專利名稱：用于大面積基板處理系統(tǒng)的裝載鎖定室的制作方法
技術領域：
本發(fā)明的實施方案通常是涉及用于將大面積基板轉移到真空處理系統(tǒng) 中的裝載鎖定室及其操作方法。
背景技術：
薄膜晶體管(TFT)通常被用于有源陣列顯示器，例如，計算機和電 視監(jiān)視器，移動電話顯示器，個人數字助理(PDAs)和與日倶增的其它設 備。通常，平板屏面包括兩個中間夾有一層液晶材料的玻璃板。至少其中 一個玻璃板上包括一層置于其上的導電薄膜，該導電薄膜與電源連接。電 源提供給導電薄膜的電會改變晶體材料的定向，以產生圖案顯示。隨著市場對平板屏面技術的認同，對于大顯示器、增加產量以及降低 生產成本的需求已經驅使設備制造商開發(fā)新的系統(tǒng)，以適應平板屏面顯示 器制造的大尺寸玻璃基板?，F行的玻璃加工設備通常能適應高達約1平方 米的基板，在不久的將來，可以設想玻璃加工設備能適應高達并超過1-1/2 平方米的基板。裝備制造如此大基板的設備對平板顯示器制造商來說是相當大的投 資。常規(guī)的系統(tǒng)要求大而且昂貴的硬件。為了抵消這部分投資，高的基板產量是非常期望的。圖9是從AKT(位于Santa Clara, California的Applied Materials lnc獨立的全支公司)得到的一對雙通道裝載鎖定室900的簡化示意圖，通常 的轉移1500x1800mm基板的能力是每小時轉移約60個，裝載鎖定室900 包括兩個形成于室體906中的基板轉移室902、904。每個基板轉移室902、 904都有大約800升的內部體積，兩個基板910置于升降機912上，該升 降機在室902、 904內垂直移動以便于機器人(沒顯示)交換基板。為了獲得高的基板產量，裝載鎖定室，例如上述的一種，要求高性能 的真空泵和排氣系統(tǒng)。但是，增加如此大體積裝載鎖定室的產量是很困難 的。簡單增加抽吸和排氣速度并不能提供合適的方案，因為高抽吸速度會 在裝載鎖定室內導致基板的粒子污染。而且，由于清潔室通常在濕度大于 50%時操作以使靜電最小化，裝載鎖定室的迅速排氣可能導致在裝載鎖定 室內產生不希望的水蒸氣凝結。由于設想未來的系統(tǒng)能處理更大尺寸的基 板，日益關心改進快速轉移大面積基板的裝載鎖定室能力的需求。因而，需要一種用于大面積基板的改進的裝載鎖定室。發(fā)明內容本文提供了一種用于轉移大面積基板的裝載鎖定室及方法。在一個實 施方案中， 一個適用于轉移大面積基板的裝載鎖定室包括多個垂直層疊的 單個基板轉移室。在另一個實施方案中， 一個適用于轉移大面積基板的裝 載鎖定室包括一個室體，室體有一個適用于連接到真空室的第一側和適用 于連接到工廠界面的第二側。室體中包括N個垂直層疊的基板轉移室，其 中N是大于2的整數。鄰近的基板轉移室通過一個基本水平的內壁分離并 與周圍環(huán)境隔離。


上面提到的這種模式中敘述的發(fā)明的特征是能夠獲得并能被具體理解 的。對本發(fā)明更多的詳細描述和上文的簡述，也在附圖所示的實施方案中 涉及。但值得注意的是，附圖所示的只是本發(fā)明典型的實施方案，因此并
不能認為是對發(fā)明范圍的限制，其它包括同等效果的實施方案也被認為是 本發(fā)明。圖1是用于處理大面積基板的處理系統(tǒng)的一個實施方案的頂部平面圖；圖2是包括多個室的裝載鎖定室的一個實施方案的側視圖；圖3是裝載鎖定室沿圖2的截面線3-3的剖視圖；圖3A所示的是圖2中的具有一個共享真空泵的裝載鎖定室圖4A-B是圖3中的裝載鎖定室的局部剖視圖；圖5是定位機構的一個實施方案；圖6-7定位機構的另一個實施方案的剖視圖；圖8是裝載鎖定室的另一個實施方案；和，圖9是現有技術中常規(guī)的雙通道雙基板裝載鎖定室的一個實施方案。 為了便于理解，在可能的情況下，使用相同的附圖標記標注附圖中公 共的相同組件。
具體實施方式
本發(fā)明通常提供一種大體積/高產量的具有多個垂直層疊基板轉移室 的裝載鎖定室。下面詳細描述了本發(fā)明在一個平板屏面處理系統(tǒng)中的利用， 例如，那些可以從AKI (位于Santa Clara,California的Applied Materials lnc獨立的全支公司)得到的。但是，應該理解的是，發(fā)明可以應用于其它 的系統(tǒng)結構中，無論那里，通過大面積基板裝載鎖定室進行高產量基的基 板轉移都是被期望的。圖1是一個適用于處理大面積基板(例如，具有平面面積大于約2.7 平方米的基板)的處理系統(tǒng)150的頂部平面圖。該處理系統(tǒng)150通常具有 通過裝載鎖定室100連接到工廠界面112的轉移室108，裝載鎖定室具有 多個基板移室。轉移室108具有一個雙葉片的真空機器人134置于其中， 以適應于在多個外接處理室132和裝載鎖定室100之間轉移基板。在一個 實施方案中，其中一個處理室132是預熱室，預熱室能在處理之前使基板 達到熱狀態(tài)以提高系統(tǒng)150的產量。通常，轉移室108保持在真空條件下，
以排除在每一塊基板轉移后，調整轉移室108和單獨的處理室132之間壓 力的必要性。工廠界面112通常包括多個基板儲存盒138和一個雙葉片的氣動機器 人136，盒子138通?？稍谛纬捎诠S界面112—側的多個臺140之間移 動。氣動機器人136適應于在盒子138和裝載鎖定室100之間轉移基板 110。通常，工廠界面112保持在或略高于大氣壓。圖2是圖1中多室裝載鎖100—個實施方案的剖面圖。裝載鎖定室100 有一個室體212，室體包括多個垂直層疊、與周圍環(huán)境隔離的基板轉移室， 轉移室通過真空壓緊的、水平內壁214分離。盡管圖2的實施方案中顯示 了三個單個基板轉移室220、 222、 224，但可以預料的是，裝載鎖定室100 的室體212可以包括兩個或多個垂直層疊的基板轉移室。例如，裝載鎖定 室100可以包括N個被N-1個水平內壁分離的基板轉移室，其中N是大 于1的整數?；遛D移室220、 222、 224使其中每一個都容納單個大面積基板110， 從而使每一個室體積最小化以提高快速抽吸和排氣循環(huán)。在圖2所示的實 施方案中，每一個基板轉移室220、 222、 224都有一個等于或小于約1000 升的內部體積，以容納應具有平面表面積2.7平方米的基板。相比較而言， 常規(guī)的設計的雙通道雙基板轉移室900 (圖9所示)有大約1600升的內 部體積?？梢灶A料的是，可以設置本發(fā)明的具有更大寬度和/或長度以及同 等高度的基板轉移室以容納更大的基板。室體212包括第一個側壁202，第二個側壁204,第三個側壁206， 底部208和頂210，第四個側壁302顯示在圖3中第三個側壁206的對面。 室體212是由一個適合在真空條件下使用的剛性材料制成。在一個實施方 案中，室體212是由一個單個鋁塊(例如一塊)制成。或者，室體212可 以由模塊部分制成，每一個模塊部分通常包括基板轉移室220、 222、 224 之一的一部分，并以一種適合保持完全真空的方式裝配，例如，參見附圖 標記218所示的連續(xù)焊接。在圖2所示的實施方案中，內壁214和室體212中除第二側壁206的 其余部分是由單個相近質量的材料制成。第二側壁206密封連接室體212 的其它部分以便于基板轉移室220、 222、 224的加工，并允許在制造和裝 配期間進入室體212的內部?；蛘?，室體212的水平壁214可真空密封到室體212的側壁，借此使 基板轉移室220、 222、 224分離。例如，在裝載鎖定室100的早期裝配階 段，水平壁214可以連續(xù)地焊接到室體212，以使室體212有更大的入口。在室體212中定義的每一個基板轉移室220， 222， 224都包括兩個基 板轉移室進出口。設置該口以便于基板110從裝載鎖定室100進出，在圖 2所示的實施方案中，置于室體212底部208的第一個基板轉移室220包 括寬度大于2000mm的第一個基板進出口 230和第二個口基板進出口 232，通過室體212的第一個側壁202形成第一個基板進出口 230，并將 第一個基板轉移室220連接到處理系統(tǒng)150的中心轉移室108。通過室體 212的第二個壁204形成第二個基板進出口 232，并將第一個基板轉移室 220連接到工廠界面112。在圖2所示的實施方案中，基板進出口 230、 232置于室體212的對立側，但是，口 230、 232可以定位于室體212的 鄰近壁。每一個基板進出口 230、 232都可以通過各自的槽閥226、 228選擇性 地密封，槽閥適應于選擇性地使第一基板轉移室220與轉移室108和工廠 界面112的周圍相隔離。槽閥226、 228通過一個執(zhí)行機構242 (在圖2 的虛線中顯示的一個執(zhí)行機構242通常置于室體212的外部)在打開和關 閉的位置之間移動。在圖2所示的實施方案中，每一個槽閥226、 228沿 著第一個邊緣樞軸地連接到室體212,并能通過在執(zhí)行機構242在打開和 關閉的位置之間旋轉。第一槽閥226從第一個側壁202的內側密封第一基板進出口 230,并 借此定位在第一基板轉移室220內，以使第一基板轉移室220和中心基板 轉移室108的真空環(huán)境之間的真空(例如，壓力)差別幫助槽閥226逆著 第一側壁202裝載和密封，借此增強真空密封。相應地，第二槽閥228置 于第二側壁204的外部并借此定位，以使工廠界面112的周圍環(huán)境與第一 基板轉移室220的真空環(huán)境之間的壓差幫助密封第二基板的進出口 232。 所用的槽閥的例子獲益于1996年12月3日公開的美國專利N0.5579718 美國專利NO.6045620,在本文中將二者全文 引用供參考。第二個基板轉移室222具有類似的構造，帶有進出口 234、 236和槽 閥226、 228。第三個基板轉移室224具有類似的構造，帶有進出口 238、 240和槽閥226、 228。基板110被支撐在第一個基板轉移室220的底部208和內壁214的上 方，內壁214通過多個基板支撐體244固定第二個和第三個基板轉移室 222、 224的底界。設置基板支撐體244并分開將基板110支撐在底部208 (或者壁214)上面一個高度，以免基板和室體212接觸。設置基板支撐 體244以使刮擦和基板污染達到最小。在圖2所示的實施方案中，基板支 撐體244是具有圓形的頂部246的不銹釘。在美國專利N0.6528767 (2003年5月4日申請)，美國專利NO.09/982,406 ( 2001年10月17 曰申請)和美國專利NO.10/376857 (2003年2月27日申請)中，描述 了其它適合的基板支撐體，所有這些在此全文引用供參考。圖3是裝載鎖定室沿圖2的截面線3-3的剖視圖，每一個基板轉移室 220、 222、 224的側壁包括至少一個通過此處的口，設置口以便于控制每 一個室內腔的壓力。在圖3所示的實施方案中，室體212包括一個通過室 體212的第四側壁302形成的排氣口 306和一個通過室體212的第三側壁 206形成的真空口 304，用于排氣和抽吸第一基板轉移室220的下部。閥 310、 312分別連接到排氣口 304和真空口 306以選擇性地阻止流體穿過 此處流動。真空口 306連接到真空泵308，通過泵來選擇性地降低第一基 板轉移室220的內腔壓力，以達到與轉移室108的壓力基本上匹配的水平。再參考圖2，當轉移室108和裝載鎖定室100的第一基板轉移室220 之間的壓力基本上相等時，可以打開槽閥226以允許被處理的基板轉移到 裝載鎖定室100中，真空機器人134通過第一個基板進出口 230將基板處 理轉移到轉移室108中，放置基板后，從裝栽鎖定室100的第一基板轉移 室220的轉移室108返回，槽閥226關閉并且閥310打開，并由此允許排 放氣體，例如，N2和/或He，氣體通過排氣口進入到裝載鎖定室100的第 一基板轉移室220內，并升高內腔110的壓力。通常，過濾通過排氣口 304
進入到內腔110的排放氣體以使基板上的潛在粒子污染降到最低。 一旦第 一基板轉移室220內的壓力與工廠界面112的壓力基本相等，槽閥224打 開，因而使氣動機器人136在第一基板轉移室220和基板儲存盒138之間 轉移基板，盒138通過第二基板進出口 232連接到工廠界面112。其它的基板轉移室222、 224具有類似配置。盡管在圖3中顯示的每 一個基板轉移室220、 222、 224都有單獨的泵308, —個或更多的基板轉 移室220、 222、 224可以共享一個單級真空泵，該泵具有合適的流量控制 以便于在圖3A所示的室之間選擇性地抽吸。當基板轉移室220、 222、 224設置體積為小于或等于1000公升時， 正如上面圖9所示，常規(guī)雙基板雙通道裝載鎖定室900具有每小時轉移大 約60個基板的轉移率，與之相比，裝載鎖定室100在降低的抽吸率下每 小時可以轉移大約70個基板。增加裝載鎖定室900的抽吸速率以提高基 板的產量將導致室內冷凝。與裝載鎖定室900的每次循環(huán)為130秒相比較， 本發(fā)明降低的抽吸速率每次吸/排循環(huán)大約在160-180秒之間，基本上更長 的循環(huán)周期會降低室內的空氣速度，因此降低基板上的粒子污染的概率， 同時消除了凝結。此外，使用低容積的泵308可以達到更大的基板產量， 并能降低系統(tǒng)成本。而且，由于基板轉移室的層疊設置，可以實現更大的基板產量而不必 使裝載鎖定室增加到比轉移單個基板所必需的占地面積更多。在降低FAB 整體成本過程中非常期望最小化的占地面積。因此，具有三個單個基板轉 移室220、 222、 224的裝載鎖的整體高度低于雙室系統(tǒng)700，進而在一個 更小、更低成本的部件中提供更大的產量。第 一基板轉移室220的底部208和內壁214可能也包括一個或多個形 成于其中的凹槽316，內壁214形成第二和第三基板轉移室222、 224的 底界。正如圖4A-B中所示，在置于基板支撐體244上的基板110和機器 人葉片402之間，設置凹槽316以提供間隙。葉片402(顯示在圖4A-B中的一個指狀物)被移入凹槽316。 一旦到 達第一基板轉移室220的預定位置，葉片402將升高以從支撐體244上提 升基板110。然后，運送基板110的葉片402從第一基板轉移室220中縮
回?；?00以反轉的方式放在基板支撐體244上。圖5是定位機構500的一個實施方案的室體212的局部剖視圖，定位 機構500可以用來促使基板110進入到第一基板轉移室220內的預定位 置。第二個定位機構(沒顯示)置于第一基板轉移室220對面的角落，以 配合所示的機構500的操作。任選的，在第一基板轉移室220內的每個角 落均可設置定位機構500。其它的基板轉移室222、 226也類似配備以使 基板定位。例如，當通過氣動機器人136把基板110放在基板支撐體244的位置 和基板110相對于基板支撐體244的預定位置(即設計位置)之間有誤差 時，定位機構500可以校正這個定位誤差。與利用氣動機器人136調整基 板設置的常規(guī)校正方法不同，通過裝載鎖定室100內的定位機構500使基 板110定位的方法提供更大的機動性能和較低的系統(tǒng)成本。例如，由于裝 載鎖定室100給基板支撐體244上的基板提供更寬松的位置，因此，帶有 定位機構500的基板轉移室280在裝載鎖定室100和工廠界面112提供的 使用者之間提供更大的兼容性，借此降低高精確度的機器人和/或通過工廠 界面提供者產生校正的機器人動作的算法的需要。此外，當機器人定位精 度設計標準降低后，可利用低成本的機器人。在圖5的實施方案中，定位機構包括兩個滾筒502、 504連接到桿508 第一末端506。延伸通過槽518的桿508在釘510附近裝軸轉動，槽518 通過側壁302形成。執(zhí)行機構512連接桿508以逆著基板110的鄰近邊緣 的方向推動滾筒502、 504。執(zhí)行機構512，例如一個充氣的圓筒，通常定 位在室體212的外部。外殼520密封置于槽518之上，并包括波紋管或其 它適合的密封522以便于執(zhí)行機構512連接到桿508而沒有真空泄漏。定 位機構500和反向的定位機構(沒有顯示)配合操作以將基板定位在第一 基板轉移室220內預定的位置。其它可以使用的基板定位機構在美國專利 申請NO.10/094，156 ( 2002年3月8日申請)和美國專利申請 NO,10/084,762 ( 2002年2月22日申請)中有公開，所有這些在此全文 引用供參考。圖6-7是定位機構600的另 一個實施方案的剖視圖。設置定位機構600
以進行與上述的定位機構500相似的操作。盡管圖6中只顯示了一個定位 機構600,但定位機構600與設置在室體212對角的另一個定位機構(沒 有顯示)配合操作，任選的，室體212的每一個角落都有一個定位機構。定位機構600通常包括一個通過軸604連接到執(zhí)行機構608的內桿 602，軸604穿過室體212設置。在圖6-7描述的實施方例中，執(zhí)行機構 608通過外桿606連接到軸604，外桿606連接到軸604的柱720上，軸 604延伸穿過室體212外壁的凹進處702，執(zhí)行機構608可以是一個電動 機，線性執(zhí)行機構或適于使旋轉運動傳遞到軸604的其它設備。帶有軸604 的內桿602旋轉，借此移動從桿602延伸的一對滾筒502， 504,以推動 基板110 (在剖視圖中顯示)進入一個預定的位置。軸604穿過一個限定在凹進處610底部的水平壁612。一個空外殼614 設置軸604,通過多個緊固零件616使空外殼固定在室體212上。 一對套 管706、 712設置在夕卜殼614的孑L 708上，以便于軸604在外殼614內旋 轉。密封704設置于外殼614的法蘭710之間，使室體212保持完全真空。在軸604和外殼614之間設置多個密封714以阻止真空損失。在圖7 所示的實施方案中，密封714包括三個開口端朝外桿606的杯狀密封。通 過墊片716和定位環(huán)718使密封714保持在孔708內。圖8是裝載鎖定室800的另一個實施方案。裝載鎖定室800與上述的 裝載鎖定室100類似，并且在基板轉移室向下抽吸和/或排氣期間，裝栽鎖 定室額外配置以提供一個基板110的熱處理系統(tǒng)。在圖8所示的實施方案 中，所示的室體822的一部分有一個詳細描述的基板轉移室802，而上部 和下部的鄰近基板轉移室804、 806可具有相似的結構。在一個實施方案中，在基板轉移室802上設置冷卻板810。冷卻板810 可許適應于冷卻處理返回到裝載鎖定室800的基板，冷卻板810可以是一 個完整的零件，或者是連接到內壁214。冷卻板810包括多個連接到冷卻 流體源814的個通道812,冷卻流體源814適應于使熱傳遞流體循環(huán)穿過 通道812以調節(jié)基板110的溫度。在圖8所示的實施方案中，冷卻板810連接至少一個執(zhí)行機構816, 其控制板810相對于基板支撐體244上的基板110的高度。通過冷卻板
810形成間隙818，通過間隙818設置基板支撐體244以使冷卻板810垂 直移進鄰近基板時增強熱交換，遠離基板時為上述圖4A-B中涉及的機器 人葉片提供進出口。執(zhí)行機構810連接到室體822的外部，并通過連接桿820連接到冷卻 板810。桿820穿過形成于室體822上的槽824。外殼826置于槽824的 上部并通過波紋管828或者類似物密封地連接到執(zhí)行機構810和桿820， 以使執(zhí)行機構810調整冷卻板810的高度而基板轉移室沒有真空損失。基板轉移室802也可以包括一個設置于頂部邊界的(即室體的內壁或 頂部，依賴于裝載鎖定室內的基板轉移室的位置)加熱部件830。在圖8 所示的實施方案中，加熱部件830連接到電源832并適應預熱未處理的基 板，在一個實施方案中，加熱部件830是一個輻射加熱器，例如石英紅外 線卣素燈或其類似物。可以預料的是，也可以使用其它的加熱部件。因而，本文提供了一種具有垂直層疊單一基板轉移室的裝載鎖定室。 與現有常規(guī)技術中雙通道雙基板設計相比，垂直層疊單一基板轉移室的結 構具有縮小的尺寸和更大的產量。此外，低抽吸和排氣率也能增加產量，盡管前述內容涉及本發(fā)明的優(yōu)選實施方案，但可以設計出其它的和進 一步的實施方案而不偏離本發(fā)明的基本范圍。本發(fā)明的范圍由以下的權利 要求書限定。
權利要求
1. 一種裝載鎖定室包括一個室體，其第一側適用于連接真空室，第二側適用于連接工廠界面； 在室體內形成的N個垂直層疊的14l轉移室，其中N是大于2的整數；和 N-1個內壁，每一個內壁使鄰近的^4反轉移室分離并與周圍環(huán)境隔離；
2. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中該室體是由一塊材料制成。
3. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中至少第一和第二側中的一側是由一 塊材沖牛制成的內壁制成以形成室部件，室部件的第一和第二側部與其密封連接。
4. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中該室體進一步包括 多個模塊部分，每一部分包括至少一個J^反轉移室，其中模塊部分是垂直層疊的。
5. 權利要求1所述的裝載鎖定室,其中_ 轉移室具有小于或等于大約1000 立方升的內體積。
6. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個14l轉移室進一步包括多個 固定的J^反支撐體，這些支撐體適應于保持U^H^反轉移室內相對于室體空間 分離的位置。
7. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個1^反轉移室適應于容納一個 具有平面面積至少為2.7平方米的141。
8. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個;&^轉移室進一步包括 一個冷卻板，設置于室體的至少一個內壁、頂部或底部之上或與之形成整體。
9. 權利要求8所述的裝載鎖定室，其中該冷卻板進一步包括 適應于熱傳遞流體由此流過的多個通道。
10. 權利要求8所述的裝載鎖定室，其中每一個基板轉移室進一步包括多個固定的基板支撐體，適應于保持1^1^S^反轉移室內相對室體空間分離 的位置，至少一個基纟反支撐體通過冷卻纟反設置；及一個連接冷卻板的執(zhí)行才/U勾，適應于控制冷卻板相對于基板支撐體的遠端的 高度。
11. 權利要求10所述的裝載鎖定室，其中每一個1^反轉移室進一步包括 設置于至少一個1^反轉移室的頂部或底部的加熱器。
12. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個基板轉移室進一步包括 設置于至少一個_|^反轉移室的頂部或底部的加熱器。
13. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個J4反轉移室進一步包括 一個定位才M勾，設置在至少基板轉移室對角內并適應于在基板轉移室中將基板水平地定位于預定的位置。
14. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個^i4反轉移室進一步包括 排氣口和抽吸口。
15. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個;I41轉移室的抽吸口連接一 個單級泵。
16. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個^轉移室的抽吸口連接各 自的泵。
17. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中內壁進一步包括在第一和第二側之間有多個轉動的凹槽，這些凹槽適應于接受基板轉移機器人的至少一部分末端 執(zhí)行器。
18. 權利要求13所述的裝載鎖定室，其中該定位才;U勾進一步包括 一個延伸通過槽的桿，槽穿過室體形成； 連接到桿的第一末端的兩個滾筒，及連接到桿的執(zhí)行機構，適應于逆著室體內^^反的鄰近邊緣的方向推動滾筒。
19. 權利要求18所述的裝載鎖定室，其中該定位才M勾進一步包括 一個外殼，密封地設置于槽的上方；和密封，便于連4射丸行才/U勾和桿而室體不會產生真空泄漏。
20. 權利要求18所述的裝載鎖定室，其中該桿樞軸地連接到室體。
21. 權利要求1所述的裝載鎖定室，其中每一個141轉移室進一步包括 兩個寬度大于2000mm的差^反進出口 。
22. —種裝載鎖定室包括一個室體，其第一側適用于連接真空室，另一個側適用于連接工廠界面； 形成在室體內的第一室；連接室體的第一槽閥，將通過室體第一側形成的第一個差4反進出口選擇性地 密封并連接到第一室；連接室體的第二槽閥，將通過室體第二側形成的第二個基板口選擇性地密封 并連接到第一室；至少一個形成于室體內的第二個室，并通過一個水平的壁與第一室隔離； 連接室體的第三槽閥，將通過室體第一側形成的第三個J^反進出口選擇性地 密封并連接到第二室；連接室體的第四槽閥，將笫四個1^反進出口選擇性地密封，并連接到第二室； 形成于室體內第一室和第二室上方的第三室，通過第二個水平的壁與第二室分離；連接室體的第五槽閥，將第五個^i^反進出口選擇性地密封并連接到第三室； 及連接室體的第六槽閥，將第六個1^反進出口選擇性地密封并連接到第三室；
23. 權利要求21所述的裝載鎖定室，進一步包括在室體內形成的用于接受單個基板的N個室，每一個室通過一個水平的壁與 鄰近的室分開，其中N是大于3整數。
24. 權利要求21所述的裝栽鎖定室，進一步包括 可通流體地連接到第 一 室的第 一壓力操作系統(tǒng)，可通流體地連接到第二室的第二壓力操作系統(tǒng)，第一和第二壓力操作系統(tǒng)可 獨立控制。
25. 權利要求24所述的裝載鎖定室，其中第一壓力系統(tǒng)進一步包括 一個通過排氣口連接到第一室的排氣閥；和一個通過抽吸口連接到第一室的泵。
26. 權利要求21所述的裝載鎖定室，進一步包括 設置在每一個基板轉移室的輻射式加熱器。
27. 權利要求21所述的裝載鎖定室，進一步包括 設置在每一個基板轉移室的冷卻板。
28. —種裝載鎖定室包括一個室體，其第一側適用于連接真空室，另一個側適用于連接工廠界面； 形成在室體內的第一室；連接室體的第一槽閥，將通過室體第一側形成的第一個基板進出口選擇性地 密封并連接到第一室；連接室體的第^r^曹閥，將通過室體第二側形成的第二個J41進出口選擇性地密封并連接到第一室；在室體內形成第二個室，并通過一個水平的壁與第一室環(huán)境隔離； 第三槽閥，將通過室體第一側形成的第三個a進出口選擇性地密封并連接到第二室；連接室體的第四槽閥，將第四個1^反口基板進出口選擇性地密封并連接到第 二室；形成于室體內的第三室，通過水平的壁與第二室環(huán)境分離； 連接室體的第五槽閥，將通過實體第一側形成的第五個基板進出口選擇性地密封并連接到第三室；及連接室體的第六槽閥，將第六個J^反進出口選擇性地密封，并連接到第三室，其中每一個室都設置為能容納具有表面積為2.7平方米的勤l，每一個室進一步包括一個設置在室底部的冷卻設備；一個設置在室頂部的加熱設備；多個延伸通過室底部的_|^反支撐體釘；一個適應于使室內的^4^"中的定位才A4勾；一個排氣口；及一個抽吸口。
29. 權利要求28所述的裝載鎖定室，其中每一個室的抽吸口連接一個單級泵。
30. 權利要求28所述的裝載鎖定室，其中每一個室的抽吸口與各自的勤目連接。
31. 權利要求28所述的裝載鎖定室，其中每一個室進一步包括 一個連接冷卻4反的才A^亍才;t4勾，適應于控制冷卻板相對于J41支撐體遠端的高度。
32. 權利要求28所述的裝載鎖定室，其中的定位4A4勾進一步包括 一個延伸通過槽的桿，槽穿過室體； 連接到桿的第一末端的兩個滾筒，及連接到桿的執(zhí)行機構，適應于逆著室體內的J^反鄰近邊緣的方向推動滾筒。
33. 權利要求28所述的裝載鎖定室，其中定位才;i4勾進一步包括 密封地i殳置于槽上方的外殼；和密封，便于連4^丸#^構和桿而室體不會產生真空泄漏。
34. 權利要求32所述的裝載鎖定室，其中桿樞軸地連接到室體。
35. 權利要求32所述的裝載鎖定室進一步包括 一個通過室體連接到桿的軸；和 設置于室體外的第二個桿，連接軸和執(zhí)行一幾構。
36. —種大面積的^^反處理系統(tǒng)包括 一個轉移室；一個設置于轉移室內的轉移機器人；連接到轉移室的多個處理室；和連接到轉移室的多個垂直層疊的單個^S41裝載鎖定室。
37. —種用于在多個裝載鎖定室內控制壓力的方法包括使第一個室排氣并從那里轉移第一塊J^反，排氣并轉移定義為第一階段； 在至少第一階段的部分時間內，開動泵向下抽吸包含第二_|^反的第二裝載鎖 定室；將泵入口從第二鎖定室轉換到第三鎖定室；當第二 ^反從第二裝載鎖定室轉移到真空轉移室時，開動泵向下抽吸包含 第三J^反的第三裝栽鎖定室。
全文摘要
一種裝載鎖定室和方法，用于傳送大面積基板。在一種實施例中，合適用于傳送大面積基板的裝載鎖定室包括多個垂直堆積起來的單基板傳送室。這種垂直堆積的單基板傳送室結構與現有技術-雙槽、雙基板設計-相比，尺寸減小、傳送量加大。另外，加大的傳送量是以減小泵浦量和排放率來實現的，由于顆粒和凝聚的緣故，使得基板遭受污染的可能性減小。
文檔編號H01L21/68GK101145506SQ20071016690
公開日2008年3月19日 申請日期2004年10月20日 優(yōu)先權日2003年10月20日
發(fā)明者S·庫里塔, W·T·布羅尼根, Y·塔納斯 申請人:應用材料股份有限公司