專利名稱：基板處理裝置以及基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)基板實(shí)施給定處理的基板處理裝置以及基板處理方法。
背景技術(shù)：
一直以來(lái)，為了對(duì)半導(dǎo)體晶片、光掩模用玻璃基板、液晶表示用玻璃基 板以及光盤(pán)用玻璃基板等的基板進(jìn)行各種處理，而使用著基板處理裝置。例如，在日本特開(kāi)2005-85882號(hào)公報(bào)中記載了具有使基板的表面和背面 反轉(zhuǎn)的基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的基板處理裝置。在這樣的基板處理裝置中，在矩形處 理領(lǐng)域的大致中央位置配置了搬運(yùn)基板的基板搬運(yùn)機(jī)械手。在處理區(qū)域內(nèi)以 包圍基板搬運(yùn)機(jī)械手的方式分別配置有多個(gè)(例如四個(gè))基板處理部。并且， 在處理區(qū)域內(nèi)，在基板搬運(yùn)機(jī)械手可以進(jìn)行訪問(wèn)的位置處配置了基板反轉(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)。在處理區(qū)域的一端部側(cè)設(shè)置有分度器單元，所述分度器單元具有多個(gè)用 于收容基板的盒體。在該分度器單元中設(shè)置有用于從上述盒體取出處理前的 基板或者將處理后的基板收容到上述盒體內(nèi)的分度器機(jī)械手。在上述那樣的結(jié)構(gòu)中，分度器機(jī)械手從任意一個(gè)盒體中取出處理前的基 板并交給基板搬運(yùn)機(jī)械手，并且，將從基板搬運(yùn)機(jī)械手接受處理后的基板收 容到盒體中。當(dāng)基板搬運(yùn)機(jī)械手從分度器機(jī)械手接受到處理前的基板時(shí)，將接受到的 基板交給基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)?；宸崔D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將從基板搬運(yùn)機(jī)械手接受到的基板反 轉(zhuǎn)以使其表面向下?；灏徇\(yùn)機(jī)械手接受被基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)反轉(zhuǎn)后的基板，并 將該基板搬入到任意一個(gè)基板處理部中。接下來(lái)，在上述任意一個(gè)基板處理部中的基板的處理一旦結(jié)束，基板搬 運(yùn)機(jī)械手就將該基板從基板處理部搬出并再次交給基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。基板反轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)將在基板處理部被實(shí)施過(guò)處理的基板反轉(zhuǎn)以使其表面向上。然后，基板搬運(yùn)機(jī)械手接受被基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)反轉(zhuǎn)后的基板，并交給分度器機(jī)械手。分度器機(jī)械手將從基板搬運(yùn)機(jī)械手接受到的處理后的基板收容到 盒體中。這樣，收容在盒體中的處理前的基板，在被基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)反轉(zhuǎn)且又在基 板處理部中被實(shí)施處理(對(duì)基板的背面的處理)后，再次被基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)反 轉(zhuǎn)，作為處理后的基板而被收容到盒體中。在上述以往的基板處理裝置中，存在設(shè)置有在分度器機(jī)械手和基板搬運(yùn)機(jī)械手之間進(jìn)行基板交接的中介的梭動(dòng)(shuttle)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的情況。由此，分度器機(jī)械手和基板搬運(yùn)機(jī)械手可以相互不受對(duì)方動(dòng)作的約束而高效地進(jìn) 行各自的搬運(yùn)動(dòng)作。但是，在基板處理裝置內(nèi)設(shè)置了上述那樣的梭動(dòng)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)以及基板反轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)的情況下，基板搬運(yùn)機(jī)械手的搬運(yùn)工序會(huì)增加。具體來(lái)講，對(duì)于一張基板而言，基板搬運(yùn)機(jī)械手需要完成四次的搬運(yùn)工序從梭動(dòng)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)向基板 反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的搬運(yùn)，從基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)向基板處理部的搬運(yùn)，從基板處理部向基 板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的搬運(yùn)和從基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)向梭動(dòng)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的搬運(yùn)。這樣，增加了由位于梭動(dòng)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)、基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)以及多個(gè)基板處理部 之間的基板搬運(yùn)機(jī)械手所進(jìn)行的搬運(yùn)工序。因此，基板處理的處理能力變低。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種可以提高基板處理的處理能力的基板處理 裝置以及基板處理方法。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的基板處理裝置是對(duì)具有一面以及另一面的基 板實(shí)施處理的基板處理裝置，該基板處理裝置具有處理區(qū)域，其對(duì)基板進(jìn) 行處理；搬入搬出區(qū)域，其將基板搬入和搬出處理區(qū)域；交接部，其在處理 區(qū)域和搬入搬出區(qū)域之間交接基板，搬入搬出區(qū)域包括容器裝載部，其用 于裝載收容基板的收容容器；第一搬運(yùn)裝置，其在被裝載于容器裝載部上的 收容容器和交接部之間對(duì)基板進(jìn)行搬運(yùn)，處理區(qū)域包括處理部，其對(duì)基板進(jìn) 行處理；第二搬運(yùn)裝置，其在交接部和處理部之間對(duì)基板進(jìn)行搬運(yùn)，交接部 包括反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其使基板的一面以及另一面相互反轉(zhuǎn);移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使反 轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以便能夠在第一搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間交接基板，以及能夠 在第二搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間交接基板。在該基板處理裝置中，在交接部通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)該反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，以便能 夠在第一搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間進(jìn)行基板的交接。并且，在搬入搬出區(qū)域 中，通過(guò)第一搬運(yùn)裝置在裝載于容器裝載部上的收容容器和交接部之間對(duì)基 板進(jìn)行搬運(yùn)。在上述交接部中，通過(guò)反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將基板的一面以及另一面相互反轉(zhuǎn)，并 且，通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)該反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，以便能夠在第二搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之 間進(jìn)行基板的交接。并且，在處理區(qū)域中，通過(guò)第二搬運(yùn)裝置在交接部和處 理部之間對(duì)基板進(jìn)行搬運(yùn)。這樣，交接部兼具在第一搬運(yùn)裝置和第二搬運(yùn)裝置之間進(jìn)行基板交接的 中介的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的功能和使基板反轉(zhuǎn)的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的功能。由此，對(duì)于一張基 板而言，由第二搬運(yùn)裝置所進(jìn)行的搬運(yùn)工序變?yōu)閺慕唤硬肯蛱幚聿康陌徇\(yùn)和 從處理部向交接部的搬運(yùn)這兩個(gè)工序。因此，由于第二搬運(yùn)裝置的搬運(yùn)工序 被減少，所以提高了基板處理的處理能力。此外，通過(guò)將具有反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和移動(dòng)機(jī)構(gòu)的交接部設(shè)置在第一搬運(yùn)裝置與 第二搬運(yùn)裝置之間，從而不必更改現(xiàn)有的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)(所謂的平臺(tái)(platform)結(jié)構(gòu))。因此，可以抑制基板處理裝置制造成本的提高。(2) 移動(dòng)機(jī)構(gòu)使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在如下兩個(gè)位置之間在水平方向上往復(fù)直線 移動(dòng)，該兩個(gè)位置為在第一搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間能夠交接基板的位置； 以及在第二搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間能夠交接基板的位置。在該情況下，在反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在與第一搬運(yùn)裝置之間能夠進(jìn)行基板的交接的 位置和與第二搬運(yùn)裝置之間能夠進(jìn)行基板的交接的位置之間直線移動(dòng)時(shí)，進(jìn) 行基板的反轉(zhuǎn)以及在第一搬運(yùn)裝置和第二搬運(yùn)裝置之間的基板的搬運(yùn)，因而 減少了第二搬運(yùn)裝置的搬運(yùn)工序。由此，提高了基板處理的處理能力。(3) 第一搬運(yùn)裝置具有支承基板并以能夠進(jìn)退的方式設(shè)置的第一支承 部，第一支承部在與反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行基板的交接時(shí)，相對(duì)于反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)沿第一進(jìn) 退方向進(jìn)行進(jìn)退，第二搬運(yùn)裝置具有支承基板并以能夠進(jìn)退的方式設(shè)置的第 二支承部，第二支承部在與反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行基板的交接時(shí)，相對(duì)于反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)沿 第二進(jìn)退方向進(jìn)行進(jìn)退；移動(dòng)機(jī)構(gòu)使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)圍繞近似鉛垂方向的軸而在朝 向第一進(jìn)退方向的第一交接方向和朝向第二進(jìn)退方向的第二交接方向之間 旋轉(zhuǎn)移動(dòng)。在該情況下，第一搬運(yùn)裝置的第一支承部相對(duì)于通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)被旋轉(zhuǎn)移 動(dòng)的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，沿第一進(jìn)退方向進(jìn)行進(jìn)退，從而在與該反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間進(jìn)行基 板的交接。此外，第二搬運(yùn)裝置的第二支承部相對(duì)于通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)被旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的反 轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，沿第二進(jìn)退方向進(jìn)行進(jìn)退，從而在與該反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間進(jìn)行基板的交 接。這樣，在反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在朝向第一進(jìn)退方向的第一交接方向和朝向第二進(jìn)退 方向的第二交接方向之間進(jìn)行旋轉(zhuǎn)移動(dòng)時(shí)，進(jìn)行基板的反轉(zhuǎn)以及在第一搬運(yùn) 裝置和第二搬運(yùn)裝置之間的基板的搬運(yùn)，從而減少了第二搬運(yùn)裝置的搬運(yùn)工 序。由此，提高了基板處理的處理能力。(4) 反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)以第一交接方向和第二交接方向之間的旋轉(zhuǎn)角度為180 度的方式而配置。在該情況下，在第一交接方向和第二交接方向平行的情況下，即，在第 一搬運(yùn)裝置的第一支承部的第一進(jìn)退方向和第二搬運(yùn)裝置的第二支承部的 第二進(jìn)退方向平行的情況下，通過(guò)使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)180度，而能夠在第一搬 運(yùn)裝置和第二搬運(yùn)裝置之間搬運(yùn)基板。(5) 反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)以第一交接方向和第二交接方向之間的旋轉(zhuǎn)角度小于180度的方式配置。在該情況下，在第一交接方向和第二交接方向不平行的情況下，即，在 第一支承部的第一進(jìn)退方向和第二支承部的第二進(jìn)退方向不平行的情況下， 通過(guò)使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)小于180度的角度，而在第一搬運(yùn)裝置和第二搬運(yùn)裝置 之間搬運(yùn)基板。由此，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)角度變小，且在第一搬運(yùn)裝置和第二 搬運(yùn)裝置之間的搬運(yùn)時(shí)間被縮短。該結(jié)果是，可以更加提高基板W處理的 處理能力。(6) 第一搬運(yùn)裝置以能夠相對(duì)于第一軸方向而平行移動(dòng)的方式設(shè)置， 在朝向與第一軸方向垂直的第二軸方向的狀態(tài)下，對(duì)裝載于容器裝載部上的 收容容器進(jìn)行基板的收容和取出，在朝向相對(duì)于第二軸方向小于180度的第 三軸方向的狀態(tài)下，對(duì)反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)交接基板。在該情況下，第一搬運(yùn)裝置在朝向相對(duì)第二軸方向小于180度的第三軸 方向的狀態(tài)下，與反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行基板的交接，從而使該第一搬運(yùn)裝置的旋轉(zhuǎn)角度變小。由此，縮短了收容容器與交接部之間的基板搬運(yùn)時(shí)間。其該結(jié)果 是，可以更加提高基板W處理的處理能力。(7 )根據(jù)本發(fā)明的另 一個(gè)方面的基板處理方法是通過(guò)基板處理裝置對(duì)基板實(shí)施處理的方法，該基板處理裝置具有包括容器裝載部和第一搬運(yùn)裝 置的搬入搬出區(qū)域；包括處理部和第二搬運(yùn)裝置的處理區(qū)域；在處理區(qū)域和 搬入搬出區(qū)域之間交接基板的交接部，其特征在于，該基板處理方法包括 利用第一搬運(yùn)裝置，從裝載于容器裝載部上的收容容器中取出處理前的基 板，并將所取出的處理前的基板交給交接部的步驟；在交接部中利用反轉(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)使處理前的基板的一面以及另一面相互反轉(zhuǎn)，并且，使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以 便能夠?qū)⑻幚砬暗幕鍙姆崔D(zhuǎn)機(jī)構(gòu)交接到第二搬運(yùn)裝置中的步驟；利用第二 搬運(yùn)裝置將處理前的基板從交接部搬運(yùn)至處理部中的步驟；在處理部中對(duì)處 理前的基板進(jìn)行處理的步驟；利用第二搬運(yùn)裝置將在處理部中被處理過(guò)的處 理后的基板從處理部搬運(yùn)到交接部的步驟；在交接部中利用反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使處理 后的基板的另一面以及一面相互反轉(zhuǎn)，并且，使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以便能夠?qū)?處理后的基板從交接部交接給第一搬運(yùn)裝置的步驟；利用第一搬運(yùn)裝置從交 接部接受處理后的基板，并將接受到的處理后的基板收容到收容容器中的步 驟。該基板處理方法中的一系列的工序如下。首先，通過(guò)第一搬運(yùn)裝置從裝 載于容器裝載部上的收容容器取出處理前的基板，并將取出后的處理前的基 板交給交接部。接著，在交接部中，通過(guò)反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將處理前的基板的一面及 另一面相互反轉(zhuǎn)，并且，使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以便能夠?qū)⑻幚砬暗幕鍙姆崔D(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)交給第二搬運(yùn)裝置。接著，利用第二搬運(yùn)裝置將處理前的基板從交接部搬運(yùn)至處理部后，在 處理部中對(duì)處理前的基板進(jìn)行處理。然后，利用第二搬運(yùn)裝置將在處理部中 被處理過(guò)的基板從處理部搬運(yùn)到交接部。接著，在交接部中，利用反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將處理后的基板的另一面以及一面相 互反轉(zhuǎn)，并且，使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以便能夠?qū)⑻幚砗蟮幕鍙慕唤硬拷唤o第 一搬運(yùn)裝置。然后，利用第一搬運(yùn)裝置從交接部接受處理后的基板，并將接 受到的處理后基板收容到收容容器中。這樣，交接部兼具在第一搬運(yùn)裝置和第二搬運(yùn)裝置之間進(jìn)行基板交接的中介的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的功能和反轉(zhuǎn)基板的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的功能。由此，對(duì)于一張基板 而言，由第二搬運(yùn)裝置所進(jìn)行的搬運(yùn)工序變?yōu)閺慕唤硬肯蛱幚聿康陌徇\(yùn)和從 處理部向交接部的搬運(yùn)這兩個(gè)工序。因此，由于第二搬運(yùn)裝置的搬運(yùn)工序被 減少，所以提高了基板處理的處理能力。此外，由于兼具搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的功能和反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的功能的交接部設(shè)置在第一 搬運(yùn)裝置和第二搬運(yùn)裝置之間，所以不必更改現(xiàn)有的基板處理裝置的結(jié)構(gòu) (所謂的平臺(tái)結(jié)構(gòu))。因此，可以抑制基板處理裝置制造成本的提高。根據(jù)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)，由于第二搬運(yùn)裝置的搬運(yùn)工序被減少，所以提高了 基板處理的處理能力。


圖1是第一實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖。圖2是圖1中的基板處理裝置的側(cè)視圖。 圖3是表示處理部結(jié)構(gòu)的剖視圖。 圖4A、圖4B是基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置的示意性結(jié)構(gòu)圖。 圖5是表示基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置的主要部分的外觀的立體圖。 圖6是表示基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置的部分外觀的立體圖。 圖7A、圖7B是表示圖1的基板處理裝置中的分度器機(jī)械手以及基板搬 運(yùn)機(jī)械手的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖8是表示基板的搬運(yùn)工序的流程圖。圖9是第二實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖。圖IOA、圖10B是圖9中的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置的示意性結(jié)構(gòu)圖。圖11是第三實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖。圖12是表示第三實(shí)施方式中的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置的配置的說(shuō)明圖。
具體實(shí)施方式
下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置以及基板處理 方法進(jìn)行說(shuō)明。在下面的說(shuō)明中，所謂基板是指半導(dǎo)體晶片、液晶表示裝置用玻璃基板、 PDP (等離子顯示面板)用的玻璃基板、光掩模用玻璃基板以及光盤(pán)用玻璃基板等。另夕卜，所謂藥液是指例如BHF (緩沖氫氟酸)、DHF (稀釋氫氟酸)、 氟酸、鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸、醋酸、草酸、過(guò)氧化氫或氨水等水溶液、 或者它們的混合溶液。下面，將使用了這些藥液的處理稱為藥液處理。通常，藥液處理完成后， 使用沖洗液對(duì)基板進(jìn)行沖洗處理。所謂沖洗液是指例如純水、碳酸水、臭氧 水、磁性水、還原水(含氫水)或者離子水、或者IPA (異丙醇)等有機(jī)溶 劑。(1)第一實(shí)施方式(1-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖1是第一實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖。此外，圖2是圖1中的 基板處理裝置的側(cè)視圖。另外，在圖1和圖2中，將相互垂直的水平方向定 義為U方向和V方向，將鉛垂方向定義為T(mén)方向。在后面的附圖也是一樣。如圖1所示，基板處理裝置100具有處理區(qū)域A、 B，在處理區(qū)域A、 B 之間具有搬運(yùn)區(qū)域C。在處理區(qū)域A中配置有控制部4、流體箱部2a、 2b、處理部MP1、 MP3 和處理部MP2、 MP4。如圖2所示，處理部MP2、 MP4分別設(shè)置在處理部MP1、 MP3的上部。圖1的流體箱部2a、 2b分別收容有配管、管接頭、閥、流量計(jì)、調(diào)整 器(regulator)、泵、溫度調(diào)節(jié)器、藥液貯存槽等流體相關(guān)設(shè)備，這些流體 相關(guān)設(shè)備關(guān)系到向處理部MP1、 MP2供給藥液以及純水、向處理部MP3、 MP4供給藥液以及純水、從處理部MP1、 MP2和處理部MP3、 MP4排液等。在處理部MP1、 MP3中，利用上述藥液進(jìn)行藥液處理。此外，在處理部 MP2、 MP4中也利用上述藥液進(jìn)行藥液處理。另外，在藥液處理后，使用純 水等進(jìn)行沖洗處理。在處理區(qū)域B配置有流體箱部2c、2d、處理部MP5、MP7和處理部MP6、 MP8。處理部MP6、 MP8分別設(shè)置在處理部MP5、 MP7的上部。圖1的流體箱部2c、 2d分別收容有配管、管接頭、閥、流量計(jì)、調(diào)整 器、泵、溫度調(diào)節(jié)器、藥液貯存槽等流體相關(guān)設(shè)備，這些流體相關(guān)設(shè)備關(guān)系 到向處理部MP5、 MP6供給藥液以及純水、向處理部MP7、 MP8供給藥液以及純水、從處理部MP5、 MP6和處理部MP7、 MP8排液等。在處理部MP5、 MP7、 MP6、 MP8中，進(jìn)行與處理部MP1、 MP3、 MP2、 MP4同樣的藥液處理。下面，在指定處理部MP1、 MP3、 MP5、 MP7和處理部MP2、 MP4、 MP6、 MP8中的任意一個(gè)的情況下，稱為處理部。在本實(shí)施方式中，在流體箱部2a 2d設(shè)置有將作為藥液的氟酸、氨水、 過(guò)氧化氫以及鹽酸分別向處理部供給的藥液供給系統(tǒng)。在搬運(yùn)區(qū)域C中設(shè)置有基板搬運(yùn)機(jī)械手CR。在處理區(qū)域A、 B的一端 側(cè)部配置有對(duì)基板進(jìn)行搬入和搬出的分度器ID。分度器ID具有多個(gè)搬運(yùn)器裝載部la以及分度器機(jī)械手IR。在各搬運(yùn)器 裝載器la上裝載有用于收容基板W的搬運(yùn)器1。在本實(shí)施方式中，雖然作 為搬運(yùn)器1而使用將基板W以密閉狀態(tài)進(jìn)行收容的FOUP (Front opening Unified Pod:前開(kāi)式統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)箱)，但是并不限于此，也可以使用SMIF(Standard Mechanical Inter Face:標(biāo)準(zhǔn)機(jī)械界面)盒、OC (Open Cassette: 開(kāi)放式盒子)等。此外，分度器機(jī)械手IR在分度器ID內(nèi)可以沿U方向移動(dòng)。此處，在本實(shí)施方式中，在分度器ID和基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間的搬運(yùn) 區(qū)域C的位置上設(shè)置了交接部3。交接部3包括使基板W的表面和背面相互 反轉(zhuǎn)的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7。此處，所謂基板W的表面是指形成有回路圖案 等各種圖案的面。該基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7可以在交接部3內(nèi)的一對(duì)搬運(yùn)導(dǎo)軌 3a上沿V方向直線地進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。在這樣的結(jié)構(gòu)中，分度器機(jī)械手IR從搬運(yùn)器1中取出處理前的基板W 并交給基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7，反過(guò)來(lái)，從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7接受處理后的 基板W并將其交回給搬運(yùn)器1 。此外，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7使從分度器機(jī)械手IR接受到的基板W進(jìn)行 反轉(zhuǎn)，并且，使及轉(zhuǎn)后的基板W沿V方向移動(dòng)到基板搬運(yùn)機(jī)械手CR附近。 相關(guān)詳細(xì)內(nèi)容在后面進(jìn)行記述。進(jìn)而，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7接受到的基板W搬 運(yùn)到被指定的處理部中，或者，將從處理部接受到的基板W搬運(yùn)到其他處 理部或交給基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7。控制部4由包括CPU (中央運(yùn)算處理裝置)的計(jì)算機(jī)等組成，對(duì)處理區(qū)域A、 B的各處理部MP1 MP8的動(dòng)作、搬運(yùn)區(qū)域C的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7 及基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的動(dòng)作和分度器ID的分度器機(jī)械手IR的動(dòng)作進(jìn)行控 制。另外，基板處理裝置100設(shè)置在形成有下降流(down-flow)的凈化室內(nèi)。 此外，在處理部MP1 MP8以及搬運(yùn)區(qū)域C也分別形成有下降流。 (1-2)處理部的結(jié)構(gòu)接下來(lái)，參照附圖對(duì)處理部MP1 MP8的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。另外，由于處 理部MP1 MP8的各結(jié)構(gòu)都是相同的，所以下面以處理部MP1的結(jié)構(gòu)為代 表進(jìn)行說(shuō)明。在該處理部MP1中，執(zhí)行清洗基板的處理、蝕刻基板上的膜的處理、 或者除去基板上的聚合物殘?jiān)?例如抗蝕劑殘?jiān)?的處理等。在以下的說(shuō)明 中，將以清洗基板的處理為一例進(jìn)行說(shuō)明。圖3是表示處理部MP1的結(jié)構(gòu)的剖視圖。如圖3所示，處理部MP1包 括殼體101;旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21，其被設(shè)置在該殼體101內(nèi)部，并且將基板W保 持為近似水平的同時(shí)圍繞通過(guò)基板W的大致中心的鉛直軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；風(fēng)機(jī) 過(guò)濾機(jī)組FFU (fan filter unit);其以堵住殼體101的上端開(kāi)口的方式而設(shè)置。 通過(guò)風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組FFU而在殼體101內(nèi)形成下降流。另外，風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組 FFU包括風(fēng)機(jī)和過(guò)濾器。旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21固定在通過(guò)卡盤(pán)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)36而旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸25的上 端上。在利用藥液進(jìn)行清洗處理的情況下，基板W在被旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21保持為 水平的狀態(tài)下而旋轉(zhuǎn)。在旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21的外方設(shè)置有第一馬達(dá)60。在第一馬達(dá)60上連接有第一 轉(zhuǎn)動(dòng)軸61。此外，在第一轉(zhuǎn)動(dòng)軸61上連接著在水平方向延伸的第一臂62， 且在第一臂62的前端設(shè)置有處理液噴嘴50。處理液噴嘴50向基板W上供 給用于清洗基板W的藥液。在旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21的外方設(shè)置有第二馬達(dá)60a。在第二馬達(dá)60a上連接有第 二轉(zhuǎn)動(dòng)軸61a，在第二轉(zhuǎn)動(dòng)軸61a上連接著第二臂62a。此外，在第二臂62a 的前端設(shè)置有純水噴嘴50a。純水噴嘴50a在清洗處理后的沖洗處理中向基 板W上供給純水。在使用處理液噴嘴50進(jìn)行清洗處理時(shí)，純水噴嘴50a退 避到給定的位置。旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21的旋轉(zhuǎn)軸25由中空軸構(gòu)成。在旋轉(zhuǎn)軸25的內(nèi)部插入了處 理液供給管26。純水或者清洗液等的藥液被供給在處理液供給管26中。處 理液供給管26延伸到接近由旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21保持的基板W的下表面的位置。 在處理液供給管26的前端設(shè)置有向基板W下表面中央噴出藥液的下表面噴 嘴27。旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21被容納在處理杯23內(nèi)。在處理杯23的內(nèi)側(cè)設(shè)置有圓筒狀 的分隔壁33。此外，以包圍旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21的周?chē)姆绞?，形成有用于排出?基板W清洗處理中使用過(guò)的藥液的排液空間31。進(jìn)而，以包圍排液空間31 的方式，在處理杯23和分隔壁33之間形成有用于回收在基板W清洗處理 中使用過(guò)的藥液的回收液空間32。在排液空間31連接著用于向排液處理裝置(未圖示)引導(dǎo)藥液的排液 管34，而回收液空間32連接著用于向回收再利用裝置(未圖示)引導(dǎo)藥液 的回收管35。在處理杯23的上方設(shè)置有用于防止藥液從基板W向外方飛散的擋板 24。該擋板24是相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸25旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的形狀。在擋板24的上端部?jī)?nèi) 表面，呈環(huán)狀地形成有剖面為" < "字狀的排液引導(dǎo)槽41。在擋板24的下端部?jī)?nèi)表面形成有回收液引導(dǎo)部42，該回收液引導(dǎo)部42 是由向外側(cè)下方傾斜的傾斜面構(gòu)成的。在回收液引導(dǎo)部42的上端附近，形 成有用于收容處理杯23的分隔壁33的分隔壁收容槽43。在上述擋板24上 連接著由滾珠螺桿機(jī)構(gòu)等構(gòu)成的擋板升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)。擋板升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使擋板24在回收位置和排液位置之間進(jìn)行上下運(yùn)動(dòng)， 所述回收位置是回收液引導(dǎo)部42與由旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21保持的基板W的外周端 面相對(duì)向的位置，所述排液位置是排液引導(dǎo)槽41與由旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21保持的基 板W的外周端面相對(duì)向的位置。在擋板24位于回收位置(如圖3所示的擋板24的位置)的情況下，從 基板W向外側(cè)飛散的藥液通過(guò)回收液引導(dǎo)部42而導(dǎo)入到回收液空間32中， 并通過(guò)回收管35被回收。另一方面，在擋板24位于排液位置的情況下，從 基板W向外側(cè)飛散的藥液通過(guò)排液引導(dǎo)槽41而導(dǎo)入到排液空間31中，并 通過(guò)排液管34被排液。通過(guò)以上結(jié)構(gòu)進(jìn)行藥液的排液以及回收。另外，在將基板W搬入到旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21時(shí)，擋板升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使擋板24向比排液位置更下方的位置退避， 移動(dòng)到擋板24的上端部24a處于比旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21的基板W的保持高度更低的 位置。在旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21的上方設(shè)置有中心部有開(kāi)口的圓板狀的遮斷板22。從臂 28的前端附近沿鉛垂向下方向設(shè)置有支承軸29，在該支承軸29的下端安裝 著遮斷板22，該遮斷板22與由旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21保持的基板W的上表面相對(duì)向。在支承軸29的內(nèi)部，插入了與遮斷板22開(kāi)口相連通的氮?dú)夤┙o通道30。 向氮?dú)夤┙o通道30供給氮?dú)?N2)。該氮?dú)夤┙o通道30在利用純水進(jìn)行沖 洗處理之后的干燥處理時(shí)，向基板W供給氮?dú)狻４送?，在氮?dú)夤┙o通道30 的內(nèi)部，插入了與遮斷板22的開(kāi)口相連通的純水供給管39。向純水供給管 39供給純水等。在臂28上連接著遮斷板升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)37和遮斷板旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38。遮 斷板升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)37使遮斷板22在接近由旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21保持的基板W的上 表面的位置與從旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)21遠(yuǎn)離至上方的位置之間進(jìn)行上下運(yùn)動(dòng)。此外， 遮斷板旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)38使遮斷板22旋轉(zhuǎn)。 (1-3)基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)及動(dòng)作接下來(lái)，參照附圖對(duì)基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖4A、圖4B是圖1的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的示意性結(jié)構(gòu)圖。圖4A是 基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的側(cè)視圖，圖4B是基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的俯視圖。此 外，圖5是表示基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的主要部分的外觀的立體圖，圖6是表 示基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的部分外觀的立體圖。如圖4A、圖4B所示，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7包括反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70和移動(dòng)機(jī) 構(gòu)30。反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70具有第一支承構(gòu)件71、第二支承構(gòu)件72、多個(gè)基板支承銷 73a、 73b、第一可動(dòng)構(gòu)件74、第二可動(dòng)構(gòu)件75、固定板76、連桿(link)機(jī) 構(gòu)77、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)78和座板部79。如圖5所示，第一支承構(gòu)件71由六根呈放射狀延伸的棒狀構(gòu)件構(gòu)成。 在六根棒狀構(gòu)件的各前端部分別設(shè)置有基板支承銷73a。同樣，如圖6所示，第二支承構(gòu)件72也由六根呈放射狀延伸的棒狀構(gòu) 件構(gòu)成。在該六根棒狀構(gòu)件的各前端部分別設(shè)置有基板支承銷73b。另外，在本實(shí)施方式中，雖然第一和第二支承構(gòu)件71、 72是由六根棒 狀構(gòu)件構(gòu)成的，但是并不局限于此，第一和第二支承構(gòu)件71、 72也可以由 其他任意數(shù)量的棒狀構(gòu)件或者其他任意形狀的構(gòu)件構(gòu)成，例如，由具有沿著 多個(gè)基板支承銷73a、 73b的外周的圓板或者多邊形等形狀的構(gòu)件構(gòu)成。圖5中的第一可動(dòng)構(gòu)件74是呈"〕"字狀。第一支承構(gòu)件71被固定在 第一可動(dòng)構(gòu)件74的一端上。第一可動(dòng)構(gòu)件74的另一端與連桿機(jī)構(gòu)77相連 接。同樣，圖6中的第二可動(dòng)構(gòu)件75也是呈"〕"字狀。第二支承構(gòu)件72 被固定在第二可動(dòng)構(gòu)件75的一端上。第二可動(dòng)構(gòu)件75的另一端與連桿機(jī)構(gòu) 77相連接。連桿機(jī)構(gòu)77被安裝在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)78的旋轉(zhuǎn)軸上。該連桿機(jī)構(gòu)77 和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)78被安裝在固定板76上。在圖5的連桿機(jī)構(gòu)77中內(nèi)置有氣缸等，可以使第一可動(dòng)構(gòu)件74和第二 可動(dòng)部件75有選擇地轉(zhuǎn)移到相對(duì)遠(yuǎn)離的狀態(tài)或者接近的狀態(tài)。此外，在旋 轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)78中內(nèi)置有馬達(dá)等，能夠通過(guò)連桿機(jī)構(gòu)77使第一可動(dòng)構(gòu)件74和第 二可動(dòng)構(gòu)件75圍繞水平方向的軸旋轉(zhuǎn)例如180度。如圖4A、圖4B所示，移動(dòng)機(jī)構(gòu)30具有底座31、 一對(duì)搬運(yùn)導(dǎo)軌3a、直 動(dòng)機(jī)構(gòu)3b、驅(qū)動(dòng)部3c、結(jié)合構(gòu)件3d和一對(duì)滑動(dòng)塊3e。另外，在圖4B中， 為了簡(jiǎn)化而省略了結(jié)合構(gòu)件3d等一部分構(gòu)件的圖示。一對(duì)搬運(yùn)導(dǎo)軌3a在V方向被平行地固定在底座31上。 一對(duì)滑動(dòng)塊3e 被安裝在一對(duì)搬運(yùn)導(dǎo)軌3a上，且可以自由滑動(dòng)。反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70的座板部79 被安裝在滑動(dòng)塊3e上。直動(dòng)機(jī)構(gòu)3b具有例如滾珠螺桿機(jī)構(gòu)和內(nèi)置對(duì)其提供驅(qū)動(dòng)力的馬達(dá)的電 動(dòng)氣缸。在直動(dòng)機(jī)構(gòu)3b上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)部3c。驅(qū)動(dòng)部3c通過(guò)結(jié)合構(gòu)件3d與 座板部79相結(jié)合。在這樣的結(jié)構(gòu)中，通過(guò)直動(dòng)機(jī)構(gòu)3b使驅(qū)動(dòng)部3c沿著與搬運(yùn)導(dǎo)軌3a平行 的方向移動(dòng)，從而使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70沿著搬運(yùn)導(dǎo)軌3a在V方向上進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。在此，參照附圖對(duì)基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。最初，通過(guò)分度器機(jī)械手IR (圖1)將基板W搬入到基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝 置7中。此時(shí)，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70移動(dòng)到靠近分度器機(jī)械手IR —側(cè)的搬運(yùn)導(dǎo)軌3a 的端部(以下稱為第一交接位置)。在第一可動(dòng)構(gòu)件74和第二可動(dòng)構(gòu)件75 在垂直方向上遠(yuǎn)離的狀態(tài)下，基板W通過(guò)分度器機(jī)械手IR被裝載到第二支承構(gòu)件72的多個(gè)基板支承銷73b上。接下來(lái)，如圖4A所示，通過(guò)連桿機(jī)構(gòu)77的動(dòng)作，使第一可動(dòng)構(gòu)件74 和第二可動(dòng)構(gòu)件75轉(zhuǎn)移到在垂直方向上接近的狀態(tài)。由此，多個(gè)基板支承 銷73a、 73b分別支承著基板W的兩面。接下來(lái)，如圖4B所示，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70在一對(duì)搬運(yùn)導(dǎo)軌3a上沿著V方向， 向圖1中的基板搬運(yùn)機(jī)械手CR側(cè)移動(dòng)，同時(shí)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)78的動(dòng)作使第 一可動(dòng)構(gòu)件74和第二可動(dòng)構(gòu)件75圍繞U方向的軸進(jìn)行180度的旋轉(zhuǎn)。由此， 基板W在被保持在多個(gè)基板支承銷73a、 73b之間的同時(shí)，同第一可動(dòng)構(gòu)件 74和第二可動(dòng)構(gòu)件75—起旋轉(zhuǎn)180度，所述多個(gè)基板支承銷73a、 73設(shè)置 在第一保持構(gòu)件71和第二保持構(gòu)件72上。這樣一來(lái)，基板W被反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70反轉(zhuǎn)，并且向基板搬運(yùn)機(jī)械手CR附 近移動(dòng)。此時(shí)，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70移動(dòng)到靠近基板搬運(yùn)機(jī)械手CR—側(cè)的搬運(yùn)導(dǎo)軌 3a的端部(以下稱為第二交接位置)。接著，通過(guò)連桿機(jī)構(gòu)77的動(dòng)作，使第一可動(dòng)構(gòu)件74和第二可動(dòng)構(gòu)件75 轉(zhuǎn)移到在垂直方向上遠(yuǎn)離的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，通過(guò)基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將 基板W從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7搬出。另一方面，在通過(guò)基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將基板W搬入到基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝 置7中的情況下，通過(guò)與上述相反的動(dòng)作，基板W被反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70反轉(zhuǎn)，并 且向分度器機(jī)械手IR的附近移動(dòng)。在該狀態(tài)下，通過(guò)分度器機(jī)械手IR將基 板W從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7搬出。(1-4)分度器機(jī)械手和基板搬運(yùn)機(jī)械手的各結(jié)構(gòu)圖7A、圖7B是表示圖1的基板處理裝置100中的分度器機(jī)械手IR和 基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖7A是表示分度器機(jī)械手IR的多關(guān) 節(jié)臂的結(jié)構(gòu)，圖7B是表示基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的多關(guān)節(jié)臂的結(jié)構(gòu)。另外， 關(guān)于圖7A、圖7B中的0 ，將在紙面上的順時(shí)針?lè)较蛟O(shè)為+ e方向，將在紙 面上的逆時(shí)針?lè)较蛟O(shè)為-e方向。如圖7A所示，分度器機(jī)械手IR具有 一對(duì)搬運(yùn)臂am4、 cm4，其用于 保持基板W;進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)aml、 am2、 am3和cml、 cm2、 cm3，其用于使 這一對(duì)搬運(yùn)臂am4、 cm4相對(duì)于分度器機(jī)械手主體IRH相互獨(dú)立地進(jìn)退；旋 轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)，其使分度器機(jī)械手主體IRH圍繞鉛垂軸向士 e方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)，其使分度器機(jī)械手主體IRH在T方向 上升降；以及U方向移動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)，其使分度器機(jī)械手主體IRH 在U方向上移動(dòng)。進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)aml、 am2、 am3和cml、 cm2、 cm3為多關(guān)節(jié)臂型，在保 持一對(duì)搬運(yùn)臂am4、 cm4的姿勢(shì)的同時(shí)，可以使它們?cè)谒椒较蛏线M(jìn)退。一 個(gè)搬運(yùn)臂am4在比另 一個(gè)搬運(yùn)臂cm4更上方的位置進(jìn)退，在一對(duì)搬運(yùn)臂am4、 cm4都退避在分度器機(jī)械手主體IRH的上方的初始狀態(tài)下，這對(duì)搬運(yùn)臂am4、 cm4是上下重合的。分度器機(jī)械手主體IRH根據(jù)控制部4 (圖1)的指示來(lái)驅(qū)動(dòng)進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī) 構(gòu)aml、 am2、 am3和cml、 cm2、 cm3。該進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)aml、 am2、 am3 和cml、 cm2、 cm3具有由馬達(dá)、金屬絲和滑輪等組成的驅(qū)動(dòng)裝置，所述馬 達(dá)用于使一對(duì)搬運(yùn)臂am4、 cm4進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。通過(guò)這樣的機(jī)構(gòu)， 一對(duì)搬運(yùn) 臂am4、 cm4被分別直接地提供驅(qū)動(dòng)力，而可以在水平方向進(jìn)行進(jìn)退移動(dòng)。由此，分度器機(jī)械手IR的搬運(yùn)臂am4、 cm4在支承著基板W的狀態(tài)下 可以在T方向移動(dòng)、向± 9方向轉(zhuǎn)動(dòng)且可以伸縮。此外，在搬運(yùn)臂am4、 cm4上表面安裝有多個(gè)基板支承部PS。在本實(shí)施 方式中，沿著被裝載在搬運(yùn)臂am4、 cm4上表面上的基板W的外周大致均勻 地分別安裝有四個(gè)基板支承部PS。該四個(gè)基板支承部PS支承著基板W。另 外，基板支承部PS的個(gè)數(shù)并不局限為四個(gè)，只要是可以穩(wěn)定地支承基板W 的個(gè)數(shù)就可以。在基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70處于第一交接位置時(shí)，分度器機(jī) 械手IR，在與基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7相對(duì)向的位置，使搬運(yùn)臂am4、 cm4中的 任意一個(gè)朝著基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7在V方向上前進(jìn)，從而可以對(duì)反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu) 70進(jìn)行基板W的交接。接著，如圖7B所示，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR具有 一對(duì)搬運(yùn)臂bm4、 dm4， 其用于保持基板W;進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)bml、 bm2、 bm3和dml、 dm2、 dm3， 其用于使該一對(duì)搬運(yùn)臂bm4、 dm4相對(duì)于基板搬運(yùn)機(jī)械手主體CRH相互獨(dú) 立進(jìn)退；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)，其用于使基板搬運(yùn)機(jī)械手主體CRH圍 繞鉛垂軸向士 e方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)，其用于使基板搬 運(yùn)機(jī)械手主體CRH在T方向上進(jìn)行升降。進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)bml、 bm2、 bm3和dml、 dm2、 dm3為多關(guān)節(jié)臂型，在 保持一對(duì)搬運(yùn)臂bm4、 dm4的姿勢(shì)的同時(shí)，可以使它們?cè)谒椒较蛏线M(jìn)退。 一個(gè)搬運(yùn)臂bm4在比另一個(gè)搬運(yùn)臂dm4更上方的位置進(jìn)行進(jìn)退，在一對(duì)搬 運(yùn)臂bm4、 dm4都退避在基板搬運(yùn)機(jī)械手主體CRH的上方的初始狀態(tài)下， 這對(duì)搬運(yùn)臂bm4、 dm4是上下重合的?；灏徇\(yùn)機(jī)械手主體CRH根據(jù)控制部4 (圖1)的指示來(lái)驅(qū)動(dòng)進(jìn)退驅(qū)動(dòng) 機(jī)構(gòu)bml、 bm2、 bm3和dml、 dm2、 dm3。該進(jìn)退驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)bml、 bm2、 bm3 和dml、 dm2、 dm3具有由馬達(dá)、金屬絲和滑輪等組成的驅(qū)動(dòng)裝置，所述馬 達(dá)用于使一對(duì)搬運(yùn)臂bm4、 dm4進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。通過(guò)這樣的機(jī)構(gòu)， 一對(duì)搬運(yùn) 臂bm4、 dm4被分別直接地提供驅(qū)動(dòng)力，而可以在水平方向進(jìn)行進(jìn)退移動(dòng)。由此，搬運(yùn)臂bm4、 dm4在支承著基板W的狀態(tài)下可以在T方向移動(dòng)、 可以向± e方向轉(zhuǎn)動(dòng)且可以伸縮。此外，在基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的搬運(yùn)臂bm4、 dm4上表面安裝有多個(gè)基 板支承部PS。在本實(shí)施方式中，沿著被裝載在搬運(yùn)臂bm4、 dm4上表面上的 基板W的外周大致均勻地安裝有四個(gè)基板支承部PS。該四個(gè)基板支承部PS 支承著基板W。另外，基板支承部PS的個(gè)數(shù)并不局限為四個(gè)，只要是可以 穩(wěn)定地支承基板W的個(gè)數(shù)就可以。在基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70處于第二交接位置時(shí)，基板搬運(yùn) 機(jī)械手CR使搬運(yùn)臂bm4、 dm4中的任意一個(gè)朝著基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7在V 方向上前進(jìn)，從而可以對(duì)反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70進(jìn)行基板W的交接。另外，在本實(shí)施方式中，雖然分度器機(jī)械手IR和基板搬運(yùn)機(jī)械手CR都 是分別具有一對(duì)搬運(yùn)臂am4、 cm4和bm4、 dm4的雙臂型的機(jī)械手，并以此 為例進(jìn)行了說(shuō)明，但是，分度器機(jī)械手IR和基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的任意一個(gè) 或者全部也可以是只具有一個(gè)搬運(yùn)臂的單臂型的機(jī)械手。 (1-5)基板搬運(yùn)工序的一例接下來(lái)，針對(duì)基板W的搬運(yùn)工序的一例進(jìn)行說(shuō)明，基板W的搬運(yùn)工序 并不局限于此。圖8是表示基板W的搬運(yùn)工序的流程圖。如圖8所示，最初，基板反 轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70向分度器機(jī)械手IR側(cè)的第一交接位置移動(dòng)。分 度器機(jī)械手IR從搬運(yùn)器1取出基板W并交給基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7(步驟S1)。接著，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70使從分度器機(jī)械手IR接受到 的基板W反轉(zhuǎn)，并且，沿V方向向基板搬運(yùn)機(jī)械手CR側(cè)的第二交接位置 移動(dòng)(步驟S2)。接著，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7接受基板W(步驟S3 )。 然后，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將基板W搬入到處理部MP1 MP8的任意一個(gè) 中(步驟S4)。接下來(lái)，通過(guò)上述任意一個(gè)處理部對(duì)基板W實(shí)施處理(步驟S5)。接 著，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將處理后的基板W從上述任意一個(gè)處理部中搬出(步 驟S6)。然后，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將該基板W交給基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7 (步驟S7)。接著，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7使從基板搬運(yùn)機(jī)械手CR接受到的基板W反 轉(zhuǎn)，并且，沿著上述V方向向分度器機(jī)械手IR側(cè)的第一交接位置移動(dòng)(步 驟S8)。然后，分度器機(jī)械手IR從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7接受基板W (步驟 S9)。之后，分度器機(jī)械手IR將基板W收容到給定的搬運(yùn)器1內(nèi)。 (1-6)第一實(shí)施方式的效果根據(jù)本實(shí)施方式中的基板處理裝置100，交接部3的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置 7兼有在分度器機(jī)械手IR和基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間進(jìn)行基板W交接的 中介的梭動(dòng)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的功能和使基板W反轉(zhuǎn)的基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的功能。艮卩， 基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的移動(dòng)機(jī)構(gòu)30使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70在第一交接位置和第二交 接位置之間反復(fù)地進(jìn)行直線前進(jìn)移動(dòng)，從而進(jìn)行分度器機(jī)械手IR與基板搬 運(yùn)機(jī)械手CR之間的基板W交接以及基板W反轉(zhuǎn)。由此，對(duì)于一張基板W而言，由基板搬運(yùn)機(jī)械手CR所進(jìn)行的搬運(yùn)工序 變?yōu)閺幕宸崔D(zhuǎn)移動(dòng)裝置7向處理部的搬運(yùn)和從處理部向基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置 7的搬運(yùn)這兩個(gè)工序。這樣，由于基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的搬運(yùn)工序被減少，所以提高了基板W 處理的處理能力。此外，由于具有基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的交接部3被設(shè)置在分度器機(jī)械手 IR與基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間的搬運(yùn)區(qū)域C的位置，所以不必更改現(xiàn)有的基 板處理裝置的結(jié)構(gòu)(所謂的平臺(tái)結(jié)構(gòu))。因此，可以抑制基板處理裝置100 制造成本的提高。(2)第二實(shí)施方式 (2-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu) 圖9是第二實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖。如圖9所示，第二實(shí)施方式中的基板處理裝置100a的結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施 方式中的基板處理裝置100的結(jié)構(gòu)的區(qū)別點(diǎn)在于交接部3具有替代了基板 反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a。下面，參照附圖就這一點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明。 (2-2)基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)及動(dòng)作圖IOA、圖10B是圖9中的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的示意性結(jié)構(gòu)圖。圖 10A是基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的側(cè)視圖，圖10B是基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的俯 視圖。如圖IOA所示，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的結(jié)構(gòu)與上述基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7 (圖4A、圖4B)的結(jié)構(gòu)的區(qū)別在于替代了移動(dòng)機(jī)構(gòu)30而設(shè)置了移動(dòng)機(jī)構(gòu) 30a。移動(dòng)機(jī)構(gòu)30a包括底座31、旋轉(zhuǎn)軸3g和馬達(dá)3f。馬達(dá)3f被固定在底座31上。馬達(dá)3f的軸通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸3g與座板部79的 下表面相連接。基于這樣的結(jié)構(gòu)，如圖10B所示，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70可以向士9 方向(圍繞T方向的軸)旋轉(zhuǎn)。對(duì)于該基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70，可以從與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)78相反 一側(cè)的交接側(cè)S進(jìn)行基板W的交接。在本實(shí)施方式中，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a被配置在基板W交接時(shí)的分度 器機(jī)械手IR的位置和基板W交接時(shí)的基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的位置的連接線 上。接下來(lái)，對(duì)本實(shí)施方式中的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。 首先，分度器機(jī)械手IR向與基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a相對(duì)向的位置移動(dòng)。此外，通過(guò)移動(dòng)機(jī)構(gòu)30a的旋轉(zhuǎn)，使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70的交接側(cè)S與分度器機(jī)械手IR相對(duì)向。在該狀態(tài)下，分度器機(jī)械手IR的一個(gè)搬運(yùn)臂沿與V方向平行的進(jìn)退方 向V1方向前進(jìn)，從而將基板W搬入基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a中。然后，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70圍繞旋轉(zhuǎn)軸3g向9方向旋轉(zhuǎn)180度，同時(shí)，該反轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)70的第一可動(dòng)構(gòu)件74和第二可動(dòng)部件75通過(guò)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)78的動(dòng)作圍繞 水平方向的軸旋轉(zhuǎn)180度。由此，在基板W被反轉(zhuǎn)，并且，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70的交接側(cè)S與基板搬運(yùn)機(jī)械手CR相對(duì)向。在此狀態(tài)下，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的一個(gè)搬運(yùn)臂沿與V方向平行的進(jìn)退 方向V2方向前進(jìn)，從而將基板W從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a搬出。另一方面，在通過(guò)基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將基板W搬入到基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝 置7a中的情況下，通過(guò)與上述相反的動(dòng)作，基板W被反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70反轉(zhuǎn)，并 且，通過(guò)反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70的旋轉(zhuǎn)使交接側(cè)S與分度器機(jī)械手IR相對(duì)向。在該狀 態(tài)下，通過(guò)分度器機(jī)械手IR將基板W從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a搬出。 (2-3)第二實(shí)施方式的效果根據(jù)本實(shí)施方式中的基板處理裝置100a，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a兼具 在分度器機(jī)械手IR和基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間進(jìn)行基板W交接的中介的梭 動(dòng)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的功能和反轉(zhuǎn)基板W的基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的功能。g卩，基板反轉(zhuǎn)移 動(dòng)裝置7a的移動(dòng)機(jī)構(gòu)30a使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70在朝向進(jìn)退方向VI的第一交接方 向和朝向進(jìn)退方向V2的第二交接方向之間進(jìn)行180度的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，從而在 分度器機(jī)械手IR與基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間進(jìn)行基板W的交接以及基板W 的反轉(zhuǎn)。由此，對(duì)于一張基板W而言，由基板搬運(yùn)機(jī)械手CR所進(jìn)行的搬運(yùn)工序 變?yōu)閺幕宸崔D(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a向處理部的搬運(yùn)和從處理部向基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝 置7a的搬運(yùn)這兩個(gè)工序。這樣，由于基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的搬運(yùn)工序被減少，所以提高了基板W 處理的處理能力。此外，由于具有基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的交接部3被設(shè)置在分度器機(jī)械 手IR與基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間的搬運(yùn)區(qū)域C的位置，所以不必更改現(xiàn)有 的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)(所謂的平臺(tái)結(jié)構(gòu))。因此，可以抑制基板處理裝置 100a制造成本的提高。 (3)第三實(shí)施方式圖11是第三實(shí)施方式的基板處理裝置的俯視圖。如圖11所示，第三實(shí)施方式中的基板處理裝置100b的結(jié)構(gòu)與第二實(shí)施 方式中的基板處理裝置100a的結(jié)構(gòu)的區(qū)別有兩點(diǎn) 一點(diǎn)是沒(méi)有設(shè)置流體箱 部2a、 2c以及處理部MP1、 MP2、 MP5、 MP6;另一點(diǎn)是交接部3的基板 反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的配置不同。因此，本實(shí)施方式的基板處理裝置100b包括4個(gè)處理部MP3、 MP4、 MP7、 MP8。下面，參照附圖對(duì)基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置 7a的配置進(jìn)行說(shuō)明。如圖11所示，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a被配置在從基板W交接時(shí)的分度器 機(jī)械手IR的位置和基板W交接時(shí)的基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的位置的連接線離 開(kāi)到側(cè)方的位置。由此，在分度器機(jī)械手IR對(duì)于搬運(yùn)器1進(jìn)行基板W的收 容和取出處理時(shí)的搬運(yùn)臂的進(jìn)退方向與分度器機(jī)械手IR對(duì)于基板反轉(zhuǎn)移動(dòng) 裝置7a進(jìn)行基板W的交接處理時(shí)的搬運(yùn)臂的進(jìn)退方向之間，分度器機(jī)械手 IR的旋轉(zhuǎn)角度小于180度。圖12是表示第三實(shí)施方式中的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的配置的說(shuō)明圖。如圖12所示，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a被配置在如下的位置在以搬運(yùn)臂 的進(jìn)退方向從朝向搬運(yùn)器1的V方向向-9方向旋轉(zhuǎn)例如120度的方式旋轉(zhuǎn) 了分度器機(jī)械手IR的情況下，分度器機(jī)械手IR可以與基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a 進(jìn)行基板W的交接。接著，對(duì)本實(shí)施方式中的基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。首先，分度器機(jī)械手IR向分度器ID的中央部移動(dòng)，同時(shí)使搬運(yùn)臂的進(jìn) 退方向從朝向搬運(yùn)器1的V方向向-0方向旋轉(zhuǎn)例如120度。此外，通過(guò)移 動(dòng)機(jī)構(gòu)30a (圖IOA、圖10B)的旋轉(zhuǎn)，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70的交接側(cè)S (圖IOA、 圖10B)與分度器機(jī)械手IR相對(duì)向。在該狀態(tài)下，分度器機(jī)械手IR的一個(gè)搬運(yùn)臂沿進(jìn)退方向Vl前進(jìn)，從而 將基板W搬入基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a。然后，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70向+ 8方向旋轉(zhuǎn)例如120度，同時(shí)反轉(zhuǎn)基板W。由此， 如虛線所示，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70的交接側(cè)S (圖IOA、圖10B)與基板搬運(yùn)機(jī)械手 CR相對(duì)向。在此狀態(tài)下，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的一個(gè)搬運(yùn)臂沿與V方向成 例如120度的進(jìn)退方向V2前進(jìn)，從而將基板W從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a搬 出。另一方面，在通過(guò)基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將基板W搬入到從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng) 裝置7a的情況下，通過(guò)與上述相反的動(dòng)作，在基板W被反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70反轉(zhuǎn)， 并且，通過(guò)反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70進(jìn)行例如120度的旋轉(zhuǎn)，而使交接側(cè)S(圖10A、圖 10B)與分度器機(jī)械手IR相對(duì)向。在該狀態(tài)下，通過(guò)分度器機(jī)械手IR將基 板W從基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a搬出。(3-2)第三實(shí)施方式的效果 根據(jù)本實(shí)施方式中的基板處理裝置lOOb，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a兼具 在分度器機(jī)械手IR和基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間進(jìn)行基板W交接的中介的梭 動(dòng)搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的功能和反轉(zhuǎn)基板W的基板反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的功能。即，基板反轉(zhuǎn)移 動(dòng)裝置7a的移動(dòng)機(jī)構(gòu)30a使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70在朝向進(jìn)退方向VI的第一交接方 向和朝向進(jìn)退方向V2的第二交接方向之間進(jìn)行例如120度的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，從 而在分度器機(jī)械手IR與基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間進(jìn)行基板W的交接以及基 板W的反轉(zhuǎn)。由此，對(duì)于一張基板W而言，由基板搬運(yùn)機(jī)械手CR所進(jìn)行的搬運(yùn)工序 變?yōu)閺幕宸崔D(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a向處理部的搬運(yùn)和從處理部向基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝 置7a的搬運(yùn)這兩個(gè)工序。這樣，由于基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的搬運(yùn)工序被減少，所以提高了基板W 處理的處理能力。此外，由于基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a被設(shè)置在從基板W交接時(shí)的分度器機(jī) 械手IR的位置和基板W交接時(shí)的基板搬運(yùn)機(jī)械手CR的位置的連接線離開(kāi) 到側(cè)方的位置。由此，分度器機(jī)械手IR通過(guò)在-e方向旋轉(zhuǎn)小于180度的角 度，而可以在搬運(yùn)器1和基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a之間對(duì)基板W進(jìn)行搬運(yùn)。此 外，基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70通過(guò)在+ e方向旋轉(zhuǎn)小于180度的 角度，而可以在分度器機(jī)械手IR和基板搬運(yùn)機(jī)械手CR之間對(duì)基板W進(jìn)行 交接。由此，分度器機(jī)械手IR的基板搬運(yùn)時(shí)間和基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a的基 板交接時(shí)間被縮短。該結(jié)果是，可以更加提高基板W處理的處理能力。 (4)其他實(shí)施方式在上述實(shí)施方式中，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70是在以從兩面?zhèn)葕A持的方式保持基板 W的狀態(tài)下使基板W反轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)，但是反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70也可以是其他的結(jié)構(gòu)。 例如，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70也可以是在保持基板W周邊相反側(cè)的兩個(gè)位置的狀態(tài)下 使基板W反轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。雖然上述實(shí)施方式中針對(duì)在由任意一個(gè)處理部對(duì)基板W進(jìn)行處理后通 過(guò)基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將處理后的基板W交給基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7、 7a的例 子進(jìn)行了說(shuō)明，但并不局限于此，也可以通過(guò)基板搬運(yùn)機(jī)械手CR將上述處 理后的基板W搬入其他處理部，接著在其他處理部進(jìn)行處理。在上述第三實(shí)施方式中，雖然將基板反轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7a配置在從V方向開(kāi)始以分度器機(jī)械手IR的旋轉(zhuǎn)軸為中心逆時(shí)針?lè)较虻奈恢?，但是并不局限于此，也可以是配置以上述旋轉(zhuǎn)軸為中心順時(shí)針?lè)较虻奈恢谩?5)本發(fā)明的各結(jié)構(gòu)要素和實(shí)施方式各要素的對(duì)應(yīng)以下雖然對(duì)本發(fā)明的各結(jié)構(gòu)要素和實(shí)施方式各要素的對(duì)應(yīng)例進(jìn)行說(shuō)明， 但是本發(fā)明并不只局限于下面的例子。在上述實(shí)施方式中，搬送區(qū)域C是搬入搬出區(qū)域的例子，搬運(yùn)器l是收 容容器的例子，搬運(yùn)器裝載部la是容器裝載部的例子，分度器機(jī)械手IR是 第一搬運(yùn)裝置的例子，基板搬運(yùn)機(jī)械手CR是第二搬運(yùn)裝置的例子，基板反 轉(zhuǎn)移動(dòng)裝置7、 7a是交接部的例子，反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)70是反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的例子，移動(dòng) 機(jī)構(gòu)30、 30a是移動(dòng)機(jī)構(gòu)的例子。此外，在上述實(shí)施方式中，第一交接位置是在第一搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)裝置 之間能夠交接基板的位置的例子，第二交接位置是在第二搬運(yùn)裝置和反轉(zhuǎn)裝 置之間能夠交接基板的位置的例子，搬運(yùn)臂am4、 cm4是第一支承部的例子， 搬運(yùn)臂bm4、 dm4是第二支承部的例子。進(jìn)而，在上述實(shí)施方式中，進(jìn)退方向V1是第一進(jìn)退方向的例子，進(jìn)退 方向V2是第二進(jìn)退方向的例子，±9方向(圍繞T方向的軸)是圍繞近似 鉛垂方向的軸的例子，U方向是第一軸方向的例子，V方向是第二軸方向的 例子，進(jìn)退方向VI是第三軸方向的例子。另外，作為本發(fā)明的各構(gòu)成要素，也可以使用其他各種要素，所述其他 各種要素是具有記載于本發(fā)明中的結(jié)構(gòu)或者功能的要素。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其對(duì)具有一面以及另一面的基板實(shí)施處理，其特征在于，該基板處理裝置具有處理區(qū)域，其對(duì)基板進(jìn)行處理；搬入搬出區(qū)域，其將基板搬入及搬出上述處理區(qū)域；交接部，其在上述處理區(qū)域和上述搬入搬出區(qū)域之間交接基板，上述搬入搬出區(qū)域包括容器裝載部，其用于裝載收容基板的收容容器；第一搬運(yùn)裝置，其在被裝載于上述容器裝載部上的收容容器和上述交接部之間對(duì)基板進(jìn)行搬運(yùn)，上述處理區(qū)域包括處理部，其對(duì)基板進(jìn)行處理；第二搬運(yùn)裝置，其在上述交接部和上述處理部之間對(duì)基板進(jìn)行搬運(yùn)，上述交接部包括反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其使基板的一面以及另一面相互反轉(zhuǎn)；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以便能夠在上述第一搬運(yùn)裝置和上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間交接基板，以及能夠在上述第二搬運(yùn)裝置和上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間交接基板。
2. 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在如下兩個(gè)位置之間在水平方向上往復(fù) 直線移動(dòng)，該兩個(gè)位置為在上述第一搬運(yùn)裝置和上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間能夠交 接基板的位置；以及在上述第二搬運(yùn)裝置和上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間能夠交接基板 的位置。
3. 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一搬運(yùn)裝置具有支承基板并以能夠進(jìn)退的方式設(shè)置的第一支承 部，上述第一支承部在與上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行基板的交接時(shí)，相對(duì)于上述反轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)沿第一進(jìn)退方向進(jìn)行進(jìn)退，上述第二搬運(yùn)裝置具有支承基板并以能夠進(jìn)退的方式設(shè)置的第二支承 部，上述第二支承部在與上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)進(jìn)行基板的交接時(shí)，相對(duì)于上述反轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)沿第二進(jìn)退方向進(jìn)行進(jìn)退；上述移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)圍繞近似鉛垂方向的軸而在朝向上述第 一進(jìn)退方向的第一交接方向和朝向上述第二進(jìn)退方向的第二交接方向之間 旋轉(zhuǎn)移動(dòng)。
4. 如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)以上述第一交接方向和上述第二交接方向之間的旋轉(zhuǎn)角度為180度的方式而配置。
5. 如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)以上述第一交接方向和上述第二交接方向之間的旋轉(zhuǎn)角度小于180度的方式配置。
6. 如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述第一搬運(yùn)裝置以能夠相對(duì)于第一軸方向而平行移動(dòng)的方式設(shè)置，在朝向與上述第一軸方向垂直的第二軸方向的狀態(tài)下，對(duì)裝載于上述容器裝載 部上的收容容器進(jìn)行基板的收容和取出，在朝向相對(duì)于上述第二軸方向小于 180度的第三軸方向的狀態(tài)下，對(duì)上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)交接基板。
7. —種基板處理方法，通過(guò)基板處理裝置對(duì)基板實(shí)施處理，該基板處 理裝置具有包括容器裝載部和第一搬運(yùn)裝置的搬入搬出區(qū)域；包括處理部 和第二搬運(yùn)裝置的處理區(qū)域；在上述處理區(qū)域和上述搬入搬出區(qū)域之間交接 基板的交接部，其特征在于，該基板處理方法包括利用上述第一搬運(yùn)裝置，從裝載于上述容器裝載部上的收容容器中取出 處理前的基板，并將所取出的處理前的基板交給上述交接部的步驟；在上述交接部中利用反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使處理前的基板的一面以及另一面相互 反轉(zhuǎn)，并且，使上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以便能夠?qū)⑻幚砬暗幕鍙纳鲜龇崔D(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)交接到上述第二搬運(yùn)裝置的步驟；利用上述第二搬運(yùn)裝置將處理前的基板從上述交接部搬運(yùn)至上述處理 部的步驟；在上述處理部中對(duì)處理前的基板進(jìn)行處理的步驟；利用上述第二搬運(yùn)裝置將在上述處理部中被處理過(guò)的處理后的基板從 上述處理部搬運(yùn)到上述交接部的步驟；在上述交接部中利用上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使處理后的基板的另一面以及一面 相互反轉(zhuǎn)，并且，使上述反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，以便能夠?qū)⑻幚砗蟮幕鍙纳鲜鼋?接部交接給上述第一搬運(yùn)裝置的步驟；利用上述第一搬運(yùn)裝置從上述交接部接受處理后的基板，并將接受到的 處理后的基板收容到上述收容容器中的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置和基板處理方法?；宸崔D(zhuǎn)移動(dòng)裝置包括反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和移動(dòng)機(jī)構(gòu)。在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)中內(nèi)置有馬達(dá)等，通過(guò)連桿機(jī)構(gòu)，能夠使分別固定有第一和第二支承構(gòu)件的第一可動(dòng)構(gòu)件和第二可動(dòng)構(gòu)件圍繞水平方向的軸旋轉(zhuǎn)例如180度。此外，在底座上與V方向平行地固定有一對(duì)的搬運(yùn)導(dǎo)軌。一對(duì)滑動(dòng)塊被安裝在一對(duì)搬運(yùn)導(dǎo)軌上且能夠自由滑動(dòng)。在滑動(dòng)塊上安裝有反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的座板部。直動(dòng)機(jī)構(gòu)使驅(qū)動(dòng)部在與搬運(yùn)導(dǎo)軌平行的方向上移動(dòng)，從而使反轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)沿著搬運(yùn)導(dǎo)軌在V方向進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101226878SQ200810003188
公開(kāi)日2008年7月23日 申請(qǐng)日期2008年1月15日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月15日
發(fā)明者橋本光治 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社