專利名稱：多種化學(xué)品共腔處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是應(yīng)用于半導(dǎo)體制程中刻蝕部分針對多種化學(xué)藥液共腔處理技 術(shù)，具體為一種多種化學(xué)品共腔處理裝置。
背景技術(shù)：
以槽式刻蝕為代表的傳統(tǒng)濕法刻蝕，刻蝕精度很難控制，由于溶劑微粒的沾 污而導(dǎo)致高的缺陷水平，并且會產(chǎn)生大量的化學(xué)廢液，不能用于大直徑小特征的 晶圓加工。而單片刻蝕可以避免溶劑微粒的沾污，但在化學(xué)品回收利用方面仍是 個空白。 '

實用新型內(nèi)容
為了實現(xiàn)化學(xué)品的回收，本實用新型的目的在于提供一種多種化學(xué)品共腔處 理裝置，將多種化學(xué)藥液在同一個腔體分離，可在大直徑小特征的晶圓加工中得 到廣泛應(yīng)用。
本實用新型的技術(shù)方案是
一種多種化學(xué)品共腔處理裝置，該裝置主要設(shè)有藥液杯、藥液杯外腔、藥液 杯內(nèi)腔，可升降的藥液杯置于藥液杯外腔與藥液杯內(nèi)腔之間。
所述的多種化學(xué)品共腔處理裝置，可升降的藥液杯與升降汽缸相連。
所述的多種化學(xué)品共腔處理裝置，該裝置內(nèi)側(cè)安裝旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，旋轉(zhuǎn)馬達(dá)安裝 在電機(jī)法蘭上,承片臺安裝在旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的軸上，晶片放置在承片臺上。
本實用新型的有益效果是
1、以槽式刻蝕為代表的傳統(tǒng)濕法刻蝕成品率低，而應(yīng)用離心機(jī)旋轉(zhuǎn)的單片刻 蝕方式又導(dǎo)致大量化學(xué)品浪費(fèi)，該裝置可應(yīng)用于單片濕法刻蝕對化學(xué)藥液分離， 實現(xiàn)化學(xué)藥液再利用。本實用新型裝置設(shè)有承片臺(CHUCK)、旋轉(zhuǎn)馬達(dá)、可升 降藥液杯(CUP )、 CUP外腔、CUP內(nèi)腔，可升降CUP在CUP外腔與CUP內(nèi)腔 之間，CHUCK安置在旋轉(zhuǎn)馬達(dá)上。本實用新型通過可升降CUP的高度對刻蝕過程中化學(xué)藥液的遮擋控制化學(xué)藥液留存在CUP內(nèi)腔和CUP外腔，實現(xiàn)對化學(xué)藥 液的分離。
2、本實用新型利用可升降藥液杯(CUP)的升降高度來實現(xiàn)對化學(xué)藥液的 分離，化學(xué)藥液在晶片在旋轉(zhuǎn)過程中噴灑，受離心力作用，化學(xué)藥液在晶片邊緣 呈直線甩出。此時控制CUP升降高度，讓不同的化學(xué)藥液保留在內(nèi)腔CUP和外 腔CUP。


圖l是本實用新型的一種狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖，可升降CUP在下位； 圖2是本實用新型的另一狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖，可升降CUP在上位。 圖中，1、晶片；2、承片臺(CHUCK); 3、旋轉(zhuǎn)馬達(dá)；4、藥液杯(CUP);
5、藥液杯外腔；6、藥液杯內(nèi)腔；7、化學(xué)藥液；8、汽缸；9、電機(jī)法蘭。
具體實施方式
如圖l-圖2所示，本實用新型多種化學(xué)品共腔處理裝置主要包括晶片l、 承片臺(CHUCK) 2、旋轉(zhuǎn)馬達(dá)3、藥液杯(CUP)4、藥液杯外腔5、藥液杯內(nèi) 腔6、化學(xué)藥液7、汽缸8、電機(jī)法蘭9等，具體結(jié)構(gòu)如下
可升降藥液杯4在藥液杯外腔5與藥液杯內(nèi)腔6之間，藥液杯外腔5位于外 側(cè)，中間放置可升降的藥液杯4，內(nèi)側(cè)為藥液杯內(nèi)腔6，可升降的藥液杯4下部與 升降汽缸8相連。旋轉(zhuǎn)馬達(dá)3安裝在電機(jī)法蘭9上，承片臺2安裝在旋轉(zhuǎn)馬達(dá)3 的軸上，晶片1放置在承片臺2上。
本實用新型的工作過程如下
將旋轉(zhuǎn)馬達(dá)3安裝在電機(jī)法蘭9上，承片臺2安裝在旋轉(zhuǎn)馬達(dá)3的軸上，再 依次安裝藥液杯內(nèi)腔6、可升降藥液杯4、藥液杯外腔5?？缮邓幰罕?下部安 裝的升降汽缸8，實現(xiàn)可升降藥液杯4的升降，利用可升降藥液杯4的高度來阻 擋晶片1旋轉(zhuǎn)甩出的化學(xué)藥液7?？缮邓幰罕?在低位時，把化學(xué)藥液7放到 藥液杯外腔5(圖1),可升降藥液杯4在高位時，把化學(xué)藥液7留在藥液杯內(nèi)腔 6 (圖2)。
權(quán)利要求1、一種多種化學(xué)品共腔處理裝置，其特征在于該裝置主要設(shè)有藥液杯、藥液杯外腔、藥液杯內(nèi)腔，可升降的藥液杯置于藥液杯外腔與藥液杯內(nèi)腔之間。
2、 按照權(quán)利要求l所述的多種化學(xué)品共腔處理裝置，其特征在于可升降的 藥液杯與升降汽缸相連。
3、 按照權(quán)利要求l所述的多種化學(xué)品共腔處理裝置，其特征在于該裝置內(nèi) 側(cè)安裝旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，旋轉(zhuǎn)馬達(dá)安裝在電機(jī)法蘭上，承片臺安裝在旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的軸上， 晶片放置在承片臺上。
專利摘要本實用新型是應(yīng)用于半導(dǎo)體制程中刻蝕部分針對多種化學(xué)藥液共腔處理技術(shù)，具體為一種多種化學(xué)品共腔處理裝置，將多種化學(xué)藥液在同一個腔體分離，可在大直徑小特征的晶圓加工中得到廣泛應(yīng)用，實現(xiàn)化學(xué)品的回收。該裝置主要設(shè)有藥液杯、藥液杯外腔、藥液杯內(nèi)腔，可升降的藥液杯置于藥液杯外腔與藥液杯內(nèi)腔之間，可升降的藥液杯與升降汽缸相連。本實用新型通過可升降藥液杯的高度對刻蝕過程中化學(xué)藥液的遮擋控制化學(xué)藥液留存在藥液杯內(nèi)腔和藥液杯外腔，實現(xiàn)對化學(xué)藥液的分離。
文檔編號H01L21/00GK201332089SQ20082023200
公開日2009年10月21日 申請日期2008年12月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月24日
發(fā)明者孫東豐, 徐春旭 申請人:沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司