專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種向LCD (液晶顯示裝置)、PDP (等離子顯示器)等FPD (平板顯示器)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、半導體基板等基板供給各 種處理液來實施處理的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
一直以來，公知有如下裝置，g卩，具有多個處理室，在運送LCD、 PDP 用玻璃基板等基板的同時，在各處理室內(nèi)向基板供給處理液，由此對基板實 施預定的工藝處理。例如，在專利文獻1中記載有如下裝置相鄰地設置通 過給基板供給剝離液來剝離抗蝕劑覆膜的剝離處理室和對剝離處理后的基板 進行清洗的清洗處理室。
在這種裝置中，伴隨著處理而充滿處理室的霧狀的處理液通過基板運送 用的開口部侵入到相鄰的處理室(稱作相鄰處理室)，會給該相鄰處理室的 基板處理帶來各種影響。例如，在上述專利文獻1的裝置中，回收并再使用 (循環(huán)使用)在剝離處理室中使用的剝離液，但是，此時，若清洗液的霧滴 從清洗處理室侵入剝離處理室，則剝離液的質(zhì)量就會惡化。
因此，通常，例如專利文獻2所示，在處理室之間設置閘門，通過僅在 運送基板時才打開開口部來防止霧滴侵入相鄰處理室。
專利文獻l: JP特開2004—146414號公報。
專利文獻2: JP特開2000 — 58501號公報。
但是，即使是在處理室之間設置了閘門的裝置，由于在運送基板過程中 使開口部開著，所以霧滴依然會容易地通過開口部而侵入相鄰處理室，從而， 在防止霧滴侵入相鄰處理室的問題上還存在改進的余地。
而且，考慮到在開口部關(guān)閉時附著于閘門上的霧滴在閘門動作時會飛散 到相鄰處理室內(nèi)，特別是，在專利文獻2的結(jié)構(gòu)中，由于閘門是繞水平軸轉(zhuǎn) 動而倒向處理室內(nèi)一側(cè)的可倒式結(jié)構(gòu)，所以所附著的霧滴等在閘門動作時(特 別是打開時)容易飛散，因此這一點也需要改善。
另外，在多個處理室相鄰的裝置中，霧滴從其中一側(cè)的處理室向另一側(cè) 的處理室侵入會成為問題，而相反卻是在某種程度上容許的情況較多。例如， 在專利文獻l的裝置中，在防止剝離液惡化的基礎上，必須阻止霧滴從清洗 處理室侵入剝離處理室，相反，即剝離液(霧滴)向清洗室的侵入就不會成 為什么問題。從而，在防止霧滴侵入的對策方面，優(yōu)選在考慮了這種情況的 基礎上來談對策。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供一種能更有效地防止 霧狀處理液侵入相鄰的處理室的基板處理裝置。
為了解決上述問題，本發(fā)明的基板處理裝置的基本結(jié)構(gòu)具有向基板供給 處理液并對基板實施規(guī)定的濕式處理的濕式處理室，并且，基板除了裝置通 過形成在所述濕式處理室的隔壁上的基板運送用的開口部，對所述濕式處理 室進行基板的運入運出，而且具有閘門裝置，其用于開閉所述開口部；氣 流形成裝置，其包括配置在所述濕式處理室的室外的噴嘴構(gòu)件，并且至少在 所述開口部開口狀態(tài)時，使氣體從所述噴嘴構(gòu)件噴出，由此形成朝向所述開 口部的氣流。
根據(jù)這種基板處理裝置，在閘門裝置使開口部處于打開狀態(tài)時，即，主 要是在基板通過開口部時，通過使氣體從噴嘴構(gòu)件噴出，在濕式處理室外形 成朝向所述開口部的氣流，利用其氣壓防止通過了所述開口部的處理液(霧 滴)從濕式處理室內(nèi)向室外流出。因此，與僅利用閘門裝置來開閉開口部的 現(xiàn)有裝置相比，能夠更可靠地防止霧滴流出。
另外，在所述基板處理裝置中，作為所述閘門裝置具有第一閘門裝置和 第二閘門裝置，所述第一閘門裝置具有從所述濕式處理室的室內(nèi)一側(cè)開閉所 述開口部的閘門主體，所述第二閘門裝置具有從所述濕式處理室的室外一側(cè) 開閉所述開口部的閘門主體，所述氣流形成裝置從所述噴嘴構(gòu)件向通過所述 開口部的基板供給氣體，由此在該基板的表面上形成從濕式處理室的室外一 側(cè)向室內(nèi)一側(cè)流動的氣流。
根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，由于在濕式處理室內(nèi)還配備有閘門裝置(第一閘門裝置)， 所以霧滴很難附著在濕式處理室以外的閘門裝置(第二閘門裝置)的閘門主
體上。因此，能夠有效地防止附著在第二閘門裝置上的霧滴或者干燥物在閘 門裝置動作時飛散到濕式處理室的室外側(cè)。并且，在基板通過開口部時，通 過氣流形成裝置在基板表面上形成朝向濕式處理室的室內(nèi)一側(cè)流動的氣流， 所以更可靠地防止了霧滴從濕式處理室流出。
作為具體的結(jié)構(gòu)，例如具有相鄰處理室，所述相鄰處理室經(jīng)由所述開口 部而與所述濕式處理室連通，并且對基板實施所述濕式處理的前處理或者后 處理；在這種情況下，在該相鄰處理室配置有所述第二閘門裝置以及所述噴 嘴構(gòu)件。
根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，能夠有效地防止當閘門動作時霧滴飛散到相鄰處理室內(nèi) 或者在運送基板過程中霧滴通過所述開口部侵入相鄰處理室內(nèi)。
另外，在所述那樣的基板處理裝置中，還具有閘門控制裝置，所述閘門 控制裝置在通過所述閘門主體關(guān)閉所述開口部的關(guān)閉狀態(tài)和通過使所述閘門 主體退避到規(guī)定的退避位置而打開所述開口部的打開狀態(tài)之間切換控制所述 各閘門裝置的驅(qū)動狀態(tài)，所述閘門控制裝置在基板通過所述開口部時，在將 所述第一閘門裝置從關(guān)閉狀態(tài)切換到打開狀態(tài)之前，將所述第二閘門裝置從 關(guān)閉狀態(tài)切換到打開狀態(tài)。
根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，在運送基板時，由于與濕式處理室的室內(nèi)一側(cè)的第一閘 門裝置相比室外一側(cè)的第二閘門裝置總是先切換到打開狀態(tài)，所以能夠有效 地防止霧滴附著到第二閘門裝置的閘門主體上。
此時，優(yōu)選地還具有控制所述氣流形成裝置的氣流形成控制裝置，所述 氣流形成控制裝置與第一閘門裝置從關(guān)閉狀態(tài)向打開狀態(tài)切換的動作同步而 開始供給氣體。
根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，由于在打開開口部的同時開始供給氣體，所以能夠更有 效地防止霧滴從濕式處理室流出。
此外，優(yōu)選地在上述那樣的基板處理裝置中，在所述各閘門裝置中的至 少第二閘門裝置構(gòu)成為通過使所述閘門主體沿所述隔壁的壁面滑動來開閉所 述開口部的結(jié)構(gòu)。
這樣，根據(jù)使閘門主體沿隔壁的壁面滑動的結(jié)構(gòu)，閘門主體不會像所謂 的可倒式開閉結(jié)構(gòu)那樣劇烈搖動，因此，即使霧滴附著在閘門主體上，也很 難引起霧滴等飛散。
此外，在具有與濕式處理室相鄰的相鄰處理室的基板處理裝置的情況下， 優(yōu)選地所述相鄰處理室還具有在該處理室內(nèi)以包圍所述開口部的附近的方 式形成的預備室；對預備室內(nèi)的環(huán)境進行排氣的預備室排氣裝置。
根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，伴隨著第二閘門裝置打開開口部的打開動作，附著在閘 門主體上的霧滴飛散或者霧滴通過開口部從濕式處理室一側(cè)侵入相鄰處理室 側(cè)的情況下，所述霧滴會迅速地從預備室排出到外部。
另外，在本發(fā)明的基板處理裝置中，對上述基本結(jié)構(gòu)也可以添加如下的 結(jié)構(gòu)。即，作為所述濕式處理室具有在基板運送方向上并列的第一處理室以 及第二處理室，在各處理室中使用相互不同的處理液對基板按順序?qū)嵤袷?處理，并且所述相互不同的處理液之間的關(guān)系是要求在處理基板處理時抑制 在其中一種處理液中混入另一種處理液的情況的關(guān)系，在所述第一處理室和 所述第二處理室之間設置有中間室，作為所述開口部，在所述第一處理室和 中間室的隔壁上設置有第一開口部，在所述中間室和第二處理室的隔壁上設 置有第二開口部，并且作為所述閘門裝置設置有分別開閉所述第一、第二開 口部的閘門裝置，所述氣流形成裝置構(gòu)成為，在所述中間室具有所述噴嘴構(gòu) 件，通過使氣體從所述噴嘴構(gòu)件噴出，從而形成朝向?qū)ο箝_口部的氣流，所 述對象開口部是所述第一開口部以及第二開口部中的一個的開口部，并且將 位于使用所述另一種處理液的處理室與中間室之間的開口部作為該對象開口 部，還設置有中間室排氣裝置，所述中間室排氣裝置在所述氣流形成裝置的 所述噴嘴構(gòu)件與所述對象開口部之間的位置處具有排氣口 ，并通過所述排氣 口對所述中間室進行排氣。在此，所謂"相互不同的處理液"除了指性質(zhì)(屬 性)相互不同的處理液以外，還指性質(zhì)相同而種類不同的處理液或者性質(zhì)和 種類相同而僅濃度相互不同的處理液等。
根據(jù)該基板處理裝置，在第一處理室和第二處理室之間設置有中間室， 在使用所述另一種處理液的處理室一側(cè)的開口部(所述對象開口部)處于打 開狀態(tài)時，設置在所述中間室的噴嘴構(gòu)件朝向所述對象開口部噴射氣流，其 結(jié)果，可以防止霧滴(另一種處理液)從所述對象開口部流出。并且，即使 在所述霧滴流出一些的情況下，由于利用中間室排氣裝置對中間室進行了排 氣，所以所述霧滴從中間室排氣到外部。此時，排氣口由于設置在噴嘴構(gòu)件 與所述對象開口部之間的位置，所以流出的霧滴被迅速地排出。因此，有效
地阻止了所述霧滴侵入另一側(cè)處理室(即，使用所述一種處理液的處理室)， 從而阻止了另一種處理液混入所述一種處理液中。
另外，在所述基板處理裝置中，優(yōu)選地通過在所述中間室設置分隔壁， 將所述中間室的內(nèi)部分隔為含有所述噴嘴構(gòu)件的噴嘴室和含有所述對象開口 部以及排氣口的排氣室，并且所述噴嘴構(gòu)件通過設置在所述分隔壁上的基板 運送用的開口部而向所述排氣室一側(cè)噴出氣體。
根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，即使通過所述對象開口部流出一些霧滴，也能夠通過分 隔壁有效防止霧滴向另一側(cè)處理室一側(cè)擴散。因此，能夠更有效地阻止所述 霧滴侵入所述另 一側(cè)處理室。
此外，優(yōu)選地所述氣流形成裝置從所述噴嘴構(gòu)件向通過所述對象開口部 的基板供給氣體，由此形成沿著所述基板表面從所述中間室一側(cè)向處理室一 側(cè)流動的氣流。
根據(jù)所述結(jié)構(gòu)，由于在基板通過所述對象開口部的期間，在基板表面上 形成從中間室一側(cè)向處理室一側(cè)流動的氣流，所以能夠有效防止霧滴從處理 室沿著基板流出。
另外，在上述裝置中，所述相互不同的處理液是濃度不同的相同種類的 處理液，并且高濃度的處理液在所述第一處理室中使用，所述噴嘴構(gòu)件將所 述第二開口部作為所述對象開口部而向該開口部噴出氣體。
在該裝置中，雖然在各處理室中實施了相同種類的處理，但由于具有上 述裝置結(jié)構(gòu)，其結(jié)果，能夠有效地防止低濃度的霧滴(處理液)從第二處理 室流出并侵入第一處理室。因此，能夠有效地防止發(fā)生如下的現(xiàn)象，即低濃 度的霧滴混入高濃度的處理液從而稀釋所述處理液。這樣的結(jié)構(gòu)特別是對于 具有處理室排氣裝置和收集裝置的基板處理裝置非常有用，其中，所述處理 室排氣裝置對所述第一處理室內(nèi)進行排氣，所述收集裝置為了再使用所述排 氣中所包含的霧滴而收集該霧滴。就是說，在如此地收集并再使用排氣中所 包含的霧滴(高濃度的霧滴)的情況下，如果采用上述裝置結(jié)構(gòu)，則具有這 樣的優(yōu)點，即，能夠有效地防止收集并再使用的高濃度處理液被稀釋。
根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，在基板通過開口部等時，從噴嘴構(gòu)件噴出 氣體，通過其氣壓能夠防止通過了所述開口部的處理液(霧滴)從濕式處理 室內(nèi)向室外流出。因此，與僅利用閘門裝置開閉開口部的現(xiàn)有裝置相比，能夠更可靠地防止霧滴流出。
根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，在濕式處理室內(nèi)也配置有閘門裝置，并且 霧滴難于附著在濕式處理室外的閘門裝置的閘門主體上，因此在閘門動作時， 能夠有效地防止附著在濕式處理室外的閘門裝置上的霧滴或者干燥物在濕式 處理室的室外側(cè)飛散。
此外，根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，在作為濕式處理室的第一處理室和 第二處理室之間設置有中間室，在所述中間室設置有噴嘴構(gòu)件并朝向?qū)ο箝_ 口部噴出氣體，并且通過排氣裝置對所述中間室進行排氣，因此即使在霧滴 從對象開口部流出的情況下，也能夠?qū)⒃撿F滴從中間室向外部迅速排出，因 此，能夠有效地防止霧滴從第一、第二處理室中的一側(cè)向另一側(cè)侵入。


圖1是表示本發(fā)明的基板處理裝置(第一實施方式)的一個例子的概略 結(jié)構(gòu)圖。
圖2是表示前處理部以及濕式處理部的各閘門裝置的結(jié)構(gòu)的立體圖。 圖3是表示在從前處理部向濕式處理部運送基板時，閘門裝置等的動作 順序的圖。
圖4是表示本發(fā)明的基板處理裝置的其他例子的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖5A、圖5B是表示前處理部以及濕式處理部的各閘門裝置的其他結(jié)構(gòu)
、圖:是表示本發(fā)明的基板處理裝置(第二實施方式)的概略結(jié)構(gòu)圖。
圖7是用于說明在從第一剝離處理室向第二剝離處理室運送基板時，閘 門等的動作順序的圖。
圖8是表示從第一剝離處理室向第二剝離處理室運送基板時的狀態(tài)的圖。
圖9是表示本發(fā)明的基板處理裝置(第三實施方式)的概略結(jié)構(gòu)圖。 圖IO是用于說明在從第一剝離處理室向第二剝離處理室運送基板時，閘 門等的動作順序的圖。
具體實施例方式
利用

本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。 <第一實施方式>
圖1表示本發(fā)明的基板處理裝置的一個例子。該圖所示的基板處理裝置 是一邊運送基板S —邊按預定的順序?qū)錝實施規(guī)定的處理的工藝處理裝 置，該圖示意性地表示其中的一部分。
如圖所示，基板處理裝置具有向基板S供給藥液(處理液)并實施規(guī) 定的藥液處理的濕式處理部2，對基板S實施作為前處理的干式清洗等處理
的前處理部1。各處理部1、 2分別具有箱形的密閉的處理室10、 20。這些處 理室10、 20共有隔壁11并相鄰，并且通過形成在該隔壁11上的用于基板運 送的開口部lla相互連通。開口部lla是寬度方向(與基板S的運送方向垂 直相交的方向，即在該圖中垂直于紙面的方向)呈細長的長方形的形狀，并 且形成為使基板S通過所需的充足的大小。另外，在以下說明中，當稱"上 游側(cè)"、"下游側(cè)"時，都是基于基板S的運送方向。
在各處理室IO、 20的內(nèi)部以規(guī)定間隔配備有多個運送輥5，構(gòu)成為基板 S在這些運送輥5的驅(qū)動下以水平姿態(tài)被運送的結(jié)構(gòu)。
在前處理部1的處理室10 (相當于本發(fā)明的相鄰處理室)的內(nèi)部，如該 圖所示那樣，劃分形成有包圍開口部lla的預備室12。由此，在處理室10 內(nèi)，包括開口部lla的一部分空間與除此之外的空間被隔離開。
在預備室12中與所述隔壁11對置的壁面上形成有基板S的通過口 12a， 成為基板S通過該通過口 12a而通過預備室12的結(jié)構(gòu)。而且，在該預備室 12中，其頂部連通連接有排氣通路12b。該排氣通路12b被導出到處理室10 的外部并與負壓泵13等連接，由此預備室12內(nèi)的環(huán)境成為總是排氣的狀態(tài)。 此外，在該實施方式中，該排氣通路12b以及負壓泵13等相當于本發(fā)明的預 備室排氣裝置。
在預備室12內(nèi)配備有開閉所述開口部lla的閘門裝置14 (相當于本發(fā) 明的第二閘門裝置)。
該閘門裝置14包括用于從前處理部1 一側(cè)開閉開口部lla的閘門主體 15和驅(qū)動該閘門主體15的驅(qū)動機構(gòu)。
閘門主體15具有在寬度方向上細長的平板形狀，而且整體由具有耐藥性 的材料構(gòu)成。驅(qū)動機構(gòu)則以使該閘門主體15沿隔壁11的壁面上下移動的方
式構(gòu)成。具體來說，如圖2所示，具有沿隔壁11引導閘門主體15的引導
件16、設置在該引導件16上的齒條16a、 16b、具備分別與這些齒條16a、 16b嚙合的小齒輪17a、 17b的驅(qū)動軸17、驅(qū)動該驅(qū)動軸17的馬達18等，并 且其結(jié)構(gòu)為，相應于所述驅(qū)動軸17的正反轉(zhuǎn)驅(qū)動，使閘門主體15在關(guān)閉所 述開口部lla的位置(圖1中實線所示的位置)和退避到開口部lla的下方 而打開該開口部lla的位置(圖1中雙點劃線所示的位置)之間移動。另外， 在以下的說明中，將通過閘門主體15而關(guān)閉開口部lla的狀態(tài)稱作閘門裝置 14的"關(guān)閉狀態(tài)"，將閘門主體15退避到開口部lla的下方而打開該開口 部lla的狀態(tài)稱作閘門裝置14的"打開狀態(tài)"。
在處理室10內(nèi)，在預備室12的緊接著的上游側(cè)位置還配備有上下一對 的空氣噴嘴19a、 19b (相當于本發(fā)明的噴嘴構(gòu)件)。這些空氣噴嘴19a、 19b 由具有在寬度方向上連續(xù)或者斷續(xù)延伸的狹縫狀的開口的所謂狹縫噴嘴構(gòu) 成，并且其結(jié)構(gòu)為，能夠?qū)\送中的基板S的上下各面分別從上游側(cè)向下游 側(cè)(也就是說，朝向濕式處理部2—側(cè))沿傾斜方向呈帶狀噴出氣體。在該 實施方式中，噴出將清潔度以及溫度、濕度調(diào)整為規(guī)定級別的所謂的CDA (Clean Dry Air:清潔干燥空氣，以下簡稱為"空氣")。
這些空氣噴嘴19a、 19b經(jīng)由具有電磁閥等的空氣供給管19連接到圖中 未示的空氣供給源，根據(jù)所述電磁閥等的控制在從各空氣噴嘴19a、 19b進行 空氣的噴出和停止空氣的噴出之間進行切換，以及進行空氣噴出量的調(diào)整。 另外，在該實施方式中，空氣噴嘴19a、 19b、空氣供給管19以及空氣供給 源等相當于本發(fā)明的氣流形成裝置。
另一方面，在濕式處理部2的處理室20 (相當于本發(fā)明的濕式處理室) 內(nèi)部，配備有用于對基板S供給藥液的多個液體噴嘴22。這些液體噴嘴22 由將藥液呈霧狀噴出的所謂噴濺噴嘴構(gòu)成，并按規(guī)定的排列配置在運送輥5 的上部。這些液體噴嘴22經(jīng)由具有電磁閥等的藥液供給管23與未圖示的空 氣供給源連接，并且根據(jù)所述電磁閥等的控制在從各液體噴嘴22進行藥液的 噴霧和停止該藥液的噴霧之間進行切換，以及進行藥液噴出量的調(diào)整。
此外，在處理室20內(nèi)，與所述閘門裝置14分開而另外單獨配備有用于 從濕式處理部2 —側(cè)開閉所述開口部lla的閘門裝置24 (相當于本發(fā)明的第 一閘門裝置)。
該閘門裝置24的結(jié)構(gòu)與前處理部1的閘門裝置14的結(jié)構(gòu)相同。S口，包 括用于開閉開口部11a的閘門主體25和驅(qū)動該閘門主體25的驅(qū)動機構(gòu)，并 且能夠在通過閘門主體25而堵塞開口部lla的"關(guān)閉狀態(tài)"和使閘門主體 15退避到開口部lla的下方而打開該開口部lla的"打開狀態(tài)"之間進行切 換(圖1中實線以及雙點劃線所示的狀態(tài))。
另外，上述基板處理裝置具有將CPU等作為構(gòu)成要素的控制器6 (參照 圖2)，設置在排氣通路12b、各供給管19、 23等上的各電磁閥、閘門裝置 14、 24的馬達18等都與該控制器6連接，由此利用該控制器6統(tǒng)一進行控 制。特別是，在從前處理部1向濕式處理部2運送基板S時，通過控制器6 的控制，由閘門裝置14， 24控制的開口部lla的開閉等動作按照圖3所示的 順序進行，由此，防止霧狀的藥液從濕式處理部2向前處理部1侵入。下面 對這一點進行說明。另外，在該實施方式中，該控制器6相當于本發(fā)明的閘 門控制裝置以及氣流形成控制裝置。
在該裝置中，在基板S的處理中，如圖l的實線所示那樣，各處理部l、 2的閘門裝置14、 24被驅(qū)動控制為關(guān)閉狀態(tài)。由此，各處理室IO、 20處于 非連通狀態(tài)，從而防止了基板S的處理過程中在濕式處理部2 —側(cè)產(chǎn)生的霧 狀的藥液(以下僅稱為"霧滴")侵入前處理部1一側(cè)。
若在各處理部1、 2中結(jié)束了對基板S的處理，則濕式處理部2中的基板 S被運送到下一個工序，并且前處理部1中的基板S被運送到濕式處理部2。
此時，在從前處理部1向濕式處理部2運送基板S之際，按圖3所示的 順序進行開口部lla的開閉等動作。
首先，若通過圖中未示的傳感器檢測到連續(xù)運送來的基板S到達了空氣 噴嘴19a、 1%上游側(cè)的規(guī)定位置，則將前處理部1的閘門裝置14切換為打 開狀態(tài)。然后，當該閘門裝置14變成完全打開狀態(tài)時，在將濕式處理部2 的閘門裝置24切換為打開狀態(tài)的同時，開始從空氣噴嘴19a、 19b噴出空氣。
由此，基板S在通過預備室12，并且通過開口部lla而從前處理部1 (處 理部IO)運入濕式處理部2 (處理部20)。
另外，當這樣將開口部lla打開時，存在霧滴從濕式處理部2—側(cè)通過 開口部lla而侵入前處理部1 一側(cè)的情況，但是像上述那樣對預備室12內(nèi)的 環(huán)境進行吸引排氣的結(jié)果是，通過排氣通路12b將該霧滴導出。此外，在基
板S通過預備室12的過程中，利用從空氣噴嘴19a、 19b排出的空氣，沿基 板S的上下兩個面形成從上游側(cè)向下游側(cè)的氣流，其結(jié)果，防止霧滴通過開 口部lla而侵入到處理室10內(nèi)，以及防止霧滴通過了通過口 12a而向上游側(cè) 流動。因此，霧滴不會從預備室12侵入到上游側(cè)，由此能夠防止霧滴實質(zhì)的 侵入前處理部1內(nèi)。
當繼續(xù)運送基板S從而基板S完全運入到濕式處理部2的處理室20內(nèi) 時，按照與上述順序相反的順序關(guān)閉開口部lla。 g卩，在將濕式處理部2的 閘門裝置24切換到關(guān)閉狀態(tài)的同時，停止從空氣噴嘴19a、 19b噴出空氣， 其后，將前處理部l的閘門裝置14切換到關(guān)閉狀態(tài)。由此以后，在各處理部 1、 2中分別開始進行基板S的處理。
根據(jù)以上的基板處理裝置，在前處理部1的處理室10內(nèi)部劃分形成有包 圍開口部lla的預備室12，對該預備室12的環(huán)境進行吸引排氣，并且在該 預備室12的緊接著的上游側(cè)配備有空氣噴嘴19a、 19b，在開口部lla的開 放中，利用從空氣噴嘴19a、 19b噴出的空氣，沿基板S的上下兩個面形成氣 流。
因此，能夠有效地防止霧滴通過開口部lla而侵入(流出)到處理室IO 內(nèi)或者霧滴通過了通過口 12a而向上游側(cè)流出，此外，即使在霧滴通過了開 口部lla而侵入到預備室12內(nèi)的情況下，該霧滴也會迅速通過排氣通路12b 而被排出到外部。因此，能夠有效地防止霧滴從濕式處理部2實質(zhì)的侵入前 處理部1。
此外，在該基板處理裝置中，不僅僅在前處理部1的處理室10內(nèi)設置有 閘門裝置，還在濕式處理部2內(nèi)也設置了閘門裝置24，并且利用閘門主體25 從濕式處理部2 —側(cè)也開閉開口部lla，由此能有效防止霧滴附著在前處理 部1 一側(cè)的閘門主體15上。也就是說，能夠有效地防止在開口部lla處于關(guān) 閉狀態(tài)時霧滴附著于前處理部1 一側(cè)的閘門主體15上。
特別是，在該裝置中，如圖3所示，在打開開口部lla時，首先將前處 理部1 一側(cè)的閘門裝置14切換到打開狀態(tài)，之后將濕式處理部2 —側(cè)的閘門 裝置24切換到打開狀態(tài)，另一方面，在關(guān)閉開口部lla時，首先將濕式處理 部2 —側(cè)的閘門裝置24切換到關(guān)閉狀態(tài)，之后將前處理部1 一側(cè)的閘門裝置 14切換到關(guān)閉狀態(tài)，因此，不存在前處理部1 一側(cè)的閘門主體15單獨堵塞
開口部lla的狀態(tài)。因此，能夠有效地防止霧滴附著于前處理部1 一側(cè)的閘
門主體15上。
而且，如上所述，各閘門裝置14、 24由于是通過使閘門主體15、 25沿 隔壁11上下滑動來開閉開口部lla的結(jié)構(gòu)，所以閘門主體不會像可倒式閘門 裝置那樣大幅擺動，因此，即使霧滴附著在閘門主體15、 25上，也很難伴隨 開閉動作而引起霧滴的飛散。
因此，減少發(fā)生在打開開口部lla時附著在閘門主體15上的霧滴飛散到 前處理部1的處理室10內(nèi)的情況，其結(jié)果，有效地防止了霧滴從濕式處理部 2侵入前處理部1。
另外，在上述的基板處理裝置中，作為具體的結(jié)構(gòu)，可以采用以下的結(jié)構(gòu)。
例如，在該實施方式中，雖然針對為了防止霧滴從濕式處理部2侵入前 處理部1而采用本發(fā)明的例子進行了說明，但是也可以將本發(fā)明應用到濕式 處理部2與后處理部之間的關(guān)系之中。例如，圖4表示了其中一個例子。
在該裝置中，在濕式處理部2的處理室20與后處理部3的處理室30之 間的隔壁11'(交界壁)上形成有基板運送用的開口部lla'，并且通過該開口 部lla'從濕式處理部2—側(cè)向后處理部3—側(cè)運送基板S。如該圖所示，在 濕式處理部2的處理室20內(nèi)配備有閘門裝置24'(相當于本發(fā)明的第一閘門 裝置)，在后處理部3的處理室30內(nèi)配備有閘門裝置14'(相當于本發(fā)明的 第二閘門裝置)。這些閘門裝置14'、 24'的結(jié)構(gòu)與上述實施方式的閘門裝置 14、 24相同。此外，在后處理部3的處理室30內(nèi)設置有包圍開口部lla'的 預備室12'，并且通過排氣通路12b'對預備室12'進行吸引排氣。此外，在預 備室12'(通過口 12a')的緊接著的下游側(cè)配備有空氣噴嘴19a'、 19b'，在運 送基板S的過程中，通過空氣噴嘴19a'、 1%'所噴出的空氣而沿著基板S的 上下各面形成朝向濕式處理部2—側(cè)流動的氣流。另外，閘門裝置14'、 24' 等的驅(qū)動控制是以將圖3中的前處理部1的閘門裝置14的動作置換為后處理 部3的閘門裝置14'的動作的順序來進行的。
根據(jù)如圖4所示的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)，能夠有效地防止霧滴從濕式處 理部2 —側(cè)侵入后處理部3 —側(cè)，并且能夠起到與上述實施方式同樣的作用 效果。
此外，在上述實施方式的閘門裝置14、 24中，適用由齒條和小齒輪構(gòu)成 的驅(qū)動機構(gòu)，使閘門主體15、 25沿隔壁11滑動，但是閘門主體15、 25的驅(qū) 動機構(gòu)也可以是其他結(jié)構(gòu)。例如，也可以是如下的結(jié)構(gòu)，即，向閘門主體15、 25螺合插入沿上下方向延伸的螺旋軸，隨著該螺旋軸的旋轉(zhuǎn)使閘門主體15、 25沿上下方向移動。
而且，閘門裝置14、 24不僅限于如上述實施方式那樣的閘門主體15、 25沿隔壁11滑動的裝置，也可以是例如圖5A所示那樣的裝置。如該圖所示 的閘門裝置14 (24)具有在一部分上具備與開口部lla的大小大致相等的開 口 15a (25a)的閘門主體15 (25)。該閘門主體15支承在通過平行連桿32、 32而分別固定在隔壁11上的支架31上。在平行連桿32、 32中的一個上一 體地固定有驅(qū)動用連桿34，在該連桿34的前端連結(jié)著空氣氣缸36的活塞桿 36a。并且，在空氣氣缸36的活塞桿處于突出的驅(qū)動狀態(tài)，如該圖所示那樣， 在開口部lla和開口 15a上下錯位的狀態(tài)下閘門主體15與隔壁11緊密接觸， 由此，開口部lla由閘門主體15關(guān)閉，另一方面，在空氣氣缸36的活塞桿 被拉入的驅(qū)動狀態(tài)下，如圖5B所示那樣，閘門主體15向著遠離隔壁11的 方向平行移動，由此打開開口部lla。然后，在開口部lla處于打開的狀態(tài) 下，閘門主體15的開口 15a與所述開口部lla在基板運送方向上并排著，由 此能夠通過開口 15a運送基板S。根據(jù)這種閘門裝置14、 24的結(jié)構(gòu)，以保持 閘門主體15、 25的姿態(tài)的狀態(tài)進行開口部lla的開閉，因此與上述實施方式 的閘門裝置14等相同，在動作中霧滴很難發(fā)生飛散，因此，能夠有效地防止 伴隨該飛散而霧滴侵入前處理部1內(nèi)。
另外，本發(fā)明中，作為閘門裝置14、 24的具體結(jié)構(gòu)，并不是排除了現(xiàn)有 的可倒式裝置的結(jié)構(gòu)，但與使閘門主體滑動或者平行移動的結(jié)構(gòu)相比，可倒 式的閘門結(jié)構(gòu)使霧滴更容易飛散，因此，就防止在閘門動作時霧滴飛散的方 面來說，優(yōu)選采用如上述實施方式等那樣使閘門主體15、 25滑動或者平行移 動的結(jié)構(gòu)。
此外，在上述實施方式和圖4的例子中，在前處理部1和后處理部3設 置有預備室12、 12'，但這是為了向外部迅速地排出從開口部lla、 lla'侵入 的霧滴而所作的設計，并且，例如在濕式處理部2內(nèi)產(chǎn)生的霧滴少且霧滴難 以侵入前處理部1和后處理部3內(nèi)的情況下，也可以省略預備室12、 12'以及
排氣通路12b、 12b'等結(jié)構(gòu)，而且也可以在開口部lla、 lla'的緊接著的附近 配置空氣噴嘴19a、 19b、 19a'、 19b'。
此外，在上述實施方式以及圖4中，雖然針對將本發(fā)明適用于前處理部 1或后處理部3與濕式處理部2相鄰的基板處理裝置的例子進行了說明，但 是本發(fā)明也可以適用于前處理部1或后處理部3不與濕式處理部2相鄰的裝 置。即，本發(fā)明也可適用于如下的基板處理裝置，S卩在濕式處理部的上游 側(cè)以及下游側(cè)僅設置有運送輥，并且在運送基板S的同時在濕式處理部中進 行處理，進而在其前后僅運送基板S的基板處理裝置；在濕式處理部的隔壁 上設置一個基板運入運出兼用的開口部，通過驅(qū)動運送輥來運送基板S的同 時將基板S從所述開口部運送到濕式處理部內(nèi)，并進行規(guī)定的處理之后，反 轉(zhuǎn)驅(qū)動運送輥而將基板S從所述開口部運出的基板處理裝置。此外，當然， 本發(fā)明也可以適用于雖然前處理部或后處理部與濕式處理部相鄰，但是根據(jù) 基板的種類而在前處理部或后處理部不進行基板的處理而僅使其通過的基板 處理裝置。
<第二實施方式>
圖6表示第二實施方式的基板處理裝置。
該圖所示的基板處理裝置是一邊運送基板S —邊按預定順序?qū)錝實 施規(guī)定處理的工藝處理裝置的一部分，具體來說示意性地表示將形成在基板 S上的抗蝕膜剝離的工序的結(jié)構(gòu)。
如該圖所示，基板處理裝置包括向基板S供給剝離液(處理液)而實 施剝離處理的第一剝離處理室51 (相當于本發(fā)明的第一處理室)以及第二剝 離處理室53 (相當于本發(fā)明的第二處理室)、設置在這些處理室51、 53之 間的中間室52。第一剝離處理室51和中間室52共用隔壁61并相鄰，中間 室52和第二剝離處理室53共用隔壁63并相鄰，并且通過形成在該隔壁61、 63上的用于基板運送的開口部61a、 63a (分別相當于本發(fā)明的第一開口部、 第二開口部)而相互連通。各開口部61a、 63a是沿寬度方向(與基板S垂直 相交的方向，在圖中為與紙面垂直的方向)細長的長方形形狀，形成為基板 S通過所需的足夠大小。
在各處理室51、 53以及中間室52的內(nèi)部，以規(guī)定間隔配備有多個運送 輥5，通過這些運送輥5的驅(qū)動，沿著由該輥5構(gòu)成的運送路徑將基板S以
水平姿態(tài)向圖中箭頭方向運送。
在各處理室51、53的內(nèi)部分別設置有用于向基板S供給剝離液的多個液 體噴嘴70、 80。各液體噴嘴70、 80由將剝離液以噴霧的形式噴出的所謂噴 濺噴嘴構(gòu)成，而且都以規(guī)定排列配置在運送輥5的上方位置。
第一剝離處理室51的液體噴嘴70經(jīng)由第一液體供給管71與第一液體罐 73連接，并且通過設置在第一液體供給管71上的泵72的驅(qū)動以及未圖示的 電磁閥等的控制，能夠從所述第一液體罐73接收剝離液的供給從而向基板S 上供給剝離液。另一方面，第二剝離處理室53的液體噴嘴80經(jīng)由第二液體 供給管81與第二液體罐83連接，通過設置在第二液體供給管81上的泵82 的驅(qū)動以及未圖示的電磁閥等的控制，能夠從所述第二液體罐83接收剝離液 的供給從而向基板S上供給剝離液。g卩，各液體罐73、 83分別收容有不同濃 度的相同種類的剝離液，具體來說，在第一液體罐73收容有高濃度的剝離液， 由此，在各處理室51、 53中分別利用不同濃度的剝離液對基板S進行剝離處 理。
在第一剝離處理室51中，在所述隔壁61的附近，配置有用于伴隨基板 S的運出而除去剝離液的上下一對氣刀74、 74。各氣刀74、 74由具有沿上述 運送路徑的寬度方向細長且在長度方向上連續(xù)延伸的細長的噴出口的狹縫噴 嘴構(gòu)成，在所述運送路徑的上下兩側(cè)，分別以使噴出口位于所述運送路徑一 側(cè)且稍朝向上游側(cè)的方式配置各氣刀74、 74。各氣刀74、 74經(jīng)由空氣供給 管76與未圖示的空氣供給源連接，通過操作未圖示的電磁閥等，能夠從所述 空氣供給源接收規(guī)定流量的空氣的供給并向基板S噴出該空氣。
另外，在第一剝離處理室51中設置有開閉所述開口部61a的閘門裝置 75，在第二剝離處理室53中設置有開閉所述開口部63a的閘門裝置85。這 些閘門裝置75、 85整體分別由具有耐藥性的材料構(gòu)成，并且具有形成為在寬 度方向上細長的平板形狀的閘門主體75a、 85a和分別驅(qū)動閘門主體75a、 85a 的將馬達作為驅(qū)動源的驅(qū)動機構(gòu)，通過利用該驅(qū)動機構(gòu)使閘門主體75a、 85a 分別沿隔壁61、 63的壁面上下移動，從而能夠開閉所述開口部61a、 63a。 另外，雖然省略了圖示，但是作為驅(qū)動機構(gòu)，例如可適用與第一實施方式的 所述閘門裝置14、 24相同的機構(gòu)。
所述中間室52，如該圖所示，通過具有基板運送用的開口部62a的分隔
壁62而被分為上游側(cè)的噴嘴室52a和下游側(cè)的排氣室52b。
在噴嘴室52a設有上下一對的氣刀86、 86 (噴嘴構(gòu)件)，這些氣刀86、 86隔著所述運送路徑配置。各氣刀86、 86經(jīng)由空氣供給管87與所述空氣供 給源連接，通過操作未圖示的電磁閥等，能夠從所述空氣供給源接收規(guī)定流 量的空氣的供給并將該空氣噴到基板S上。各氣刀86、 86由與配置在第一剝 離處理室51中的狹縫噴嘴大致相同的狹縫噴嘴構(gòu)成，而且分別以使噴出口位 于所述運送路徑一側(cè)且稍朝向下游側(cè)的方式配置。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，從氣刀86、 86噴出的空氣通過所述開口部62a向第二剝離處理室53 —側(cè)、即向開口部 63a —側(cè)噴出，在運送基板S的過程中，沿該基板S的上下兩個面形成向第 二剝離處理室53 —側(cè)流動的氣流。另外，在該實施方式中，這些氣刀86、 86、空氣供給管87以及空氣供給源相當于本發(fā)明的氣流形成裝置。
另一方面，在排氣室52b的頂部連接有排氣管91。該排氣管91經(jīng)由未 圖示的過濾器以及電磁閥等與負壓泵92連接，由此，能夠通過形成在排氣室 52b的頂部面上的排氣口 90排出中間室52內(nèi)的環(huán)境氣體。另外，在該實施 方式中，該排氣口90、排氣管91以及負壓泵92等相當于本發(fā)明的中間室排 氣裝置。
在排氣室52b還設置有從中間室52 —側(cè)開閉所述開口部63a的閘門裝置 88。該閘門裝置88的結(jié)構(gòu)與所述閘門裝置75、 85大致相同，通過閘門主體 88a沿隔壁63在中間室52 —側(cè)的壁面上下移動，能夠從中間室52 —側(cè)開閉 所述開口部63a。另外，在該實施方式中，該閘門裝置75、 85、 88相當于本 發(fā)明的閘門裝置。
在所述液體供給管71、 81、空氣供給管76、 87以及排氣管91上設置的 各電磁閥，以及所述閘門裝置75、 85、 88的各驅(qū)動機構(gòu)的馬達等都與作為驅(qū) 動控制裝置的控制器6電連接，通過該控制器6進行統(tǒng)一控制。并且，在運 送基板時，通過所述控制器6的控制，由所述閘門裝置75、 85、 88控制的所 述開口部61a、 63a的開閉、空氣的噴出等按照如圖7所示的順序?qū)嵤纱?防止霧狀剝離液(以下簡稱"霧滴")從第二剝離處理室53侵入第一剝離處 理室51。以下，對這一點進行說明。
在該裝置中，在處理基板S的過程中，如圖6的實線所示那樣，通過各 閘門裝置75、 85、 88關(guān)閉開口部61a、 63a，由此第一剝離處理室51、中間
室52以及第二剝離處理室53處于非連通的狀態(tài)，從而能夠防止在各處理部 51、 53中產(chǎn)生的霧滴向外部擴散。另外，中間室52 (排氣室52b)通過所述 排氣口 90總是處于被排氣的狀態(tài)。
在各處理室51、 53中結(jié)束了對基板S的處理時，將第二剝離處理室53 的基板S運出到下一個工序，并且第一剝離處理室51的基板S通過中間室 52并被運送到第二剝離處理室53。在從該第一剝離處理室51向第二剝離處 理室53運送基板S時，按照圖7所示的順序開閉開口部61a、 63a等。
首先，在第一剝離處理室51中基板S被運送到規(guī)定的位置，當通過未圖 示的傳感器檢測到基板S的前端時，氣刀74、 74開始噴出空氣，并且閘門裝 置75動作而打開開口部61a，由此，基板S通過開口部61a而從第一剝離處 理室51運出，并且伴隨著該運出，利用從氣刀74、 74噴出的空氣除去基板 S上的剝離液等。
然后，在中間室52 (噴嘴室52a)，氣刀86、 86開始噴出空氣之后，中 間室52 —側(cè)的閘門裝置88與第二剝離處理室53 —側(cè)的閘門裝置85按順序 動作，由此打開所述開口部63a，這樣，基板S通過中間室52并且被運入第 二剝離處理室53。此時，若從氣刀86、 86開始噴出空氣，則該空氣通過形 成在分隔壁62上的開口部62a被吹向開口部63a，由此抑制霧滴從第二剝離 處理室53流出。然后，如圖8所示，在基板S通過開口部63a運送到第二剝 離處理室53內(nèi)的期間，通過從氣刀86、 86噴出的空氣，沿基板S的上下兩 面形成向下游側(cè)流動的氣流(圖中的實線箭頭)，該氣流通過開口部63a流 入第二剝離處理室53內(nèi)，從而防止霧滴從第二剝離處理室53流出。另外， 在開口部63a打開的期間，雖然一些霧滴會從第二剝離處理室53向中間室 52流出，但是通過排氣室52b內(nèi)的排氣作用，將這樣的霧滴通過排氣口 90 排出到外部(參照圖8中的虛線箭頭)，由此防止霧滴從中間室52流出即防 止霧滴侵入第一剝離處理室51。
這樣在運送基板S的過程中，當從第一剝離處理室51運出基板S時，停 止從氣刀74、 74噴出空氣，同時閘門裝置75動作，關(guān)閉開口部61a。然后， 繼續(xù)運送基板S，當完成了將基板S運入第二剝離處理室53的動作時，艮口， 若通過配置在第二剝離處理室53內(nèi)的未圖示的傳感器檢測到基板S的后端 時，通過第二剝離處理室53 —側(cè)的閘門裝置85的動作而關(guān)閉開口部63a，
其后，中間室52—側(cè)的閘門裝置88動作并定位到關(guān)閉位置，同時所述氣刀 86、 86停止噴出空氣。由此，在各處理室51、 53中分別開始對基板S進行 處理。
如上所述，在第二實施方式的基板處理裝置中，由于在第一剝離處理室 51和第二剝離處理室53之間設置了中間室52，在開口部63a打開的期間， 通過設置在中間室52的氣刀86、 86向所述開口部63a噴出空氣，從而能夠 有效防止霧滴從第二剝離處理室53流出，而且，即使在假設霧滴從第二剝離 處理室53通過開口部63a而流到中間室52的情況下，該霧滴也會從中間室 52被排出到外部，從而能夠防止其侵入第一剝離處理室51。從而，能夠防止 發(fā)生如下的不良現(xiàn)象，即，第二剝離處理室53所產(chǎn)生的低濃度的霧滴侵入第 一剝離處理室51，由此稀釋了第一剝離處理室51的高濃度的剝離液，進而 能夠影響到第一剝離處理室51的處理。
特別是，在該基板處理裝置中，通過在中間室52內(nèi)設置分隔壁62，將 中間室52分為上游側(cè)的噴嘴室52a和下游側(cè)的排氣室52b，使空氣從噴嘴室 52a —側(cè)通過開口部62a噴出，同時對排氣室52b內(nèi)進行排氣，由于是這樣 的結(jié)構(gòu)，所以能夠通過分隔壁62更有效地阻止從第二剝離處理室53流出的 霧滴向上游側(cè)擴散，其結(jié)果是能夠高效地防止霧滴侵入第一剝離處理室51。
<第三實施方式>
圖9表示第三實施方式的基板處理裝置的一個例子。
第三實施方式的基板處理裝置是上述第二實施方式的變形例，并且適用 于在第二剝離處理室53中使用比第一剝離處理室51的剝離液濃度高的情況。 另外，該基板處理裝置的基本結(jié)構(gòu)與第二實施方式相同，所以對與第二實施 方式相同的部分標注相同的附圖標記并省略其說明，下面，對與第二實施方 式的不同點進行說明。
如該圖所示，在該處理槽裝置中，在中間室52的上游側(cè)設置了排氣室 52b，同時在下游側(cè)設置了噴嘴室52a，并且將氣刀86、 86分別以使噴出口 位于所述運送路徑一側(cè)且稍朝向上游側(cè)的方式配置。而且，在排氣室52b設 置有閘門裝置89，該閘門裝置89從中間室52 —側(cè)開閉所述隔壁61的開口 部61a。該閘門裝置89的結(jié)構(gòu)與所述閘門裝置75、 85大致相同，通過使閘 門主體89a沿隔壁61的位于中間室52 —側(cè)的壁面上下移動，能夠從中間室
52—側(cè)開閉所述開口部61a。另外，在該裝置中，沒有設置從中間室52—側(cè) 將隔壁63的開口部63a開閉的所述閘門裝置88。
在該裝置中，在從第一剝離處理室51向第二剝離處理室53運送基板S 時，基于上述控制器6的控制，按照圖10所示的順序進行開口部61a、 63a
的開閉等動作。
首先，在第一剝離處理室51中，當基板S運送到規(guī)定位置時，在氣刀 74、 74開始噴出空氣的同時，中間室52—側(cè)的閘門裝置89進行動作，將該 閘門主體89a定位到可以打開開口部61a的位置(此時開口部61a由閘門裝 置75關(guān)閉)。接著，氣刀86、 86開始噴出空氣，然后，通過閘門裝置75 動作而打開開口部61a，進而通過閘門裝置85動作而打開開口部63a。由此， 基板S通過開口部61a而從第一剝離處理室51被運出，伴隨該運出，通過從 氣刀74、 74噴出的空氣而除去基板S上的剝離液等。此時，當氣刀86、 86 開始噴出空氣時，該空氣通過在分隔壁62上所形成的開口部62a而吹向開口 部61a，由此能夠抑制霧滴從第一剝離處理室51流出。并且，在基板S通過 開口部61a而從第一剝離處理室51被運出的期間，由從氣刀86、 86噴出的 空氣形成沿基板S的上下兩個面向上游側(cè)流動的氣流，該氣流通過開口部61a 進入第一剝離處理室51內(nèi)，從而防止霧滴從第一剝離處理室51流出。另外， 在開口部61a處于開放的期間，雖然一些霧滴可能會從第一剝離處理室51向 中間室52流出，但是該霧滴在排氣室52b內(nèi)的排氣作用下通過排氣口 90排 出到外部，由此防止霧滴從中間室52流出，即防止霧滴侵入第二剝離處理室 53。
這樣繼續(xù)運送基板S，當從第一剝離處理室51運出基板S時，通過第一 剝離處理室51 —側(cè)的閘門裝置75動作而關(guān)閉開口部61a，同時停止從氣刀 74、 74噴出空氣，進而中間室52—側(cè)的閘門裝置89動作而置于關(guān)閉位置。 然后，基板S繼續(xù)被運送，當完成了將基板S運入第二剝離處理室53的動作 時，閘門裝置85動作而關(guān)閉開口部63a，同時氣刀86、 86停止噴出空氣。
根據(jù)這種第三實施方式的基板處理裝置，由于從設置在中間室52的氣刀 86、 86朝向開口部61a噴出空氣，所以能夠有效地防止霧滴從第一剝離處理 室51流出，并且，即使在假設霧滴從第一剝離處理室51通過開口部61a流 到中間室52的情況下，該霧滴也會從中間室52被排出到外部，從而防止了其侵入第二剝離處理室53。因此，根據(jù)該裝置能夠防止發(fā)生如下的情況，即
在第一剝離處理室51產(chǎn)生的低濃度的霧滴侵入第二剝離處理室53，進而稀 釋該第二剝離處理室53的剝離液，由此影響在第二剝離處理室53中的剝離 處理。
另外，作為上述第二、第三實施方式的基板處理裝置的具體結(jié)構(gòu)也可以 采用如下的結(jié)構(gòu)。
例如，在第二、第三實施方式中，通過在中間室52設置分隔壁62，將 其內(nèi)部分為噴嘴室52a和排氣室52b，但是也可以省略分隔壁62?？墒?，如 果適用設置了分隔壁62的結(jié)構(gòu)，如上所述，即使在低濃度的霧滴流出到中間 室52內(nèi)的情況下，也能夠有效地阻止該霧滴向使用高濃度的剝離液的處理室 一側(cè)擴散。因此，能夠更可靠地防止低濃度的霧滴向高濃度一側(cè)的剝離處理 室侵入，從這點來看優(yōu)選設置分隔壁62。
此外，第二實施方式的基板處理裝置例如還具有對第一剝離處理室51進 行排氣的排氣裝置(相當于本發(fā)明的處理室排氣裝置)和收集包含在該排氣 裝置所排出的氣體中的霧滴(高濃度霧滴)的收集裝置(相當于本發(fā)明的收 集裝置)，并且也可以將收集到的霧滴回收到液體罐73中進行再使用。也就 是說，在收集并再使用霧滴的情況下，如果低濃度的霧滴侵入第一剝離處理 室51，由于低濃度的霧滴也被收集裝置所收集，所以剝離液容易被稀釋。針 對這一點，如果采用圖6所示的裝置結(jié)構(gòu)，則能夠有效防止低濃度的霧滴侵 入第一剝離處理室51，因此，特別適合于將高濃度的霧滴收集并再使用的上 述這樣的裝置。另外，這一點在下述情況下也是相同的，即，針對第三實施 方式的基板處理裝置，在第二剝離處理室53中收集并再使用高濃度的霧滴。
此外，在第二、第三實施方式中，對分別使用濃度不同的相同種類的處 理液在各處理室51、 53中實施剝離處理的基板處理裝置進行了說明，但是本 發(fā)明不僅限于此。例如，也可以適用于分別使用不同濃度的蝕刻液在各處理 室對基板實施蝕刻處理的基板處理裝置。另外，除了像這樣在各處理室使用 濃度相互不同的相同種類的處理液以外，使用性質(zhì)(屬性，主要是成為對象 的處理)相互共通而種類不同的處理液的裝置、使用性質(zhì)(屬性)相互不同 的處理液的裝置、例如在上游側(cè)的處理室使用剝離液來進行剝離處理而在下 游側(cè)的處理室使用純水進行清洗處理這樣的裝置中，當然也適用本發(fā)明。
另外，在上述的第一 第三實施方式中，對將基板S以水平姿態(tài)運送， 并對該基板S實施處理的情況進行了說明，但是，本發(fā)明當然也可以適用于 將基板S以傾斜姿態(tài)(例如在與基板的運送方向垂直相交的方向上，從一側(cè)
向另一側(cè)傾斜的姿態(tài))運送并對該基板s實施處理的裝置。
權(quán)利要求
1. 一種基板處理裝置，具有向基板供給處理液并對基板實施規(guī)定的濕式處理的濕式處理室，通過形成在所述濕式處理室的隔壁上的基板運送用的開口部，對所述濕式處理室進行基板的運入運出，其特征在于，具有閘門裝置，其用于開閉所述開口部；氣流形成裝置，其包括配置在所述濕式處理室的室外的噴嘴構(gòu)件，并且至少在所述開口部處于開口狀態(tài)時，使氣體從所述噴嘴構(gòu)件噴出，由此形成朝向所述開口部的氣流。
2. 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，作為所述閘門裝置具有第一閘門裝置和第二閘門裝置，所述第一閘門裝 置具有從所述濕式處理室的室內(nèi)一側(cè)開閉所述開口部的閘門主體，所述第二 閘門裝置具有從所述濕式處理室的室外一側(cè)開閉所述開口部的閘門主體，所述氣流形成裝置從所述噴嘴構(gòu)件向通過所述開口部的基板供給氣體， 由此在該基板的表面上形成從濕式處理室的室外一側(cè)向室內(nèi)一側(cè)流動的氣流。
3. 如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 具有相鄰處理室，所述相鄰處理室經(jīng)由所述開口部而與所述濕式處理室連通，并且對基板實施所述濕式處理的前處理或者后處理；在該相鄰處理室 配置有所述第二閘門裝置以及所述噴嘴構(gòu)件。
4. 如權(quán)利要求2或3所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有閘門控制裝置，所述閘門控制裝置在通過所述閘門主體關(guān)閉所述 開口部的關(guān)閉狀態(tài)和通過使所述閘門主體退避到規(guī)定的退避位置而打開所述 開口部的打開狀態(tài)之間切換控制所述各閘門裝置的驅(qū)動狀態(tài)，所述閘門控制裝置在基板通過所述開口部時，在將所述第一閘門裝置從 關(guān)閉狀態(tài)切換到打開狀態(tài)之前，將所述第二閘門裝置從關(guān)閉狀態(tài)切換到打開 狀態(tài)。
5. 如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有控制所述氣流形成裝置的氣流形成控制裝置，所述氣流形成控制裝置與第一閘門裝置從關(guān)閉狀態(tài)向打開狀態(tài)切換的動作同步而開始供給氣 體。
6. 如權(quán)利要求2或3所述的基板處理裝置，其特征在于，所述各閘門裝置中的至少第二閘門裝置構(gòu)成為通過使所述閘門主體沿所 述隔壁的壁面滑動來開閉所述開口部的結(jié)構(gòu)。
7. 如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，所述相鄰處理室還具有在該處理室內(nèi)以包圍所述開口部的附近的方式形成的預備室；對預備室內(nèi)的環(huán)境進行排氣的預備室排氣裝置。
8. 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 作為所述濕式處理室具有在基板運送方向上并列的第一處理室以及第二處理室，在各處理室中使用相互不同的處理液對基板按順序?qū)嵤┮?guī)定的濕式 處理，并且所述相互不同的處理液之間的關(guān)系是要求在處理基板時抑制在其 中一種處理液中混入另一種處理液的情況的關(guān)系，在所述第一處理室和所述第二處理室之間設置有中間室，作為所述開口 部，在所述第一處理室和中間室的隔壁上設置有第一開口部，在所述中間室 和第二處理室的隔壁上設置有第二開口部，并且作為所述閘門裝置設置有分 別開閉所述第一、第二開口部的閘門裝置，所述氣流形成裝置構(gòu)成為，在所述中間室具有所述噴嘴構(gòu)件，通過使氣 體從所述噴嘴構(gòu)件噴出，從而形成朝向?qū)ο箝_口部的氣流，所述對象開口部 是所述第一開口部以及第二開口部中的一個開口部，并且將位于使用所述另 一種處理液的處理室與中間室之間的開口部作為該對象開口部，還設置有中間室排氣裝置，所述中間室排氣裝置在所述氣流形成裝置的 所述噴嘴構(gòu)件與所述對象開口部之間的位置處具有排氣口 ，并通過所述排氣 口對所述中間室進行排氣。
9. 如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于， 通過在所述中間室設置分隔壁，將所述中間室的內(nèi)部分隔為含有所述噴嘴構(gòu)件的噴嘴室和含有所述對象開口部以及排氣口的排氣室，并且所述噴嘴 構(gòu)件通過設置在所述分隔壁上的基板運送用的開口部而向所述排氣室一側(cè)噴 出氣體。
10. 如權(quán)利要求8或9所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述氣流形成裝置從所述噴嘴構(gòu)件向通過所述對象開口部的基板供給氣體，由此形成沿著所述基板表面從所述中間室一側(cè)向處理室一側(cè)流動的氣流。
11. 如權(quán)利要求8或9所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述相互不同的處理液是濃度不同的相同種類的處理液，并且高濃度的處理液在所述第一處理室中使用，所述噴嘴構(gòu)件將所述第二開口部作為所述 對象開口部而向該開口部噴出氣體。
12. 如權(quán)利要求ll所述的基板處理裝置，其特征在于，具有對所述第一處理室內(nèi)進行排氣的處理室排氣裝置；為了再使用所述排氣中所包含的霧滴而收集該霧滴的收集裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，能更可靠地防止處理液(霧滴)侵入相鄰的處理室。該基板處理裝置具有對基板(S)實施藥液處理的濕式處理部(2)和對基板(S)實施作為前處理的干式清洗等處理的前處理部(1)。各處理部(1、2)的處理室(10、20)經(jīng)由開口部(11a)而連通，該開口部(11a)可通過設置在前處理部(1)一側(cè)的閘門裝置(14)和設置在濕式處理部(2)一側(cè)的閘門裝置(24)進行開閉。此外，在前處理部(1)的處理室(10)內(nèi)配備有在開口部(11a)處于打開狀態(tài)時對開口部(11a)向濕式處理部(2)一側(cè)噴出空氣的空氣噴嘴(19a、19b)。
文檔編號H01L21/00GK101378001SQ20081012489
公開日2009年3月4日 申請日期2008年6月25日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月28日
發(fā)明者上代和男, 松井久明 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社