專利名稱：定位裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及適用于配置在基板處理裝置跟前的待機單元等的定位裝置。
背景技術(shù)：
作為在半導(dǎo)體晶片或玻璃基板等基板浮起的狀態(tài)下對其進行定位的裝置，已知的有專利文獻1和專利文獻2中公開的裝置。
在專利文獻1公開的裝置中，使空氣從于承載臺開口的空氣噴出口噴出，以使晶片浮起，在該狀態(tài)下，通過來自在一側(cè)配置的空氣噴嘴的空氣，將晶片推壓在與空氣噴嘴相對的地方設(shè)置的基準(zhǔn)部件上，進行定位。在專利文獻2公開的裝置中，在框狀工作臺的角部或者周邊設(shè)置吸附襯墊，使該吸附襯墊附加空氣噴出功能，通過從吸附襯墊噴出的空氣使光掩模(基板)浮起并將其推靠在止動器上，進行定位。
專利文獻1 特開平5-299492號公報專利文獻2 特開平9-8106號公報在專利文獻1公開的定位裝置中，使晶片浮起的空氣噴出口直接形成在承載臺上，由于晶片的背面與承載臺的表面接觸，所以容易受到來自承載臺的熱影響，此外，由于在承載臺的上面開口的空氣噴出口的直徑也小，因此空氣局部地接觸晶片背面，容易產(chǎn)生溫度不均勻。
在專利文獻2公開的定位裝置中，由于僅支撐基板的周圍，因此如果基板大型化，則不能夠支撐基板的中央部分，從而中央部分出產(chǎn)生翹曲，對準(zhǔn)時存在損傷基板的危險。此外，如果基板大型化，通過專利文獻2公開的裝置則難以使基板浮起。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題，本發(fā)明的定位裝置包括使基板浮起的浮起部件和對基板進行定位的對準(zhǔn)部件，所述浮起部件多個地安裝在呈板狀或者格子狀的支持部件上以覆蓋基板的全部區(qū)域，并且浮起部件以其上面作為基板接受面，該基板接受面是平坦的，并且形成有規(guī)定面積的流體噴出區(qū)域。
可以考慮在所述基板接受面上，環(huán)狀地形成兼做空氣噴出和空氣吸引用的槽，并且將該槽包圍的區(qū)域作為浮起力或者吸引力所作用的區(qū)域。
此外，作為所述浮起部件的結(jié)構(gòu)，可以考慮分為在支持部件上固定的本體部分和接受部分，該接受部分以自由滑動的方式插入到所述本體部分中，并且通過彈性部件被向上方施力。
根據(jù)本發(fā)明，通過覆蓋基板的全部區(qū)域地配置浮起部件，即使基板大型化，重量增加，也能防止中央部分下垂。此外，由于在基板接受面上形成了較大面積的流體噴出區(qū)域，因此能夠使溫度不均勻較難產(chǎn)生。
此外，由于在基板接受面形成了能夠切換與壓縮空氣源或者真空源連接的環(huán)狀槽，因此由該槽包圍的區(qū)域可以作為浮起力或者吸引力作用的區(qū)域，能夠防止產(chǎn)生溫度不均勻，此外，浮起部件通過分為固定在支持部件上的本體部分和以自由滑動插入到該本體部分中并且由彈性部件被向上方施力的接受部分，從而接受部分與基板的彎曲相對應(yīng)地進行升降移動，能夠使接受面和基板之間的間隔保持一定。


圖1是本發(fā)明的定位裝置的俯視圖。
圖2是該定位裝置的側(cè)視圖。
圖3是浮起部件的放大剖視圖。
圖4是浮起部件的放大仰視圖。
1、底座 2、升降裝置 3、支持部件 4、馬達 5、對準(zhǔn)部件6、滑動部件 7、推桿 8、浮起部件 9、浮起部件的本體部分 10、帽 11、接受部分 12、配管 13、通氣孔 14、彈簧 15、通氣孔 16、徑向槽 17、圓環(huán)狀槽 W、基板具體實施方式
下面基于

本發(fā)明的優(yōu)選實施例。圖1是本發(fā)明中的定位裝置的俯視圖，圖2是該定位裝置的側(cè)視圖，圖3是浮起部件的放大剖視圖。
定位裝置中，在底座1上設(shè)置壓力缸單元的升降裝置2，在該升降裝置2上配置支持部件3。該支持部件3將成為板狀的縱向部件和成為棒狀的橫向部件組合在一起，作為整體成為格子狀，通過馬達4能夠在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
此外，包圍支持部件3地在底座1上設(shè)置多個對準(zhǔn)部件5。該對準(zhǔn)部件5在上部具有滑動部件6，該滑動部件6通過壓力缸單元的工作相對于基板W在水平方向進退移動，在滑動部件6的前端安裝著推桿7，當(dāng)與基板W對接時，在施加規(guī)定壓力以上的情況下，推桿7后退以不損傷基板W。
如圖所示，相對于矩形基板W的一條邊配置2個對準(zhǔn)部件5，剩下的3條邊各配置1個對準(zhǔn)部件5，但是配置的數(shù)量以及分配并不限于此。
在所述支持部件3的上面，覆蓋基板的全部區(qū)域地安裝著多個使基板W浮起的浮起部件8。浮起部件8包括柱狀的本體部分9和通過帽10自由滑動地保持在該本體部分9的上部的接受部分11。
在本體部分9中從下方插入配管12，該配管12通過閥選擇性地與壓縮空氣源或者真空源連接。此外，在本體部分9上形成與配管12連通的通氣孔13，而且在本體部分9和接受部分11之間配置彈簧(彈性部件)14，對接受部分11向上方施力。
此外，在接受部分11上貫通地形成有通氣孔15，而且接受部分11的上面是平坦面，在該上面，形成了與所述通氣孔15連接的徑向槽16及圓環(huán)狀槽17。結(jié)果，由外側(cè)的圓環(huán)狀槽17包圍的區(qū)域成為浮起力或者吸引力所作用的區(qū)域。
下面說明使用由上述結(jié)構(gòu)構(gòu)成的定位裝置來對基板W進行定位的方法。
首先，在對準(zhǔn)部件5的滑動部件6已經(jīng)后退的狀態(tài)下，通過使壓力缸單元2工作以使支持部件3上升。接著，由圖中未示出的搬運夾具將基板W移載到支持部件3的浮起部件8上。這時通過操作閥，使浮起部件8的配管12與真空源連接，在浮起部件8的接受部分11的上面吸附基板W。
然后，通過使壓力缸單元2工作以使支持部件3下降，使基板W和對準(zhǔn)部件5的滑動部件6處于同一水平。然后，通過切換閥，使浮起部件8的配管12與壓縮空氣源連接，從浮起部件8的接受部分11上面的槽16、17噴出空氣，使基板從接受部分11的上面浮起。
這里，使接受部分11的上面和基板W之間的間隔、接受部分11的上面和基板W之間的壓力維持一定地升降接受部分11。例如，在圖3中，基板W右側(cè)部分向下方稍微彎曲。為此在右側(cè)的浮起部件8上，接受部分11與基板W的下面相對應(yīng)地壓縮彈性件14使之降到下側(cè)。這樣，基板W上即使具有凹凸，由于接受部分11的上面和基板W的間距總是保持一定，接受部分11不會與基板W接觸而受到損傷。
如果按照上述方式使基板浮起，則使對準(zhǔn)部件5的滑動部件6前進，通過推桿7與基板W的邊緣接觸以進行定位。如果定位結(jié)束，則通過再切換閥，將基板W吸附在接受部分11的上面，通過搬運夾具等搬入處理裝置。
上面示出了一個實施例，作為基板，不限于矩形，可以是圓形，此外，在圖示例子中，關(guān)于浮起部件8的間隔，在與基板的周邊部對應(yīng)處設(shè)定得較窄，但是也可以均等設(shè)置。此外，在接受部分11的上面形成的槽不限于圓環(huán)狀，也可以是矩形。
權(quán)利要求
1.一種定位裝置，是使基板浮起來進行定位的裝置，其特征在于，該定位裝置包括使基板浮起的浮起部件和對基板進行定位的對準(zhǔn)部件，上述浮起部件多個地安裝在呈板狀或者格子狀的支持部件上以覆蓋基板的全部區(qū)域，而且浮起部件以其上面作為基板接受面，該基板接受面是平坦的，并且形成有規(guī)定面積的流體噴出區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位裝置，其特征在于，在所述基板接受面上，環(huán)狀地形成有兼做空氣噴出和空氣吸引用的槽及孔，由該槽及孔包圍的區(qū)域作為浮起力或者吸引力所作用的區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的定位裝置，其特征在于，所述浮起部件包括固定在支持部件上的本體部分和接受部分，該接受部分以自由滑動的方式插入到該本體部分中并且被彈性部件向上方施力。
全文摘要
提供一種即使基板大型化也不損傷基板的、能夠正確定位的定位裝置。在使滑動部件(6)后退的狀態(tài)下，通過使壓力缸單元(2)工作，使支持部件(3)上升，在浮起部件(8)的接受部分(11)的上面接受基板(W)，然后，通過使壓力缸單元(2)工作以使支持部件(3)下降，基板(W)和對準(zhǔn)部件(5)的滑動部件(6)處于同一水平，通過切換閥，浮起部件(8)的配管(12)與壓縮空氣源連接，從浮起部件(8)的接受部分(11)上面的槽(16、17)噴出空氣，基板(W)從接受部分(11)的上面浮起，使對準(zhǔn)部件(5)的滑動部件(6)前進，推桿(7)與基板(W)的邊緣接觸以進行定位。
文檔編號H01L21/68GK1812073SQ20051013733
公開日2006年8月2日 申請日期2005年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月29日
發(fā)明者谷本恒夫, 楫間淳生, 高瀨真治, 山口和伸 申請人:東京応化工業(yè)株式會社, 龍云株式會社