專(zhuān)利名稱(chēng)：基板搬運(yùn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明系有關(guān)于一種將電子電路基板等的基板進(jìn)行預(yù)備位置決定
(pre-alignment)且從搬入臺(tái)搬運(yùn)至曝光臺(tái)的基板搬運(yùn)裝置。
背景技術(shù)：
習(xí)知，在電子電路基板等的基板曝光所定的圖案時(shí)，藉由曝光裝置 將基板從搬入位置(搬入臺(tái))搬運(yùn)至曝光位置(曝光臺(tái))時(shí)，例如，以下所示 般的搬運(yùn)裝置被使用(例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)l)。此搬運(yùn)裝置系，將被載置于搬 入位置的基板的上面藉由吸著保持部吸著保持，將吸著保持部沿著移動(dòng) 軌道移動(dòng)至曝光位置，藉由交付被保持在吸著保持部的基板至曝光位置， 而進(jìn)行基板的搬運(yùn)。
又，基板被投入至搬入位置后，對(duì)此基板進(jìn)行預(yù)備位置決定(預(yù)對(duì)準(zhǔn) [pre-alignment])的搬運(yùn)裝置被揭露(例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)2)。此搬運(yùn)裝置系包 括搬運(yùn)滾子，載置基板而在搬運(yùn)方向移動(dòng)；以及定心單元，在上述搬 運(yùn)滾子之間，具有將該搬運(yùn)滾子上的基板的端面押動(dòng)于X方向和Y方向 的銷(xiāo)。
又，有關(guān)對(duì)于被搬運(yùn)至曝光位置的基板進(jìn)行預(yù)備位置決定的裝置也 被提出(例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)3)。此裝置系包括曝光桌，將基板在曝光位置 載置；光學(xué)傳感器，量測(cè)被載置于此曝光桌上的基板的位置；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)， 基于藉由此光學(xué)傳感器被量測(cè)的基板的位置，將上述曝光桌在和光罩整 合之前移動(dòng)至整合位置。因此，在進(jìn)行基板預(yù)備位置決定時(shí)，基板不和 其它構(gòu)件接觸摩擦。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平06-345279號(hào)公報(bào)
專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)平06-348025號(hào)公報(bào)
專(zhuān)利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)平05-326361號(hào)公報(bào)然而，有關(guān)在習(xí)知的搬入臺(tái)和曝光臺(tái)中的基板的搬運(yùn)路徑中、將預(yù) 備位置決定和搬運(yùn)一同進(jìn)行的上述技術(shù)，存在以下所示般的問(wèn)題點(diǎn)。
將基板的預(yù)備位置決定在曝光臺(tái)進(jìn)行的構(gòu)成中，由于基板的位置不 在容許范圍的話無(wú)法進(jìn)行下一作業(yè)，所以在搬入臺(tái)側(cè)進(jìn)行系所希望。
又，在搬入臺(tái)進(jìn)行基板的預(yù)備位置決定的構(gòu)成中，由于被設(shè)置為在 搬運(yùn)滾子下方設(shè)置的銷(xiāo)從搬運(yùn)滾子之間突出的預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)的構(gòu) 成，對(duì)應(yīng)于基板將基板押動(dòng)的銷(xiāo)的設(shè)置位置的調(diào)整是費(fèi)事的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明系有鑒于上述問(wèn)題點(diǎn)而提案，提供一種基板搬運(yùn)裝置，不用 將基板的預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)設(shè)置于搬入臺(tái)或曝光臺(tái)，卻可在搬運(yùn)至曝光 臺(tái)之前進(jìn)行基板的預(yù)備位置決定，且銷(xiāo)的設(shè)置位置調(diào)整也簡(jiǎn)化作為課題。
為了解決上述課題，有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置系為從被搬入至搬 入臺(tái)的基板的上方下降而進(jìn)行預(yù)備位置決定、且保持上述基板而搬運(yùn)至 曝光臺(tái)的基板搬運(yùn)裝置，其構(gòu)成包括預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)，押動(dòng)被載置 于上述搬入臺(tái)上的基板的端面，進(jìn)行預(yù)備位置決定；以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，將 此預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)藉由支持本體支持，且將完成預(yù)備位置決定的基板 吸著保持而搬運(yùn)至上述曝光臺(tái)， 其中上述預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)系具有被支 持在上述支持本體的驅(qū)動(dòng)裝置、以及藉由此驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)而押動(dòng)上述基
板的端面的押動(dòng)裝置；上述押動(dòng)裝置系，具有分別抵接在上述基板的相 互對(duì)面的一端面以及另一端面的第一抵接銷(xiāo)以及第二抵接銷(xiāo)、以及分別 支持此第一抵接銷(xiāo)以及第二抵接銷(xiāo)的第一支持體以及第二支持體；上述 驅(qū)動(dòng)裝置系，具有圓筒形的磁性軸體、將此磁性軸體在軸周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn) 動(dòng)裝置、以及與藉由此轉(zhuǎn)動(dòng)裝置轉(zhuǎn)動(dòng)的磁性軸體的周面相對(duì)而設(shè)置的直 線狀的第一縱長(zhǎng)磁性體和第二縱長(zhǎng)磁性體；上述第一縱長(zhǎng)磁性體支持上 述第一支持體，上述第二縱長(zhǎng)磁性體支持上述第二支持體。
藉由此構(gòu)成，基板搬運(yùn)裝置系，基板被搬入至搬入臺(tái)的話，搬運(yùn)機(jī) 構(gòu)藉由具備的升降機(jī)構(gòu)下降至基板側(cè)，將驅(qū)動(dòng)裝置的磁性軸體藉由轉(zhuǎn)動(dòng) 裝置在一方向旋轉(zhuǎn)，將第一縱長(zhǎng)磁性體和第二縱長(zhǎng)磁性體在直線方向移動(dòng)。基板搬運(yùn)裝置系，藉由兩縱長(zhǎng)磁性體移動(dòng)，被支持在兩支持體的第 一抵接銷(xiāo)和第二抵接銷(xiāo)押動(dòng)基板的端面，進(jìn)行基板的預(yù)備位置決定。基 板搬運(yùn)裝置系，完成了基板的預(yù)備位置決定的話，將基板吸著保持而藉 由升降機(jī)構(gòu)上升，沿著搬運(yùn)軌道，從搬入臺(tái)移動(dòng)至曝光臺(tái)，將保持的基 板搬運(yùn)至曝光臺(tái)。
又，在上述基板搬運(yùn)裝置中，上述第一支持體和上述第二支持體的 構(gòu)成系包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)，將上述第一抵接銷(xiāo)和上述第二抵接銷(xiāo)，從與上 述基板的端面高度相同或比上述基板的端面下方的高度，移動(dòng)至比上述 基板端面上方的高度。
藉由此構(gòu)成，基板搬運(yùn)裝置系，將基板W交付于曝光臺(tái)時(shí)，第一抵 接銷(xiāo)和第二抵接銷(xiāo)的下端(前端)位于比保持搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的基板的面上方，可 平順地載置基板于曝光臺(tái)上。
又，在上述基板搬運(yùn)裝置中，上述搬運(yùn)機(jī)構(gòu)系被購(gòu)成為，具有將設(shè) 置于上述支持本體下方的藉由吸著墊吸著保持上述基板的吸著保持板、 以及從此吸著保持板相對(duì)的端面向中央以直線狀的所定長(zhǎng)度的缺口而形 成的缺口溝；上述第一抵接銷(xiāo)及上述第二抵接銷(xiāo)沿著上述缺口溝移動(dòng)。
藉由此構(gòu)成，基板搬運(yùn)裝置系，不論工件的尺寸大或小，第一抵接 銷(xiāo)和上述第二抵接銷(xiāo)沿著吸著保持板的缺口溝移動(dòng)，押動(dòng)基板的端面， 可進(jìn)行預(yù)備位置決定。
又，在上述基板搬運(yùn)裝置中，上述第一縱長(zhǎng)磁性體和上述第二縱長(zhǎng) 磁性體系被構(gòu)成為，將上述磁性軸體作為中央而被配置在其一方和另一 方，藉由上述磁性軸體的旋轉(zhuǎn)，分別向相反方向直線地移動(dòng)。
藉由此構(gòu)成，基板搬運(yùn)裝置系，藉由磁性軸體的轉(zhuǎn)動(dòng)，可將上述第 一縱長(zhǎng)磁性體和上述第二縱長(zhǎng)磁性體直線地往復(fù)移動(dòng)。
又，在上述基板搬運(yùn)裝置中，上述驅(qū)動(dòng)裝置系被構(gòu)成為，在上述第 一縱長(zhǎng)磁性體和上述第二縱長(zhǎng)磁性體，具有分別平行地設(shè)置的從動(dòng)軸； 上述第一支持體系，藉由上述第一縱長(zhǎng)磁性體和上述從動(dòng)軸被支持而往 復(fù)移動(dòng)；上述第二支持體系，藉由上述第二縱長(zhǎng)磁性體和上述從動(dòng)軸被 支持而往復(fù)移動(dòng)。藉由此構(gòu)成，基板搬運(yùn)裝置系，可進(jìn)行安定的往復(fù)移動(dòng)動(dòng)作。 發(fā)明的效果
有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置系達(dá)到以下所示的優(yōu)良效果。 基板搬運(yùn)裝置系，不會(huì)使搬入臺(tái)的構(gòu)成復(fù)雜化，在將基板搬運(yùn)至曝 光臺(tái)之前，可進(jìn)行預(yù)備位置決定，又，在進(jìn)行預(yù)備位置決定時(shí)，由于驅(qū) 動(dòng)機(jī)構(gòu)系藉由磁性軸體和第一縱長(zhǎng)磁性體、第二縱長(zhǎng)磁性體而為非接觸， 不使塵埃等的垃圾落下至基板上。
又，基板搬運(yùn)裝置系，由于預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)裝置為由S極
和N極交互連續(xù)的磁性軸體、第一縱長(zhǎng)磁性體和第二縱長(zhǎng)磁性體所構(gòu)成
的非接觸式構(gòu)成，變更移動(dòng)范圍系容易的，即使基板大小變化，可簡(jiǎn)單 地調(diào)整第一抵接銷(xiāo)和第二抵接銷(xiāo)的移動(dòng)范圍。
基板搬運(yùn)裝置系，在從支持本體的中央朝兩端側(cè)的相對(duì)向的位置， 設(shè)置押動(dòng)裝置的第一抵接銷(xiāo)和第二抵接銷(xiāo)的話即可，預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu) 的設(shè)置位置的調(diào)整成為容易。


圖1系從側(cè)面模式化地表示利用有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置的曝光
裝置的全體的模式圖2系模式化地表示有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置的全體的立體圖； 圖3系模式化地表示從下方向上看有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置的狀
態(tài)的立體圖4(a)系為省略有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置的一部分而表示的平面 圖，圖4(b)系為將有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置作為剖面而模式化地表示 的剖面圖5系模式化地表示有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置的驅(qū)動(dòng)裝置的構(gòu)成 的模式圖；以及
圖6(a) (d)系分別模式化地表示有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置的動(dòng)作 狀態(tài)的側(cè)面圖。 符號(hào)說(shuō)明1〃
3& 第一抵接銷(xiāo)；
3 押動(dòng)機(jī)構(gòu)；
3&3(3133) 第一支持體(第」
3a4(3b4) 驅(qū)動(dòng)部；
3A 押動(dòng)部；
6 驅(qū)動(dòng)裝置；
7a 磁性部；
8 轉(zhuǎn)動(dòng)裝置；
9B 第二縱長(zhǎng)磁性體；
10B 第二從動(dòng)軸；
12 支持本體；
12b 安裝片；
12d 缺口部；
13a 吸著部本體；
13C 吸著墊；
18 升降機(jī)構(gòu)；
21 移動(dòng)軌道；
31 搬運(yùn)滾子;
50 曝光光學(xué)系統(tǒng)；
52 燈；
60 搬出臺(tái)；
A 曝光裝置；
W 基板。
2 預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)； 3bi 第二抵接銷(xiāo)；
3a2(3b2) 滑動(dòng)部(移動(dòng)機(jī)構(gòu));
:支持體)；
3a"3b5) 連接板(移動(dòng)機(jī)構(gòu));
3B 押動(dòng)部；
7 磁性軸體；
7b 圓筒蓋；
9A 第一縱長(zhǎng)磁性體；
10A 第一從動(dòng)軸；
11 導(dǎo)引部；
12a 本體部；
12c 支持板；
13 吸著保持板；
13b 缺口溝；
17 支持構(gòu)件；
20 搬運(yùn)機(jī)構(gòu)；
30 搬入臺(tái)；
40 曝光臺(tái)；
51 光源；
53 橢圓反射鏡；
61 滾子；
M 光罩；
具體實(shí)施例方式
有關(guān)本發(fā)明的基板搬運(yùn)裝置的實(shí)施例，參考圖示詳細(xì)說(shuō)明。
圖1系模式化地表示設(shè)置于曝光裝置的基板搬運(yùn)裝置的側(cè)面圖，圖
2系表示基板搬運(yùn)裝置的全體的立體圖，圖3系模式化地表示從基板搬運(yùn)裝置的下方向上看的狀態(tài)的立體圖，第4(a)圖系為省略基板搬運(yùn)裝置的一 部分而表示的平面圖，第4(b)圖系為將基板搬運(yùn)裝置的剖面模式化地表 示的剖面圖，圖5系模式化地表示基板搬運(yùn)裝置的驅(qū)動(dòng)裝置的構(gòu)成的模 式圖。
如圖1所示般，曝光裝置A系主要包括基板的搬入臺(tái)30;基板搬 運(yùn)裝置l，將被搬入至此搬入臺(tái)30的基板W預(yù)備地決定位置而搬運(yùn)；曝 光臺(tái)40，為了載置且曝光藉由上述基板搬運(yùn)裝置1被搬運(yùn)的基板W而整 合基板；曝光光學(xué)系統(tǒng)50，用以朝被載置于此曝光臺(tái)40的基板W照射 來(lái)自光源51的光，將光罩M的圖案曝光于基板W;以及搬出臺(tái)60，用 以搬出被曝光的基板W。
搬入臺(tái)30系，從裝置外接收基板W、經(jīng)由搬運(yùn)滾子31移動(dòng)基板W 至所定的位置。此搬入臺(tái)30系，如圖2所示般，搬運(yùn)滾子31系被設(shè)置 為，在軸線方向適當(dāng)分割的長(zhǎng)度，排列在移動(dòng)方向上，以使后述的預(yù)備 位置決定機(jī)構(gòu)2的作業(yè)適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行。
曝光臺(tái)40系，將基板W從基板搬運(yùn)裝置1接收保持，進(jìn)行和光罩 M的整合作業(yè)，在將光罩M和基板W整合之后，將基板W固定而將光 罩M的圖案曝光。此曝光臺(tái)40系，將基板W保持在桌面而上升，和保 持光罩M的框架F合作而形成真空空間，將光罩的圖案曝光在基板W。
曝光光學(xué)系統(tǒng)50系，由燈52和橢圓反射鏡53構(gòu)成的光源51、以 及形成用于將來(lái)自此光源51的光照射至基板W的光路的光學(xué)系統(tǒng)所構(gòu) 成。此曝光光學(xué)系統(tǒng)50系，在作為平行光將光照射至基板W的情形中， 將反射鏡和棱鏡復(fù)合的平行光光學(xué)系統(tǒng)被使用，又，在作為散射光將光 照射至基板W的情形中，將照射的光散射的鏡子等的散射光光學(xué)系統(tǒng)被 使用。
搬出臺(tái)60系，將在曝光臺(tái)40曝光完成的基板W或異常的基板W 由未圖標(biāo)的搬運(yùn)裝置接收而搬出至裝置外。在此搬出臺(tái)60，藉由傳送滾 子61將基板W搬出至裝置外。
其次，說(shuō)明基板搬運(yùn)裝置l。
如圖1和圖2所示般，基板搬運(yùn)裝置1系包括預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)2，進(jìn)行基板W的預(yù)備位置決定；搬運(yùn)機(jī)構(gòu)20，支持此預(yù)備位置決定機(jī) 構(gòu)2，吸著預(yù)備位置決定完成的基板W，從搬入臺(tái)30搬運(yùn)至曝光臺(tái)40。
搬運(yùn)機(jī)構(gòu)20系包括左右的移動(dòng)軌道21，從搬入臺(tái)30橫跨至曝光 臺(tái)40而被設(shè)置；支持構(gòu)件17，與此移動(dòng)軌道21、 21正交且橫跨在移動(dòng) 軌道之間而被支持；升降機(jī)構(gòu)18，被支持在此支持構(gòu)件17;支持本體12， 被支持在此升降機(jī)構(gòu)18的下方；吸著保持板13，吸著保持基板W設(shè)置 于此支持本體12下方。又，后述的預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)2系被支持在支持 本體12的上方(上面?zhèn)?(參考圖4)。
移動(dòng)軌道21系，被設(shè)置在支持本體12的左右，例如，線性導(dǎo)件等 被使用。此移動(dòng)軌道21系，盡可能使支持本體12在直線方向往復(fù)移動(dòng)， 并不特別限定其構(gòu)成。
升降機(jī)構(gòu)18系，在進(jìn)行基板W的交付時(shí)，進(jìn)行升降吸著保持板13 的動(dòng)作(參考圖3和圖4)。此升降機(jī)構(gòu)18系，被連接在支持本體12的支 持板12c，只有可將吸著保持板13升降即可，例如，LM導(dǎo)件等的滑動(dòng) 機(jī)構(gòu)和馬達(dá)和傳送螺絲，或根據(jù)汽缸的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)也可。又，升降機(jī)構(gòu)18 系，在進(jìn)行預(yù)備位置決定作業(yè)和基板W的吸著保持的作業(yè)時(shí)，為了在不 同高度進(jìn)行兩作業(yè)，可為以?xún)呻A段的作動(dòng)進(jìn)行動(dòng)作的構(gòu)成，或?yàn)榱嗽谙?同高度進(jìn)行兩作業(yè)，也可為以一階段的作動(dòng)進(jìn)行動(dòng)作的構(gòu)成。
如圖2、圖3和圖4所示般，支持本體12系，經(jīng)由升降機(jī)構(gòu)18被 支持在被架設(shè)在左右的移動(dòng)軌道21的支持構(gòu)件17。此支持本體12系， 包括矩形板狀的本體部12a;安裝片12b、 12b，從此本體部12a相對(duì) 的兩邊突出至側(cè)方而設(shè)置；以及支持板12c，經(jīng)由分別從上述安裝片12b、 12b朝上方立設(shè)的構(gòu)件而被設(shè)置。在這里，支持板12c被支持在升降機(jī)構(gòu) 18的下端。
此支持本體12系，在下面?zhèn)戎С置娣e比基板W大的吸著保持板13， 且在上面?zhèn)戎С趾笫龅念A(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)2。又，在支持本體12的本體 部12a，配合對(duì)應(yīng)于后述的缺口溝13b的位置，同樣地形成缺口部12d。 藉由形成此缺口部12d，可使本體部12a的面積變大，可使后述的預(yù)備位 置決定機(jī)構(gòu)2的設(shè)置面變大。如圖2和圖3所示般，吸著保持板13系，例如，包括矩形板狀的
吸著部本體13a;缺口溝13b，從上述吸著部本體13a的四邊的端部向中 央以直線狀缺口的狀態(tài)形成；以及復(fù)數(shù)個(gè)吸著墊13c，用以在吸著部本體 13a的下面?zhèn)任錡而設(shè)置。
又，缺口溝13b系，為了后述的預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)2的第一抵接銷(xiāo) 3ai、 3ai以及第二抵接銷(xiāo)3b。 3bi移動(dòng)而被形成。又，吸著保持板13系， 雖然未圖示，對(duì)應(yīng)于基板W的大小而適當(dāng)切換吸引的區(qū)域般被構(gòu)成。此 吸著保持板13系，只要可將基板W藉由未圖示的真空幫浦的作動(dòng)而吸 著保持的話，并不限定于此構(gòu)成。
如圖2和圖3所示般，預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)2系，被設(shè)置在支持本體 12的上面?zhèn)?，進(jìn)行基板W的預(yù)備位置決定的機(jī)構(gòu)。此預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu) 2系，具有抵接于基板W的端面而押動(dòng)的押動(dòng)裝置3、以及使此押動(dòng)裝 置3進(jìn)行直線往復(fù)移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置6。
如圖2所示般，押動(dòng)裝置3系，具有在相對(duì)向的兩邊設(shè)置的押動(dòng)部 3A、 3B，由于為相同構(gòu)成，因此，將一方的押動(dòng)部3A的構(gòu)成作為代表 說(shuō)明。
押動(dòng)部3A系，包括第一抵接銷(xiāo)3&、 3ai，抵接于基板W的端面; 滑動(dòng)部3a2、 3a2，支持此第一抵接銷(xiāo)3a。 3a1;第一支持體3a3，支持此 滑動(dòng)部3&、 3a2; i^接板3a5，橫跨第一抵接銷(xiāo)3ai、 3^而被配置，連接 第一抵接銷(xiāo)3a^ 3a1;以及驅(qū)動(dòng)部3a4，用以將此連接板3*上下動(dòng)。
又，.在押動(dòng)部3A，例如，將驅(qū)動(dòng)部3a4以汽缸構(gòu)成，藉由空氣的注 入，汽缸的活塞(未圖示)突出至上方，藉由連接于此活塞的連接板3a5上 下，沿著滑動(dòng)部3a2、 3a2，將第一抵接銷(xiāo)3ai、 3&上下動(dòng)。又，作為將第 一抵接銷(xiāo)3&、 3at移動(dòng)于上下方向的移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在此，將滑動(dòng)部3a2、 3a2 作為例子說(shuō)明，但其構(gòu)成并不限定于此。
此押動(dòng)部3A系，被連接于后述的驅(qū)動(dòng)裝置6，藉由在水平方向直線 地往復(fù)移動(dòng)，押動(dòng)基板W的端面。又，抵接于基板W的端面的第一抵 接銷(xiāo)3ai、 3ai的前端系，在其銷(xiāo)軸的軸周?chē)较蛐D(zhuǎn)自如地被形成，在 押動(dòng)基板W的端面時(shí)，減輕施加在基板W的負(fù)荷。如圖2和圖4所示般，驅(qū)動(dòng)裝置6系，包括磁性軸體7，以在支 持本體12的中央旋轉(zhuǎn)自如地設(shè)置的圓筒體或圓柱體形成；轉(zhuǎn)動(dòng)裝置8， 將此磁性軸體7作為軸心轉(zhuǎn)動(dòng)；第一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體 9B，與藉由此轉(zhuǎn)動(dòng)裝置8轉(zhuǎn)動(dòng)的磁性軸體7的周面相對(duì)，與該磁性軸體 7以非接觸狀態(tài)被設(shè)置；第一從動(dòng)軸10A和第二從動(dòng)軸IOB，以和第一 縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B成為平行的方式被配置；以及導(dǎo)引 部11，將此第一從動(dòng)軸IOA和第二從動(dòng)軸10B以及第一縱長(zhǎng)磁性體9A 和第二縱長(zhǎng)磁性體9B在磁性軸體7側(cè)導(dǎo)引。又，驅(qū)動(dòng)裝置6系，在第一 縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B以及第一從動(dòng)軸IOA和第二從動(dòng)軸 10B的個(gè)別的一端側(cè)，連接押動(dòng)部3A的第一支持體3a3以及押動(dòng)部3B 的第二支持體3b3。
如圖5所示般，驅(qū)動(dòng)裝置6的磁性軸體7系包括相反的磁極的S 極和N極在圓周上交互地配置的磁性部7a、以及抵接于此磁性部7a的周 面而設(shè)置的不銹鋼制的圓筒蓋7b。圓筒蓋7b系，保護(hù)磁性部7a的表面， 較佳為由金屬等構(gòu)成。又，第一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B系 被構(gòu)成為，在直線方向移動(dòng)時(shí)，對(duì)面于磁性軸體7的位置，S極和N極 成連續(xù)。
此驅(qū)動(dòng)裝置6系，藉由從轉(zhuǎn)動(dòng)裝置8被傳達(dá)的旋轉(zhuǎn)力，磁性軸體7 轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，伴隨此磁性軸體7的轉(zhuǎn)動(dòng)，第一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性 體9B在相反的磁極中，暫時(shí)交互地受到S極和N極的影響。因此，第 一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B系，從靜止?fàn)顟B(tài)在磁極排斥的直 線方向移動(dòng)。又，同時(shí)，第一從動(dòng)軸10A和第二從動(dòng)軸10B系在直線方 向從動(dòng)而移動(dòng)。因此，預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)2系，藉由驅(qū)動(dòng)裝置6驅(qū)動(dòng)押 動(dòng)裝置3，藉由第一抵接銷(xiāo)3a" 3a,和第二抵接銷(xiāo)3b,、 3bi押動(dòng)基板W 的端面，可進(jìn)行基板W的預(yù)備位置決定。
又，磁性軸體7、與第一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B的配 置關(guān)系為，異物不被夾持，且以保持相互的磁力影響的間隔而對(duì)峙系所 希望的。又也可為，經(jīng)由傳達(dá)裝置被連結(jié)于作為轉(zhuǎn)動(dòng)裝置8的馬達(dá)等的 驅(qū)動(dòng)軸，藉由作為轉(zhuǎn)動(dòng)裝置8的馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)，磁性軸體7旋轉(zhuǎn)的構(gòu)成。其次，參考圖1和圖6，有關(guān)曝光裝置A，主要以將基板W從搬入 臺(tái)30搬運(yùn)至曝光臺(tái)40的動(dòng)作，說(shuō)明基板W從被搬入到被搬出的動(dòng)作。
如圖1和圖6(a)所示般，基板W從裝置外被搬入至搬入臺(tái)30的話， 基板W系，籍由搬運(yùn)滾子31的旋轉(zhuǎn)而被傳送至所定位置而停止。
基板W移動(dòng)至搬運(yùn)滾子31的所定位置時(shí)，如圖6(b)所示般，基板 搬運(yùn)裝置1藉由升降機(jī)構(gòu)18下降至下方，直至第一抵接銷(xiāo)3ai、 3&和第 二抵接銷(xiāo)3h、 3N的前端抵接于基板W的端面的高度的位置。又，預(yù)備 位置決定機(jī)構(gòu)2系，藉由驅(qū)動(dòng)裝置6的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置8，將磁性軸體7向一方 向旋轉(zhuǎn)(例如，右旋轉(zhuǎn))，藉由將第一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B 往收納于導(dǎo)引部ll的方向移動(dòng)，第一抵接銷(xiāo)3a。 3a!和第二抵接銷(xiāo)3bi、 3^的前端押動(dòng)基板W的端面而進(jìn)行預(yù)備位置決定。
又，進(jìn)行預(yù)備位置決定時(shí)的吸著保持板13的高度位置系，被調(diào)整到 接近基板W的上面藉由吸著墊13c吸引而可保持的位置的話，由于可將 預(yù)備位置決定和吸著保持的兩作業(yè)可通過(guò)升降機(jī)構(gòu)18 —次的下降動(dòng)作而 完成，所以較好。當(dāng)然，在進(jìn)行預(yù)備位置決定的情形，和在進(jìn)行基板W的 吸著保持的情形，吸著保持板13的吸著墊13c中的下面的高度位置不同 般，進(jìn)行升降機(jī)構(gòu)18的兩階段的下降動(dòng)作也可。
如圖6(c)所示般，基板W的預(yù)備位置決定完成的話，藉由驅(qū)動(dòng)裝置 6的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置8，將磁性軸體7向另一方向旋轉(zhuǎn)(例如，左旋轉(zhuǎn))，藉由將 第一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B從導(dǎo)引部11突出的方向移動(dòng)， 將第一抵接銷(xiāo)3a!、 3^和第二抵接銷(xiāo)3b。 3h從基板W的端面離開(kāi)。與 此同時(shí)，經(jīng)由升降機(jī)構(gòu)18，基板搬運(yùn)裝置l系，使吸著保持板13下降， 使其藉由吸著墊13c抵接或接近于基板W的狀態(tài)吸著保持該基板W。
又，在基板搬運(yùn)裝置1，在藉由第一抵接銷(xiāo)3ai、 3&和第二抵接銷(xiāo) 3b!、 3b!進(jìn)行預(yù)備位置決定的情形，由于驅(qū)動(dòng)裝置6的磁性軸體7、與第 一縱長(zhǎng)磁性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B為非接觸，塵埃等的垃圾不會(huì)落 下到基板W側(cè)。
基板搬運(yùn)裝置1系，吸著保持基板W后，藉由升降機(jī)構(gòu)18上升使 基板W從搬入臺(tái)30離開(kāi)，沿著移動(dòng)軌道21移動(dòng)至曝光臺(tái)40，將基板W搬運(yùn)至曝光臺(tái)40。又也可為，吸著保持基板W后，藉由驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部3a4 和驅(qū)動(dòng)部3b4，將連接板3a5和連接板3b5移動(dòng)至上方，使第一抵接銷(xiāo)3*、 3&和第二抵接銷(xiāo)3b!、 3b,的下端位于比吸著保持板13的吸著墊13c的 下面上方。
又，如圖1所示般，在基板W被搬運(yùn)的曝光臺(tái)40，和光罩M的整 合作業(yè)被進(jìn)行，經(jīng)由曝光光學(xué)系統(tǒng)50光被照射至基板W，曝光作業(yè)被進(jìn) 行。又，在曝光裝置A，曝光作業(yè)完成的基板W系，藉由未圖標(biāo)的搬運(yùn) 裝置，從曝光臺(tái)40被搬運(yùn)至搬出臺(tái)60而被搬出至裝置外。
以上如說(shuō)明般，基板搬運(yùn)裝置l系，從基板W的上方進(jìn)行預(yù)備位置 決定，吸著保持預(yù)備位置決定完成的基板W，從搬入臺(tái)30搬運(yùn)至曝光臺(tái) 40。
又，基板搬運(yùn)裝置1系，藉由沿著基板w的搬運(yùn)方向(假設(shè)為X方 向)，押動(dòng)部3A、 3B系直線地往復(fù)移動(dòng)，進(jìn)行基板W的預(yù)備位置決定為 例子而說(shuō)明，但也可為，藉由在與基板W的搬運(yùn)方向正交的方向(假設(shè)為 Y方向)，將押動(dòng)部3A、 3B直線地往復(fù)移動(dòng)而移動(dòng)，進(jìn)行基板W的預(yù)備 位置決定的構(gòu)成。
又，基板搬運(yùn)裝置l系，從X方向和Y方向的兩方押動(dòng)基板W的 端面而進(jìn)行預(yù)備位置決定的構(gòu)成也可。在從X方向和Y方向押動(dòng)基板W 的端面方面，例如，使磁性軸體7在軸線方向增長(zhǎng)，可藉由將X方向的 驅(qū)動(dòng)裝置6和Y方向的驅(qū)動(dòng)裝置6配置在不同高度。當(dāng)然，在X方向和 Y方向分別設(shè)置磁性軸體7的構(gòu)成也可。
又，基板搬運(yùn)裝置l系，改變處理的基板W的種類(lèi)時(shí)，也有基板W 的大小變化的情形，此時(shí)作為驅(qū)動(dòng)裝置6的調(diào)整，藉由改變第一縱長(zhǎng)磁 性體9A和第二縱長(zhǎng)磁性體9B的移動(dòng)始點(diǎn)終點(diǎn)的地址，可容易地對(duì)應(yīng)。
權(quán)利要求
1.一種基板搬運(yùn)裝置，從被搬入至搬入臺(tái)的基板的上方下降而進(jìn)行預(yù)備位置決定，且保持上述基板而搬運(yùn)至曝光臺(tái)，包括預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)，押動(dòng)被載置于上述搬入臺(tái)上的基板的端面，進(jìn)行預(yù)備位置決定；以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，將該預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)藉由支持本體支持，且將完成了預(yù)備位置決定的基板吸著保持而搬運(yùn)至上述曝光臺(tái)；其中上述預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)系，具有被支持在上述支持本體的驅(qū)動(dòng)裝置、以及藉由該驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)而押動(dòng)上述基板的端面的押動(dòng)裝置；上述押動(dòng)裝置系，具有分別抵接在上述基板的相互對(duì)面的一端面以及另一端面的第一抵接銷(xiāo)以及第二抵接銷(xiāo)、以及分別支持該第一抵接銷(xiāo)以及第二抵接銷(xiāo)的第一支持體以及第二支持體；上述驅(qū)動(dòng)裝置系，具有圓筒形的磁性軸體、將該磁性軸體在軸周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置、以及與藉由該轉(zhuǎn)動(dòng)裝置而轉(zhuǎn)動(dòng)的磁性軸體的周面相對(duì)而設(shè)置的直線狀的第一縱長(zhǎng)磁性體和第二縱長(zhǎng)磁性體；上述第一縱長(zhǎng)磁性體支持上述第一支持體，上述第二縱長(zhǎng)磁性體支持上述第二支持體。
2. 如權(quán)利要求1所述的基板搬運(yùn)裝置，其中上述第一支持體和上述 第二支持體系包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)，將上述第一抵接銷(xiāo)和上述第二抵接銷(xiāo)， 從和上述基板的端面相同的高度或比上述基板的端面下方的高度，移動(dòng) 至比上述基板端面上方的高度。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的基板搬運(yùn)裝置，其中上述搬運(yùn)機(jī)構(gòu)系， 具有將設(shè)置于上述支持本體下方的藉由吸著墊吸著保持上述基板的吸著 保持板、以及從該吸著保持板的相對(duì)端面向中央以直線狀的所定長(zhǎng)度的 缺口而形成的缺口溝，上述第一抵接銷(xiāo)及上述第二抵接銷(xiāo)系沿著上述缺口溝移動(dòng)。
4. 如權(quán)利要求1所述的基板搬運(yùn)裝置，其中上述第一縱長(zhǎng)磁性體和 上述第二縱長(zhǎng)磁性體系，將上述磁性軸體作為中央而被配置在其一方和另一方，藉由上述磁性軸體的旋轉(zhuǎn)，分別向相反方向直線地移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的基板搬運(yùn)裝置，其中上述驅(qū)動(dòng)裝置系，在上 述第一縱長(zhǎng)磁性體和上述第二縱長(zhǎng)磁性體，具有分別平行地設(shè)置的從動(dòng) 軸，上述第一支持體系，藉由上述第一縱長(zhǎng)磁性體和上述從動(dòng)軸被支持 而往復(fù)移動(dòng)，上述第二支持體系，藉由上述第二縱長(zhǎng)磁性體和上述從動(dòng)軸被支持 而往復(fù)移動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板搬運(yùn)裝置，不用將基板的預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)設(shè)置于搬入臺(tái)、曝光臺(tái)，卻可在搬運(yùn)至曝光臺(tái)之前進(jìn)行基板的預(yù)備位置決定，且銷(xiāo)的設(shè)置位置調(diào)整也簡(jiǎn)化作為課題。基板搬運(yùn)裝置包括預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)(2)，押動(dòng)上述搬入臺(tái)(30)上的基板(W)的端面，進(jìn)行預(yù)備位置決定；以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)(20)，將此預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)藉由支持本體(12)支持，且將預(yù)備位置決定完成的基板吸著保持而搬運(yùn)至上述曝光臺(tái)(40)；其中上述預(yù)備位置決定機(jī)構(gòu)系，具有被支持在上述支持本體的驅(qū)動(dòng)裝置(6)、以及藉由此驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)而押動(dòng)上述基板的端面的押動(dòng)裝置(3)；上述驅(qū)動(dòng)裝置系，具有圓筒形的磁性軸體(7)、使此磁性軸體在軸周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(8)、以及與藉由此轉(zhuǎn)動(dòng)裝置轉(zhuǎn)動(dòng)的磁性軸體的周面相對(duì)而設(shè)置的直線狀的第一縱長(zhǎng)磁性體(9A)和第二縱長(zhǎng)磁性體(9B)。
文檔編號(hào)H01L21/677GK101315524SQ200810108859
公開(kāi)日2008年12月3日 申請(qǐng)日期2008年5月29日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月29日
發(fā)明者松田政昭, 水口信一郎, 石田肇 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Orc制作所