專(zhuān)利名稱(chēng)：均光式鍵盤(pán)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種鍵盤(pán)裝置，特別是涉及一種均光式鍵盤(pán)裝置。
背景技術(shù)：
鍵盤(pán)裝置是作為電腦系統(tǒng)最常配置的指令輸入裝置。隨著科技的發(fā)展， 電腦系統(tǒng)廣泛使用于各種工業(yè)或生活領(lǐng)域，而鍵盤(pán)裝置為能讓使用者在不 同環(huán)境下得以準(zhǔn)確輸入指令信號(hào)亦須有相對(duì)應(yīng)的設(shè)計(jì)。以低亮度或黑暗中 使用電腦系統(tǒng)的環(huán)境為例，使用者雖然可以藉由顯示器本身的光線取得運(yùn) 算資訊，然卻無(wú)法看清楚鍵盤(pán)裝置上的各個(gè)按鍵。為能讓使用者如一般環(huán) 境下以視覺(jué)的方式來(lái)判斷不同按鍵的位置進(jìn)而按壓輸出指令信號(hào)，遂發(fā)展 出具有發(fā)光能力的鍵盤(pán)。
如美國(guó)第US 5，936，554號(hào)、第US 7, 278, 750號(hào)專(zhuān)利案，中國(guó)臺(tái)灣第 566612號(hào)、第581961號(hào)專(zhuān)利案等，分別揭露多種在按鍵內(nèi)部設(shè)有發(fā)光(二 極管即二極體，本文均稱(chēng)為二極管)的鍵盤(pán)裝置，設(shè)置于按鍵中的發(fā)光二極 管得以對(duì)單一按鍵提供光源，使其在黑暗中或光線不足處皆可以讓使用者 清楚辨識(shí)各別按4泉。雖然此種發(fā)光^l盤(pán)裝置，可以解決在黑暗中無(wú)法清楚辨 識(shí)按鍵的問(wèn)題，然而就目前標(biāo)準(zhǔn)鍵盤(pán)的配置具有超過(guò)一百個(gè)按鍵，若必須在 每個(gè)按鍵內(nèi)皆設(shè)有相對(duì)應(yīng)的發(fā)光二極管，勢(shì)必增加整體鍵盤(pán)組件的數(shù)目，非 但增加制造工序與成本，亦使得產(chǎn)品無(wú)法達(dá)到輕量化。除此之外，大量發(fā) 光二極管在工作中將耗費(fèi)相當(dāng)多的電力并產(chǎn)生大量的熱能。
再者，如美國(guó)公開(kāi)第20070131311號(hào)專(zhuān)利，揭露一種具備背光架構(gòu)的 鍵盤(pán)，在橋板以及下方的底板之間定義出一光源傳導(dǎo)空間，且在該橋板對(duì) 應(yīng)該鍵盤(pán)部上欲發(fā)出光源處向該光源傳導(dǎo)空間設(shè)有至少一導(dǎo)光部，以該導(dǎo) 光部接收進(jìn)入該光源傳導(dǎo)空間內(nèi)的發(fā)射光源導(dǎo)入至鍵盤(pán)部而構(gòu)成該鍵盤(pán)的 背光架構(gòu)。相較于前述在每個(gè)按鍵下方皆設(shè)有發(fā)光二極管的發(fā)光鍵盤(pán)，該 實(shí)用新型有效減少發(fā)光二極管的數(shù)目，筒化整體組件結(jié)構(gòu)，亦具有環(huán)保節(jié) 能的效果。然而，在該光源傳導(dǎo)空間中，距離光源越遠(yuǎn)的位置所獲得的亮 度越低，會(huì)造成鍵盤(pán)整體發(fā)光亮度不均的問(wèn)題。
由此可見(jiàn)，上述現(xiàn)有的鍵盤(pán)裝置在結(jié)構(gòu)與使用上，，顯然仍存在有不便 與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問(wèn)題，相關(guān)廠商莫不 費(fèi)盡心思來(lái)謀求解決之道，但長(zhǎng)久以來(lái)一直未見(jiàn)適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而 一般產(chǎn)品又沒(méi)有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問(wèn)題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問(wèn)題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型的均光式鍵盤(pán)裝置，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)課 題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。
有鑒于上述現(xiàn)有的鍵盤(pán)裝置存在的缺陷，本實(shí)用新型人基于從事此類(lèi) 產(chǎn)品設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專(zhuān)業(yè)知識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極 加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型的均光式鍵盤(pán)裝置，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有 的鍵盤(pán)裝置，使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過(guò)不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過(guò)反復(fù)試作 樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本實(shí)用新型。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的主要目的在于，克服現(xiàn)有的鍵盤(pán)裝置存在的缺陷，而提 供一種新型的均光式鍵盤(pán)裝置，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是使其在于使得發(fā)光 鍵盤(pán)上所有的M皆得以發(fā)出相同的亮度，非常適于實(shí)用。
本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。 依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種均光式鍵盤(pán)裝置，包括有一外殼體以及一鍵盤(pán) 部，該外殼體具有一相互組裝形成內(nèi)容置空間的頂殼以及底殼，該頂殼表 面開(kāi)設(shè)有一連通于該內(nèi)容置空間的開(kāi)口區(qū)域，該鍵盤(pán)部設(shè)置于該內(nèi)容置空 間中，包含有多個(gè)穿透于該開(kāi)口區(qū)域得以受力按壓并進(jìn)行位移行程的按壓 件，以及一用以承載該些按壓件的基板，該基板與該底殼之間形成一導(dǎo)光 空間，并在該導(dǎo)光空間內(nèi)具有一提供光線的發(fā)光單元，該導(dǎo)光空間的高度 隨著與該發(fā)光單元的距離增加而減少。
本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的發(fā)光單元設(shè)置于該底殼上。 前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的基板與該底殼之間形成一傾斜夾角。
前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的基板的厚度隨著與該發(fā)光單元的 距離增加而逐漸增厚。
前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的底殼相對(duì)于該導(dǎo)光空間的一側(cè)設(shè) 有一反光部，該反光部的高度隨著與該發(fā)光單元的距離增加而逐漸增加。
前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的底殼相對(duì)于該導(dǎo)光空間的一側(cè)設(shè) 有一反光面，該底殼的厚度隨著與該發(fā)光單元的距離增加而逐漸增加。
前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的按壓件與該發(fā)光單元之間設(shè)有一 遮蔽元件，該遮蔽元件包含有一遮光區(qū)域以及多個(gè)相對(duì)于該按壓件下方的 透光區(qū)域。
前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的導(dǎo)光空間內(nèi)具有一用以支持該基 板的承載件。前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的承栽件包含有多個(gè)連接于該底殼 的肋條以及一位于該些肋條上緣的承載平面。
前述的均光式鍵盤(pán)裝置，其中所述的承載平面上具有一承栽板，該承 載板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)相對(duì)應(yīng)該按壓件位置的透光孔。
#用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。由以上可知，為 達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種均光式鍵盤(pán)裝置，包括有一外殼體 以及一^l定盤(pán)部。該外殼體包含有 一相互組裝形成內(nèi)容置空間的頂殼以及底 殼，該頂殼表面開(kāi)設(shè)有一連通于該內(nèi)容置空間的開(kāi)口區(qū)域。鍵盤(pán)部設(shè)置于 該內(nèi)容置空間中，包含有多個(gè)穿透于該開(kāi)口區(qū)域得以受力按壓并進(jìn)行位移 行程的按壓件，以及一用以承載該些按壓件的基板，該基板與該底殼之間 形成一導(dǎo)光空間，并在該導(dǎo)光空間內(nèi)具有一提供光線的發(fā)光單元，該導(dǎo)光 空間的高度隨著與該發(fā)光單元的距離增加而減少。
其中，該發(fā)光單元設(shè)置于該底殼上。該按壓件包含有一鍵帽， 一耦接于 該鍵帽的連動(dòng)機(jī)構(gòu)以及一位于該連動(dòng)機(jī)構(gòu)內(nèi)使該按壓件得以相對(duì)于該基板 上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)的彈性體。基板M—供該連動(dòng)機(jī)構(gòu)固定的固定部。此外，該 基板包含有一連接于該按壓件的支撐層以及一根據(jù)該按壓件進(jìn)行位移行程 而觸發(fā)一指令信號(hào)的電路層。
此外，為能強(qiáng)化單一按壓件的發(fā)光效果，該按壓件與該發(fā)光單元之間 設(shè)有一遮蔽元件，該遮蔽元件包含有一遮光區(qū)域以及多個(gè)相對(duì)于該按壓件 下方的透光區(qū)域。
以下本實(shí)用新型揭露多個(gè)實(shí)施例得以使導(dǎo)光空間的高度隨著與該發(fā)光
單元的距離增加而減少。
在本實(shí)用新型一實(shí)施例中，該基板與該底殼之間形成一傾斜夾角。 本實(shí)用新型另一實(shí)施例中，該1^1的厚度隨著與該發(fā)光單元的距離增
加而逐漸增厚。
本實(shí)用新型另 一 實(shí)施例中，該底殼相對(duì)于該導(dǎo)光空間的 一側(cè)設(shè)有一反 光部，該反光部的高度隨著與該發(fā)光單元的距離增加而逐漸增加。
本實(shí)用新型再一實(shí)施例中，該底殼相對(duì)于該導(dǎo)光空間的一側(cè)設(shè)有一反 光面，該底殼的厚度隨著與該發(fā)光單元的距離增加而逐漸增加。
前述實(shí)施例中，為能使該基板的位置不會(huì)受到因外力施力于該按壓件 而連動(dòng)位移，在本實(shí)用新型中，該導(dǎo)光空間內(nèi)具有一用以支持該基板的承 載件。該承栽件包含有多個(gè)連接于該底殼的肋條，以及一位于該些肋條上 緣并與該基板相接的承載平面。若欲具有均勻的承栽效果，該承栽平面上 可設(shè)有一承載板，該承載板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)相對(duì)應(yīng)該按壓件位置的透光孔。
借由上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及
有益效果藉由基板與底殼之間所形成導(dǎo)光空間的高度隨著與該發(fā)光源的距離增加而減少，使不同位置的按壓件不會(huì)因?yàn)榕c發(fā)光單元之間的距離影 響其發(fā)光亮度，而達(dá)到均光的效果。
綜上所述，本實(shí)用新型將該發(fā)光單元所發(fā)射出的光線均勻分布于該鍵 盤(pán)部底部而獲的均勻發(fā)光的效果。本實(shí)用新型在技術(shù)上有顯著的進(jìn)步，并 具有明顯的積極效果，誠(chéng)為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用的新設(shè)計(jì)。
上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí) 用新型的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用 新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施 例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。


圖1是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。
圖2是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置一較佳實(shí)施例的底殼外觀俯視示意圖。
圖3是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置增設(shè)承載板實(shí)施例的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。
圖4是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置于底殼上增設(shè)一反光部實(shí)施例的結(jié) 構(gòu)剖面示意圖。
圖5是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置將底殼增厚實(shí)施例的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。
圖6是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置增加一遮光元件實(shí)施例的結(jié)構(gòu)剖面 示意圖。
具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及 功效，
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的均光式鍵盤(pán)裝 置其具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。
有關(guān)本實(shí)用新型的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參 考圖式口的較佳，施例，詳細(xì)說(shuō)明中將可清，呈現(xiàn)。通過(guò)具體實(shí)施，式的說(shuō)
深入且具體的了解，然而所附圖式僅是提供參考與說(shuō)明之用，并非用來(lái)對(duì) 本實(shí)用新型加以限制。
請(qǐng)參閱圖l所示，是本實(shí)用新型一4交佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)剖面示意圖，如 本實(shí)用新型為一種均光式鍵盤(pán)裝置，具有一外殼體IO,該外殼體10由一頂 殼11以及一底殼12相互組裝形成，該頂殼11與該底殼12組裝后形成一 內(nèi)容置空間13。該頂殼11表面開(kāi)設(shè)有一連通于該內(nèi)容置空間13的開(kāi)口區(qū)說(shuō) 域lll。該鍵盤(pán)裝置更具有一設(shè)置于該內(nèi)容置空間13的鍵盤(pán)部20，該鍵盤(pán) 部20包含有多個(gè)穿透于該開(kāi)口區(qū)域lll的按壓件21,以及一用以承載該些 按壓件21的基板22。
該按壓件21包含有一鍵帽211， 一耦接于該鍵帽211的連動(dòng)機(jī)構(gòu)212， 以及一位于該連動(dòng)機(jī)構(gòu)212內(nèi)使該按壓件21得以相對(duì)于該基板22上下往 復(fù)運(yùn)動(dòng)的彈性體213。使用者得以對(duì)該按壓件21的鍵帽211施以一按壓力 道，使該連動(dòng)機(jī)構(gòu)212決定出一該按壓件21的位移行程。該基板22至少 包含有一連接于該按壓件21的支撐層221以及一根據(jù)該按壓件21進(jìn)行位 移行程而觸發(fā)一指令信號(hào)的電路層222,該電路層222可為硬式印刷電路板 或?yàn)榭蓳鲜接∷㈦娐钒宓?。為能使該按壓?1固定于該基板22上，該支 撐層221上相對(duì)應(yīng)于該按壓件21的連動(dòng)機(jī)構(gòu)212 —端設(shè)有固定部223。在 該基板22與該底殼12之間形成一導(dǎo)光空間30，并在該導(dǎo)光空間30內(nèi)的底 殼12位置設(shè)有一發(fā)光單元31,該發(fā)光單元31可為發(fā)光二極管或電致發(fā)光 板等光源，在本實(shí)施例以發(fā)光二極管為表示。
為了能讓發(fā)光單元31所輸出的光線均勻存在于該導(dǎo)光空間30內(nèi)，使其 不會(huì)因?yàn)榫嚯x發(fā)光單元31的遠(yuǎn)近不同而影響其亮度。在本實(shí)用新型中，該 導(dǎo)光空間30的高度隨著與該發(fā)光單元31的距離增加而減少。以下則揭露 不同實(shí)施例作為表示
在圖1中，該基板22為一等厚度的結(jié)構(gòu)，且與該底殼12之間形成一 傾斜夾角，使該導(dǎo)光空間30的高度隨著與該發(fā)光單元31的距離增加而連 續(xù)性遞減。由于本實(shí)用新型導(dǎo)光空間30，并非為一等高度的空間，當(dāng)光線 行進(jìn)于該導(dǎo)光空間30時(shí)，遠(yuǎn)端的導(dǎo)光空間30會(huì)因?yàn)榉瓷湫Ч脑黾樱?補(bǔ)足因?yàn)榫嚯x所導(dǎo)致亮度下降的問(wèn)題，因此，可以使該導(dǎo)光空間30內(nèi)保持 均光的效果。導(dǎo)光空間30內(nèi)均勻的光線經(jīng)過(guò)該基板22提供給該按壓件21, 亦使得按壓件21保持均光。此外，由于該基板22上的電路層222可為薄 膜電路板。 一般而言，薄膜電路板為一具有撓性的板材，容易隨著外力施 加而變形。如此一來(lái)，當(dāng)該按壓件21因受力而進(jìn)行位移行程時(shí)，會(huì)連動(dòng)該 基板22上的電路層222，可能影響該電路層222產(chǎn)生該指令信號(hào)的靈敏度。 如此，為能使該基板22的位置不會(huì)受到因外力施力于該按壓件21而連動(dòng) 位移，在本實(shí)用新型中，如圖1及圖2所示，該導(dǎo)光空間30內(nèi)具有一用以 支持該基板22的承載件34。該承載件34包含有多個(gè)連接于該底殼l2的肋 條341,以及一位于該些肋條3"上緣并與該基板22相接的承栽平面342。
在本實(shí)用新型另一實(shí)施例中，該,l^l平面342上增設(shè)有一承載板3"，以 提供該基板22較為均勻的承栽效果，如圖3所示。且該承載板343的厚度 隨著與該發(fā)光單元31的距離增加而逐漸增加，使該導(dǎo)光空間30的高度得 以隨著與該發(fā)光單元31的距離增加而連續(xù)性遞減，令該導(dǎo)光空間30內(nèi)的亮度達(dá)到均光的效果。該承載板343可為提供足夠承栽力道的剛性板材， 如金屬板或壓克力板等。若該承載板343使用非透光材料時(shí)，可在該承載 板343上開(kāi)設(shè)有多個(gè)相對(duì)應(yīng)該按壓件21位置的透光孔344，使該導(dǎo)光空間 30中光線得以傳導(dǎo)至該按壓件21。
請(qǐng)參閱圖4所示，是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置于底殼上增設(shè)一反光 部實(shí)施例的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。在該底殼12相對(duì)該導(dǎo)光空間30的一側(cè)設(shè)有 一反光部in，該反光部in的高度隨著與該發(fā)光單元31的距離增加而逐 漸增加?；蛘?，請(qǐng)參閱圖5所示，是本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置將底殼增 厚實(shí)施例的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。在該底殼12相對(duì)該導(dǎo)光空間30的一側(cè)設(shè)有 一反光面122，該底殼12的厚度隨著與該發(fā)光單元31的距離增加而逐漸增 加。前述兩種實(shí)施例，皆可使該導(dǎo)光空間30的高度隨著與該發(fā)光單元31 的距離增加而減少的效果，進(jìn)而使該發(fā)光單元31所輸出的光線得以均勻分 布于該導(dǎo)光空間30中。
除此之外，在本實(shí)用新型中，亦可在該按壓件21與該發(fā)光單元31之 間設(shè)有一遮蔽元件33，該遮蔽元件33包含有一遮光區(qū)域331以及多個(gè)相對(duì) 于該按壓件21下方的透光區(qū)域332,如圖6所示，使各別按壓件21相較于 其他遮光區(qū)域331相比具有較高亮度對(duì)比，使用者更可以輕易辨識(shí)不同按 壓件21的位置。
綜上所述，由于本實(shí)用新型均光式鍵盤(pán)裝置中，將基板與底殼之間所 形成的導(dǎo)光空間的高度，隨著與發(fā)光單元的距離增加而逐漸遞減，使得導(dǎo) 光空間內(nèi)光線得以均勻分布，進(jìn)而使位于該導(dǎo)光空間上方各個(gè)按壓件皆可 以接收到等量的光線，而使本實(shí)用新型鍵盤(pán)裝置具有均光的效果。
以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作 任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非 用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技 術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同 變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用 新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均 仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種均光式鍵盤(pán)裝置，包括有一外殼體(10)以及一鍵盤(pán)部(20)，該外殼體(10)具有一相互組裝形成內(nèi)容置空間(13)的頂殼(11)以及底殼(12)，該頂殼(11)表面開(kāi)設(shè)有一連通于該內(nèi)容置空間(13)的開(kāi)口區(qū)域(111)，該鍵盤(pán)部(20)設(shè)置于該內(nèi)容置空間(13)中，包含有多個(gè)穿透于該開(kāi)口區(qū)域(111)得以受力按壓并進(jìn)行位移行程的按壓件(21)，以及一用以承載該些按壓件(21)的基板(22)，其特征在于該基板(22)與該底殼(12)之間形成一導(dǎo)光空間(30)，并在該導(dǎo)光空間(30)內(nèi)具有一提供光線的發(fā)光單元(31)，該導(dǎo)光空間(30)的高度隨著與該發(fā)光單元(31)的距離增加而減少。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的均光式鍵盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的發(fā) 光單元(31)設(shè)置于該底殼(12)上。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的均光式4定盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的基 板(22)與該底殼(12)之間形成一傾斜夾角。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的均光式4建盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的基 板(22)的厚度隨著與該發(fā)光單元(31)的距離增加而逐漸增厚。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的均光式4建盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的底 殼(12)相對(duì)于該導(dǎo)光空間(30)的一側(cè)設(shè)有一反光部(121),該反光部(121) 的高度隨著與該發(fā)光單元(31)的距離增加而逐漸增加。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的均光式鍵盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的底 殼(12)相對(duì)于該導(dǎo)光空間(30)的一側(cè)設(shè)有一反光面(122)，該底殼(12)的厚 度隨著與該發(fā)光單元(31)的距離增加而逐漸增加。
7、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的均光式鍵盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的按 壓件(21)與該發(fā)光單元(31)之間設(shè)有一遮蔽元件(33),該遮蔽元件(33)包 含有一遮光區(qū)域(331)以及多個(gè)相對(duì)于該按壓件(21)下方的透光區(qū)域 (332)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述的均光式鍵盤(pán)裝置，其特 征在于其中所述的導(dǎo)光空間(30)內(nèi)具有一用以支持該基板(22)的承載件 (34)。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的均光式鍵盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的承 載件(34)包含有多個(gè)連接于該底殼(12)的肋條(341)以及一位于該些肋條 (341)上緣的承載平面(342)。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的均光式鍵盤(pán)裝置，其特征在于其中所述的 承載平面(342)上具有一承栽板(343)，該承載板(343)上開(kāi)設(shè)有多個(gè)相對(duì)應(yīng)該按壓件(21)位置的透光孔(344)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型是有關(guān)于一種均光式鍵盤(pán)裝置，包括有一外殼體以及一鍵盤(pán)部。該外殼體，包含有一相互組裝形成內(nèi)容置空間的頂殼以及底殼，該頂殼表面開(kāi)設(shè)有一連通于該內(nèi)容置空間的開(kāi)口區(qū)域。該鍵盤(pán)部設(shè)置于該內(nèi)容置空間中，包含有多個(gè)穿透于該開(kāi)口區(qū)域得以受力按壓并進(jìn)行位移行程的按壓件，以及一用以承載該些按壓件的基板，該基板與該底殼之間形成一導(dǎo)光空間，并在該導(dǎo)光空間內(nèi)具有一提供光線的發(fā)光單元，該導(dǎo)光空間的高度隨著與該發(fā)光單元的距離增加而減少。藉此，本實(shí)用新型得以將該發(fā)光單元所發(fā)射出的光線均勻分布于該鍵盤(pán)部底部而獲的均勻發(fā)光的效果。
文檔編號(hào)H01H13/83GK201307544SQ200820136980
公開(kāi)日2009年9月9日 申請(qǐng)日期2008年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月28日
發(fā)明者林進(jìn)億, 陳志雄 申請(qǐng)人:新巨企業(yè)股份有限公司