專利名稱：用于在電子器件制造期間傳輸襯底的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般地涉及電子器件制造，更具體地涉及用于在電子器件制造期間傳輸襯底的方法和裝置。
背景技術(shù)：
已經(jīng)發(fā)展出許多機(jī)械手(robot)設(shè)計(jì)用于在電子器件制造期間在處理室之間傳輸諸如半導(dǎo)體晶片、玻璃襯底等的襯底。例如，常規(guī)蛙腿式機(jī)械手在處理工具的傳輸室內(nèi)使用，以在處理工具的裝載鎖定室和處理室之間傳輸襯底。襯底通常在傳輸操作期間被支撐在機(jī)械手的托板(blade)上；并且托板內(nèi)可以形成凹部(pocket)，以在托板運(yùn)動(dòng)期間(諸如旋轉(zhuǎn)、延伸、收縮等期間)將襯底保持在適當(dāng)位置。
使用凹部可以在托板運(yùn)動(dòng)期間增大襯底穩(wěn)定性，允許增大托板的運(yùn)動(dòng)速率并增大系統(tǒng)吞吐量。但是，使用凹部會(huì)因襯底和凹部的內(nèi)壁之間的摩擦接觸而產(chǎn)生顆粒和/或者損壞襯底。因此，存在對(duì)用在電子器件制造期間傳輸襯底的改進(jìn)方法和裝置的需要，尤其是在襯底傳輸操作期間使用無凹部托板時(shí)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的第一方面提供一種在電子器件制造期間傳輸襯底的第一方法。第一方法包括以下步驟(a)提供一種電子器件制造系統(tǒng)，包括傳輸室；處理室，其耦合到所述傳輸室；以及機(jī)械手，其定位于所述傳輸室內(nèi)，并適于將襯底傳輸?shù)剿鰝鬏斒液蛷乃鰝鬏斒抑袀鬏敵?。所述機(jī)械手包括至少第一托板和第二托板，所述第一托板和所述第二托板中每一個(gè)適于支撐襯底；以及延伸進(jìn)入所述處理室中，以將襯底放置于所述處理室中或從所述處理室中移除襯底。第一方法還包括以下步驟(b)當(dāng)所述第一托板為空時(shí)，將所述第一托板以第一速度延伸進(jìn)入所述處理室中，以從所述處理室的襯底支撐上取回第一襯底；(c)將所述第一襯底從所述處理室的所述襯底支撐傳輸?shù)剿龅谝煌邪澹?d)當(dāng)所述第一托板支撐所述第一襯底時(shí)，將所述第一托板從所述處理室以低于所述第一速度的第二速度收縮；(e)當(dāng)所述第二托板支撐第二襯底時(shí)，將所述第二托板以所述第二速度延伸進(jìn)入所述處理室；(f)將所述第二襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎业乃鲆r底支撐；以及(g)將所述第二托板以所述第一速度從所述處理室收縮。
本發(fā)明的第二方面提供一種在傳輸室和處理室之間傳輸襯底的第二方法。第二方法包括以下步驟(a)提供機(jī)械手，所述機(jī)械手定位于所述傳輸室并包括第一托板和與所述第一托板間隔開的第二托板；以及(b)在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，使用所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎液蛷乃鎏幚硎抑幸瞥r底。
本發(fā)明的第三方面提供一種在傳輸室和處理室之間傳輸襯底的第一裝置。第一裝置包括機(jī)械手，機(jī)械手包括第一托板；第二托板，其與所述第一托板間隔開；以及中心軸，其至少通過第一臂耦合到所述第一托板并且至少通過第二臂耦合到所述第二托板。所述第一托板和所述第二托板被間隔開，以允許(a)當(dāng)所述機(jī)械手定位于傳輸室內(nèi)時(shí)，所述第一托板和所述第二托板兩者同時(shí)延伸通過狹縫閥，所述狹縫閥分離所述傳輸室和耦合到所述傳輸室的處理室；以及(b)在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎液蛯⒁r底從處理室傳輸出。
本發(fā)明的第四方面提供一種適于在傳輸室和處理室之間傳輸襯底的第二裝置。第二裝置包括機(jī)械手，機(jī)械手包括第一托板和與所述第一托板間隔開的第二托板。第一托板和第二托板間隔開，以允許當(dāng)所述機(jī)械手定位于所述傳輸室中時(shí)，在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎液蛯⒁r底從處理室傳輸出。
本發(fā)明的第五方面提供一種系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括(a)傳輸室；(b)處理室，其經(jīng)由狹縫閥耦合到所述傳輸室；以及(c)機(jī)械手，其定位于所述傳輸室內(nèi)。機(jī)械手包括第一托板；第二托板，其與所述第一托板間隔開；以及中心軸，其至少通過第一臂耦合到所述第一托板并且至少通過第二臂耦合到所述第二托板。所述第一托板和所述第二托板被間隔開，以允許(i)第一托板和第二托板兩者同時(shí)延伸通過所述處理室的所述狹縫閥；以及(ii)在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎也⒁r底從處理室傳輸出。
通過下面的更詳細(xì)的說明書、附圖以及權(quán)利要求，本發(fā)明的其它特征和方面將變得更加清楚。


圖1是根據(jù)本發(fā)明設(shè)置的第一機(jī)械手的俯視圖。
圖2是圖1的第一機(jī)械手的俯視圖，其中機(jī)械手的托板收縮于機(jī)械手中心軸上方。
圖3是圖1的當(dāng)托板沒有容納襯底時(shí)第一機(jī)械手的示例收縮狀態(tài)的俯視圖。
圖4是根據(jù)本發(fā)明使用兩個(gè)托板的第二機(jī)械手的俯視圖。
圖5是圖4的第二機(jī)械手的側(cè)視圖，其示出定位以進(jìn)入處理室的兩個(gè)托板。
圖6是根據(jù)本發(fā)明用于將襯底傳輸進(jìn)入處理室或傳輸出處理室的示例過程的流程圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提供一種改進(jìn)機(jī)械手設(shè)計(jì)以及用于操作該改進(jìn)機(jī)械手的方法。例如，在本發(fā)明的第一實(shí)施例中，提供一種機(jī)械手，該機(jī)械手包括可以同時(shí)延伸穿過連接處理室和傳輸室的開口的兩個(gè)托板。在一些實(shí)施例中，托板可以將襯底傳輸至處理室并將襯底從處理室移除，而不需要機(jī)械手和/或托板升高或降低。在至少一個(gè)實(shí)施例中，托板可以是無凹部的，以在襯底傳輸期間減少顆粒產(chǎn)生。
在第二實(shí)施例中，提供一種操作具有無凹部或類似托板的機(jī)械手，該方法提高了使用此機(jī)械手的處理系統(tǒng)的吞吐量。不總是使用相同速度延伸和收縮機(jī)械手的每個(gè)托板，當(dāng)托板支撐襯底時(shí)，使用第一延伸/收縮速度，而當(dāng)托板不支撐襯底時(shí)，使用第二更快的延伸/收縮速度。另外，當(dāng)機(jī)械手需要旋轉(zhuǎn)時(shí)，任何承載襯底的托板都收縮至使得襯底的中心(重心)大致與機(jī)械手的旋轉(zhuǎn)中心對(duì)準(zhǔn)的位置。如此，減小可能引起襯底相對(duì)托板滑動(dòng)的離心力，并且可以使用更快的旋轉(zhuǎn)速度。同樣，空托板僅需要收縮到在旋轉(zhuǎn)期間不接觸任何室壁或其它障礙物的距離。下面將參考圖1-6進(jìn)一步描述這些和其它實(shí)施例。
圖1是根據(jù)本發(fā)明設(shè)置的第一機(jī)械手100的俯視圖。參考圖1，第一機(jī)械手100使用單托板102，該托板102經(jīng)由第一臂106和第二臂108耦合到中心軸104。托板102可以使用凹部(未單獨(dú)示出)，以在襯底S傳送期間牢固保持襯底S，或者托板102可以是無凹部(如圖示)。在至少一個(gè)實(shí)施例中，托板102足夠長，以延伸通過容納機(jī)械手100的傳輸室112的開口110(例如，狹縫閥開口)，并進(jìn)入處理室114(以虛線示出)，使得襯底S可以放置于處理室114的襯底支撐116(以虛線示出)上或從襯底支撐116上移除，而不需要機(jī)械手100的肘節(jié)118或類似部分延伸進(jìn)入處理室114。這樣的設(shè)計(jì)可以通過阻止?jié)撛谖廴驹?例如，肘節(jié)118)進(jìn)入處理室114而減少處理室114內(nèi)的污染物，并且可以允許多個(gè)托板同時(shí)插入處理室，如下面參考圖5所述。
圖2是第一機(jī)械手100的俯視圖，其中機(jī)械手100的托板102收縮于中心軸104(以虛線示出)上方。當(dāng)收縮第一機(jī)械手100，例如以在處理室之間或處理室與耦合到傳輸室112的裝載鎖定室(未示出)之間傳輸襯底時(shí)，可以使用這樣的位置。在所示的實(shí)施例中，第一機(jī)械手100適于收縮托板102，使得襯底S大致對(duì)中于第一機(jī)械手100的中心軸104上方和/或第一機(jī)械手100的旋轉(zhuǎn)中心上方。如此，減小旋轉(zhuǎn)期間襯底S上的離心力，使得第一機(jī)械手100可以高速旋轉(zhuǎn)(即使托板102是無凹部的)。為允許第一機(jī)械手100收縮至中心軸104上方，如圖2中所示，可以使用選擇性柔性關(guān)節(jié)機(jī)械手臂(SCARA)或類似機(jī)械手構(gòu)造。
圖3是第一機(jī)械手100當(dāng)托板102沒有容納襯底時(shí)的示例收縮狀態(tài)的俯視圖。如圖3中所示，托板102部分收縮。例如，托板102僅收縮允許當(dāng)?shù)谝粰C(jī)械手100旋轉(zhuǎn)時(shí)托板102不接觸傳輸室112的內(nèi)表面302的距離。
圖4是根據(jù)本發(fā)明使用兩個(gè)托板402a-402b的第二機(jī)械手400的俯視圖。參考圖4，第二機(jī)械手400包括經(jīng)由第一臂406a和第二臂408a耦合到中心軸404(以虛線示出)的第一托板402a。第二托板402b經(jīng)由第一臂406a和第二臂406b耦合到中心軸404。托板402a-402b每個(gè)都可以使用凹部(未分開示出)，以在襯底傳送期間分別牢固保持襯底S1、S2，或者托板402a-402b中一個(gè)或兩個(gè)可以是無凹部的(如所示)。在至少一個(gè)實(shí)施例中，托板402a-402b足夠長，以延伸通過容納機(jī)械手400的傳輸室412的開口410(例如，狹縫閥開口)，并進(jìn)入處理室414(以虛線示出)，使得襯底S1、S2可以放置于處理室414的襯底支撐416(以虛線示出)上或從襯底支撐416上移除，而不需要機(jī)械手400的肘節(jié)418a、418b或類似部分延伸進(jìn)入處理室414。這樣的設(shè)計(jì)可以通過阻止?jié)撛谖廴驹?例如，肘節(jié)418a、418b)進(jìn)入處理室414而減少處理室414內(nèi)的污染物，并且可以允許多個(gè)托板同時(shí)插入處理室414，如下面參考圖5所述。
參考圖1-3的第一機(jī)械手100，第二機(jī)械手400可以適于收縮托板402a-402b，使得襯底S1、S2大致對(duì)中于第二機(jī)械手400的中心軸404上方和/或第二機(jī)械手400的旋轉(zhuǎn)中心(如圖4中第二托板402b所示)上方。如此，減小旋轉(zhuǎn)期間襯底S1或S2上的離心力，使得第二機(jī)械手400可以高速旋轉(zhuǎn)(即使托板402a-402b是無凹部的)。
為允許第二機(jī)械手400收縮至中心軸404上方，如圖4中所示，可以使用SCARA或類似機(jī)械手構(gòu)造。在一個(gè)實(shí)施例中，第二機(jī)械手400可以構(gòu)造成獨(dú)立旋轉(zhuǎn)第一托板402a和第二托板402b(例如，使用分開驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))、或?qū)⒌谝煌邪?02a和第二托板402b作為一個(gè)單元旋轉(zhuǎn)(例如，使用單一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))。同樣，第一托板402a和第二托板402b可以構(gòu)造成獨(dú)立延伸和收縮(例如，通過分開驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))、或以從屬關(guān)系延伸和收縮(例如，使用單一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))。
如圖1-3中第一機(jī)械手100一樣，當(dāng)?shù)谝煌邪?02a或第二托板420b中任一個(gè)是空的，則第二機(jī)械手400可以構(gòu)造成將空的托板402a、402b僅收縮允許第二機(jī)械手40旋轉(zhuǎn)時(shí)托板402a、402b不接觸傳輸室412內(nèi)表面402的距離。
注意，控制器420可以耦合到機(jī)械手400、傳輸室412和/或處理室44，并且其控制操作如下所述?？刂破?20可以包括一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)、微控制器、專用硬件、以及其組合等。
圖5是圖4的第二機(jī)械手400的側(cè)視圖，其示出定位進(jìn)入處理室的兩個(gè)托板。如圖5中所示，托板402a-402b被間隔，使得它們可以同時(shí)延伸通過處理室414中的開口410。此外，托板402a-402b足夠長，以延伸進(jìn)入處理室414并將襯底放置到襯底支撐416上，而不需要肘節(jié)418a-418b進(jìn)入處理室414。因此，即使肘節(jié)418a-418b不能夠同時(shí)配合穿過開口410，托板420a-420b也可以同時(shí)執(zhí)行處理室414內(nèi)的傳輸操作。
如圖5中進(jìn)一步所示，襯底支撐416包括多個(gè)提升銷520a-520c，其適于相對(duì)于襯底支撐416在頂表面504升高和降低襯底。雖然圖5中示出三個(gè)提升銷，但是應(yīng)當(dāng)理解，可以使用任何數(shù)量的提升銷。
在至少一個(gè)實(shí)施例中，提升銷502a-502c具有足夠長度，以允許襯底從襯底支撐402b升高到允許第二托板402b在襯底下方行進(jìn)的高度。然后，提升銷502a-502c可以降低，以將襯底放置于第二托板402b上。此后，第二托板402b可以從處理室414中收縮，并且提升銷502a-502c降低，以將襯底傳輸?shù)揭r底支撐416?？梢允褂孟嗨频倪^程，在第一托板402a和襯底支撐416之間傳輸襯底。如此，襯底可以在托板402a-402b和襯底支撐416之間傳輸，而不需要機(jī)械手400或托板402a-402b升高或降低。
圖6是根據(jù)本發(fā)明將襯底傳輸進(jìn)入/傳輸出處理室414的示例性過程600的流程圖。假設(shè)，第一襯底S1已經(jīng)在處理室414內(nèi)處理，而待由第一托板402a取回。
參考圖6，過程600開始于步驟601，其中提升銷502a-502c升高，以從襯底支撐416提升第一襯底S1。
在步驟602，產(chǎn)生開口410，諸如通過打開狹縫閥(未示出)。在步驟603，空的第一托板402a以第一速度延伸進(jìn)入處理室414。第一托板402a在提升銷502a-502c之間和襯底S1下方延伸。
在步驟604，提升銷502a-502c降低，以將襯底S1放置于第一托板402a上。此后，在步驟605，同時(shí)執(zhí)行兩個(gè)傳輸操作(1)第二托板402b在支撐第二襯底S2時(shí)延伸進(jìn)入處理室414；并且(2)第一托板402a在支撐第一襯底S1時(shí)從處理室414收縮。第一托板402a和第二托板402b都以低于第一速度的第二速度運(yùn)動(dòng)(例如，如果托板402a、402b是無凹部的，保證襯底S1和S2保持分別定位于托板402a、402b上)。在至少一個(gè)實(shí)施例中，第二速度是第一速度的約一半。例如，如果空的第一托板402a在步驟603期間在約1秒內(nèi)延伸進(jìn)入處理室414，則第一托板402a可以在步驟605期間在約2秒內(nèi)從處理室414收縮。可以使用其它速度和/或速度差(或具有襯底的托板和沒有襯底的托板之間沒有速度差)。例如，空托板可以以支撐襯底的托板速度的10倍或更多倍的速度延伸和/或收縮。另外，在其它實(shí)施例中，第一托板402a和第二托板402b不需要同時(shí)從處理室414收縮和/或延伸進(jìn)入處理室414。
在步驟606，升高提升銷502a-502c，以從第二托板402b提升襯底S2。在步驟607，第二托板402b從處理室414(例如，以第一速度)收縮。此后，提升銷502a-502c可以將襯底S2降低到襯底支撐416。在步驟608，處理室414的開口410關(guān)閉，結(jié)束過程600。
注意，控制器420可以適于(例如，被程序化)執(zhí)行或初始化過程600的一個(gè)或多個(gè)步驟。
通過在托板沒有支撐襯底時(shí)使用更高的托板延伸或收縮速率，過程600可以顯著提高使用機(jī)械手400的處理系統(tǒng)的吞吐量。通過在旋轉(zhuǎn)之前將空托板僅收縮不接觸傳輸室開口或其它障礙物所需的距離、和通過在襯底旋轉(zhuǎn)之前將承載襯底的托板收縮以將襯底中心定位于機(jī)械手旋轉(zhuǎn)中心上方(因?yàn)榭梢允褂酶叩男D(zhuǎn)速率，如上所述)，可以進(jìn)一步提高系統(tǒng)的吞吐量。
上述說明書僅公開本發(fā)明的示例性實(shí)施例。落入本發(fā)明范圍內(nèi)的上述裝置和方法的修改對(duì)于本領(lǐng)域一般技術(shù)人員來說是顯而易見的。例如，根據(jù)本發(fā)明，可以構(gòu)造出具有其它數(shù)量托板的機(jī)械手，諸如具有四個(gè)或更多托板的機(jī)械手(例如、雙雙托板SCARA機(jī)械手)。
因此，雖然已經(jīng)針對(duì)實(shí)施例公開了本發(fā)明，但是應(yīng)當(dāng)理解，其它實(shí)施例亦可以落入本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種在電子器件制造期間傳輸襯底的方法，所述方法包括(a)提供一種電子器件制造系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括傳輸室；處理室，其耦合到所述傳輸室；以及機(jī)械手，其定位在所述傳輸室內(nèi)，并適于將襯底傳輸進(jìn)入所述傳輸室并從所述傳輸室中傳輸出，其中所述機(jī)械手包括至少第一托板和第二托板，所述第一托板和所述第二托板中的每一個(gè)都適于支撐襯底；并延伸進(jìn)入所述處理室，以將襯底放置在所述處理室中或從所述處理室中移除襯底；并且(b)當(dāng)所述第一托板為空時(shí)，將所述第一托板以第一速度延伸進(jìn)入所述處理室中，以從所述處理室的襯底支撐上取回第一襯底；(c)將所述第一襯底從所述處理室的所述襯底支撐傳輸?shù)剿龅谝煌邪澹?d)當(dāng)所述第一托板支撐所述第一襯底時(shí)，將所述第一托板從所述處理室以低于所述第一速度的第二速度收縮；(e)當(dāng)所述第二托板支撐第二襯底時(shí)，將所述第二托板以所述第二速度延伸進(jìn)入所述處理室；(f)將所述第二襯底傳輸至所述處理室的所述襯底支撐；并(g)將所述第二托板以所述第一速度從所述處理室收縮。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中步驟(d)與步驟(e)中至少一部分同時(shí)發(fā)生。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一托板和所述第二托板包括無凹部托板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述機(jī)械手包括選擇性柔性關(guān)節(jié)機(jī)械手臂的機(jī)械手。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述機(jī)械手包括真空機(jī)械手。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中至少一個(gè)步驟(c)在沒有升高或降低所述第一托板或所述機(jī)械手的情況下發(fā)生，且步驟(f)在沒有升高或降低所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下發(fā)生。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一速度至少比所述第二速度快兩倍。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一速度至少比所述第二速度快2-10倍。
9.一種適于在傳輸室與處理室之間傳輸襯底的裝置，所述裝置包括機(jī)械手，所述機(jī)械手包括第一托板；第二托板，其與所述第一托板間隔開；以及中心軸，其至少通過第一臂耦合到所述第一托板并且至少通過第二臂耦合到所述第二托板；其中所述第一托板和所述第二托板被間隔開，以允許當(dāng)所述機(jī)械手定位在傳輸室內(nèi)時(shí)，所述第一托板和所述第二托板兩者同時(shí)延伸通過狹縫閥，所述狹縫閥分離所述傳輸室和耦合到所述傳輸室的處理室；以及在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎也⒁r底從所述處理室移除。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中所述機(jī)械手包括真空機(jī)械手。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中所述第一托板和所述第二托板均包括無凹部托板。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中所述機(jī)械手包括選擇性柔性關(guān)節(jié)機(jī)械手臂的機(jī)械手。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中所述機(jī)械手適于將所述第一托板收縮于所述中心軸上方，使得由所述第一托板支撐的襯底的重心大致對(duì)中于所述中心軸上方。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中所述機(jī)械手適于將所述第二托板收縮于所述中心軸上方，使得由所述第二托板支撐的襯底的重心大致對(duì)中于所述中心軸上方。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中所述機(jī)械手適于部分地收縮所述第一托板，以當(dāng)所述第一托板為空時(shí)在旋轉(zhuǎn)期間不接觸障礙物。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其中所述機(jī)械手適于部分地收縮所述第一托板，以當(dāng)所述第二托板為空的時(shí)在旋轉(zhuǎn)期間不接觸障礙物。
17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，還包括控制器，所述控制器耦合到所述機(jī)械手，并適于引導(dǎo)所述機(jī)械手，用以當(dāng)所述第一托板為空的時(shí)，將所述第一托板以第一速度延伸進(jìn)入所述處理室以從所述處理室的襯底支撐上取回第一襯底；將所述第一襯底從所述處理室的所述襯底支撐傳輸?shù)剿龅谝煌邪?；?dāng)所述第一托板支撐所述第一襯底時(shí)，將所述第一托板從所述處理室以低于所述第一速度的第二速度收縮；當(dāng)所述第二托板支撐第二襯底時(shí)，將所述第二托板以所述第二速度延伸進(jìn)入所述處理室；將所述第二襯底傳輸至所述處理室的所述襯底支撐；并將所述第二托板以所述第一速度從所述處理室收縮。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中所述第一速度至少比所述第二速度快兩倍。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中所述第一速度至少比所述第二速度快2-10倍。
20.一種系統(tǒng)，包括傳輸室；處理室，其經(jīng)由狹縫閥耦合到所述傳輸室；以及機(jī)械手，其定位于所述傳輸室內(nèi)，并包括第一托板；第二托板，其與所述第一托板間隔開；以及中心軸，其至少通過第一臂耦合到所述第一托板并且至少通過第二臂耦合到所述第二托板；其中所述第一托板和所述第二托板被間隔開以允許第一托板和第二托板兩者同時(shí)延伸通過所述處理室的所述狹縫閥；并且在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎也⒁r底從處理室移除。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中所述機(jī)械手包括真空機(jī)械手。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中所述第一托板和所述第二托板包括無凹部托板。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中所述機(jī)械手包括選擇性柔性關(guān)節(jié)機(jī)械手臂的機(jī)械手。
24.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中所述機(jī)械手適于將所述第一托板收縮于所述中心軸上方，使得由所述第一托板支撐的襯底的重心大致對(duì)中于所述中心軸上方。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的系統(tǒng)，其中所述機(jī)械手適于將所述第二托板收縮于所述中心軸上方，使得由所述第一托板支撐的襯底的重心大致對(duì)中于所述中心軸上方。
26.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中所述機(jī)械手適于部分地收縮所述第一托板，以當(dāng)所述第一托板為空時(shí)在旋轉(zhuǎn)期間不接觸障礙物。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其中其中所述機(jī)械手適于部分地收縮所述第二托板，以當(dāng)所述第二托板為空時(shí)在旋轉(zhuǎn)期間不接觸障礙物。
28.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，還包括控制器，所述控制器耦合到所述機(jī)械手，并適于引導(dǎo)所述機(jī)械手，用以當(dāng)所述第一托板為空時(shí)，將所述第一托板以第一速度延伸進(jìn)入所述處理室以從所述處理室的襯底支撐上取回第一襯底；將所述第一襯底從所述處理室的所述襯底支撐傳輸至所述第一托板；當(dāng)所述第一托板支撐所述第一襯底時(shí)，將所述第一托板從所述處理室以低于所述第一速度的第二速度收縮；當(dāng)所述第二托板支撐第二襯底時(shí)，將所述第二托板以所述第二速度延伸進(jìn)入所述處理室；將所述第二襯底傳輸至所述處理室的所述襯底支撐；并將所述第二托板以所述第一速度從所述處理室收縮。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中所述第一速度至少比所述第二速度快兩倍。
30.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中所述第一速度至少比所述第二速度至少快2-10倍。
31.一種在傳輸室與處理室之間傳輸襯底的方法，包括提供機(jī)械手，所述機(jī)械手定位在所述傳輸室內(nèi)并包括第一托板和與所述第一托板間隔開的第二托板；并且在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，使用所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎也乃鎏幚硎抑幸瞥r底。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，還包括將所述第一托板和所述第二托板兩者同時(shí)延伸通過狹縫閥，所述狹縫閥將所述傳輸室從所述處理室分離。
33.一種適于在傳輸室與處理室之間傳輸襯底的裝置，包括機(jī)械手，其包括第一托板和與所述第一托板間隔開的第二托板；其中，所述第一托板與所述第二托板間隔開以允許當(dāng)所述機(jī)械手位于所述傳輸室中時(shí)，在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎也⒁r底從所述處理室傳輸出。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的裝置，其中當(dāng)所述機(jī)械手位于所述傳輸室內(nèi)時(shí)，所述第一托板和所述第二托板兩者適于同時(shí)延伸通過狹縫閥，所述狹縫閥將所述傳輸室從耦合到所述傳輸室的處理室分離。
全文摘要
在一個(gè)方面，本發(fā)明提供第一裝置，該第一裝置適于在傳輸室和處理室之間傳輸襯底。第一裝置包括機(jī)械手，該機(jī)械手包括第一托板、與所述第一托板間隔開的第二托板、以及中心軸，該中心軸至少通過第一臂耦合到所述第一托板并且至少通過第二臂耦合到所述第二托板。第一托板和所述第二托板被間隔開，以允許(a)當(dāng)所述機(jī)械手定位于傳輸室內(nèi)時(shí)，所述第一托板和所述第二托板兩個(gè)同時(shí)延伸通過狹縫閥，所述狹縫閥分離所述傳輸室和耦合到所述傳輸室的處理室；并且(b)在不升高或降低所述第一托板和所述第二托板或所述機(jī)械手的情況下，所述第一托板和所述第二托板將襯底傳輸?shù)剿鎏幚硎液蛯⒁r底從處理室傳輸出。還提供許多其它方面。
文檔編號(hào)H01L21/677GK1975996SQ20061015047
公開日2007年6月6日 申請(qǐng)日期2006年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月21日
發(fā)明者邁克爾·瑞斯, 尼古拉斯·克瓦爾浩, 杰弗里·A·伯蒂尼 申請(qǐng)人:應(yīng)用材料公司