧基-l,l,3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、1，1，3,3，3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙垸磺酸鹽、1，1，3，3,3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙烷磺酸鹽、2-環(huán)己烷羰氧基-l，l,3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、U,3，3,3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙垸磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l，l，3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1,1，3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(1-金剛烷羰氧基)-1，1，3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-乙酰氧基-l,l,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1,3，3，3-五氟-2-羥基丙烷磺酸鹽、1,1，3,3，3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、1,1-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙垸磺酸鹽、金剛垸甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛烷)甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3,5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲烷磺酸鹽、4-氧代-l-金剛烷氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽等。又，可舉出下述式(Ox-l)所示的磺酸肟。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage22</formula>(式中，R^是表示取代或未取代的碳數(shù)110的鹵烷基磺?；螓u苯磺酰基。R^是表示碳數(shù)111的鹵烷基。A/w是表示取代或未取代的芳香族基或雜環(huán)芳香族基)具體而言，可舉出2-(2，2,3，3，4，4，5，5-八氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)戊基)芴(fluorene)、2-(2,2,3，3,4,4-五氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)丁基)芴、2-(2,2,3，3,4，4，5,5，6,6-十氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)己基)芴、2-(2，2,3,3,4,4，5，5-八氟-1誦(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)戊基)-4-聯(lián)苯、2-(2,2,3,3,4,4-五氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)丁基)-4-聯(lián)苯、2-(2，2,3,3，4，4，5，5,6，6沖氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)己基)-4-聯(lián)苯等，進而可舉出于上述骨架上以下述物質取代而成的化合物2-苯甲酰氧基-1，1,3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、1,1，3,3，3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙垸磺酸鹽、1,1,3，3，3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙烷磺酸鹽、2-環(huán)己烷羰氧基-1,1,3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1，3,3,3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙垸磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-1,1，3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1，1,3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(l-金剛浣羰氧基)-l,l，3,3,3-五氟丙垸磺酸鹽、2-乙酰氧基-1,1,3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1,3，3，3-五氟-2-羥基丙垸磺酸鹽、1,1，3，3,3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、1,1-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙垸磺酸鹽、金剛烷甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛烷)甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲烷磺酸鹽、4-氧代-l-金剛垸氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽等。作為使用取代乙腈衍生物的磺酸肟型，可舉出a-(對甲苯磺酰氧基亞胺基)-苯基乙腈、a-(對氯苯磺酰氧基亞胺基)-苯基乙腈、a-(4-硝苯磺酰氧基亞胺基)-苯基乙腈、a-(4-硝-2-三氟甲基苯磺酰氧基亞胺基)-苯基乙腈、a-(苯磺酰氧基亞胺基)-4-氯苯基乙腈、a-(苯磺酰氧基亞胺基)-2，4-二氯苯基乙腈、a-(苯磺酰氧基亞胺基)-2,6-二氯苯基乙腈、a-(苯磺酰氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基乙腈、a-(2-氯苯磺酰氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基乙腈、a-(苯磺酰氧基亞胺基)-2-噻吩基苯基乙腈、a-(4-十二烷基苯磺酰氧基亞胺基)-苯基乙腈、a-((4-甲苯磺酰氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基)乙腈、a-((十二烷基苯磺酰氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基)乙腈、a-(甲苯磺酰氧基亞胺基)-3-噻吩基乙腈、a-(甲基磺酰氧基亞胺基)-l-環(huán)戊烯基乙腈、a-(乙基磺酰氧基亞胺基)-l-環(huán)戊烯基乙腈、a-(異丙基磺酰氧基亞胺基)-l-環(huán)戊烯基乙腈、a-(正丁基磺酰氧基亞胺基)-l-環(huán)戊烯基乙腈、d-(乙基磺酰氧基亞胺基)-l-環(huán)己烯基乙腈、a-(異丙基磺酰氧基亞胺基)-l-環(huán)己烯基乙腈、a-(正丁基磺酰氧基亞胺基)-l-環(huán)己烯基乙腈等，進而可舉出于上述骨架上以下述物質取代而成的化合物2-苯甲酰氧基-l，l，3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1，3,3,3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙烷磺酸鹽、1，1,3，3,3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙烷磺酸鹽、2-環(huán)己垸羰氧基-1,1，3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、1，1，3，3，3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙烷磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l，l，3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1,1,3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(l-金剛烷羰氧基)-l,l,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-乙酰氧基-1,1,3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、U,3，3，3-五氟-2-羥基丙烷磺酸鹽、1，1,3,3，3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、1，1-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙烷磺酸鹽、金剛垸甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛烷)甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲垸磺酸鹽、4-氧代-l-金剛垸氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽等。又，作為雙磺酸肟，可舉出雙(a-(對甲苯磺酰氧基)亞胺基)-對亞苯基二乙腈、雙(ct-(苯磺酰氧基)亞胺基)-對亞苯基二乙腈、雙(a-(甲垸磺酰氧基)亞胺基)-對亞苯基二乙腈、雙(a-(丁垸磺酰氧基)亞胺基)-對亞苯基二乙腈、雙(a-(10-樟腦磺酰氧基)亞胺基)-對亞苯基二乙腈、雙(a-(三氟甲烷磺酰氧基)亞胺基)-對亞苯基二乙腈、雙(a-(4-甲氧基苯磺酰氧基)亞胺基)-對亞苯基二乙腈、雙(a-(對甲苯磺酰氧基)亞胺基)-間亞苯基二乙腈、雙(a-(苯磺酰氧基)亞胺基)-間亞苯基二乙腈、雙(a-(甲烷磺酰氧基)亞胺基)-間亞苯基二乙腈、雙(a-(丁烷磺酰氧基)亞胺基)-間亞苯基二乙腈、雙(a-(lO-樟腦磺酰氧基)亞胺基)-間亞苯基二乙腈、雙(a-(三氟甲烷磺酰氧基)亞胺基)-間亞苯基二乙腈、雙(a-(4-甲氧基苯磺酰氧基)亞胺基)-間亞苯基二乙腈等，進而可舉出于上述骨架上以下述物質取代而成的化合物2-苯甲酰氧基-1，1，3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1，3,3，3-五氟-2-(4-苯基苯甲酰氧基)丙烷磺酸鹽、1,1，3，3，3-五氟-2-三甲基乙酰氧基丙垸磺酸鹽、2-環(huán)己垸羰氧基-l，l,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1，1,3,3，3-五氟-2-呋喃甲酰氧基丙垸磺酸鹽、2-萘甲酰氧基-l,l，3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(4-第三丁基苯甲酰氧基)-1，1,3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-(l-金剛烷羰氧基)-1,1,3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、2-乙酰氧基-l,l，3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、1,1,3，3,3-五氟-2-羥基丙烷磺酸鹽、1,1,3，3，3-五氟-2-甲苯磺酰氧基丙烷磺酸鹽、U-二氟-2-甲苯磺酰氧基乙烷磺酸鹽、金剛烷甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(3-羥基甲基金剛垸)甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、甲氧基羰基二氟甲垸磺酸鹽、1-(六氫-2-氧代-3，5-亞甲基-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基氧基羰基)二氟甲垸磺酸鹽、4-氧代-l-金剛烷氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽等。上述之中，作為能得到優(yōu)選靈敏度與穩(wěn)定性者，可舉出锍鹽、雙磺?；氐综?、N-磺酰氧基酰亞胺、肟-O-磺酸鹽。上述之中，作為優(yōu)選的具體例，在锍鹽可舉出三苯基锍=對甲苯磺酸鹽、三苯基锍=樟腦磺酸鹽、三苯基锍=五氟苯磺酸鹽、三苯基锍=九氟丁烷磺酸鹽、三苯基锍=4-(對甲苯磺酰氧基)苯磺酸鹽、三苯基锍=2，4，6-三異丙基苯磺酸鹽、4-第三丁氧基苯基二苯基锍=對甲苯磺酸鹽、4-第三丁氧基苯基二苯基锍二樟腦磺酸鹽、4-第三丁氧基苯基二苯基锍=4-(對甲苯磺酰氧基)苯磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍二樟腦磺酸鹽、4-第三丁氧基苯基二苯基锍=2,4，6-三異丙基苯磺酸鹽、三(4-甲基苯基)锍二樟腦磺酸鹽、三(4-第三丁基苯基)锍=樟腦磺酸鹽、10-苯基吩惡噻鹽(phenoxathiinium)二2,4，6-三異丙苯磺酸鹽、三苯基锍=三氟甲烷磺酸鹽、三苯基锍=五氟乙烷磺酸鹽、三苯基锍二七氟丙垸磺酸鹽、三苯基锍=九氟丁烷磺酸鹽、三苯基锍二十三氟己烷磺酸鹽、三苯基锍=十七氟辛烷磺酸鹽、三苯基锍=全氟(4-乙基環(huán)己垸)磺酸鹽、4-甲基苯基二苯基锍=九氟丁烷磺酸鹽、2-氧代-2-苯基乙基硫環(huán)锍=九氟丁烷磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=九氟丁烷磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=全氟(4-乙基環(huán)己烷)磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍二七氟辛垸磺酸鹽、三苯基锍=1,1-二氟-2-萘基乙烷磺酸鹽、三苯基锍=1，1,2,2-四氟-2-(降冰片垸-2-基)乙烷磺酸鹽、三苯基锍=2-苯甲酰氧基-l,l,3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、三苯基锍=1，1，3，3,3-五氟-2-(三甲基乙酰氧基)丙烷磺酸鹽、三苯基锍=2-(環(huán)己垸羰氧基-l,l,3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、三苯基锍=2-(2-萘甲酰氧基)-1，1,3,3，3-五氟丙烷磺酸鹽、三苯基锍=2-(1-金剛烷羰氧基)-1,1，3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、三苯基锍=2-羥基-1，1,3，3，3-五氟丙烷磺酸鹽、三苯基锍=金剛垸甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、三苯基锍二l-(3-羥基甲基金剛烷)甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、三苯基锍=甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=2-苯甲酰氧基-1，1，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=1,1,3,3，3-五氟-2-(三甲基乙酰氧基)丙垸磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=2-(環(huán)己烷羰氧基)-1,1,3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=2-(2-萘甲酰氧基)-1，1,3,3，3-五氟丙垸磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=2-(l-金剛烷羰氧基)-1，1，3,3,3-五氟丙烷磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=2-羥基-1,1，3，3，3-五氟丙垸磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=金剛垸甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=1-(3-羥基甲基金剛烷)甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽、4-第三丁基苯基二苯基锍=甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽等。又，做為雙磺酰重氮甲烷類，可舉出雙(第三丁基磺?；?重氮甲烷、雙(環(huán)己基磺?；?重氮甲烷、雙(2,4-二甲基苯基磺酰基)重氮甲垸、雙(4-正己氧基苯基磺?；?重氮甲烷、雙(2-甲基-4-正己氧基苯基磺?；?重氮甲烷、雙(2，5-二甲基-4-正己氧基苯基磺酰基)重氮甲垸、雙(3,5-二甲基-4-正己氧基苯基磺?；?重氮甲烷、雙(2-甲基-5-異丙基-4-正己氧基)苯基磺?；氐淄?、雙(4-正丁基苯基磺?；?重氮甲垸。進而，作為N-磺酰氧基酰亞胺類，可舉出N-樟腦磺酰氧基-5-降冰片烯-2，3-二羧酸酰亞胺、N-對甲苯磺酰氧基-5-降冰片烯-2，3-二羧酸酰亞胺、(5-(10-樟腦磺酰基)氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)(2-甲基苯基)乙腈、(5-(對甲苯磺?；?氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)(2-甲基苯基)乙腈等。然后，作為肟-O-磺酸鹽類，可舉出2-氧代-2-苯基乙基硫環(huán)戊鑰=2-苯甲酰氧基-l，l，3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、2-氧代-2-苯基乙基硫環(huán)戊鎗=2-環(huán)己烷羰氧基-l,l，3，3,3-五氟丙烷磺酸鹽、三苯基锍=全氟(1,3-亞丙基雙磺酰基)酰亞胺、三苯基锍二雙(五氟乙基磺酰基)酰亞胺、2-(2，2，3，3,4,4,5,5-八氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)戊基)芴、2-(2,2,3，3,4，4-五氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)丁基)芴、2-(2,2，3，3，4，4,5,5,6，6-十氟-1-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)己基)芴、2-(2，2,3，3，4，4,5,5-八氟-1-(2-(環(huán)己垸羰氧基)-1，1，3'，3,3-五氟丙垸磺酰氧基亞胺基)戊基)芴、2-(2,2,3,3,4，4-五氟-1-(2-(環(huán)己烷羰氧基)-1,1，3，3,3-五氟丙烷磺酰氧基亞胺基)丁基)芴、2-(2,2,3,3,4，4，5，5,6,6-十氟-l-(九氟丁基磺酰氧基亞胺基)己基)芴等。在本發(fā)明的化學增幅型光阻材料中的光酸產生劑的添加量，并無特別限制，相對于光阻材料中的基質聚合物100質量份，為0.115質量份，優(yōu)選2.010.0質量份。光酸產生劑的比率太多時，會有解像性變差、或顯像/光阻剝離時產生異物的問題的可能性。上述光酸產生劑能夠單獨或混合2種以上而使用。而且，使用在曝光波長的透射率低的光酸產生劑，在該添加量也能夠控制光阻膜中的透射率。在本發(fā)明所使用的光阻組合物，能夠進而添加堿性化合物。堿性化合物優(yōu)選能夠抑制從光酸產生劑產生的酸在光阻膜中擴散時的擴散速度的化合物，通過調配此種堿性化合物，在光阻膜中的酸的擴散速度被抑制而解像度提升，且能夠抑制曝光后的敏感度變化，或減少基板或環(huán)境相關性，來提升曝光余裕度或圖案輪廓等。此種堿性化合物可舉出伯、仲、叔脂肪族胺類、混合胺類、芳香族胺類、雜環(huán)胺類、具有羧基的含氮化合物、具有羥苯基的含氮化合物、醇性含氮化合物、酰胺衍生物、酰亞胺衍生物等。具體上，伯脂肪族胺類可例示氨、甲胺、乙胺、正丙胺、異丙胺、正丁胺、異丁胺、第二丁胺、第三丁胺、戊胺、第三戊胺、環(huán)戊胺、己胺、環(huán)己胺、庚胺、辛胺、壬胺、癸胺、十二烷胺、鯨蠟基胺、亞甲基二胺、伸乙二胺、四伸乙戊胺等，仲脂肪族胺類可例示二甲胺、二乙胺、二正丙胺、二異丙胺、二正丁胺、二異丁胺、二第二丙胺、二戊胺、二環(huán)戊胺、二己胺、二環(huán)己胺、二庚胺、二辛胺、二壬胺、二癸胺、雙十二烷胺、二鯨蠟基胺、N，N-二甲基亞甲基二胺、N，N-二甲基伸乙二胺、N，N-二甲基四伸乙五胺等，叔脂肪族胺類可舉出三甲胺、三乙胺、三正丙胺、三異丙胺、三-正丁胺、三異丁胺、三-第二丁胺、三戊胺、三環(huán)戊胺、三己胺、三環(huán)己胺、三庚胺、三辛胺、三壬胺、三癸胺、三十二烷胺、三鯨蠟基胺、N，N，N，，N，-四甲基亞甲基二胺、N，N，N，，N，-四甲基四伸乙二胺、N，N，N，，N，-四基四伸乙五胺等。又，混合胺類可例示例如二甲基乙胺、二乙基丙胺、芐胺、苯乙基胺、芐基二甲胺等。芳香族胺類及雜環(huán)胺類的具體例可例示苯胺衍生物(例如，苯胺、N-甲基苯胺、N-乙基苯胺、N-丙基苯胺、N,N-二甲基苯胺、2-甲基苯胺、3-甲基苯胺、4-甲基苯胺、乙基苯胺、丙基苯胺、三甲基苯胺、2-硝基苯胺、3-硝基苯胺、4-硝基苯胺、2，4-二硝基苯胺、2,6-二硝基苯胺、3,5-二硝基苯胺、N,N-二甲基甲苯胺等)、二苯基(對甲苯基)胺、甲基二苯胺、三苯胺、苯二胺、萘胺、二胺基萘、吡咯衍生物(例如吡咯、2H-吡咯、l-甲基吡咯、2,4-二甲基吡咯、2,5-二甲基吡咯、N-甲基吡咯等)、惡唑衍生物(例如惡唑、異惡唑等)、噻唑衍生物(例如噻唑、異噻唑等)、咪唑衍生物(例如咪唑、4-甲基咪唑、4-甲基-2-苯基咪唑等)、吡唑(pyrazole)衍生物、呋口占衍生物、吡咯啉(pyrroline)衍生物(例如批咯啉、2-甲基-l-吡咯啉等)、吡咯啶(pyrrolidine)衍生物(例如卩比咯啶、N-甲基吡咯啶、吡咯啶酮、N-甲基吡咯啶酮等)、咪唑啉衍生物、咪唑啶衍生物、吡啶衍生物(例如吡啶、甲基吡啶、乙基吡啶、丙基吡啶、丁基吡啶、4-(l-丁基戊基)卩比啶、二甲基吡啶、三甲基吡啶、三乙基吡啶、苯基吡啶、3_甲基_2_苯基吡啶、4-第三丁基吡啶、二苯基吡啶、芐基吡啶、甲氧基吡啶、丁氧基吡啶、二甲氧基吡啶、l-甲基-2-吡啶、4-吡咯啶基吡啶、l-甲基-4-苯基吡啶、2-(l-乙基丙基)吡啶、胺基吡啶、二甲胺基吡啶等)、嗒嗪衍生物、嘧啶衍生物、吡嗪衍生物、吡唑啉衍生物、吡唑啶衍生物、哌啶衍生物、哌嗪衍生物、瑪啉衍生物、吲哚衍生物、異吲哚衍生物、1H-吲唑衍生物、吲哚滿衍生物、喹啉衍生物(例如喹啉、3-喹啉腈等)、異喹啉衍生物、噌啉衍生物、喹唑啉衍生物、喹惡啉衍生物、酞嗪衍生物、嘌呤衍生物、喋啶(pteridine)衍生物、昨唑衍生物、菲啶衍生物、吖啶衍生物、啡嗪衍生物、1,10-啡啉衍生物、腺嘌呤衍生物、腺苷衍生物、鳥嘌呤衍生物、鳥苷衍生物、尿嘧啶衍生物、尿苷衍生物等。而且，具有羧基的含氮化合物可例示胺基苯甲酸、吲哚羧酸、胺基酸衍生物(例如煙堿酸、丙胺酸、精胺酸、天冬胺酸、麩胺酸、甘胺酸、組胺酸、異白胺酸、甘胺酰白胺酸、白胺酸、甲酰胺酸、苯基丙胺酸、蘇胺酸、離胺酸、3-胺基吡嗪-2-羧酸、甲氧基丙胺酸等)等，具有磺?；暮衔锟衫?-吡啶磺酸、對甲苯磺酸吡啶鎗等，具有羥基的含氮化合物、具有羥基苯基的含氮化合物、酚性含氮化合物可例示2-羥基吡啶、胺基甲酚、2,4-喹啉二醇、3-吲哚甲醇水合物、一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、三異丙醇胺、2,2，-亞胺基二乙醇、2-胺基乙醇、3-胺基-l-丙醇、4-胺基-l-丁醇、4-(2-羥乙基)瑪啉、2-(2-羥乙基)吡啶、l-(2-羥乙基)哌嗪、l-[2-(2-羥基乙氧基)乙基]哌嗪、哌嗪乙醇、l-(2-羥乙基)卩比咯啶、l-(2-羥乙基)-2-吡咯啶酮、3-l-哌啶基-l,2-丙二醇、3-哌啶基-l，2-丙二醇、8-羥基久洛里定(8-hydroxyjulolodine)、3-奎寧環(huán)醇(3-quinuclidino1)、3-托品醇、l-甲基-2-吡咯啶乙醇、1-吖環(huán)丙烷乙醇、N-(2-羥乙基)酞酰亞胺、N-(2-羥乙基)異煙堿酰胺等。酰胺衍生物可例示甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、丙酰胺、苯甲酰胺等。酰亞胺衍生物可例示酞酰亞胺、琥珀酰亞胺、順丁烯二酰亞胺等。而且，也能夠添加1種或2種以上選自下述通式(B)-1所示的堿性化合物,N(X，)n(Y,)3-n(B)-l式中，n=l、2、3。側鏈X1可相同也可以不同，能夠以下述通式(X')-1(X，)-3表示。r加0國O一r301(X，)一1oR302.Q—p303jj——R304(X')-20國r',305--0:~r',咖0O-3側鏈Y'是表示相同或異種的氫原子或直鏈狀、支鏈狀、或環(huán)狀的碳數(shù)120的垸基，也可含有醚基或羥基。又，X'之間也可鍵結而形成環(huán)。在此，R，、R3Q2、R^是碳數(shù)l4的直鏈狀、支鏈狀的亞烷基，R3Q1、R^是氫原子、碳數(shù)120的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀的垸基，也可以含有1或復數(shù)個羥基、醚基、酯基、內酯環(huán)。R^單鍵、碳數(shù)14的直鏈狀、支鏈狀的亞烷基，R3()6是碳數(shù)120的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀的烷基，也可以含有1或復數(shù)個羥基、醚基、酯基、內酯環(huán)。通式(B)-l所示的化合物具體上是如下述所例示?？衫纠缛?2-甲氧基甲氧基乙基)胺、三{2-(2-甲氧基甲氧基)乙基}胺、三{2-(2-甲氧基乙氧基甲氧基)乙基}胺、三{2-(1-甲氧基乙氧基)乙基}胺、三{2-(1-乙氧基乙氧基)乙基}胺、三{2-(1-乙氧基丙氧基)乙基}胺、三[2-{2-(2-羥基乙氧基)乙氧基}乙基]胺、4，7，13,16，21，24-己氧-1,10-二氮雜雙環(huán)[8，8.8]二十六烷、4,7，13，18-四氧雜-1,10-二氮雜雙環(huán)[8.5.5]二十烷酸、1，4,10,13-四氧雜-7，16-二氮雜雙環(huán)十八烷、1-氧雜一12_冠_4、l-氧雜-15-冠-5、l-氧雜-18-冠-6、三(2-甲酰氧基乙基)胺、三(2-乙酰氧基乙基)胺、三(2-丙酰氧基乙基)胺、三(2-丁酰氧基乙基)胺、三(2-異丁酰氧基乙基)胺、三(2-戊酰氧基乙基)胺、三(2-三甲基乙酰氧基乙基)胺、N,N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-(乙酰氧基乙酰氧基)乙基胺、三(2-甲氧基碳酰氧基乙基)胺、三(2-第三丁氧基碳酰氧基乙基)胺、三[2-(2-氧代丙氧基)乙基]胺、三[2-(第三丁氧基羰基甲基氧基)乙基]胺、三[2-(環(huán)己氧基羰基甲基氧基)乙基]胺、三(2-甲氧基羰基乙基)胺、三(2-乙氧基羰基乙基)胺、N，N-雙(2-羥乙基)2-(甲氧基羰基)乙基胺、N，N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-(甲氧基羰基)乙基胺、N，N-雙(2-羥乙基)2-(乙氧基羰基)乙基胺、N,N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-(乙氧基羰基)乙基胺、N，N-雙(2-羥乙基)2-(2-甲氧基乙氧基羰基)乙基胺、N,N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-(2-甲氧基乙氧基羰基)乙基胺、N,N-雙(2-羥乙基)2-(2-羥基乙氧基羰基)乙基胺、N，N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-(2-乙酰氧基乙氧基羰基)乙基胺、N,N-雙(2-羥乙基)2-[(甲氧基羰基)甲氧基羰基]乙基胺、N,N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-[(甲氧基羰基)甲氧基羰基]乙基胺、N,N-雙(2-羥乙基)2-(2-氧代丙氧基羰基)乙基胺、N,N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-(2-氧代丙氧基羰基)乙基胺、N，N-雙(2-羥乙基)2-(四氫糠基氧基羰基)乙基胺、N，N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-(四氫糠基氧基羰基)乙基胺、N,N-雙(2-羥乙基)2-[(2-氧代四氫呋喃-3-基)氧基羰基]乙基胺、N，N-雙(2-乙酰氧基乙基)2-[(2-氧代四氫呋喃-3-基)氧基羰基]乙基胺、N，N-雙(2-羥乙基)2-(4-羥基丁氧基羰基)乙基胺、N，N-雙(2-甲酰氧基乙基)2-[(4-甲酰氧基丁氧基羰基)乙基胺、風:^雙(2-甲酰氧基乙基)2-(2-甲酰氧基乙氧基羰基)乙基胺、N,N-雙(2-甲氧基乙基)2-(甲氧基羰基)乙基胺、N-(2-羥乙基)雙[2-(甲氧基羰基)乙基]胺、N-(2-乙酰氧基乙基)雙[2-(甲氧基羰基)乙基服、N-(2-羥乙基)雙[2-(乙氧基羰基)乙基]胺、N-(2-乙酰氧基乙基)雙[2-(乙氧基羰基)乙基]胺、N-(3-羥基-l-丙基)雙[2-(甲氧基羰基)乙基]胺、N-(3-乙酰氧基-l-丙基)雙[2-(甲氧基羰基)乙基]胺、N-(2-甲氧基乙基)雙[2-(甲氧基羰基)乙基]胺、N-丁基雙[2-(甲氧基羰基)乙基]胺、N-丁基雙[2-(2-甲氧基乙氧基羰基)乙基服、N-甲基雙(2-乙酰氧基乙基)胺、N-乙基雙(2-乙酰氧基乙基)胺、N-甲基雙(2-三甲基乙酰氧基乙基)胺、N-乙基雙(2-(甲氧基碳酰氧基)乙基)胺、N-乙基雙[2-(第三丁氧基碳酰氧基)乙基]胺、三(甲氧基羰基甲基)胺、三(乙氧基羰基甲基)胺、N-丁基雙(甲氧基羰基甲基)胺、N-己基雙(甲氧基羰基甲基)胺、e-(二乙基胺基)-S-戊內酯，但是未限定于該等。又，堿性成分能夠使用上述例示的氮上具有被氧化的氧化胺結構的堿性化合物。具體上，可舉出氧化三(2-甲氧基甲氧基)乙基)胺、N-氧化丙酸2，2，，2"-氰基三乙酯、N-氧化N-2-((2-甲氧基乙氧基)甲氧基乙基瑪啉等。另外，堿性化合物可單獨使用1種，也可組合使用2種以上，相對于光阻材料中的固體成分100重量份，其調配量為02重量份，優(yōu)選混合0.012重量份。調配量大于3重量份時，會有敏感度降低太多的情形。為了在涂布時能夠得到平滑性高的光阻膜，也可在本發(fā)明的光阻組合物添加界面活性劑。所添加的界面活性劑可使用眾所周知的任一種?？膳e出聚氧乙烯十一烷基醚、聚氧乙烯硬脂?；?、聚氧乙烯鯨蠟基醚、聚氧乙烯油醚等的聚氧乙烯烷基醚類、聚氧乙烯辛基苯酚醚、聚氧乙烯壬基苯酚醚等的聚氧乙烯烷基芳基醚類、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物類、山梨糖醇酐一月桂酸酯、山梨糖醇酐一棕櫚酸酯、山梨糖醇酐一硬脂酸酯等的山梨糖醇酐脂肪酸酯類、聚氧乙烯山梨糖醇酐一月桂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐一棕櫚酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐一硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐三油酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐三硬脂酸酯等的聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯的非離子系界面活性劑、EFTOPEF301、EF303、EF352(JEMCO(股)制)、MEGAFACF171、F172、F173(大日本INK化學工業(yè)(股)制)、FULORARDFC-430、FC-431(住友3M(股)制)、ASAHIGUARDAG710、SURFLONS-381、S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106、SURFYNOLE1004、KH-IO、KH-20、KH-30、KH-40(旭硝子(股)制)等的氟系界面活性劑、有機硅氧烷聚合物KP341、X-70-092、X-70-093(信越化學工業(yè)(股)制)、丙烯酸系或甲基丙烯酸系POLYFLOWNo.75、No.95(共榮社油脂化學工業(yè)(股)制)。其中，優(yōu)選FC430、SURFLONS-38KSURFYNOLE1004、KH-20、KH-30。該等可單獨或組合使用2種以上。相對于光阻組合物中的固體成分100質量份，本發(fā)明的化學增幅型正型光阻材料中的界面活性劑的添加量為2質量份以下，優(yōu)選1質量份以下。在本發(fā)明，將上述的化學增幅型正型光阻組合物使用于制造各種集成電路或光掩模的方法能夠應用眾所周知的微影技術。例如將本發(fā)明的化學增幅型光阻材料，通過旋轉涂布、輥涂布、淋涂、浸漬涂布、噴霧涂布、刮刀涂布等適當?shù)耐坎挤?，以涂布膜厚度?.12.0微米的方式涂布在集成電路用等的基板(最表面材料為Si、Si02、SiN、SiON、TiN、WSi、BPSG、SOG、有機防止反射膜、鉻化合物、鉬-硅化合物等)，并在熱板上以6015(TC、l20分鐘、優(yōu)選是8012(TC、110分鐘進行預烘烤。接著，通過選自紫外線、遠紫外線、電子射線、X射線、準分子激光、Y射線、同步加速器放射線等的光源，優(yōu)選是通過300納米以下的曝光波長并透過規(guī)定光掩模以形成目標圖案的方式進行曝光。曝光量為1200mJ/cm2左右，優(yōu)選是10100mJ/cn^左右。在熱板上，是以6015(TC、15分鐘、優(yōu)選是80120°C、13分鐘進行曝光后烘烤(PEB)。而且，使用0.15%、優(yōu)選是23y。的氫氧化四甲銨(TMAH)等的堿性水溶液的顯像液，依照浸漬(dip)法、浸置式(puddle)法、噴霧(spray)法等常用方法進行顯像0.13分鐘、優(yōu)選為0.52分鐘，能夠在基板上形成目標的正型圖案。又，本發(fā)明光阻材料在高能量線中，特別是以通過KrF準分子激光、電子射線、軟X射線、X射線、Y射線、同步加速器放射線的微細圖案化最為適合。在空白光掩模上實施上述光阻圖案的形成，來制造光掩模時，因為由上述方法能夠得到高解像度、線邊緣粗糙度小的光阻圖案，所以在制造具有65納米以下的圖案規(guī)則的半導體制造用光掩模、特別是具有45納米以下的圖案規(guī)則的半導體制造用光掩模時，能夠適當?shù)貞帽景l(fā)明。將上述的光阻圖案使用于作為蝕刻光掩模的空白光掩模的加工，可使用眾所周知的任一方法，在最表面為鉻系化合物時通常是使用含有氧的氯系干蝕刻，最表面為過渡金屬-硅化合物時，通常是使用氟系干蝕刻。以下，表示出合成例及實施例，來具體地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明未限定于下述。聚合物分子量的測定是使用TORAY(股)制HLC-8120GPC，并通過以苯乙烯作為標準試料的凝膠滲透色譜儀來進行。在3升的燒瓶，添加407.5克乙酰氧基苯乙烯、42.5克苊烯、并添加1275克甲苯作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，冷卻至-7(TC，并重復進行3次減壓脫氣、氮氣流通。升溫至室溫后，添加34.7克2，2'-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)(和光純藥制V-65)作為聚合引發(fā)劑，升溫至55。C后，進行反應40小時。于攪拌中對該反應溶液滴加970克甲醇及180克水的混合溶液，30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮，并將該聚合物層再次溶解于0.45升甲醇、0.54升四氫呋喃，且添加160克三乙胺、30克水，并加溫至60。C而進行脫保護反應40小時。將該脫保護反應溶液減壓濃縮，并在濃縮液添加548克甲醇及112克丙酮而溶液化。在此，于攪拌中滴加9卯克己烷，并于30分鐘后在下層(聚合物層)添加300克四氫呋喃，且在攪拌中滴加1030克己垸，而且于30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮。將本聚合物溶液使用82克乙酸進行中和，并將反應溶液濃縮后，溶解于0.3升丙酮，與上述同樣地使其沈淀于10升水中，并進行過濾、干燥，得到280克白色聚合物。將所得到的聚合物進13C、H-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯苊烯=89.3:10.7重量平均分子量(Mw^5000分子量分布(Mw/Mn)-l.63將其作為(poly-l)。在3升的燒瓶，添加403.2克乙酰氧基苯乙烯、46.8克苊烯、并添加1800克甲苯作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，冷卻至-7(TC，并重復進行3次減壓脫氣、氮氣流通。升溫至室溫后，添加34.7克2，2'-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)(和光純藥制V-65)作為聚合引發(fā)劑，升溫至55'C后，進行反應40小時。于攪拌中對該反應溶液滴加1600克甲醇及370克水的混合溶液，30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮，并將該聚合物層再次溶解于0.48升甲醇、0.54升四氫呋喃，且添加160克三乙胺、30克水，并加溫至6(TC而進行脫保護反應40小時。將該脫保護反應溶液減壓濃縮，并在濃縮液添加548克甲醇及112克丙酮而溶液化。在此，于攪拌中滴加990克己烷，并于30分鐘后在下層(聚合物層)添加225克四氫呋喃，且在攪拌中滴加1030克己烷，而且于30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮。將本聚合物溶液使用82克乙酸進行中和，并將反應溶液濃縮后，溶解于0.3升丙酮，與上述同樣地使其沈淀于10升水中，并進行過濾、干燥，得到285克白色聚合物。將所得到的聚合物進13C、^-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯苊烯=87.6:12.4重量平均分子量(Mw^4000分子量分布(Mw/Mnhl.62將其作為(poly-2)。在1升的燒瓶，添加315.8克乙酰氧基苯乙烯、134.6克茚、并添加675克甲苯作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，冷卻至-7(TC，并重復進行3次減壓脫氣、氮氣流通。升溫至室溫后，添加38.5克2,2'-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)(和光純藥制V-65)作為聚合引發(fā)劑，升溫至5(TC后，進行反應40小時。于攪拌中對該反應溶液滴加968克甲醇及120克水的混合溶液，30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮，并將該聚合物層再次溶解于0.48升甲醇、0.54升四氫呋喃，且添加160克三乙胺、30克水，并加溫至6(TC而進行脫保護反應40小時。將該脫保護反應溶液減壓濃縮，并在濃縮液添加548克甲醇及U2克丙酮而溶液化。在此，于攪拌中滴加990克己垸，并于30分鐘后在下層(聚合物層)添加375克四氫呋喃，且在攪拌中滴加1030克己垸，而且于30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮。將本聚合物溶液使用82克乙酸進行中和，并將反應溶液濃縮后，溶解于0.3升丙酮，與上述同樣地使其沈淀于IO升水中，并進行過濾、干燥，得到170克白色聚合物。將所得到的聚合物進13C、'H-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯茚=89.1:10.9重量平均分子量(Mw"4100分子量分布(Mw/Mn"1.61將其作為(poly-3)。[合成例4]在3升的燒瓶，添加407.5克乙酰氧基苯乙烯、42.5克苊烯、并添加950克甲苯作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，冷卻至-70。C，并重復進行3次減壓脫氣、氮氣流通。升溫至室溫后，添加22.9克AIBN作為聚合引發(fā)齊廿，升溫至50'C后，進行反應40小時。將該反應溶液濃縮至1/2，并使其沈淀于5.0升甲醇的溶液中，將所得到的白色固體過濾后，在4(TC減壓干燥，得到282克白色聚合物。將該聚合物層再次溶解于0.5升甲醇、0.6升四氫呋喃，且添加160克三乙胺、30克水，并加溫至60。C而進行脫保護反應，且使用乙酸進行中和。將反應溶液濃縮后，溶解于0.5升丙酮，與上述同樣地使其沈淀于10升水中，并進行過濾、干燥，得到182克白色聚合物。將所得到的聚合物進"C、'H-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯苊烯=89.3:10,7重量平均分子量(Mw)-6800分子量分布(Mw/Mn)-1.75將其作為(poly-4)。在1升的燒瓶，添加293.3克乙酰氧基苯乙烯、206.7克茚、并添加700克甲苯作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，冷卻至-7(TC，并重復進行3次減壓脫氣、氮氣流通。升溫至室溫后，添加14.6克AIBN作為聚合引發(fā)劑，升溫至5(TC后，進行反應40小時。將該反應溶液濃縮至1/2，并使其沈淀于5.0升甲醇的溶液中，將所得到的白色固體過濾后，在4(TC減壓干燥，得到260克白色聚合物。將該聚合物層再次溶解于0.4升甲醇、0.5升四氫呋喃，且添加140克三乙胺、30克水，并加溫至60。C而進行脫保護反應，且使用乙酸進行中和。將反應溶液濃縮后，溶解于0.5升丙酮，與上述同樣地使其沈淀于10升水中，并進行過濾、干燥，得到175克白色聚合物。將所得到的聚合物進13。^-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯茚=89.0:11.0重量平均分子量(Mw)-6800分子量分布(Mw/Mn)-1.81將其作為(poly-5)。在3升的燒瓶，添加268.8克乙酰氧基苯乙烯、31.2克苊烯、并添加1200克甲苯作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，冷卻至-7(TC，并重復進行3次減壓脫氣、氮氣流通。升溫至室溫后，添加23.1克2,2，-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥制V-65)作為聚合引發(fā)劑，升溫至45"C后，進行反應20小時，隨后，升溫至55匸后，使其進行20小時反應，來進行2階段加溫聚合。于攪拌中對該反應溶液滴加700克甲醇及150克水的混合溶液，30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮，并將該聚合物層再次溶解于0.32升甲醇、0.36升四氫呋喃，且添加108克三乙胺、21克水，并加溫至6(TC而進行脫保護反應40小時。將該脫保護反應溶液減壓濃縮，并在濃縮液添加365克甲醇及75克丙酮而溶液化。在此，于攪拌中滴加990克己烷，并于30分鐘后將下層(聚合物層)減壓濃縮。將本聚合物溶液使用65克乙酸進行中和，并將反應溶液濃縮后，溶解于0.15升丙酮，與上述同樣地使其沈淀于IO升水中，并進行過濾、干燥，得到184克白色聚合物。將所得到的聚合物進13<:、'H-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯苊烯=87.9:12,1重量平均分子量(Mw^3000分子量分布(Mw/Mn)4.58將其作為(poly-6)。在1升的燒瓶，添加50.0克聚羥基苯乙烯、苊烯共聚物(poly-l)，并添加400克四氫呋喃作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，冷卻至5'C，并添加31.0三乙胺后，以1小時滴加注入14.9克縮醛化劑-A。升溫至室溫后使其反應4小時。將該反應溶液濃縮，并溶解于200克丙酮后，因為使用乙酸中和洗凈，在7.0升水的溶液中結晶析出而沈淀，將所得到的白色固體過濾后，在4(TC減壓干燥，得到54克白色聚合物。將所得到的聚合物進13C、iH-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯苊烯4-甲氧基異丁氧基苯乙烯=69.9:10.7:19.4重量平均分子量(Mw"6900分子量分布(Mw/Mn"l.76將其作為(poly-7)。又，依照與合成例7同樣的手法，進行poly-4的縮醛化反應，來得到下述poly-ll。共聚合組成比羥基苯乙烯苊烯4-甲氧基異丁氧基苯乙烯=70.8:10.7:18.5重量平均分子量(Mw)-7800分子量分布(Mw/Mn"l.72在1升的燒瓶，添加200.0克聚羥基苯乙烯、苊烯共聚物(poly-l)，并添加1800克四氫呋喃作為溶劑。將該反應容器在氮氣環(huán)境下，于25t:附近，添加120克三乙胺后，以30分鐘滴加注入50.4克縮醛化劑-B。并在室溫狀態(tài)使其反應3小時。將該反應溶液濃縮，并溶解于400克丙酮后，因為使用乙酸中和洗凈，在IO.O升水的溶液中結晶析出而沈淀，將所得到的白色固體過濾后，在4(TC減壓干燥，得到211克白色聚合物。將所得到的聚合物進13C、'H-NMR、及GPC測定時，得到以下的結果。共聚合組成比羥基苯乙烯苊烯4-三環(huán)癸氧基異丁氧基苯乙烯=78.4:10.8:10.8重量平均分子量(Mw"6400分子量分布(Mw/Mn"l.68將其作為(poly-8)。又，依照與合成例8同樣的手法，進行poly-2、3、4、5、6的基質聚合物的縮醛化反應，來得到下述poly-9、10、12、13、14。該等聚合物的數(shù)據(jù)是如表1所示'[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>(表l中的組成比率是依照^NMR的羥基苯乙烯苊烯4-三環(huán)癸氧基異丁氧基苯乙烯的成分比率)以下，縮醛化劑-A、-B及poly-7至poly-14的結構式是如下述。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula>縮醛化劑-Apoly-7，11縮醛化劑-Bpoly-S,9,12，14又，調制表2、3所示的光阻材料。此時，在表2、3所舉出的光阻組合物，高分子化合物為使用上述合成例所示的poly-7至14，其他的組合物成分是如以下所述來進行。酸產生劑堿性化合物A:三(2-(甲氧基甲氧基)乙基)胺=氧撐so〉o又，界面活性劑及溶劑是使用下述物。界面活性劑A:KH-20(旭硝子公司制)溶劑A:丙二醇甲基醚乙酸酯溶劑B:乳酸乙酯[表2]組成實施例(l)實施例(l)實施例(l)實施例(l)poly-780-一-poly-8—80一-poly-9--80-poly-10-—-80PAG-17777PAG-21111堿性化合物A0.20.20.20.2界面活性劑A0.070.070.070.07溶劑A560560560560溶劑B132013201320132039[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>將所得到的使用0.02微米的耐綸樹脂制過濾器過濾后，將該光阻旋轉涂布在空白光掩模上，來涂布厚度0.15微米。接著，將該空白光掩模以90'C的熱板烘烤10分鐘。而且，使用電子射線曝光裝置(NuFlareTechnology股份公司制、EBM-5000plus加速電壓50keV)曝光，并在90。C實施烘烤(PEB:曝光后烘烤;postexposurebake)10分鐘，且使用2.38%的氫氧化四甲銨的水溶液進行顯像時，能夠得到正型的圖案(實施例14、比較例14)。如以下進行評價所得到的光阻圖案。將0.02微米的線與間隔(lineandspace)的頂部與底部以1:1解像的曝光量作為最佳曝光量(敏感度E叩)，并評價在該曝光量，分離并且光阻圖案是圖案未倒塌而解像的線與間隔的最小線寬，作為光阻的解像度。又，解像后的光阻圖案的形狀是使用掃描型電子顯微鏡觀察。而且，使用CD-SEM測定0.40微米、0.20微米的1:1線與間隔圖案的間隔部的線寬(CD)。對在該基板作為圖案的各自20點進行該測定，并求取計量間隔線寬的偏差作為線邊緣粗糙度(LER)合計40點的CD測定值的3o值。將所得到的3o值作為LER值。該線邊緣粗糙度(LER)的值越小時，空白光掩模的光阻圖案的線邊緣粗糙度(LER)小，乃是優(yōu)選。光阻評價結果系如表4所示。<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>權利要求1.一種光阻圖案的形成方法，其特征在于是在被加工基板上形成最小線寬或最小間隔寬為65納米以下的圖案，其中包含以下步驟將含有基質聚合物的化學增幅型正型光阻組合物，涂布在被加工基板上，并通過加熱來除去殘留在涂布膜中的過剩的溶劑成分而得到光阻膜的步驟；以高能量線來將圖案曝光的步驟；以及使用顯像液進行顯像的步驟；其中，對于至少含有1種或2種以上的以下述通式(1)(式中，R1是表示氫原子或甲基，R2是表示碳數(shù)1～6的烴基或烷氧基烴基的任一種；又，t是0～2的整數(shù)，s是0～4的整數(shù)，0≤s+t≤5)表示的單體單元(其中，必須包含t為1以上的單元)，進而，含有1種或2種以上的以下述通式(2)(式中，R3是表示羥基、碳數(shù)1～6的烴基、烷氧基烴基的任一種，u是0～4的整數(shù))表示的單體單元；及/或1種或2種以上的以下述通式(3)(式中，R4是表示羥基、碳數(shù)1～6的烴基、烷氧基烴基的任一種，v是0～4的整數(shù))表示的單體單元；并且，上述通式(1)～(3)的單體的合計是占有構成聚合物的總單體單元的95摩爾％以上，且以上述通式(1)表示的單體是含有2種以上時，相對于上述通式(1)整體，t為1以上者的占有比率為70摩爾％以上；進而，相對于構成聚合物的總單體單元，以上述通式(2)與上述通式(3)表示的單體單元的合計為5～30摩爾％，且其重量平均分子量為4,000～7,000的聚合物；將上述通式(1)的單體單元的酚性羥基的一部分是被酸分解性保護基保護的聚合物，作為上述基質聚合物。2.如權利要求1所述的光阻圖案的形成方法，其中，上述重量平均分子量為4,5005,500。3.如權利要求1所述的光阻圖案的形成方法，其中，用以保護上述通式(l)的單體單元的酚性羥基的酸分解性保護基，是以下述通式(4)表示的縮<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>式中，RS是表示氫原子、碳數(shù)1至10的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀的烷基，而且，Y是表示碳數(shù)l至30的直鏈、支鏈、環(huán)狀(包含多環(huán)者)的烷基。4.如權利要求2所述的光阻圖案的形成方法，其中，用以保護上述通式(l)的單體單元的酚性羥基的酸分解性保護基，是以下述通式(4)表示的縮<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>式中，RS是表示氫原子、碳數(shù)1至10的直鏈狀、支鏈狀、環(huán)狀的垸基，而且，Y是表示碳數(shù)l至30的直鏈、支鏈、環(huán)狀(包含多環(huán)者)的烷基。5.—種光掩模的制造方法，其是使用于制造圖案規(guī)則為65納米以下的半導體裝置，其中，包含通過如權利要求1至4中任一項所述的光阻圖案的形成方法，在空白掩模上形成光阻圖案，并將空白光掩模加工的步驟。全文摘要本發(fā)明是提供一種光阻圖案的形成方法，其特征在于在具有被酸分解性基保護的羥基的苯乙烯單元、與茚單元或苊烯單元的聚合物中，使用重量平均分子量為4000至7000、特別是4500至5500的聚合物作為化學增幅型光阻組合物的基質聚合物而成的光阻組合物，來形成至少線寬為65納米以下的圖案。目前線邊緣粗糙度是被要求解決的課題之一，但是通過酸產生劑或堿性化合物來解決時，在與解像性之間會產生對立。依照本發(fā)明，能夠提供一種光阻圖案的形成方法，其是關于將具有高解像性的被酸不穩(wěn)定基保護的羥基苯乙烯等作為基質聚合物的光阻組合物，能夠抑制線邊緣粗糙度，來提供65納米以下的圖案規(guī)則(patternrule)光阻圖案。文檔編號H01L21/027GK101625523SQ20091014018公開日2010年1月13日申請日期2009年7月10日優(yōu)先權日2008年7月11日發(fā)明者增永惠一,小板橋龍二,武田隆信,渡邊保,渡邊聰,田中啟順申請人:信越化學工業(yè)株式會社