專利名稱：移動(dòng)體裝置、圖案形成裝置及圖案形成方法、設(shè)備制造方法、移動(dòng)體裝置的制造方法以及 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及移動(dòng)體裝置、圖案形成裝置及圖案形成方法、設(shè)備制造 方法、移動(dòng)體裝置的制造方法以及移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，更詳細(xì)地"^兌，涉及 具備可移動(dòng)的移動(dòng)體的移動(dòng)體裝置、在物體上形成圖案的圖案形成裝置 及使用該圖案形成裝置的圖案形成方法、使用該圖案形成方法的設(shè)備制 造方法、制造上述移動(dòng)體裝置的方法以及驅(qū)動(dòng)上述移動(dòng)體的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng) 方法。
背景技術(shù)：
以往，在制造液晶顯示器(平板顯示器)等的玻璃基板的工序等工 序中，例如使用曝光裝置等處理裝置。
這種曝光裝置中使用了具備保持作為被曝光物體的基板并進(jìn)行二 維移動(dòng)的載臺及驅(qū)動(dòng)該載臺的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的載臺裝置(例如，參照專利文 獻(xiàn)l)。
但是在這種載臺裝置中，若基板大型化則與此相伴使保持基板的載 臺整體大型化。該基板的大型化將載臺的行程加長，進(jìn)而存在導(dǎo)致裝置 整體的大型化及重量增大的問題。
并且，在載臺裝置中若載臺大型化及重型化時(shí)，驅(qū)動(dòng)載臺所需的驅(qū) 動(dòng)力也會(huì)變大。由此，在驅(qū)動(dòng)載臺的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的大型化的同時(shí)，由于從 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的熱也增大，該熱對基板及其周邊產(chǎn)生影響，因此可能會(huì) 使曝光精度下降。
專利文獻(xiàn)l:日本特開2006-203113號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述情況而做出的，從第一觀點(diǎn)出發(fā)，第一移動(dòng)體裝置包括能夠移動(dòng)的移動(dòng)體；支承裝置，其支承上述移動(dòng)體的自重并且 能夠移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)上述移動(dòng)體，并且根據(jù)上述移動(dòng)體的移動(dòng) 來驅(qū)動(dòng)上述支承裝置。
基于此，分體地構(gòu)成移動(dòng)體和支承移動(dòng)體的自重的支承裝置，因此 與一體地構(gòu)成移動(dòng)體和支承裝置的情況相比能夠?qū)崿F(xiàn)移動(dòng)體(包括移動(dòng) 體的構(gòu)造體)的小型化、輕型化。而且，由于通過驅(qū)動(dòng)裝置根據(jù)移動(dòng)體 的移動(dòng)驅(qū)動(dòng)支承裝置，所以即使分體地構(gòu)成移動(dòng)體和支承裝置，也能夠 無阻礙地移動(dòng)移動(dòng)體。
若從本發(fā)明的第二觀點(diǎn)出發(fā)，則第二移動(dòng)體裝置包括能夠移動(dòng)的 移動(dòng)體；支承裝置，其支承上述移動(dòng)體的自重并且能夠移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)裝置， 其通過上述支承裝置的移動(dòng)及上述移動(dòng)體和上述支承裝置的相對移動(dòng) 使上述移動(dòng)體移動(dòng)。
基于此，分體地構(gòu)成移動(dòng)體和支承移動(dòng)體的自重的支承裝置，因此 與一體地構(gòu)成移動(dòng)體和支承裝置的情況相比能夠?qū)崿F(xiàn)移動(dòng)體(包括移動(dòng) 體的構(gòu)造體)的小型化、輕型化。而且，由于驅(qū)動(dòng)裝置通過支承裝置的 移動(dòng)及移動(dòng)體與支承裝置的相對移動(dòng)使移動(dòng)體移動(dòng)，所以能夠使驅(qū)動(dòng)裝 置直接作用于移動(dòng)體的驅(qū)動(dòng)力變小。由此，能夠使應(yīng)配置在移動(dòng)體附近 的驅(qū)動(dòng)裝置小型化，結(jié)果能夠減少從驅(qū)動(dòng)裝置產(chǎn)生的熱對移動(dòng)體周邊的 影響。
若從本發(fā)明的第三觀點(diǎn)出發(fā)，則第三移動(dòng)體裝置包括基座，其具
有引導(dǎo)面；移動(dòng)體，其相對上述基座能夠移動(dòng)；支承裝置，其支承上述 移動(dòng)體的自重，并且根據(jù)上述移動(dòng)體的移動(dòng)能夠在上述引導(dǎo)面上移動(dòng)， 上述移動(dòng)體被上述支承裝置支承，以使其能夠從上述引導(dǎo)面伸出。
若從本發(fā)明的第四觀點(diǎn)出發(fā)，其是在物體上形成圖案的圖案形成裝 置，包括移動(dòng)體裝置，其是在上述移動(dòng)體上保持上述物體的本發(fā)明的 第一至第三移動(dòng)體裝置中的任意一方；圖案形成裝置，其用于在上述物 體上形成圖案。
基于此，由于具備本發(fā)明的第一至第三移動(dòng)體裝置中的任意一方， 所以伴隨著移動(dòng)體的小型化，能夠提高物體的位置控制性，能夠進(jìn)行高精度的圖案形成。而且，通過移動(dòng)體裝置整體的小型化，能夠?qū)崿F(xiàn)圖案 形成裝置的小型化。
若從本發(fā)明的第五觀點(diǎn)出發(fā)，第一圖案形成方法是使用本發(fā)明的圖 案形成裝置，在物體上形成圖案的圖案形成方法?；诖?，能夠高精度 地對物體進(jìn)行圖案形成。
若從本發(fā)明的第六觀點(diǎn)出發(fā)，是使用了本發(fā)明的第 一 圖案形成方法 的設(shè)備的制造方法。
若從本發(fā)明的第七觀點(diǎn)出發(fā)，移動(dòng)裝置的制造方法包括供應(yīng)具有 引導(dǎo)面的基座的步驟；向上述基座供應(yīng)能夠移動(dòng)的移動(dòng)體的步驟；供應(yīng) 支承上述移動(dòng)體的自重，并且根據(jù)該移動(dòng)體的移動(dòng)能夠在上述引導(dǎo)面上 移動(dòng)，支承上述移動(dòng)體以使該移動(dòng)體能夠從上述引導(dǎo)面伸出的支承裝置 的步驟。
若從本發(fā)明的第八觀點(diǎn)出發(fā)，第一移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法包括通過能夠 移動(dòng)的支承裝置，支承移動(dòng)體的自重的步驟；驅(qū)動(dòng)上述移動(dòng)體，并且根 據(jù)上述移動(dòng)體的移動(dòng)對上述支承裝置進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的步驟。
若從本發(fā)明的第九觀點(diǎn)出發(fā)，第二移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法包括通過能夠 移動(dòng)的支承裝置，支承移動(dòng)體的自重的步驟；通過上述支承裝置的移動(dòng) 以及上述移動(dòng)體與上述支承裝置的相對移動(dòng)，驅(qū)動(dòng)上述移動(dòng)體的步驟。
如從本發(fā)明的第十觀點(diǎn)出發(fā)，移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法包括通過能夠移動(dòng) 的支承裝置，支承移動(dòng)體的自重的步驟；在引導(dǎo)面上使上述支承裝置移 動(dòng)的步驟，為了在大于上述引導(dǎo)面的移動(dòng)區(qū)域移動(dòng)上述移動(dòng)體，上述支 承裝置支承上述移動(dòng)體，以使上述移動(dòng)體能夠從上述引導(dǎo)面伸出。
如從本發(fā)明的第十一觀點(diǎn)出發(fā)，第二圖案形成方法是在物體上形成 圖案的圖案形成方法，其使用本發(fā)明的第一及第二的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法的 任一方法，驅(qū)動(dòng)保持上述物體的移動(dòng)體。
如從本發(fā)明的第十二觀點(diǎn)出發(fā)，是使用了本發(fā)明的第二圖案形成方 法的i更備的制造方法。


圖l是表示一方實(shí)施方式涉及的曝光裝置的構(gòu)成的示意圖。
圖2是部分省略地表示構(gòu)成圖l的載臺裝置的一部分的基板載臺的 分解立體圖。
圖3是表示圖1的載臺裝置的縱向剖視圖。
圖4 (A)是表示圖l的自重消除機(jī)構(gòu)的縱向剖視圖，圖4 (B)是 部分?jǐn)嗔训乇硎咀灾叵龣C(jī)構(gòu)的立體圖。
圖5 (A)是表示圖3的傾斜容許部的立體圖，圖5(B)是表示組 合有傾斜容許部和三棱錐狀部件的狀態(tài)的立體圖。
圖6 (A)及圖6 (B)用于說明在基板工作臺的一部分從載臺基座 向外側(cè)伸出的狀態(tài)下基板工作臺被自重消除機(jī)構(gòu)支承的形狀的圖。
圖7(A) ~圖7 (C)是表示自重消除機(jī)構(gòu)的變形例的圖。
圖8是用于說明變形例涉及的線性馬達(dá)的配置的圖。
圖9(A)及圖9(B)是用于說明載臺連接機(jī)構(gòu)的配置及構(gòu)成的圖。
圖10 (A)及圖10 (B)是用于說明載臺連接機(jī)構(gòu)的作用的圖。
圖11是表示自重消除機(jī)構(gòu)的限制方法的變形例的圖。
具體實(shí)施例方式
下表面，基于圖1~圖5 (B)對本發(fā)明的一方實(shí)施方式進(jìn)行說明。 圖1表示了一方實(shí)施方式涉及的曝光裝置10的概略構(gòu)造。該曝光裝置 10是步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置，即所謂的掃描逐次移動(dòng)式曝光裝置 (Scanning stepper )。
如圖1所示，啄光裝置10包括照明系統(tǒng)IOP;保持母版R的母 版載臺RST;投影光學(xué)系統(tǒng)PL;沿XY平面可移動(dòng)地保持基板P的載 臺裝置11;搭載了母版載臺RST、投影光學(xué)系統(tǒng)PL、載臺裝置11等 的機(jī)殼BD;以及這些部件的控制系統(tǒng)等。照明系統(tǒng)IOP的構(gòu)造例如與日本特開2001-313250 7>報(bào)(對應(yīng)的美 國專利申請公開第2003/0025890號說明書)、及日本特開2002-006110 號公報(bào)(對應(yīng)的美國專利申請公開第2001/0033490號說明書)等公開的 照明系統(tǒng)相同。即、照明系統(tǒng)IOP向母版R射出激光等相干膝光用照 明光(照明光)IL。該照明光IL的波長例如是193nm ( ArF準(zhǔn)分子激 光)。
機(jī)殼BD包括通過設(shè)置在地面F上的多個(gè)(例如三個(gè)或四個(gè))防 振機(jī)構(gòu)37(其中，紙面的里側(cè)的防振機(jī)構(gòu)未圖示)以多個(gè)點(diǎn)(例如三個(gè) 點(diǎn)或四個(gè)點(diǎn))支承的基板載臺座35;在該基板載臺座35上經(jīng)多根(例 如三根或四根)支承部件33 (其中，紙面的里側(cè)的支承部件33未圖示) 水平地支承的鏡筒平臺31。在基板載臺座35的上表面設(shè)置有載臺基座 12。
在母版載臺RST上例如通過真空吸附固定有母版R，母版R在圖 案面(圖1中的下表面)上形成了電路圖案等。母版栽臺RST在一體 地設(shè)置于鏡筒平臺31上表面的以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的凸部31a、 31b 上經(jīng)未圖示的氣墊以非接觸狀態(tài)被支承。母版載臺RST以凸部31a、31b 的上表面為基準(zhǔn)，通過例如包括線性馬達(dá)等的母版載臺驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(未圖 示)，能夠以指定的掃描速度在規(guī)定的掃描方向上(在此為圖1中與紙 面垂直的Y軸方向)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，并且能夠在XY平面內(nèi)進(jìn)行微小的驅(qū)動(dòng)。 另外，鏡筒平臺31和凸部31a、 31b也可用別的部件構(gòu)成，也可在鏡筒 平臺31和凸部31a、 31b之間分別i殳置與防振機(jī)構(gòu)37相同的防振機(jī)構(gòu)。
通過母版激光干涉儀(以下稱為"母版干涉儀，，)41,經(jīng)固定(或形 成)在母版栽臺上的未圖示的反射面，例如以0.5~lnm的分辨率始終 檢測母版載臺RST在XY平面內(nèi)的位置(包含圍繞Z軸的旋轉(zhuǎn))。該母 版干涉儀41的測量值，被送到未圖示的主控制裝置，主控制裝置根據(jù) 該母版干涉儀41的測量值通過母版載臺驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，對母版載臺RST的 X軸方向、Y軸方向及0z方向(圍繞Z軸的旋轉(zhuǎn)方向)的位置(及速 度)進(jìn)行控制。
投影光學(xué)系統(tǒng)PL由投影多個(gè)投影圖像的多個(gè)投影光學(xué)單元構(gòu)成， 并在母版載臺RST的下方被鏡筒平臺31支承，投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光 軸方向?yàn)閆軸方向。作為投影光學(xué)系統(tǒng)PL,例如4吏用兩側(cè)遠(yuǎn)心(telecentric )且具有規(guī)定的倍率(例如縮小倍率(例如1/5倍、1/4倍)、 等倍率、或放大倍率)的折射光學(xué)系統(tǒng)。因此，通過來自照明系統(tǒng)IOP 的照明光IL照明母版R上的照明區(qū)域，則通過透射把圖案面與投影光 學(xué)系統(tǒng)PL的第一面(物體面)大體一致地配置的母版R的照明光IL， 從而經(jīng)投影光學(xué)系統(tǒng)PL在配置在其第二面(像面)的、表面上涂敷了 抗蝕劑(感光劑)的基板P上的與上述照明區(qū)域共軛的照明光IL的照 射區(qū)域(曝光區(qū)域)上形成投影像，該投影像是該照明區(qū)域內(nèi)的母版R 的電路圖案的投影像(部分正立像或部分倒立像)。然后，根據(jù)母版載 臺RST和基板載臺PST的同步驅(qū)動(dòng)，通過使母版R相對于照明區(qū)域(照 明光IL)沿掃描方向(Y軸方向)相對移動(dòng)，并且相對于曝光區(qū)域(照 明光IL)沿掃描方向(Y軸方向)相對移動(dòng)基板P,進(jìn)行基板P上的一 方拍攝區(qū)域(區(qū)劃區(qū)域)的掃描曝光，在該拍攝區(qū)域轉(zhuǎn)印母版R的圖案。 即、在本實(shí)施方式中通過照明系統(tǒng)IOP、母版R及投影光學(xué)系統(tǒng)PL在 基板P上生成圖案，通過照明光IL對基板上的感光層(抗蝕劑層)的 曝光在基板P上形成該圖案。
載臺裝置ll包括配置在基板載臺座35上，保持基板P并在XY 平面內(nèi)移動(dòng)的基板載臺PST;在配置在基板載臺座35上的載臺基座12 上方非接觸地支承基板載臺PST的一部分自重的自重消除機(jī)構(gòu)(也稱 為"中心立柱")27。
基板載臺PST包括配置在載臺基座12上方，沿X軸驅(qū)動(dòng)的X粗 調(diào)載臺23X;配置在X粗調(diào)載臺23X上的相對X粗調(diào)載臺23X沿Y軸 驅(qū)動(dòng)的Y粗調(diào)載臺23Y;配置在Y粗調(diào)載臺23Y的+Z側(cè)(上方)，部 分地具有保持基板P的基板工作臺22A的微調(diào)載臺21。
下表面，對構(gòu)成基板載臺PST的各部進(jìn)行具體的說明。在圖2示出 了除去基板工作臺22A及自重消除機(jī)構(gòu)27且部分分解狀態(tài)的基板載臺 PST的立體圖。
如圖2所示，X粗調(diào)載臺23X由俯視(從Z軸方向觀察)時(shí)的矩形 板狀部件構(gòu)成，在其中央部形成有俯視(從Z軸方向觀察)時(shí)的圓形的 貫通孔23Xa。在該X粗調(diào)載臺23X下表面的四角部分別設(shè)置有X滑塊 65(其中，設(shè)置在紙面里側(cè)的角部的X滑塊65未圖示)。其中，-Y側(cè) 的兩個(gè)X滑塊65成為與以X軸方向?yàn)殚L邊方向的X導(dǎo)軌61Xi卡合的狀態(tài)，+Y側(cè)的兩個(gè)X滑塊65成為與配置在從X導(dǎo)軌61Xi向+Y側(cè)隔 開規(guī)定間隔的位置上的以X軸方向?yàn)殚L邊方向的X導(dǎo)軌61X2卡合的狀 態(tài)。X滑塊65的內(nèi)部包括多個(gè)球循環(huán)地滾動(dòng)的滾動(dòng)導(dǎo)軌，滾動(dòng)導(dǎo)軌形 成在X導(dǎo)軌61Xi (或61X2)的+Y側(cè)的面上及-Y側(cè)的面上。因此，通 過包括滾珠絲杠的X驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97X(參照圖1)的X軸方向的驅(qū)動(dòng)力對 X粗調(diào)載臺23進(jìn)行作用，X粗調(diào)載臺23X沿X導(dǎo)軌61X^ 61X2 (沿X 軸方向)被驅(qū)動(dòng)。另外，各X滑塊65也可是向X導(dǎo)軌61Xi (或61X2) 的+Y側(cè)的面及-Y側(cè)的面噴出氣體的氣浮導(dǎo)軌。此時(shí)，在各X滑塊65 和X導(dǎo)軌61Xi (或61X2)的+Y側(cè)的面及-Y側(cè)的面之間形成規(guī)定的間 隙。
一方X導(dǎo)軌61Xi通過以X軸為長邊方向的板狀部件69i從下側(cè)支 承，另一方X導(dǎo)軌61X2通過以X軸為長邊方向的板狀部件692從下側(cè) 支承。而且，各個(gè)板狀部件69i、 692通過多根支承腳67被支承在地面 F上方(參照圖1)。
如圖2所示，配置在X粗調(diào)載臺23X上方的Y粗調(diào)載臺23Y由俯 視(從Z軸方向觀察)時(shí)比X粗調(diào)載臺23X的面積小的矩形板狀部件 構(gòu)成，在其中央部形成有貫通孔23Ya。在該Y微調(diào)載臺23Y下表面的 四角部分別設(shè)置有Y滑塊63 (其中，設(shè)置在紙面里側(cè)的角部的Y滑塊 63未圖示)。其中，十X側(cè)的兩個(gè)Y滑塊63成為與設(shè)置在X粗調(diào)載臺 23X上表面的+X側(cè)端部附近的以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的Y導(dǎo)軌61Yi 卡合的狀態(tài)，而且，-X側(cè)的兩個(gè)Y滑塊63成為與設(shè)置在X粗調(diào)栽臺 23X上表面的-X側(cè)端部附近的以Y軸方向?yàn)殚L邊方向的Y導(dǎo)軌61Y2 卡合的狀態(tài)。Y滑塊63中包括多個(gè)球循環(huán)地滾動(dòng)的滾動(dòng)導(dǎo)軌，滾動(dòng)導(dǎo) 軌形成在Y導(dǎo)軌61Yi (或61Y2)的+X側(cè)的面上及-X側(cè)的面上。因此， 通過基于包括滾珠絲杠的Y驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97Y (參照圖1)的Y軸方向的驅(qū) 動(dòng)力對Y粗調(diào)載臺23進(jìn)行作用，Y粗調(diào)載臺23Y沿Y導(dǎo)軌61Y^ 61Y2 (沿Y軸方向)被驅(qū)動(dòng)。另外，各Y滑塊63也可是向Y導(dǎo)軌61Yi (或 61Y2)的+Y側(cè)的面及-Y側(cè)的面噴出氣體的氣浮導(dǎo)軌。此時(shí)，在各Y滑 塊63和Y導(dǎo)軌61Yi (或61Y2)的+X側(cè)的面及-X側(cè)的面之間形成規(guī)定 的間隙。
在Y粗調(diào)載臺23Y上表面設(shè)置有共計(jì)七個(gè)定子(X定子53Xp53X2、Y定子53Y^ 53Y2、 Z定子53Z^ 53Z2、 53Z3 )。
這些定子中的X定子53Xp 53乂2在Y粗調(diào)載臺23Y上表面的+X 側(cè)的端部附近分別被支承部件57支承。在X定子53Xp 53X2的內(nèi)部設(shè) 置有具有多個(gè)電樞繞組的電樞單元。
Y定子53Yp 53Y2在Y粗調(diào)載臺23Y上表面的-Y側(cè)的端部附近分 別被支承部件57支承。在Y定子53Y^ 53Y2的內(nèi)部，與上述X定子 53Xp 53X2同樣地設(shè)置有具有多個(gè)電樞繞組的電樞單元。
Z定子53Zi 53Z3配置在Y粗調(diào)載臺23Y上表面的不是一條直線 的三個(gè)點(diǎn)上。在這些定子53^ ~ 53Z3的內(nèi)部設(shè)置有電樞繞組。
返回到圖1,上述微調(diào)載臺21包括基板工作臺22A、從下側(cè)支承 該基板工作臺22A的載臺本體部22B。
基板工作臺22A由矩形板狀的部件構(gòu)成，雖未圖示但在其上表面設(shè) 置有用于吸附并保持基板P的真空吸附機(jī)構(gòu)(或基板支架)。
如圖2所示，載臺本體部22B由矩形的板狀部件構(gòu)成，在其-X側(cè)的 側(cè)面經(jīng)安裝部件24X設(shè)置移動(dòng)鏡(條狀鏡(Bar Mirrors )) 17X，在+Y 側(cè)的側(cè)面經(jīng)安裝部件24Y設(shè)置移動(dòng)鏡(條狀鏡)17Y。移動(dòng)鏡17X的-X 側(cè)的面和移動(dòng)鏡17Y的+Y側(cè)的面被鏡面加工形成為反射面。通過向移 動(dòng)鏡17X、 17Y照射測長光束的激光干涉儀(以下稱為"基板干涉儀") 19(參照圖1)，始終以例如0.5 lnm左右的分辨率檢測出基板載臺21 的XY平面內(nèi)的位置信息。在此，實(shí)際上設(shè)置了分別與X移動(dòng)鏡17X 及Y移動(dòng)鏡17Y對應(yīng)的X激光干涉儀及Y激光干涉儀，但在圖1中它 們只代表地圖示了基板干涉儀19 。
在載臺本體部22B的+X側(cè)的側(cè)面固定有截面U字狀的X動(dòng)子51Xp 51X2。在X動(dòng)子51Xp 51X2各自的一對對置面上雖未圖示，但分別設(shè) 置有包括沿X軸方向排列的多個(gè)永磁鐵(或單一永磁鐵)的磁極單元。 X動(dòng)子51X^51X2在載臺本體部22B與Y粗調(diào)載臺23Y組合的狀態(tài)(圖 l的狀態(tài))下，與X定子53Xp 53X2分別卡合。因此，通過向X定子 53X^53X2所具有的電樞單元(電樞繞組)供應(yīng)的電流與在X動(dòng)子51Xp 51X2所具有的磁極單元的內(nèi)部空間形成的磁場之間的電磁相互作用，能夠向X動(dòng)子51Xp 51乂2施加X軸方向的驅(qū)動(dòng)力。即、在本實(shí)施方式中， 由X動(dòng)子51Xi和X定子53Xi構(gòu)成X軸線性馬達(dá)55X"由X動(dòng)子51X2 和X定子53X2構(gòu)成X軸線性馬達(dá)55X2。
而且，在載臺本體部22B的-Y側(cè)的側(cè)面固定有Y動(dòng)子51Yp51Y2。 在Y動(dòng)子51Y^ 51Y2各自的一對對置面上分別設(shè)置有包括沿Y軸方向 排列的多個(gè)永磁鐵(或單一永磁鐵)的磁極單元。Y動(dòng)子51Y" 51Y2 在載臺本體部22B與Y粗調(diào)栽臺23Y組合的狀態(tài)(圖1的狀態(tài))下， 與Y定子5353Y2分別卡合。因此，通過向Y定子5353Y2的 電樞單元(電樞繞組)供應(yīng)的電流與在Y動(dòng)子51Yt、 51Y2的磁極單元 的內(nèi)部空間形成的磁場之間的電磁相互作用，能夠分別向Y動(dòng)子51Yp 51Y2作用Y軸方向的驅(qū)動(dòng)力。即、在本實(shí)施方式中，由Y動(dòng)子51Yi 和Y定子53Yi構(gòu)成Y軸線性馬達(dá)55Y"由Y動(dòng)子51Y2和Y定子53Y2 構(gòu)成Y軸線性馬達(dá)55Y2。
而且，在載臺本體部22B的下表面(-Z側(cè)的面)設(shè)置有XZ截面具 有略反U字狀的形狀的Z動(dòng)子51Zp 51Z2、 51Z3。在Z動(dòng)子51Zp 51Z2、 51Z3各自的一對對置面上設(shè)置有永磁鐵。Z動(dòng)子51Zi 51Z3在微調(diào)載 臺21與Y粗調(diào)載臺23Y組合的狀態(tài)(圖1的狀態(tài))下，與Z定子53Zi~ 53Z3分別卡合。因此，通過向Z定子53Zi 53Z3的電樞繞組供應(yīng)的電 流與在Z動(dòng)子~ 51Z3的內(nèi)部空間形成的磁場之間的電磁相互作用， 能夠分別向Z動(dòng)子51Zi 51Z3作用Z軸方向的驅(qū)動(dòng)力。即、在本實(shí)施 方式中，由Z動(dòng)子51Zi和Z定子53Zt構(gòu)成Z軸線性馬達(dá)55Z^由Z 動(dòng)子51Z2和Z定子53Z2構(gòu)成Z軸線性馬達(dá)55Z2,并且，由Z動(dòng)子51Z3 和Z定子53Z3構(gòu)成Z軸線性馬達(dá)55Zs。
如上所述，由于在微調(diào)載臺21 (載臺本體部22B)和Y粗調(diào)載臺 23Y之間設(shè)置有X軸線性馬達(dá)55Xp 55X2， Y軸線性馬達(dá)55Y^ 55Y2， Z軸線性馬達(dá)55Zi 55X3，所以能夠在X軸、Y軸、Z軸方向上相對于 Y粗調(diào)栽臺23Y對微調(diào)載臺21 (載臺本體部22B)進(jìn)行微小的驅(qū)動(dòng)。 而且，通過使X軸線性馬達(dá)55Xi、 55X2各自的驅(qū)動(dòng)力(或Y軸線性馬 達(dá)55Y" 55Y2各自的驅(qū)動(dòng)力)不同，能夠在圍繞Z軸的旋轉(zhuǎn)方向(0z 方向)上相對于Y粗調(diào)載臺23Y對微調(diào)載臺21 (載臺本體部22B)進(jìn) 行微小的驅(qū)動(dòng)，而且，通過使Z軸線性馬達(dá)55^ 55X3各自的驅(qū)動(dòng)力不同，能夠在圍繞x軸的旋轉(zhuǎn)方向(ex方向)上及圍繞Y軸的旋轉(zhuǎn)方
向(ey方向)上，相對于Y粗調(diào)載臺23Y對微調(diào)載臺21 (載臺本體部 22B)進(jìn)行微小的驅(qū)動(dòng)。另外，雖在圖2中圖示了在微調(diào)栽臺21的+X 側(cè)、-￥側(cè)的側(cè)面"&置乂軸、Y軸線性馬達(dá)，但也可在三個(gè)邊或四個(gè)邊 上分散地配置線性馬達(dá)。而且，磁極單元與電樞單元也可成為至少一部 分與上述相反的位置關(guān)系。
接著，根據(jù)圖3 ~圖5 ( B )對自重消除機(jī)構(gòu)27進(jìn)行說明。
圖3中通過截面圖表示了從載臺裝置11取下了上述的X軸線性馬 達(dá)、Y軸線性馬達(dá)、Z軸線性馬達(dá)的狀態(tài)。
如圖3所示，微調(diào)栽臺21包括基板工作臺22A、載臺本體部22B、 設(shè)置在載臺本體部22B下方的傾斜容許部76。而且，自重消除機(jī)構(gòu)27 在貫穿了形成在上述X粗調(diào)載臺23X上貫通孔23Xa與形成在Y粗調(diào) 載臺23Y的貫通孔23Ya的狀態(tài)下進(jìn)行配置。自重消除機(jī)構(gòu)27包括 具有殼體70、設(shè)置在該殼體70的內(nèi)部的空氣彈簧71、以及在Z軸方向 上能夠上下移動(dòng)的滑動(dòng)部73的本體部74;設(shè)置在本體部74的下端部的 三個(gè)底墊75。
殼體70從對自重消除機(jī)構(gòu)27的部分進(jìn)行斷裂地表示的圖4 (A)、 圖4 (B)可知，其內(nèi)部具有空間77，在該空間77內(nèi)配置有多個(gè)(圖4 (A)、圖4 ( B )中為四個(gè))氣墊78。
而且，在殼體70的外周部以規(guī)定的間隔固定四個(gè)彎曲機(jī)構(gòu)(flexure) 89各自的一端。如圖3所示，這些彎曲機(jī)構(gòu)89的另一端分別與設(shè)置在 Y粗調(diào)載臺23Y的下表面的四根支承部件90連接。即、由于殼體70 經(jīng)彎曲機(jī)構(gòu)89與Y粗調(diào)載臺23Y連接，所以殼體70通過彎曲機(jī)構(gòu)89 的部件的剛性及鉸接的作用，成為在X、 Y軸方向上被限制的狀態(tài)，而
在z軸方向、ex、 ey、 ez方向上沒有被限制的狀態(tài)。如圖3所示，彎
曲機(jī)構(gòu)89在與自重消除機(jī)構(gòu)27的重心G大致相同的高度位置(Z位置) 與殼體70連接。
空氣彈簧71設(shè)置在殼體70的內(nèi)部空間77內(nèi)的最下部。由未圖示 的氣體供給裝置向空氣彈簧71供應(yīng)氣體，由此，空氣彈簧71的內(nèi)部被設(shè)定成與外部相比氣壓高的正壓空間。
如圖4 (A)所示，滑動(dòng)部73具有長方體形狀的滑動(dòng)部本體79; 由在該滑動(dòng)部本體79的上端部分別經(jīng)球窩節(jié)(球窩接頭)80固定的、 在俯視(從+Z方向觀察)時(shí)為大致棱形(參照圖4(B))的板狀部件 構(gòu)成的三個(gè)襯墊部件81。各襯墊部件81通過球窩接頭80能夠改變相對 XY平面的傾斜方向的姿勢。能夠從這些襯墊部件81的上表面(+Z側(cè) 的面)向圖3所示的傾斜容許部76的下表面噴出氣體，通過傾斜容許 部76下表面和各襯墊部件81之間的上述氣體的靜壓，在襯墊部件81 的上表面和傾斜容許部76的下表面之間形成規(guī)定的間隙。
滑動(dòng)部本體79的外周面分別與設(shè)置在上述殼體70內(nèi)部的多個(gè)氣墊 78對置。因此，在滑動(dòng)部本體79的外周面和氣墊78的支承面之間形成 規(guī)定的間隙。因此，在本實(shí)施方式中，能夠才艮據(jù)空氣彈簧71內(nèi)的壓力， 在Z軸方向上對滑動(dòng)部73進(jìn)行滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)。
如圖4 (A)、圖4 (B)所示，各底墊75包括底墊本體83、將該 底墊本體83連接到殼體70的下表面的球窩節(jié)(球窩接頭)82。各底墊 本體83通過對載臺基座12的上表面噴出氣體，能夠在其與載臺基座12 的上表面之間形成規(guī)定的間隙。即、各底墊本體83通過氣體的靜壓在 該底墊本體83的下表面和載臺基座12的上表面之間形成規(guī)定的間隙的 作為氣體靜壓支座發(fā)揮功能。而且，各底墊本體83通過球窩接頭82能 夠改變相對XY平面的傾斜方向的姿勢。
返回到圖3，傾斜容許部76設(shè)置于在基板載臺21的載臺本體部22B 的下表面設(shè)置的三棱錐狀部件88與滑動(dòng)部73 (更具體而言，圖4 (A) 所示的三個(gè)襯墊部件81)之間。傾斜容許部76被上述三個(gè)襯墊部件81 非接觸地支承。即、栽臺本體部22B被多個(gè)平面支座支承。換言之，能 夠改變傾斜容許部76的相對于本體部74的XY平面內(nèi)的位置。
如圖5 ( A)的立體圖所示，傾斜容許部76包括基座部84、設(shè)置 在該基座部84上表面的三個(gè)支承部85A~85C、設(shè)置在各支承部85A~ 85C的鉸接(或球窩接頭)86A 86C、分別固定在鉸接(或球窩接頭) 上的襯墊部87A 87C。如圖5 (B)所示，各個(gè)村墊部87A~87C分別與三棱錐狀部件88 的各個(gè)面88a 88c對置，能夠向各個(gè)面88a ~ 88c噴出氣體。因此，通 過從各襯墊部87A 87C噴出的氣體的靜壓，在各襯墊部87A~87C與 各對置面之間形成規(guī)定的間隙。而且，由于襯墊部87A~87C經(jīng)鉸接(或 球窩接頭)86A 86C被安裝到支承部85A-85C上，所以三棱錐狀部 件88被在傾斜容許部76以容許在6x、 0y、 9z方向上的移動(dòng)的狀態(tài)下 進(jìn)行支承。
根據(jù)上述那樣構(gòu)成的自重消除機(jī)構(gòu)27，通過空氣彈簧71內(nèi)部的正 壓支承基板載臺21的自重，并且通過三個(gè)底塾75的作用，在自重消除 機(jī)構(gòu)27和載臺基座12之間總是形成規(guī)定的間隙。而且，在設(shè)置在基板 載臺21下表面的三棱錐狀部件88和自重消除機(jī)構(gòu)27之間，由于存在 與兩者進(jìn)行非接觸的傾斜容許部76，所以能夠通過自重消除機(jī)構(gòu)27在 容許基板載臺21在傾斜方向及XY平面內(nèi)的移動(dòng)(微小量的移動(dòng))的 狀態(tài)下，支承基板載臺21的自重。
而且，自重消除機(jī)構(gòu)27由于相對于基板載臺21進(jìn)行非接觸，所以 成為不會(huì)將傳遞到自重消除機(jī)構(gòu)27的振動(dòng)中的X、 Y、 ez軸方向以外 的振動(dòng)傳遞到基板載臺21的構(gòu)造。進(jìn)而，如上所述，自重消除機(jī)構(gòu)27 經(jīng)X、 Y軸方向以外的方向的限制力大致為零的彎曲機(jī)構(gòu)89與Y粗調(diào) 載臺23Y連接(參照圖3及圖4 ( A))，所以作為來自Y粗調(diào)載臺23Y 的振動(dòng)的一部分的Z、 6x、 9y、 0z軸方向的振動(dòng)成分4艮難傳遞到自重消 除機(jī)構(gòu)27。其結(jié)果是，來自載臺基座12以外的振動(dòng)很難傳遞到基板栽 臺21。
返回到圖4 ( A)、圖4 (B)，在殼體70上固定有三^^截面為略L 字狀的懸臂部91(其中，位于紙面前側(cè)的懸臂部未圖示)。在這些懸臂 部91各自的一端部上設(shè)置有探頭部92。在這些探頭部92的上方如圖3 所示設(shè)置有目標(biāo)部93。在本實(shí)施方式中，構(gòu)成靜電電容傳感器(Z傳感 器)94，靜電電容傳感器94包括這些探頭部92和目標(biāo)部93,能夠測量 棵頭部92和目標(biāo)部93之間距離。在此，構(gòu)成Z傳感器94的探頭部92 設(shè)置在自重消除機(jī)構(gòu)27的一部分上，由于自重消除機(jī)構(gòu)27相對于載臺 基座12的上表面始終維持一定的姿勢，所以能夠通過使用Z傳感器94 的測量結(jié)果計(jì)算(換算)以載臺基座12上表面為基準(zhǔn)的基板載臺21的Z位置。而且，由于如上所述設(shè)置了三個(gè)Z傳感器94，所以通過使用 三個(gè)Z傳感器94的測量結(jié)果，也能夠計(jì)算出傾斜于以載臺基座12的上 表面為基準(zhǔn)的XY平面的方向相關(guān)的姿勢。另外，在本實(shí)施方式中，也 可在殼體70上不設(shè)置三根而設(shè)置四根截面為略L字狀的懸臂部91。而 且，探頭部92和目標(biāo)部93的位置關(guān)系也可是相反的。而且，Z傳感器 94也可不限定為三個(gè)而是四個(gè)，而且測量方式也不限定于靜電電容傳感 器，也可是CCD方式的激光位移計(jì)等。另外，能夠通過該Z傳感器94 求出自重消除機(jī)構(gòu)27與基板載臺21的相對位置關(guān)系。
返回到圖1，在上述那樣構(gòu)成的曝光裝置10中，在未圖示的主控制 裝置的管理下，通過未圖示的母版裝載機(jī)在母版裝填PST上進(jìn)行母版R 的裝載，通過未圖示的基板裝載機(jī)在基板載臺21上進(jìn)行基板P的裝載。 之后，通過主控制裝置，使用未圖示的定位檢測系統(tǒng)實(shí)施定位測量，在 定位測量結(jié)束后，進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng)作。該曝光動(dòng)作與現(xiàn)有的 進(jìn)行步進(jìn)掃描方式相同所以省略其說明。
在進(jìn)行這些定位動(dòng)作及曝光動(dòng)作期間，未圖示的主控制裝置才艮據(jù)干 涉儀19的測量值，經(jīng)包括滾珠絲杠的X驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97X、 Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 97Y、 Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97Y對X粗調(diào)載臺23X及Y粗調(diào)載臺23Y進(jìn)行驅(qū) 動(dòng)控制，并且根據(jù)干涉儀19的測量值及三個(gè)Z傳感器94的測量值，經(jīng) X軸線性馬達(dá)55X^ 55X2、 Y軸線性馬達(dá)55Y^ 55Y2及Z軸線性馬達(dá) 55A 55Z3，對基板載臺21 (基板P)進(jìn)行位置控制。即、在本實(shí)施方 式中，通過以XY平面內(nèi)的長行程對X粗調(diào)載臺23X、 Y粗調(diào)載臺23Y 及自重消除機(jī)構(gòu)27分別進(jìn)行移動(dòng)，并且與此相對，對基板載臺21進(jìn)行 相對微小的移動(dòng)，從而使基板P在XY平面內(nèi)進(jìn)行移動(dòng)(及定位)。
如以上詳細(xì)說明的那樣，根據(jù)本實(shí)施方式，由于與基板載臺21分 體地構(gòu)成支承基板載臺21的自重的自重消除機(jī)構(gòu)27，所以與一體地構(gòu) 成基板載臺21和自重消除機(jī)構(gòu)27的情況相比能夠?qū)⒒遢d臺21小型、 輕量化。基于此，由于提高基板載臺21的位置控制性(包括定位精度)， 使用能夠提高曝光裝置10的曝光精度。
而且，由于通過由X驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97X、 Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97Y進(jìn)行的X 粗調(diào)載臺23X、 Y粗調(diào)栽臺23Y的移動(dòng)，在XY平面內(nèi)驅(qū)動(dòng)基板載臺 21,并且也驅(qū)動(dòng)支承基板載臺21的自重的自重消除機(jī)構(gòu)27,所以即使重消除機(jī)構(gòu)27也能夠沒有阻礙地驅(qū)動(dòng)基板 載臺21。
另外，才艮據(jù)本實(shí)施方式，通過由X驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97X、 Y軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97Y 在XY平面內(nèi)驅(qū)動(dòng)基板載臺21及自重消除機(jī)構(gòu)27，并且由X軸線性馬 達(dá)55X^ 55X2、 Y軸線性馬達(dá)55Y^ 55Y;j及Z軸線性馬達(dá)55Z! ~ 55Z3 在相對六個(gè)自由度方向上對基板載臺21及自重消除機(jī)構(gòu)27進(jìn)行微小的 驅(qū)動(dòng)，進(jìn)行基準(zhǔn)載臺21的驅(qū)動(dòng)控制。因此，由于能夠使應(yīng)設(shè)置在基板 載臺21附近的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(55Xp 55X2、 55Yp 55Y2、 55Z! ~ 55Z3)小 型化，所以能夠減少驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的發(fā)熱對基板P的影響(即、對曝光精度 的影響)。而且，由于能夠在與高度方向(Z軸方向)的重心位置大致 相同的高度上設(shè)置驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所以能夠進(jìn)行重心驅(qū)動(dòng)、能夠維持穩(wěn)定的 姿勢。
而且，根據(jù)本實(shí)施方式，當(dāng)基板載臺21在載臺基座12上移動(dòng)時(shí)， 基板載臺21的自重總是被自重消除機(jī)構(gòu)27支承。即、通過較小地設(shè)定 載臺基座12的+Z側(cè)的面和對置的自重消除機(jī)構(gòu)27的-Z側(cè)的面(底墊 本體83的-Z側(cè)的面)，能夠減小載臺基座12的+Z側(cè)的面的面積，其結(jié) 果是，能夠?qū)崿F(xiàn)載臺裝置ll的小型化，進(jìn)而能夠?qū)崿F(xiàn)曝光裝置10整體 的小型化。
例如，如圖6 (A)筒化所示，利用自重消除機(jī)構(gòu)27支承基板工作 臺22A(基板載臺21)的XY平面內(nèi)的大致中心，以便包括基板工作臺 22A (基板載臺21)的XY平面內(nèi)的重心位置。此時(shí)，自重消除機(jī)構(gòu)27 的-Z側(cè)的面(底墊本體83的-Z側(cè)的面)投影到載臺基座12的上表面 (引導(dǎo)面)的區(qū)域面積，小于基板工作臺22A(基板載臺21)的投影到 載臺基座12的上表面(引導(dǎo)面)的區(qū)域面積，并且自重消除機(jī)構(gòu)27投 影的區(qū)域成為基板工作臺22A (基板載臺21)投影的區(qū)域的大致中心。
因此，如圖6 (B)所示，即使自重消除機(jī)構(gòu)27位于載臺基座12 上表面(引導(dǎo)面)的邊緣，也可使基板工作臺22A (基板載臺21)處于 伸出(突出)載臺基座12的上表面(引導(dǎo)面)的狀態(tài)。即、由于基板 工作臺22A (基板載臺21)能夠在XY平面中比載臺基座12的上表面 (引導(dǎo)面)大的范圍內(nèi)進(jìn)行移動(dòng)，因此若設(shè)定載臺可動(dòng)區(qū)域、即基板工 作臺22A (基板載臺21)的規(guī)定的移動(dòng)區(qū)域SMA (參照圖6 (A))，則能夠使載臺基座12的上表面(引導(dǎo)面)的面積小于該移動(dòng)區(qū)域SMA的 面積。
而且，根據(jù)本實(shí)施方式，由于自重消除機(jī)構(gòu)27經(jīng)彎曲機(jī)構(gòu)89而與 Y粗調(diào)載臺23Y連接，所以在自重消除機(jī)構(gòu)27和Y粗調(diào)載臺23Y之間
在z軸、ex、 ey、 ez方向上^艮難傳遞振動(dòng)。因此，傳遞到Y(jié)粗調(diào)載臺 23Y的Z軸、6x、 ey、 ez方向的搖晃(廣義上的振動(dòng))很難傳遞到自
重消除機(jī)構(gòu)27。
而且，根據(jù)本實(shí)施方式，由于基板載臺21分別與在六個(gè)自由度方 向上驅(qū)動(dòng)基板載臺21的線性馬達(dá)、及在兩個(gè)自由度方向上驅(qū)動(dòng)自重消 除機(jī)構(gòu)27的包括滾珠絲杠的X驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)97X、 97Y非接觸地連接從而 處于振動(dòng)分離的狀態(tài)，所以能夠高精度地對基板載臺21進(jìn)行驅(qū)動(dòng)(定 位)。
而且，根據(jù)本實(shí)施方式，載臺裝置11具備靜電電容傳感器(Z傳感 器)94，靜電電容傳感器94包括設(shè)置在自重消除機(jī)構(gòu)27的探頭部92 及設(shè)置在基板載臺21的目標(biāo)部93,能夠測量探頭部92和目標(biāo)部93之 間距離。因此，根據(jù)自重消除機(jī)構(gòu)27相對于載臺基座12的上表面總是 維持一定的姿勢，能夠?qū)傳感器94的測量結(jié)果換算為基板載臺21 的以載臺基座12的上表面為基準(zhǔn)的Z位置?；诖耍軌驕y量以栽臺 基座12的上表面為基準(zhǔn)的基板載臺21 (基板P)的與傾斜于XY平面 的方向相關(guān)的姿勢。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為自重消除機(jī)構(gòu)27采用了內(nèi)部包括 空氣彈簧71的部件，但并不限于此，例如如圖7(A)所示，也可取代 空氣彈簧71采用具有螺旋彈簧等彈性部件71的自重消除裝置27，。
而且，也可代替空氣彈簧及彈性部件，采用如圖7 (B)所示的具有 Z驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)101的自重消除機(jī)構(gòu)27"。該Z驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)101包括具有從 +Y軸側(cè)觀察為直角三角形形狀的X滑塊102X、栽置在該X滑塊102X 的+Z側(cè)的具有從+Y軸側(cè)觀察為梯形形狀的Z滑塊102Z、相對于X滑 塊102X施加X軸方向的驅(qū)動(dòng)力的X驅(qū)動(dòng)部103。而且，X滑塊102X 通過支座104X能夠在X軸方向滑動(dòng)，Z滑塊102Z通過支座104Z能夠 在Z軸方向滑動(dòng)。才艮據(jù)該Z驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)101，由于X滑塊102X與Z滑塊102Z之間成 為楔形，所以如圖7(C)所示，通過利用X驅(qū)動(dòng)部103在+X方向上對 X滑塊102X進(jìn)行移動(dòng)，從而能夠使Z滑塊102Z在+Z方向上移動(dòng)。
另夕卜，在上述實(shí)施方式中，如圖3所示，對通過彎曲機(jī)構(gòu)89連接Y 粗調(diào)載臺23Y和自重消除機(jī)構(gòu)27之間的情況進(jìn)行了說明，但并不J^艮于 此，例如也可通過板簧連接兩者，也可通過鋼絲繩連接兩者。而且，也 可使用氣塾的靜壓、線性馬達(dá)產(chǎn)生的電磁力、或磁力等進(jìn)行對自重消除 機(jī)構(gòu)27的限制。另外，在圖7 (A) ~圖7 (C)中，作為能夠傾斜地 支承載臺本體部22B的部件示出了球面支座，但也可代替圖3的傾斜容 許部76使用該球面支座。
而且，在上述實(shí)施方式中，在圖2所示的配置中設(shè)置了 X軸線性馬 達(dá)55X^ 55X2， Y軸線性馬達(dá)55Y^ 55Y2， Z軸線性馬達(dá)55Zi ~ 55X3， 但并不限于此，例如能夠采用如圖8所示的配置。即、如圖8所示，也 可在載臺本體22B的+Y側(cè)的側(cè)面及-Y側(cè)的側(cè)面配置X軸線性馬達(dá) 155Xp 155X2，在載臺本體22B的+X側(cè)的側(cè)面及-X側(cè)的側(cè)面配置Y軸 線性馬達(dá)155Yp 155Y2。即使這樣，也能與上述實(shí)施方式相同地進(jìn)行 基板載臺21的驅(qū)動(dòng)。
另外，在上述實(shí)施方式中，如圖5(A)、圖5(B)所示，傾斜容許 部76采用具有鉸接(或球窩接頭)86A ~ 86C及三個(gè)襯墊部87A ~ 87C 的構(gòu)成，但并不限于此，例如也可采用在基座部84和微調(diào)載臺21 (載 臺本體部22B)之間設(shè)置鉸接(或球窩接頭)的構(gòu)造。
另外，如圖9 (A)、圖9 (B)所示，能夠在載臺裝置11中設(shè)置各 一對的載臺連接機(jī)構(gòu)110X及載臺連接機(jī)構(gòu)IIOY。
如圖9(A)所示，其中的載臺連接機(jī)構(gòu)110X能夠采用包括在構(gòu) 成微調(diào)載臺21的載臺本體部22B的下表面固定的第一板狀部件105、 在Y粗調(diào)載臺23Y的上表面固定的第二板狀部件109、在第二板狀部件 109的-X側(cè)的面固定的活塞機(jī)構(gòu)107的構(gòu)成?；钊麢C(jī)構(gòu)107具有汽釭 107b、在一端固定沿該汽缸107b的內(nèi)周面能夠在X軸方向上滑動(dòng)移動(dòng) 的未圖示的活塞的活塞桿107a。而且，載臺連接機(jī)構(gòu)IIOY也可采用相 同的構(gòu)成。根據(jù)該載臺連接機(jī)構(gòu)(例如載臺連接機(jī)構(gòu)IIOX)，如圖10 (A)所 示，通過向汽缸107b的內(nèi)部空間供應(yīng)氣體，經(jīng)活塞使活塞桿107a向-X 方向移動(dòng)，能夠使活塞桿107a的另一端與第一板狀部件105的+X側(cè)的 面接觸。而且，如圖10 (B)所示，通過使存在于汽缸107b的內(nèi)部空 間的氣體減少，能夠使活塞桿107a離開第一板狀部件105。
由此，如上述實(shí)施方式那樣，在進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光等的情況 下，使基板P (微調(diào)載臺21)加速移動(dòng)時(shí)，如圖10 (A)所示在利用載 臺連接機(jī)構(gòu)IIOX、 IIOY對微調(diào)載臺21和Y粗調(diào)載臺23Y之間進(jìn)行了 連接的狀態(tài)下，進(jìn)行該加速移動(dòng)。然后，在加速結(jié)束后、進(jìn)入等速移動(dòng) 時(shí)，如圖10(B)所示，解除載臺連接機(jī)構(gòu)IIOX、 IIOY的連接，離開 Y粗調(diào)載臺23Y和微調(diào)載臺21之間，利用X軸線性馬達(dá)55X^ 55X2， Y軸線性馬達(dá)55Yp 55Y2，及Z軸線性馬達(dá)55^ ~ 55乂3進(jìn)行微調(diào)栽臺 21的位置控制。
基于此，在加速時(shí)(非曝光時(shí))，無需使進(jìn)行微調(diào)載臺21的位置控 制的各電動(dòng)機(jī)(55Xp 55X2、 55Y^ 55Y2)產(chǎn)生用于使微調(diào)載臺21追 隨X、Y粗調(diào)栽臺23X、23Y的驅(qū)動(dòng)力。因此，由于能夠使各電動(dòng)機(jī)(55Xp 55X2、 55Yp 55Y2)所需的最大產(chǎn)生推力變小，因此能夠?qū)崿F(xiàn)電動(dòng)機(jī)的 小型化。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)載臺裝置11整體的輕型化，并且能夠減少電 動(dòng)機(jī)的發(fā)熱對曝光精度的影響。而且，能夠?qū)崿F(xiàn)電動(dòng)機(jī)的低成本。
另外，在圖9 ( A)、圖9 (B)中，設(shè)置了載臺連接機(jī)構(gòu)IIOX、 110Y 這兩者，但并不限于此，也可僅設(shè)置任何一方(例如僅有載臺連接機(jī)構(gòu) IIOY)。
而且，作為載臺連接機(jī)構(gòu)IIOX、 110Y不限于上述的構(gòu)造，例如也 可采用通過永磁鐵和電磁鐵的組合，進(jìn)行載臺間的連接或解除連接的構(gòu) 造，也可采用其他的構(gòu)造。
另外，在上述實(shí)施方式中，對圖3所示的自重消除機(jī)構(gòu)27與Y粗 調(diào)栽臺23Y進(jìn)行連接的情況進(jìn)行了說明，但并不限于此，如圖ll所示， 也可采用自重消除機(jī)構(gòu)27與設(shè)置在基板載臺21 (更準(zhǔn)確的是載臺本體 部22B )下側(cè)的連接部件90，進(jìn)行連接的構(gòu)造。此時(shí)，在自重消除機(jī)構(gòu) 27與連接部件90，之間也可與上述實(shí)施方式相同地通過彎曲機(jī)構(gòu)進(jìn)行連接(XY平面內(nèi)的限制)。另外，也可通過板簧進(jìn)行機(jī)械連接，也可通過 氣墊的靜壓、線性馬達(dá)產(chǎn)生的電磁力、或磁力等產(chǎn)生力的單元進(jìn)行連接 (XY平面內(nèi)的限制)。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為照明光IL也可使用將例如從DFB 半導(dǎo)體激光器或光纖激光器發(fā)出的紅外線范圍或可視范圍的單波長激 光，通過含有最多的鉺(或鉺和鐿的兩者)的光纖放大器進(jìn)行放大，并 使用非線性光纖結(jié)晶波長變換到紫外光的諧波。
而且，在上述實(shí)施方式中，作為照明光IL也可使用超高壓水銀燈 發(fā)出的紫外線范圍的亮線(例如g線(波長436nm )、 h線(波長405nm ) 或i線(波長365nm)等)。而且，作為光源不限于ArF準(zhǔn)分子激光器、 超高壓水銀燈，也可波長248nm的ArF準(zhǔn)分子激光、波長157nm的 F2激光、波長146nm的Ar2F準(zhǔn)分子激光、波長126nm的Ar2F準(zhǔn)分子 激光等的產(chǎn)生真空紫外光的光源。而且，也可使用固體激光器(輸出波 長355nm、 260nm)等。
而且，在上述實(shí)施方式中，對本發(fā)明應(yīng)用于掃描型曝光裝置的情況 進(jìn)行了說明，但并不限于此，本發(fā)明也可合適地應(yīng)用在分步重復(fù)方式的 曝光裝置(所謂的步進(jìn)機(jī))、或步針(Step-and-stitch )方式的曝光裝置、 接近方式的曝光裝置、鏡像投影調(diào)準(zhǔn)器等。
另外，在上述實(shí)施方式中，使用了在光透射性的掩膜基板上形成規(guī) 定的遮光圖案(或相位圖案、消光圖案)的光透射型掩膜，但也可代替 該掩膜，使用例如美國專利第6， 778， 257號說明書所公開那樣的，根 據(jù)要曝光的圖案的電子數(shù)據(jù)，形成透射圖案或反射圖案、或發(fā)光圖案的 電子掩膜(可變成型掩膜)。例如，能夠使用采用了作為非發(fā)光型圖像 顯示元件(也稱為空間光調(diào)整器)的一種的DMD ( Digital Micro-mirror Device)的可變成型掩膜。
此外，在例如國際7>開第2004/053955號小冊子(對應(yīng)于美國專利 申請公開第2005/0259234號說明書)等所公開的、在投影光學(xué)系統(tǒng)和基 板之間填滿液體的液浸型曝光裝置等中，也可應(yīng)用本發(fā)明。
而且，作為曝光裝置的用途并不限于將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印到矩形的玻璃板的液晶用的曝光裝置，例如可廣泛地應(yīng)用到半導(dǎo)體制造用的
曝光裝置、用于制造薄膜磁頭、微型機(jī)械及DNA芯片等的曝光裝置。 而且，不僅是半導(dǎo)體元件等的微型設(shè)備，為了制造在光曝光裝置、EUV 曝光裝置、X射線曝光裝置、及電子束曝光裝置等所使用的母版或掩膜， 將電路圖案轉(zhuǎn)印到玻璃基板或硅片等的曝光裝置中也能應(yīng)用本發(fā)明。另 外，成為曝光對象的基板不限于玻璃板，例如也可是晶片。
另外，之前對在基板上形成圖案的曝光裝置進(jìn)行了說明，但通過掃 描動(dòng)作在基板上形成圖案的方法不限于曝光裝置，例如日本特開 2004-130312號公報(bào)等所公開，使用具有噴墨頭組及相同的噴墨方式的 功能性液體給予裝置的元件制造裝置也能實(shí)現(xiàn)。
上述公開公報(bào)所公開的噴墨頭組具有多個(gè)從噴嘴(吐出口)噴出規(guī) 定的功能性液體(含有金屬液體、感光材料等)并供應(yīng)到基板(例如 PET、玻璃、硅、紙等)的噴墨頭。也可準(zhǔn)備該噴墨頭組那樣的功能性 液體給予裝置，用于圖案的生成。在具備該功能性液體給予裝置的元件 制造裝置中，也可固定基板沿掃描方向掃描功能性液體給予裝置，也可 按照互為反方向地掃描基板和功能性液體給予裝置。
例如，在制造液晶顯示元件時(shí)經(jīng)由以下步驟包括使用上述各種曝 光裝置在感光性基板(涂敷了抗蝕劑的玻璃基板等)上形成圖案的、所 謂的光刻工序(在感光性基板上形成包括多個(gè)電極等的規(guī)定圖案的工 序)、對已曝光的基板的顯影工序、蝕刻工序、及抗蝕劑剝離工序等各 處理工序的圖案形成步驟；形成將多個(gè)與R( Red )、 G( Green )、 B( Blue) 對應(yīng)的三個(gè)頭組以矩陣狀排列的、或?qū)⒍鄠€(gè)R、 G、 B的三根條狀濾光 器組按水平掃描線方向進(jìn)行排列的濾色器的濾色器形成步驟；使用通過 圖案形成步驟得到的具有規(guī)定圖案的基板，及通過濾色器形成步驟得到 的濾色器等組裝液晶面板(液晶單元)的單元組裝步驟；安裝使組裝后 得到的液晶面板(液晶單元)進(jìn)行顯示動(dòng)作的電路、及背光等各部件而 制成液晶顯示元件的模塊組裝步驟。此時(shí)，在圖案形成步驟中，由于使 用上述各曝光裝置(包括上述實(shí)施方式的曝光裝置IO)以高吞吐量進(jìn)行 平板曝光，所以結(jié)果能夠提高液晶顯示元件的生產(chǎn)率。
工業(yè)上的可利用性如上述說明的那樣，本發(fā)明的移動(dòng)體裝置適用于使移動(dòng)體移動(dòng)。而 且，本發(fā)明的圖案形成裝置以及圖案形成方法適用于在物體上形成圖 案。而且，本發(fā)明的設(shè)備制造方法適用于制造液晶顯示元件或半導(dǎo)體元 件等微型設(shè)備。而且，適用于制造本發(fā)明的移動(dòng)體裝置。
權(quán)利要求
1.一種移動(dòng)體裝置，具備能夠移動(dòng)的移動(dòng)體；支承裝置，其支承所述移動(dòng)體的自重并且能夠移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體，并且根據(jù)所述移動(dòng)體的移動(dòng)來驅(qū)動(dòng)所述支承裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述支承裝置，以使所述支承裝置維持對所述移 動(dòng)體的支承。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述驅(qū)動(dòng)裝置包括驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體的第 一驅(qū)動(dòng)部， 所述第 一驅(qū)動(dòng)部與所述支承裝置一起移動(dòng)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的移動(dòng)體裝置，其中，與所述第 一驅(qū)動(dòng)部振動(dòng)上分離地配置所述支承裝置。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述支承裝置和所述第一驅(qū)動(dòng)部分別配置于不同的部件。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3~5中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述驅(qū)動(dòng)裝置還包括使所述第一驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)部， 并通過所述第一驅(qū)動(dòng)部的移動(dòng)使所述支承裝置移動(dòng)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3~6中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述第一驅(qū)動(dòng)部非接觸地移動(dòng)所述移動(dòng)體，并且與所述支承裝置連接。
8. 根據(jù)權(quán)利要求3~7中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第一驅(qū)動(dòng)部使用機(jī)械、氣體靜壓、磁、以及電磁方法中的任一 方法，相對于所述支承裝置連接。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括使所述移動(dòng)體和所述支承裝置相對移動(dòng)的第一 驅(qū)動(dòng)部、使所述支承裝置移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)部，與所述第一驅(qū)動(dòng)部及第二驅(qū)動(dòng)部振動(dòng)上分離地配置所述支承裝置。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第一驅(qū)動(dòng)部與所述支承裝置連接，所述第二驅(qū)動(dòng)部經(jīng)所述第一 驅(qū)動(dòng)部使所述支承裝置移動(dòng)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述驅(qū)動(dòng)裝置包括使所述移動(dòng)體和所述支承裝置相對移動(dòng)的第一 驅(qū)動(dòng)部、使所述支承裝置移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)部，與所述第一驅(qū)動(dòng)部及第二驅(qū)動(dòng)部振動(dòng)上分離地配置所述移動(dòng)體。
12. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第一驅(qū)動(dòng)部與所述支承裝置連接，所述第二驅(qū)動(dòng)部經(jīng)所述第一 驅(qū)動(dòng)部使所述支承裝置移動(dòng)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述驅(qū)動(dòng)裝置使所述移動(dòng)體在二維方向上移動(dòng)。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1~13中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述移動(dòng)體相對于所述支承裝置至少具有三個(gè)自由度。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述移動(dòng)體具有球面支座及多個(gè)平面支座中的至少 一種支座。
16. 根據(jù)權(quán)利要求1~15中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，還包括測量裝置，其設(shè)置在所述移動(dòng)體與所述支承裝置之間，測量所述移 動(dòng)體的相對于所述支承裝置的位置。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1 ~ 16中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，還包括連接裝置，其在所述移動(dòng)體的加速過程中，對所述移動(dòng)體與所述驅(qū) 動(dòng)裝置進(jìn)行機(jī)械的連接，在所述移動(dòng)體進(jìn)行等速移動(dòng)過程中，所述移動(dòng) 體與所述驅(qū)動(dòng)裝置之間處于非接觸狀態(tài)。
18. —種移動(dòng)體裝置，具備 能夠移動(dòng)的移動(dòng)體；支承裝置，其支承所述移動(dòng)體的自重并且能夠移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)裝置，其通過所述支承裝置的移動(dòng)及所述移動(dòng)體和所述支承裝置的相對移動(dòng)來驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括使上述移動(dòng)體和所述支承裝置相對移動(dòng)的第一 驅(qū)動(dòng)部，所述第 一驅(qū)動(dòng)部與所述移動(dòng)體一起移動(dòng)。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的移動(dòng)體裝置，其中，與所述第 一驅(qū)動(dòng)部振動(dòng)上分離地配置所述支承裝置。
21. 根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述支承裝置和所述第一驅(qū)動(dòng)部分別配置于不同的部件。
22. 根據(jù)權(quán)利要求19 21中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述驅(qū)動(dòng)裝置還包括使所述第 一驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)部， 通過所述第一驅(qū)動(dòng)部的移動(dòng)使所述支承裝置移動(dòng)。
23. 根據(jù)權(quán)利要求19~22中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述第一驅(qū)動(dòng)部非接觸地移動(dòng)所述移動(dòng)體，并且與所述支承裝置連接。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第一驅(qū)動(dòng)部使用機(jī)械、氣體靜壓、磁、以及電磁方法中的任一 方方法，相對于所述支承裝置連接。
25. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括使所述移動(dòng)體和所述支承裝置相對移動(dòng)的第一 驅(qū)動(dòng)部、使所述支承裝置移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)部，與所述第 一驅(qū)動(dòng)部及第二驅(qū)動(dòng)部振動(dòng)上分離地配置所述支承裝置。
26. 根據(jù)權(quán)利要求25所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第一驅(qū)動(dòng)部與所述支承裝置連接，所述第二驅(qū)動(dòng)部經(jīng)所述第一 驅(qū)動(dòng)部使所述支承裝置移動(dòng)。
27. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括使所述移動(dòng)體和所述支承裝置相對移動(dòng)的第一 驅(qū)動(dòng)部、使所述支承裝置移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)部，與所述第一驅(qū)動(dòng)部及第二驅(qū)動(dòng)部振動(dòng)上分離地配置所述移動(dòng)體。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第一驅(qū)動(dòng)部與所述支承裝置連接，所述第二驅(qū)動(dòng)部經(jīng)所述第一 驅(qū)動(dòng)部使所述支承裝置移動(dòng)。
29. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述驅(qū)動(dòng)裝置使所述支承裝置在二維方向上移動(dòng)。
30. 根據(jù)權(quán)利要求18~29中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述移動(dòng)體相對于所述支承裝置至少具有三個(gè)自由度。
31. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述移動(dòng)體具有球面支座及多個(gè)平面支座中的至少一種支座。
32. 根據(jù)權(quán)利要求18 31中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，還包括測量裝置，其設(shè)置在所述移動(dòng)體與所述支承裝置之間，測量所述移 動(dòng)體的相對于所述支承裝置的位置。
33. 根據(jù)權(quán)利要求18~32中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，還包括連接裝置，其在所述移動(dòng)體的加速過程中，對所迷移動(dòng)體和所述驅(qū) 動(dòng)裝置進(jìn)行機(jī)械的連接，在所述移動(dòng)體進(jìn)行等速移動(dòng)過程中，使所述移 動(dòng)體與所述驅(qū)動(dòng)裝置之間處于非接觸狀態(tài)。
34. —種移動(dòng)體裝置，包括 基座，其具有引導(dǎo)面；移動(dòng)體，其相對于所述基座能夠移動(dòng)；支承裝置，其支承所述移動(dòng)體的自重，并且根據(jù)所述移動(dòng)體的移動(dòng) 能夠在所述引導(dǎo)面上移動(dòng)，所述移動(dòng)體被所述支承裝置支承，以使其能夠從所述引導(dǎo)面伸出。
35. 根據(jù)權(quán)利要求34所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述移動(dòng)體能夠移動(dòng)的區(qū)域大于所述引導(dǎo)面。
36. 根據(jù)權(quán)利要求34或35所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述支承裝置具有與所述引導(dǎo)面非接觸地對置的引導(dǎo)部， 在所述支承裝置支承所述移動(dòng)體的支承方向上，所述支承裝置的在所述引導(dǎo)面的投影面積小于所述移動(dòng)體的在所述引導(dǎo)面的投影面積。
37. 根據(jù)權(quán)利要求34~36中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中，在所述支承裝置和所述移動(dòng)體之間以及在所述支承裝置和所述基 座之間形成流體支座。
38. 根據(jù)權(quán)利要求34~37中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述支承裝置具有在支承方向驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體的驅(qū)動(dòng)裝置。
39. 根據(jù)權(quán)利要求34~38中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中， 所述移動(dòng)體相對于所述支承裝置至少具有三個(gè)自由度。
40. 根據(jù)權(quán)利要求34~39中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，還包括測量裝置，其設(shè)置在所述移動(dòng)體和所述支承裝置之間，測量所述移 動(dòng)體的相對于所述支承裝置的位置。
41. 一種圖案形成裝置，在物體上形成圖案，所述圖案形成裝置包括移動(dòng)體裝置，其是在所述移動(dòng)體上保持所述物體的權(quán)利要求1 ~ 40 中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置；圖案形成裝置，其用于在所述物體上形成圖案。
42. 根據(jù)權(quán)利要求41所述的圖案形成裝置，其中， 所述圖案形成裝置通過對所述物體照射能量束來形成圖案。
43. —種圖案形成方法，使用權(quán)利要求41或42所述的圖案形成裝 置在物體上形成圖案。
44. 一種設(shè)備的制造方法，使用權(quán)利要求43所述的圖案形成方法。
45. —種移動(dòng)體裝置的制造方法，包括供應(yīng)具有引導(dǎo)面的基座的步驟； 供應(yīng)相對于所述基座能夠移動(dòng)的移動(dòng)體的步驟；供應(yīng)支承裝置的步驟，所述支承裝置支承所述移動(dòng)體的自重，并且 根據(jù)該移動(dòng)體的移動(dòng)能夠在所述引導(dǎo)面上移動(dòng)，支承所述移動(dòng)體以使該 移動(dòng)體能夠從所述引導(dǎo)面伸出。
46. —種移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，包括通過能夠移動(dòng)的支承裝置來支承移動(dòng)體的自重的步驟；驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體，并且根據(jù)所述移動(dòng)體的移動(dòng)來驅(qū)動(dòng)所述支承裝置 的步驟。
47. 根據(jù)權(quán)利要求46所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，其中，在所述驅(qū)動(dòng)步驟中，驅(qū)動(dòng)所述支承裝置以使所述支承裝置維持對所 述移動(dòng)體的支承。
48. —種移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，包括通過能夠移動(dòng)的支承裝置來支承移動(dòng)體的自重的步驟；通過所述支承裝置的移動(dòng)以及所述移動(dòng)體和所述支承裝置的相對 移動(dòng)，驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體的步驟。
49. 一種移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，包括 通過能夠移動(dòng)的支承裝置來支承移動(dòng)體的自重的步驟； 在引導(dǎo)面上使所述支承裝置移動(dòng)的步驟，為了在大于所述引導(dǎo)面的移動(dòng)區(qū)域移動(dòng)所述移動(dòng)體，所述支承裝置 支承所述移動(dòng)體以使所述移動(dòng)體能夠從所述引導(dǎo)面伸出。
50. —種圖案形成方法，在物體上形成圖案，使用權(quán)利要求46~49 中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，驅(qū)動(dòng)保持所述物體的移動(dòng)體。
51. —種設(shè)備的制造方法，使用權(quán)利要求50所述的圖案形成方法。
全文摘要
本發(fā)明提高一種移動(dòng)體裝置、圖案形成裝置及圖案形成方法、設(shè)備制造方法、移動(dòng)體裝置的制造方法以及移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法。分體地構(gòu)成基板載臺(21)、支承基板載臺(21)的自重的自重消除機(jī)構(gòu)(27)。由此與一體地構(gòu)成基板載臺和自重消除機(jī)構(gòu)的情況相比能夠使基板載臺(包括基板載臺的構(gòu)造體)小型化、輕型化。而且，通過X驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(97X)、Y驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(97Y)對X粗調(diào)載臺(23X)、Y粗調(diào)載臺(23Y)進(jìn)行的移動(dòng)，在XY平面內(nèi)驅(qū)動(dòng)基板載臺，并且也驅(qū)動(dòng)支承基板載臺的自重的自重消除機(jī)構(gòu)。由此，即使分體地構(gòu)成基板載臺和自重消除機(jī)構(gòu)，也可無阻礙地驅(qū)動(dòng)基板載臺。
文檔編號H01L21/68GK101611470SQ200880004910
公開日2009年12月23日 申請日期2008年3月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月5日
發(fā)明者工藤芳彥, 白數(shù)廣, 青木保夫 申請人:株式會(huì)社尼康