專利名稱：磁性器件的旋轉磁場熱處理方法與裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明屬磁性器件技術領域，具體涉及一種磁性器件的磁場熱處理方法和裝置。
背景技術：
目前國內外傳統的磁場熱處理是把器件放置在加有磁場的爐子內，進行靜態(tài)熱處理，通過一定的磁場和熱處理溫度來提高器件的磁性能，如AlNiCo、FeCrCo、FeNi合金等加工成的磁性器件都采用此方法。但這樣處理后，器件各部位的磁性不均勻性往往達20％左右。這種磁性器件，特別是較大斷面的磁性器件，不能滿足使用的技術要求。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提出一種磁化均勻性高的磁性器件的磁場熱處理方法和裝置。
本發(fā)明提出的磁場熱處理方法，是將待處理器件固定于旋轉軸上，在進行磁場熱處理時，使器件旋轉。轉速要求不限，一般轉速為5-60轉/分鐘即可。其它條件與原來磁場熱處理條件相同，即磁場強度為1000-3000Oe即可，當然磁場強度越大越好，可以在3000Oe以上。加熱處理溫度為500-900℃，保持時間為0.5-2小時。
根據上述方法，本發(fā)明設計了相應的磁場熱處理裝置。該裝置包括原來磁場熱處理裝置電磁鐵A，繞在電磁鐵A上的磁化線圈E，加熱爐B。另外，再設置有旋轉軸C，旋轉軸C由馬達驅動，旋轉軸C的前端部用于固定待處理器件D并進入加熱爐B中。
工作時，將待處理器件D固定于旋轉軸C的前端部。馬達驅動旋轉軸C旋轉，帶動器件D在加熱爐B中旋轉，通電，通過線圈E，使電磁鐵A產生強磁場，器件D在磁場中旋轉并進行熱處理，其每個點的磁化都很均勻，受熱也均勻，大大改善了其磁均勻性，尤其對大斷面的器件，效果更為明顯。測量磁通量，其不均勻性小于4％(非旋轉處理的不均勻性達20％)，能滿足產品在特定情況下的使用要求，擴大了器件的應用范圍。這種磁性器件可用于陀螺馬達、激光導引頭部件和方位定位器等。
圖1為磁場熱處理裝置結構圖示。
圖中標號A為電磁鐵，B為加熱爐，C為旋轉軸，D為器件，E為線圈，F為電源線。
具體實施例方式
下面通過實施例進一步具體描述本發(fā)明。
實施例1，經過高溫過溶處理(處理溫度為1000-1300℃)的FeCrCo合金制成的外徑為Φ80mm的圓環(huán)形器件固定于本發(fā)明裝置的旋轉軸C前端，進行磁場熱處理。在升溫時施加磁場。器件在電磁鐵A產生的磁場中隨軸C的轉動而不斷旋轉。轉速為10-30轉/分鐘，熱處理溫度為600-700℃左右，磁場強度為2000-3000Oe，保溫時間為1-2小時。處理完畢后，器件出爐冷卻，經500-600℃回火處理，測試3個產品的磁通量，其不均勻性如下表1
ΔΦ為磁通不均勻性，ΔΦ=CΔnN,]]>ΔΦ為毫韋伯計指針最大最小讀數差，C為毫韋伯計測量系數(常數)，N為測量線圈的匝數，試驗條件高溫50℃，2小時。低溫-40℃，2小時。溫度沖擊-60℃，1小時+70℃，1小時，3個循環(huán)。
實施例2，器件為材料AlNiCo或FeCoV合金制成的直徑為Φ100mm的圓環(huán)，用本發(fā)明裝置進行磁場熱處理，軸C的轉速為30-60轉/分鐘，升溫時加磁場，強度為1000-2000Oe，熱處理溫度為700-850℃，保溫時間為1-2小時，器件磁化后的磁通量均勻性與表1結果相近(具體略)。
權利要求
1.一種磁性器件的旋轉磁場熱處理方法，其特征在于待處理的器件固定于一旋轉軸上，并置于加熱爐中，在進行磁場熱處理時，控制旋轉軸旋轉，從而使器件旋轉。
2.根據權利要求1所述的旋轉磁場熱處理方法，其特征在于旋轉軸轉速為5-60轉/分鐘，磁場強度為1000-3000Oe，加熱處理溫度為500-900℃，保持時間為0.5-2小時。
3.一種磁性器件的旋轉磁場熱處理裝置，由電磁鐵(A)、電磁鐵(A)上的磁化線圈(E)和加熱爐(B)組成磁場熱處理裝置，其特征在于另設有由馬達驅動的旋轉軸(C)，旋轉軸(C)的前端部用于固定待處理器件，并進入加熱爐(B)中。
全文摘要
本發(fā)明屬于磁性器件技術領域，具體為一種磁性器件的磁場熱處理方法與裝置。本發(fā)明方法是在進行磁場熱處理時，把待處理器件固定在一旋轉軸上，使器件旋轉，從而使器件的各點磁化均勻，受熱均勻。本發(fā)明裝置為在現有磁場熱處理裝置中加設一由馬達驅動的旋轉軸，待處理器件固定于軸的前端置于加熱爐和磁場中。由本發(fā)明進行磁場熱處理的器件，測量其磁通，不均勻性小于4％，較不加旋轉的磁化器件，其磁化均勻性大大改善，能滿足特定情況下的使用要求，擴大了器件的應用范圍。這種磁性器件可用于陀螺馬達，激光導引頭部件和方位定位儀等。
文檔編號H01F13/00GK1760379SQ20051003099
公開日2006年4月19日 申請日期2005年11月3日 優(yōu)先權日2005年11月3日
發(fā)明者徐寶田, 黃佩娣 申請人:徐寶田, 黃佩娣