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用于靜電放電保護(hù)的多疊層電源箝位電路的制作方法

文檔序號:6866965閱讀:106來源:國知局
專利名稱:用于靜電放電保護(hù)的多疊層電源箝位電路的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本專利一般涉及靜電放電保護(hù)系統(tǒng),尤其涉及用于在靜電放電期間滲漏(sinking)電流的保護(hù)電路。
背景靜電放電(ESD)指的是由在特定集成電路封裝上或在人類處理該特定IC封裝時靜電荷累積引起的短時間高電流的靜電放電現(xiàn)象。ESD事件會對集成電路(IC)和其他微電子設(shè)備的制造和性能、包含這些設(shè)備的系統(tǒng)以及生產(chǎn)它們的制造設(shè)施產(chǎn)生嚴(yán)重危害。硅工藝技術(shù)的進(jìn)步使得集成電路中的晶體管向更小尺寸發(fā)展。而晶體管尺寸的減小又使得電路對ESD事件的損害更為敏感。
隨著人們進(jìn)入新千年,電子工業(yè)繼續(xù)按比例縮減微電子結(jié)構(gòu)以實(shí)現(xiàn)更快、更新的器件以及每一單位面積更多的結(jié)構(gòu)。ESD仍然是使用電子工業(yè)中所使用的各種新技術(shù)(諸如亞微米器件技術(shù)、高速工作系統(tǒng)、更高級的工廠自動化等)生產(chǎn)的按比例縮減的結(jié)構(gòu)的威脅。隨著集成電路器件密度的增加及其工作電源電壓的降低,集成電路變得對ESD的影響更為敏感。尤其是,因?yàn)榭赡軙恼麄€IC,所以ESD是半導(dǎo)體器件的一個嚴(yán)重問題。因?yàn)镋SD事件經(jīng)常發(fā)生在附連至IC封裝終端的硅電路兩端,所以電路設(shè)計(jì)人員將其努力集中在研發(fā)用于這些敏感電路的足夠的保護(hù)機(jī)制上。
一種解決方案是使用接地的柵極晶體管作為簡單的ESD保護(hù)電路。該晶體管被配置成二極管并且具有比柵極電介質(zhì)擊穿電壓更低的漏極結(jié)擊穿電壓。雖然這種電路為防止ESD事件提供了某些保護(hù),但是ESD保護(hù)電路還應(yīng)該能夠通過讓大電流在短時間內(nèi)非破壞性地通過低阻抗路徑來保護(hù)IC免于靜電放電。
已知作為電源箝位的電子電路長久以來起到在ESD事件期間保護(hù)功率軌道的功能。

圖1示出了每一個本領(lǐng)域普通技術(shù)人員都周知的示例性集成電路。圖1示出了帶有用于接收從電源電路14外部提供的高電源電壓的電壓源輸入連接12的集成電路10。提供了ESD保護(hù)電路16以保護(hù)被設(shè)計(jì)成執(zhí)行預(yù)定功能的內(nèi)部電路18免于靜電放電。如下將詳細(xì)描述ESD保護(hù)電路16。集成電路10可以是接收電源電壓的任何種類的集成電路,包括但不限于處理器、控制器、存儲器設(shè)備、專用集成電路(ASIC)等等。
因?yàn)槟承?biāo)準(zhǔn)化的或傳統(tǒng)的電源電壓會高到足以引發(fā)在集成電路中使用的金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)器件內(nèi)過早的故障,所以需要重新設(shè)計(jì)的箝位電路來對高電壓管腳提供ESD保護(hù)。稱為耐壓箝位或多疊層箝位的這些電路通過自生成低到足以附連至MOS器件而不會導(dǎo)致?lián)p壞的偏壓就能承受高電壓。
理想的偏壓電路應(yīng)該具有低功耗、強(qiáng)電流驅(qū)動以及箝位的ESD性能的有限劣化的特性。可以將低功耗定義為與箝位的總功耗相比忽略不計(jì)。必須通過強(qiáng)電流驅(qū)動在保持目標(biāo)上的偏壓的同時驅(qū)動大負(fù)載的能力來測量強(qiáng)電流驅(qū)動。另一方面,應(yīng)該通過對在各種工作條件下箝位的脈沖電流-電壓特性的微小移動來證明ESD性能的有限劣化。
圖2示出了現(xiàn)有技術(shù)的耐壓箝位電路20的一個示例性實(shí)現(xiàn)。箝位電路20包括由在節(jié)點(diǎn)28和30之間的器件24和26形成的分壓器22、包括器件34以及其它器件的控制器電路32、以及具有電流滲漏器件晶體管38和40的電流滲漏器件36。由電流滲漏器件36使用的晶體管38和40可以是常用的晶體管中的任一種。例如,電流滲漏器件36的示例性實(shí)現(xiàn)的晶體管38和40可以是p溝道晶體管。
箝位電路的分壓器,諸如分壓器22生成偏壓或基準(zhǔn)電壓,因此可稱其為基準(zhǔn)電壓發(fā)生器或偏壓發(fā)生器。如圖2所示,現(xiàn)有技術(shù)的簡單的分壓器22用于將節(jié)點(diǎn)28上的高電源電壓降低至節(jié)點(diǎn)30上較低的電壓。對于箝位電路20,分壓器22上主要的負(fù)載是通過n溝道器件34的亞閾值漏電流。對于電阻性分壓器,該負(fù)載與分壓器本身的流耗相比應(yīng)較小以保持良好的分壓。該要求在其中使用了帶有非線性電流-電壓特性的二極管連接的p溝道器件24和26來代替電阻性元件的分壓器22中有所放寬。當(dāng)被定義為通過器件26的電流的分壓器22的流耗與負(fù)載的流耗可比或甚至小于負(fù)載流耗時就能夠?qū)崿F(xiàn)合理的分壓。因?yàn)槠骷?4通常遠(yuǎn)小于器件24和26,并且因?yàn)榉謮浩?2的流耗與通過器件34的漏電流可比,所以能夠?qū)⒎謮浩?2優(yōu)化成消耗與總箝位漏電流相比較小的漏電流。
控制器電路32耦合至電流滲漏器件36的控制節(jié)點(diǎn),使得控制器電路32將該控制節(jié)點(diǎn)耦合至地電位,這就使得從控制節(jié)點(diǎn)到地電位的壓降在電源連接28上的ESD事件期間小于諸如控制器晶體管34等n溝道晶體管的閾值電壓??刂破麟娐?2的工作在美國專利第5,956,219號中有更詳細(xì)的闡述,該專利全文結(jié)合在此。
與使用箝位電路20相關(guān)聯(lián)的問題之一是僅僅基于特定的負(fù)載條件才能夠優(yōu)化分壓器22的漏電流。盡管器件34的亞閾值漏電流是溫度和其它工藝變化的強(qiáng)函數(shù),但這些變化不會在相同程度上影響分壓器22內(nèi)的器件。為了確保所有合理使用條件下的理想分壓,分壓器22的電流驅(qū)動必須增加以滿足室溫、快速工藝扭斜(process skew)的改變等最差情況的條件。不幸的是,這可能會導(dǎo)致嚴(yán)重的過度設(shè)計(jì),而這會迫使分壓器22的流耗在典型的工作條件下變?yōu)榭傮槲宦╇娏鞯囊淮蟛糠帧?br> 類似地,為從整體上降低箝位電路的功耗,還期望一種改進(jìn)的電壓生成子電路。在圖3中公開的現(xiàn)有技術(shù)的箝位電路50試圖通過使用由模擬電壓跟隨器54緩沖并由控制器電路56跟隨的低漏電流分壓器52來解決這一問題。在箝位電路50中,電壓跟隨器54提供了低輸出電阻以驅(qū)動通過控制器器件58的漏電流,并僅對分壓器52呈現(xiàn)了一個小負(fù)載,使得分壓器的流耗能夠保持為低。不幸的是,為了讓電壓跟隨器54有效地工作,電壓跟隨器54的輸入和輸出必須相差一個閾值電壓加上接通電壓跟隨器54中一個晶體管所需的非指定電壓量。結(jié)果,難以使用箝位電路50來生成高度精確的偏壓。這是電路技術(shù)進(jìn)步中一個愈發(fā)重要的問題,因?yàn)殡S著IC中該晶體管可承受的最大電壓在每個工藝生成中的下降,基準(zhǔn)電壓的精度變得更為關(guān)鍵。
為了解決上述問題,期望提供一種改進(jìn)的ESD箝位電路,其中該箝位電路的內(nèi)部偏壓可以在整個工藝變化范圍內(nèi)精確地跟蹤電源并且該箝位電路可以在大范圍的工作條件下以最小的漏電流工作。
附圖簡述本發(fā)明以示例而非限制的方式示出于附圖中,在附圖中相似的標(biāo)號指示類似的元素,并且附圖中圖1示出了一個示例性集成電路的框圖;圖2示出了現(xiàn)有技術(shù)的電壓容限箝位電路的一個示例性實(shí)現(xiàn);
圖3示出了現(xiàn)有技術(shù)的耐壓箝位電路的另一個示例性實(shí)現(xiàn);圖4示出了帶有改進(jìn)的偏壓生成的二疊層箝位電路的框圖;圖5示出了圖4的二疊層箝位電路的示例性電路圖;圖6示出了圖5的箝位電路的仿真的脈沖電流-電壓特性;圖7示出了帶有互補(bǔ)的自偏置差分放大器的二疊層箝位電路的示例性電路圖;圖8示出了帶有改進(jìn)的偏壓生成的三疊層箝位電路的示例性電路圖;圖9示出了帶有柵極漏電流轉(zhuǎn)向電阻器的二疊層箝位電路的示例性電路圖;圖10示出了帶有柵極漏電流轉(zhuǎn)向旁柵的二疊層電壓容限箝位電路的示例性電路圖;圖11示出了帶有柵極漏電流轉(zhuǎn)向PMOS的二疊層電壓容限箝位電路的示例性電路圖;圖12示出了帶有柵極漏電流轉(zhuǎn)向PFET的三疊層電壓容限箝位電路的示例性電路圖。
示例的詳細(xì)描述在以下對多種不同實(shí)施例的詳細(xì)描述中,將對形成說明書一部分并且其中以圖示方式示出可以實(shí)現(xiàn)本專利的具體實(shí)施例的附圖做出參考。在附圖中,相似的標(biāo)號在各附圖中都描述基本類似的部件。將用充分的細(xì)節(jié)描述這些實(shí)施例以使得本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本專利??梢岳闷渌麑?shí)施例并且可以做出結(jié)構(gòu)、邏輯和電學(xué)上的改變而不背離本專利的范圍。因此,以下詳細(xì)描述不出于限制的意義,并且本專利的范圍僅由所附權(quán)利要求書連同授予這些權(quán)利要求的全范圍的等效技術(shù)方案所限定。
本發(fā)明的一個實(shí)施例示出了具有用于提供改進(jìn)的偏壓的差分放大器的二疊層ESD箝位電路。更具體地,該ESD箝位電路包括分壓器、差分放大器、電壓跟隨器、控制電路和滲漏電路。差分放大器能夠通過負(fù)反饋設(shè)置電壓跟隨器兩端所需的壓降。于是,差分放大器的增益就趨于提升電壓跟隨器的輸入直到差分放大器的兩輸入處于相同電位。
本專利的一個可選實(shí)施例示出了具有用于提供改進(jìn)的偏壓的差分放大器的多疊層ESD箝位電路。
本專利的又一個實(shí)施例示出了具有連接箝位電路的電流滲漏電路內(nèi)的第一晶體管器件的漏極與該電流滲漏電路內(nèi)的第二晶體管器件的柵極的電阻器,其中該電阻器允許降低該第二晶體管漏極上的電流負(fù)載。
本專利的另一個實(shí)施例示出了具有連接箝位電路的電流滲漏電路內(nèi)的第一晶體管器件的漏極與該電流滲漏電路內(nèi)的第二晶體管器件的柵極的旁路FET,其中該旁路FET允許降低該第二晶體管漏極上的電流負(fù)載。
本專利的再一個實(shí)施例示出了具有連接箝位電路的電流滲漏電路內(nèi)的第一晶體管器件的漏極與該電流滲漏電路內(nèi)的第二晶體管器件的柵極的柵極接地p溝道FET,其中該p溝道FET允許降低該電流滲漏電路內(nèi)的第二晶體管漏極上的電流負(fù)載。
現(xiàn)參考附圖,圖4示出了帶有改進(jìn)的偏壓生成的示例性二疊層箝位電路100的框圖。箝位電路100包括經(jīng)由差分放大器104連接至電壓跟隨器106的分壓器102,而該電壓跟隨器106又連接至控制電流滲漏器件110的控制器電路108。在圖5中更詳細(xì)地示出了該二疊層箝位電路100的具體實(shí)現(xiàn)。
具體參見圖5,分壓器102是包括串聯(lián)晶體管112至122的低漏電流分壓器,,并且經(jīng)由旁柵晶體管124連接至電壓源。分壓器102在偏置點(diǎn)126處為差分放大器104提供基準(zhǔn)或偏置電壓。
差分放大器104包括晶體管130至138。差分放大器104趨于提升對電壓跟隨器106的輸入,直到對晶體管134和136的輸入處于同一電位。于是,差分放大器104就通過負(fù)反饋設(shè)置電壓跟隨器106兩端的所需的壓降。通常,分壓器102和電壓跟隨器106僅要求小量的漏電流,因此為了將箝位電路100的總流耗保持在較小的量,就有必要將差分放大器104的流耗也保持在低水平。
二疊層箝位電路100通過將晶體管138的柵極偏置在低電壓處來實(shí)現(xiàn)通過差分放大器104的低水平電流。在晶體管138柵極處的低偏壓可以從分壓器102的晶體管112至122提供的各節(jié)點(diǎn)中的任何一個獲取。為確保由柵極漏電流引起的晶體管138內(nèi)的負(fù)載不會擾亂由分壓器102提供的電壓基準(zhǔn),晶體管138的尺寸可以做得相對較小。通過差分放大器104的較低的電流量也降低了差分放大器104的速度。此外,差分放大器104僅需要提供DC電壓基準(zhǔn),因此通??梢圆豢紤]差分放大器104開關(guān)速度的下降。然而,差分放大器104的增益影響由差分放大器104提供的電壓基準(zhǔn)的精度,因此,差分放大器104的增益是優(yōu)化的主要目標(biāo)。通過各種仿真,已示出可以在與箝位電路100的總箝位漏電流相比更小的水平處實(shí)現(xiàn)對差分放大器104的可接受增益水平。
由于差分放大器104的使用,使得偏壓發(fā)生器的電流驅(qū)動有著極寬的范圍,通常比上述圖2和圖3中公開的傳統(tǒng)箝位電路要寬得多。當(dāng)電壓跟隨器106輸出處的負(fù)載過大時,例如在超負(fù)荷(burn-in)條件下,電壓跟隨器106的輸入電壓可以浮動到與差分放大器104可以允許的輸出一樣高。另一方面,在諸如低溫或緩慢的工藝拐角等導(dǎo)致低漏電流的條件下,電壓跟隨器106的輸入電壓也可以浮動回到較低的水平。電壓跟隨器106的輸入電壓的這一靈活性是使用差分放大器104的結(jié)果。圖2和圖3中的傳統(tǒng)箝位電路無法提供這一靈活性。于是,對差分放大器104的使用就允許箝位電路100在不同范圍的工作條件下提供精確的電壓基準(zhǔn)。
電壓跟隨器106由晶體管140至144組成,并且經(jīng)由可變電阻器148連接至電源146。而控制器108由多個晶體管150至164和電阻器(圖5中未示出)組成。最后,電流滲漏器件110包括晶體管170和172。差分放大器104、電壓跟隨器106和控制器108的設(shè)計(jì)對本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是公知的,因而在此就不做進(jìn)一步的討論。
為了確保添加差分放大器104不會對箝位電路100的功能產(chǎn)生負(fù)面影響,確信電壓跟隨器晶體管140在中間節(jié)點(diǎn)180上施加基準(zhǔn)電壓的趨勢不會勝過控制器晶體管164接通ESD箝位電路110的晶體管172的能力是很重要的。這可以通過使得電壓跟隨器晶體管140的溝道寬度相比控制器晶體管164的溝道寬度較小來實(shí)現(xiàn),這樣控制器晶體管164就始終能接通電流滲漏器件晶體管172。結(jié)果,在穩(wěn)定狀態(tài)和正常工作期間,控制器晶體管164截止,而電壓跟隨器晶體管142在控制之下。
用于在ESD事件期間降低電壓跟隨器晶體管140的強(qiáng)度的一種可選解決方案是在分壓器102頂部使用旁柵晶體管124,該晶體管可以在ESD事件期間截止以降低差分放大器晶體管136上的柵極電壓。箝位電路100的另一個實(shí)施例可以具有連接在差分放大器晶體管136和地之間的電容器,使得差分放大器晶體管136的柵極電壓在整個ESD事件中都保持為低。
在以上討論的多個實(shí)施例的每一個中,要求以上的任何改變都不會在ESD期間影響箝位電路100的性能。圖5中示出的用于箝位電路100的實(shí)施例的仿真結(jié)果在圖6所示的圖表200中示出。具體地,圖表200描繪了用于帶有差分放大器的箝位電路(已修改箝位電路)和不帶差分放大器的箝位電路(未修改箝位電路)的箝位電壓和箝位電流之間的關(guān)系。如可從圖表200中所見到的,帶有差分放大器104的箝位電路100的性能與不帶差分放大器的箝位電路相比沒有劣化。
在各種工作條件下包括中間節(jié)點(diǎn)180處電壓、箝位電路100的氧化物壽命和用于箝位電路100的漏電流數(shù)據(jù)的仿真結(jié)果明確地示出了箝位電路100在包括高壓和高溫條件在內(nèi)的寬范圍工作條件下對中間節(jié)點(diǎn)180處的電壓有著更強(qiáng)的控制。例如,在電壓為3.08V和溫度為125℃的工作條件下,與箝位電路20和50各自的高得多的158.7mV和106mV的偏差相比,箝位電路100僅導(dǎo)致21.5mV的偏差。中間節(jié)點(diǎn)電壓的更低的偏差允許更高精度地進(jìn)行對箝位電路100的故障時間(time-to-failure)研究。
類似地,仿真結(jié)果還示出了除了對中間節(jié)點(diǎn)電壓有著更好控制的這一優(yōu)勢之外,盡管箝位電路20和50的最差情況氧化物壽命僅有約7年,但箝位電路100的最差情況氧化物壽命則接近51年。最差情況下氧化物壽命的延長還為箝位電路100的工作提供了更寬的安全余量。
此外,即使當(dāng)漏電流被高度優(yōu)化因而僅有約7年壽命時,箝位電路20的漏電流也比箝位電路100要高得多。仿真結(jié)果還顯示雖然箝位電路50可以給出比箝位電路100略低的箝位電流,但是箝位電路50無法滿足提供精確且穩(wěn)定的電壓基準(zhǔn)的關(guān)鍵準(zhǔn)則。注意到,在更高溫度處,箝位電路20和100之間漏電流改進(jìn)的明顯度降低。產(chǎn)生這一降低的改進(jìn)是因?yàn)樵诟邷囟忍帲槲浑娐?0的電流滲漏晶體管38和40的漏電流支配了分壓器22的漏電流,而箝位電路100的晶體管170和172的漏電流則支配了分壓器102的漏電流。
然而,對于諸如在實(shí)時時鐘服務(wù)中工作的電池等的漏電流敏感的應(yīng)用來說,通常需要讓室溫下的漏電流最小以滿足產(chǎn)品規(guī)格,并且箝位電路100能夠提供更大的靈活性來滿足這些要求。此外,如表格1和2所示,箝位電路20和50很容易受到工藝改變的影響,而箝位電路100在此方面的敏感性較低,因而為高性能90nm工藝而設(shè)計(jì)的箝位電路100也可以用于低功率90nm工藝。另一方面,雖然為高性能90nm工藝而設(shè)計(jì)的箝位電路20可以用于低功率90nm工藝,但是在此情況下箝位電路20的分壓器22在被用于諸如低功率90nm工藝等低漏電流工藝中時會被嚴(yán)重地過度設(shè)計(jì)。此外,增加了晶體管漏電流和/或降低了分壓器內(nèi)的電流驅(qū)動的工藝改變會導(dǎo)致箝位電路20和50的氧化物壽命縮短。與此相比,具有更強(qiáng)電壓基準(zhǔn)的箝位電路100在常規(guī)工藝改變中繼續(xù)存在的機(jī)會要大的多。
雖然以上箝位電路100的實(shí)現(xiàn)使用了簡單的有源負(fù)載差分放大器104作為增益元件,但是也可以使用其他能提供高增益和低漏電流的差分放大器。圖7示出了連接在分壓器102和電壓跟隨器106之間的使用互補(bǔ)自偏置差分放大器222的箝位電路220的示例。注意到,諸如級聯(lián)放大器等的其他差分放大器也可用來提高增益。
雖然在圖2、3、5和7中示出的箝位電路20、50、100和220的不同實(shí)現(xiàn)使用了諸如電流滲漏器件110等二疊層箝位電路,但是也可以使用多疊層電流滲漏器件來容易地生成這些箝位電路。作為一個示例,圖8公開了具有三疊層電流滲漏器件242和偏壓發(fā)生器244的箝位電路240,其中偏壓發(fā)生器244包括共用分壓器246、帶有將偏壓提供給三疊層電流滲漏器件242的一個疊層的第一電壓跟隨器250的第一差分放大器248、以及帶有將偏壓提供給三疊層電流滲漏器件242的另一個疊層的第二電壓跟隨器254的第二差分放大器252。箝位電路240還包括將第一電壓跟隨器250和第二電壓跟隨器254連接至三疊層電流滲漏器件242的控制器電路256。
對在圖2、3、5、7和8中示出的箝位電路20、50、100、220和240進(jìn)行的描述是參考180nm技術(shù)器件的上下文做出的。從行業(yè)中日益流行的130nm技術(shù)器件開始,柵極漏電流現(xiàn)象就變得明顯。通常柵極漏電流可以被描述為由于晶體管器件的柵極和漏極重疊區(qū)域下會導(dǎo)致帶-帶隧道效應(yīng)(band-to-band tunneling effect)的高電場而引起的晶體管器件的柵極和漏極之間的漏電流?,F(xiàn)已顯示出集成電路器件內(nèi)的柵極漏電流效應(yīng)在不久的將來會變得可與亞閾值漏電流相比。
鑒于這一可能性,就需要重新分析上述電路以重新考慮箝位電路的偏壓發(fā)生器需要處理的柵極漏電流對電流負(fù)載的影響。例如,考慮圖2中的箝位電路20,分壓器22上電流負(fù)載的最大的新的增加是添加至控制器晶體管34的現(xiàn)有亞閾值漏電流的通過電流滲漏器件40的柵極-源極漏電流。如果晶體管34和40中每一個的柵極漏電流都與它們的亞閾值漏電流可比,則因?yàn)殡娏鳚B漏器件40相比控制器晶體管34更大的尺寸,通過電流滲漏器件40的柵極漏電流實(shí)際上會降低通過控制器晶體管34的漏電流。還存在影響電流負(fù)載的通過控制晶體管34和42的柵極漏電流,但它們與器件40的柵極漏電流相比較小,這仍然是因?yàn)殡娏鳚B漏器件40相對較大的尺寸。這些柵極漏電流的每一個都會增加分壓器22的電流驅(qū)動要求,它們中的大部分都被分壓器22中的器件26無效地使用。
此外,當(dāng)電流滲漏器件40的柵極漏電流在較大的器件上擴(kuò)散時,相同量的電流加上通過器件26的無效電流都需要通過相對較小的器件24。所得的通過器件24的電流密度可能會高到足以要求分壓器22的設(shè)計(jì)人員考慮電遷移和其他長期穩(wěn)定性問題。電流滲漏器件40的高柵極漏電流連同控制器晶體管34和42的柵極漏電流對諸如分壓器22等簡單分壓器施加了極大的壓力。因此,就需要如圖5所示的分壓器102的更強(qiáng)的電壓基準(zhǔn)。
雖然存在流經(jīng)電流滲漏晶體管40的大量柵極-漏極電流,但是也存在流經(jīng)電流滲漏晶體管38的類似量的柵極-漏極電流。于是,電流滲漏晶體管40的漏極就不僅支持電流滲漏晶體管40的亞閾值漏電流,還支持兩劑量的柵極-漏極漏電流,即電流滲漏晶體管38和電流滲漏晶體管40的柵極-漏極漏電流。于是,如果能夠?qū)㈦娏鳚B漏晶體管38的柵極-漏極漏電流導(dǎo)入電流滲漏晶體管40的柵極,則電流滲漏晶體管40的漏極就僅需要支持一劑量的柵極-漏極漏電流的亞閾值漏電流,即電流滲漏晶體管40的柵極-漏極漏電流。在實(shí)踐中可以通過將電阻器或旁路FET連接在電流滲漏晶體管38的漏極和電流滲漏晶體管40的柵極之間來實(shí)現(xiàn)。
圖9示出了帶有分壓器272、差分放大器274、電壓跟隨器276、控制電路278和電流滲漏器件280的箝位電路270的一種替換實(shí)現(xiàn),其中電流滲漏器件280包括電流滲漏晶體管282和電流滲漏晶體管284,其中電阻器286連接在電流滲漏晶體管282的漏極和電流滲漏晶體管284的柵極之間。電阻器286允許將電流滲漏晶體管282的柵極-漏極漏電流導(dǎo)向電流滲漏晶體管284的柵極,這就降低了電流滲漏晶體管284漏極上的電流負(fù)載。
圖10示出了帶有分壓器302、差分放大器304、電壓跟隨器306、控制電路308和電流滲漏器件310的箝位電路300的一種替換實(shí)現(xiàn),其中電流滲漏器件310包括電流滲漏晶體管312和電流滲漏晶體管314,而旁路FET316連接在電流滲漏晶體管312的漏極和電流滲漏晶體管314的柵極之間。旁路FET316允許將電流滲漏晶體管312的柵極-漏極漏電流導(dǎo)向電流滲漏晶體管314的柵極,這就降低了電流滲漏晶體管314漏極上的電流負(fù)載。
圖11示出了帶有分壓器332、差分放大器334、電壓跟隨器336、控制電路338和電流滲漏器件340的箝位電路300的一種替換實(shí)現(xiàn),其中電流滲漏器件340包括電流滲漏晶體管342和電流滲漏晶體管344。箝位電路330具有連接在電流滲漏晶體管342的漏極和電流滲漏晶體管344的柵極之間的p溝道FET346,其中p溝道FET346的柵極可以連接至控制器晶體管348的漏極或接地。p溝道FET346允許將電流滲漏晶體管342的柵極-漏極漏電流導(dǎo)向電流滲漏晶體管344的柵極,這就降低了電流滲漏晶體管344漏極上的電流負(fù)載。
在箝位電路300中使用的n溝道器件316在快速返回(snap-back)期間容易毀壞或陷入高電流狀態(tài)。與此相比,當(dāng)使用如箝位電路330內(nèi)的柵極接地的p溝道FET346時,應(yīng)該以比控制器晶體管348弱得多的方式設(shè)置柵極接地的p溝道FET346。這確保了當(dāng)所得的箝位電路在ESD模式下工作時控制器晶體管348能勝過柵極接地的p溝道FET346。另一方面,當(dāng)采用如箝位電路300中的n溝道器件316時,該器件在ESD事件期間能夠被截止,這就允許使用任意強(qiáng)度的n溝道器件。
如通過箝位電路270、300和330示出的用于解決柵極-漏極漏電流問題的各種解決方案還提供了降低各自的偏壓發(fā)生器272、302和332上的負(fù)載的非常受歡迎的益處。這是分別經(jīng)由電流滲漏晶體管282、312和342而非經(jīng)由這些箝位電路各自的電壓基準(zhǔn)來提供電流滲漏晶體管284、314和344的柵極漏電流的結(jié)果。
上述解決方案一般是針對柵極漏電流來優(yōu)化的,使得流經(jīng)電流滲漏晶體管282、312和342的全部量的柵極漏電流都分別轉(zhuǎn)向電流滲漏晶體管284、314和344的柵極。然而,因?yàn)殡娏鳚B漏晶體管284、314和344的柵極-源極電壓由于體效應(yīng)而不是零,所以如果對282和284、312和314以及342和344中的每一對都被包含在同一阱中,那么就有可能將多于優(yōu)化電流的電流轉(zhuǎn)向電流滲漏晶體管284、314和344。結(jié)果,電流滲漏晶體管284、314和344的柵極漏電流的減小和亞閾值漏電流的增大導(dǎo)致過沖(overshooting),并且取決于所使用的技術(shù)的柵極漏電流和亞閾值漏電流之比,以上的技術(shù)方案可能會也可能不會導(dǎo)致電流節(jié)省。盡管如此,上述降低電壓基準(zhǔn)272、302和332上的負(fù)載的益處仍然存在。
在其中對282和284、312和314以及342和344中的每一對都被包含在不同的阱中且成批短接至每個電流滲漏晶體管源極的一個替換情形中,當(dāng)電流滲漏晶體管274、304和334的柵極-源極電壓為零時,亞閾值漏電流將變得最小。在此情形中,上述解決方案僅對電路270、300和330有有益的效果。
仿真結(jié)果已經(jīng)示出如圖10所示添加旁路FET316能夠大幅降低電壓基準(zhǔn)302上的電流負(fù)載。這是因?yàn)榕月稦ET316提供了大部分流經(jīng)電流滲漏器件314的柵極電流。
雖然在箝位電路300中并入旁路FET316或在箝位電路270中并入電阻器286的最強(qiáng)理由在于對各箝位電路300和270的電壓基準(zhǔn)來說增加的精確性和降低的可靠性,但是這些改變也會導(dǎo)致總電流的下降。例如,仿真結(jié)果已經(jīng)示出了使用旁路FET316所導(dǎo)致的箝位電路300中總電流降低大小在約30%的數(shù)量級上。
如先前所討論的,雖然以上箝位電路270、300和330的實(shí)現(xiàn)被示為使用二疊層電流滲漏器件280、310和340,但是這些箝位電路也可以使用多疊層電流滲漏器件來實(shí)現(xiàn)。圖12示出了用類似于在箝位電路300中所采用的負(fù)載降低技術(shù)、使用三疊層電流滲漏器件374的箝位電路360的實(shí)現(xiàn)。更具體地,箝位電路360采用提供一組電壓基準(zhǔn)的分壓器362、差分放大器364和366、電壓跟隨器368和370、控制電路372、以及三疊層電流滲漏器件374。三疊層電流滲漏器件374包括電流滲漏晶體管376、378和380,其中第一旁路FET382連接在電流滲漏晶體管376的漏極和電流滲漏晶體管378的柵極之間,而第二旁路FET384連接在電流滲漏晶體管378的漏極和電流滲漏晶體管380的柵極之間。
因?yàn)殡娏鳚B漏晶體管376、378和380的每一個都需要其自己的柵極電流,所以不帶有所提出的旁路FET器件382和384的三疊層電流滲漏器件374將需要三劑量的柵極電流,而帶有旁路FET器件382和384的所提出的三疊層電流滲漏器件374僅需要一劑量的柵極電流,從而導(dǎo)致了總箝位負(fù)載電流的降低。正如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員顯而易見的,降低箝位負(fù)載電流的益處可以推廣至n疊層的箝位電路,其中代替n劑量的柵極電流,在使用旁路FET器件來將前n-1個電流滲漏晶體管的漏極連接到后第n-1個電流滲漏晶體管的柵極的n疊層電流滲漏器件中就只需要一劑量的柵極電流。
雖然上文闡明了各種不同實(shí)施例的詳細(xì)描述,但是應(yīng)該認(rèn)識到本專利的范圍僅由該專利結(jié)尾處的權(quán)利要求書的內(nèi)容所限定。該詳細(xì)描述被解釋為僅是示例性的,并且不描述每個可能的實(shí)施例,因?yàn)槊枋雒總€可能實(shí)施例即使不是不可能的也是不切實(shí)際的。使用現(xiàn)有技術(shù)或在本專利提交日之后開發(fā)的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)各種可選實(shí)施例,這些實(shí)施例仍落入本專利權(quán)利要求書的范圍內(nèi)。
因此,可以對在此描述并示出的技術(shù)方案和結(jié)構(gòu)做出許多修改和變化而不背離本專利的精神和范圍。因此,應(yīng)該理解,在此描述的方法和裝置僅是示例性的并且不限制本專利的范圍。
權(quán)利要求
1.一種電源箝位電路,包括連接至電源節(jié)點(diǎn)的可切換電流滲漏電路,所述可切換電流滲漏電路具有多個串聯(lián)耦合的晶體管;連接至所述可切換電流滲漏電路的控制節(jié)點(diǎn)的控制電路,所述控制電路適用于把所述控制節(jié)點(diǎn)耦合至地電位,使得在所述電源節(jié)點(diǎn)上的靜電放電事件期間從所述控制節(jié)點(diǎn)到所述地電位的壓降小于所述控制電路內(nèi)的n型負(fù)載晶體管的閾值電壓;連接至所述電源節(jié)點(diǎn)并適用于為所述控制器電路提供基準(zhǔn)電壓的分壓器電路;適用于為所述分壓器電路呈現(xiàn)低輸出電阻并在所述可切換電流滲漏電路的控制節(jié)點(diǎn)處連接至所述控制電路的電壓跟隨器;以及適用于通過負(fù)反饋設(shè)置所述電壓跟隨器兩端所需的壓降的差分放大器電路。
2.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述差分放大器電路是電流鏡差分放大器電路。
3.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述多個串聯(lián)耦合的晶體管是p型互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)晶體管。
4.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述差分放大器電路是互補(bǔ)自偏置差分放大器。
5.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述多個串聯(lián)耦合的晶體管包括第一p型滲漏晶體管和第二p型滲漏晶體管,且所述第一p型滲漏晶體管的源極連接至所述電源節(jié)點(diǎn),所述第一p型滲漏晶體管的漏極連接至所述第二p型滲漏晶體管的源極,所述第二p型滲漏晶體管的漏極接地并且所述第二p型滲漏晶體管的柵極是所述可切換電流滲漏電路的控制節(jié)點(diǎn)。
6.如權(quán)利要求5所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一p型滲漏晶體管的漏極經(jīng)由一電阻器連接至所述第二p型滲漏晶體管的柵極。
7.如權(quán)利要求5所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一p型滲漏晶體管的漏極經(jīng)由一旁路FET連接至所述第二p型滲漏晶體管的柵極,且所述旁路FET的柵極連接至所述第一p型滲漏晶體管的柵極。
8.如權(quán)利要求5所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一p型滲漏晶體管的漏極經(jīng)由一p型柵極接地晶體管連接至所述第二p型滲漏晶體管的柵極。
9.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述差分放大器電路接收來自所述分壓器電路的第一輸入以及來自所述電壓跟隨器電路的第二輸入,并且其中所述差分放大器適用于以使對所述差分放大器的所述第一輸入和所述第二輸入處于相同的電位的方式抬高對所述電壓跟隨器的輸入電壓。
10.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述多個串聯(lián)耦合的晶體管包括第一p型滲漏晶體管、第二p型滲漏晶體管和第三p型滲漏晶體管,并且其中所述第一p型滲漏晶體管的源極連接至所述電源節(jié)點(diǎn),所述第一p型滲漏晶體管的漏極連接至所述第二p型滲漏晶體管的源極,所述第二p型滲漏晶體管的漏極連接至所述第三p型滲漏晶體管的源極,所述第三p型滲漏晶體管的漏極接地并且所述第三p型滲漏晶體管的柵極連接至所述控制節(jié)點(diǎn)。
11.如權(quán)利要求10所述的電源箝位電路,其特征在于,所述電壓跟隨器電路包括連接在所述電源節(jié)點(diǎn)和所述控制節(jié)點(diǎn)之間的第一電壓跟隨器電路、以及連接在所述控制節(jié)點(diǎn)和地之間的第二電壓跟隨器電路,并且其中,所述差分放大器電路包括在所述第一電壓跟隨器電路兩端設(shè)置第一所需壓降的第一差分放大器電路、以及在所述第二電壓跟隨器電路兩端設(shè)置第二所需壓降的第二差分放大器電路。
12.如權(quán)利要求11所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一差分放大器電路和所述第二差分放大器電路是電流鏡差分放大器電路。
13.如權(quán)利要求11所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一p型滲漏晶體管的漏極經(jīng)由第一旁路FET連接至所述第二p型滲漏晶體管的柵極,并且所述第二p型滲漏晶體管的漏極經(jīng)由第二旁路FET連接至所述第三p型滲漏晶體管的柵極,并且其中,所述第一旁路FET的柵極連接至所述第一p型滲漏晶體管的柵極,而所述第二旁路FET的柵極連接至所述第二p型滲漏晶體管的柵極。
14.如權(quán)利要求11所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一p型滲漏晶體管的漏極經(jīng)由第一電阻器連接至所述第二p型滲漏晶體管的柵極,并且所述第二p型滲漏晶體管的漏極經(jīng)由第二電阻器連接至所述第三p型滲漏晶體管的柵極。
15.一種集成電路組件,包括連接在電源節(jié)點(diǎn)和地節(jié)點(diǎn)之間的集成電路;以及連接在所述電源節(jié)點(diǎn)和所述地節(jié)點(diǎn)之間的靜電放電(ESD)保護(hù)器件,其中所述ESD保護(hù)器件包括連接至所述電源節(jié)點(diǎn)的可切換電流滲漏電路,所述可切換電流滲漏電路具有多個串聯(lián)耦合的晶體管;連接至所述可切換電流滲漏電路的控制節(jié)點(diǎn)的控制電路,所述控制電路適用于把所述控制節(jié)點(diǎn)耦合至地電位,使得在所述電源節(jié)點(diǎn)上的靜電放電事件期間從所述控制節(jié)點(diǎn)到所述地電位的壓降小于所述控制電路內(nèi)的n型負(fù)載晶體管的閾值電壓;連接至所述電源節(jié)點(diǎn)來為所述控制器電路提供基準(zhǔn)電壓的分壓器電路;為所述分壓器電路呈現(xiàn)低輸出電阻并在所述可切換電流滲漏電路的控制節(jié)點(diǎn)處連接至所述控制電路的電壓跟隨器;以及通過負(fù)反饋設(shè)置所述電壓跟隨器兩端所需的壓降的差分放大器電路。
16.如權(quán)利要求15所述的集成電路組件,其特征在于,所述差分放大器電路是互補(bǔ)自偏置差分放大器。
17.如權(quán)利要求15所述的集成電路組件,其特征在于,所述可切換電流滲漏電路包括第一p型滲漏晶體管和第二p型滲漏晶體管,且所述第一p型滲漏晶體管的源極連接至所述電源節(jié)點(diǎn),所述第一p型滲漏晶體管的漏極連接至所述第二p型滲漏晶體管的源極,所述第二p型滲漏晶體管的漏極接地并且所述第二p型滲漏晶體管的柵極是所述可切換電流滲漏電路的控制節(jié)點(diǎn),并且其中所述可切換形滲漏電路適用于經(jīng)由所述第二p型滲漏晶體管的柵極為所述第一p型滲漏晶體管的漏極柵極漏電流提供電流泄漏機(jī)制。
18.如權(quán)利要求17所述的集成電路組件,其特征在于,所述電流泄漏機(jī)制是(1)電阻器,(2)旁路FET以及(3)柵極接地p溝道FET中的一種。
19.如權(quán)利要求15所述的集成電路組件,其特征在于,所述可切換電流滲漏電路包括三個p型滲漏晶體管,所述電壓跟隨器電路包括連接在所述電源節(jié)點(diǎn)和所述控制節(jié)點(diǎn)之間的第一電壓跟隨器電路、以及連接在所述控制節(jié)點(diǎn)和地之間的第二電壓跟隨器電路,并且其中所述差分放大器電路包括設(shè)置所述第一電壓跟隨器電路兩端的第一所需壓降的第一差分放大器電路、以及設(shè)置所述第二電壓跟隨器電路兩端的第二所需壓降的第二差分放大器電路。
20.一種通過經(jīng)由連接至電源節(jié)點(diǎn)的可切換電流滲漏電路在所述電源節(jié)點(diǎn)和地節(jié)點(diǎn)之間泄漏電流來為連接在所述電源節(jié)點(diǎn)和所述地節(jié)點(diǎn)之間的集成電路提供靜電放電(ESD)保護(hù)的方法,所述可切換電流滲漏電路具有多個串聯(lián)耦合的晶體管,其中在所述電源節(jié)點(diǎn)和所述地節(jié)點(diǎn)之間泄漏電流包括在ESD事件期間將所述可切換電流滲漏電路內(nèi)的控制節(jié)點(diǎn)耦合至地電位;使用分壓器電路在所述電源節(jié)點(diǎn)和所述接地節(jié)點(diǎn)之間分壓來為所述控制電路提供基準(zhǔn)電壓電位;通過使用電壓跟隨器電路來為所述分壓器電路呈現(xiàn)低電壓輸出電阻;以及通過使用差分放大器電路來設(shè)置所述電壓跟隨器電路兩端的所需的壓降。
21.如權(quán)利要求20所述的方法,其特征在于,還包括經(jīng)由連接在所述可切換電流滲漏電路內(nèi)的多個晶體管中的一個的漏極和所述多個晶體管中的另一個的柵極之間的電阻器把柵極漏電流從所述多個晶體管中的所述一個的漏極泄漏至所述多個晶體管中的所述另一個的柵極。
22.如權(quán)利要求20所述的方法,其特征在于,設(shè)置所述電壓跟隨器電路兩端的所需壓降包括通過所述差分放大器電路為所述電壓跟隨器電路提供負(fù)反饋。
23.如權(quán)利要求22所述的方法,其特征在于,為所述電壓跟隨器電路提供負(fù)反饋包括提升對所述電壓跟隨器電路的輸入,直到所述差分放大器電路的兩個輸入處于同一電位。
24.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述多個串聯(lián)耦合的晶體管是n型互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)晶體管。
25.如權(quán)利要求1所述的電源箝位電路,其特征在于,所述多個串聯(lián)耦合的晶體管包括第一n型滲漏晶體管和第二n型滲漏晶體管,且所述第一n型滲漏晶體管的漏極連接至所述電源節(jié)點(diǎn),所述第一n型滲漏晶體管的源極連接至所述第二n型滲漏晶體管的漏極,所述第二n型滲漏晶體管的源極接地,并且所述第二n型滲漏晶體管的柵極是所述可切換電流滲漏電路的控制節(jié)點(diǎn)。
26.如權(quán)利要求25所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一n型滲漏晶體管的柵極經(jīng)由一電阻器連接至所述第二n型滲漏晶體管的漏極。
27.如權(quán)利要求25所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一n型滲漏晶體管的柵極經(jīng)由一旁路FET連接至所述第二n型滲漏晶體管的漏極,且所述旁路FET的柵極連接至所述第二n型滲漏晶體管的柵極。
28.如權(quán)利要求25所述的電源箝位電路,其特征在于,所述第一n型滲漏晶體管的柵極經(jīng)由一n型晶體管連接至所述第二n型滲漏晶體管的漏極,其中所述n型晶體管的柵極連接至所述電源。
全文摘要
提供了一種用于提供靜電放電(ESD)保護(hù)以增強(qiáng)高級亞微米工藝的性能的多疊層電源箝位電路。該箝位電路包括帶有低漏電流和高電流驅(qū)動容量的偏壓發(fā)生器,以及通過降低的柵極漏電流來減輕該偏壓發(fā)生器上的電流負(fù)載的裝置。該偏壓發(fā)生器包括差分放大器。該多疊層箝位電路在新的工藝技術(shù)中提供了帶有優(yōu)化的漏電流、降低的對工作條件的敏感性、以及增加的柵極電流容限的耐壓ESD保護(hù)。
文檔編號H01L27/02GK1981379SQ200580022641
公開日2007年6月13日 申請日期2005年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月30日
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