專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在排除內(nèi)部具有的處理單元對(duì)基板的影響的同時(shí)運(yùn)送基板的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中提出了一種基板處理裝置的方案，在基板制造工序中，沿基板的運(yùn)送路徑設(shè)置進(jìn)行一連串處理的處理單元，沿該運(yùn)送路徑運(yùn)送基板，同時(shí)由那些處理單元進(jìn)行處理。例如，專利文獻(xiàn)1記載著這種基板處理裝置。
在專利文獻(xiàn)1中記載的基板處理裝置中，基板的運(yùn)送路徑僅一個(gè)，全部基板都用相同的路徑運(yùn)送。因而，即使是想排除運(yùn)送路徑上的特定處理單元進(jìn)行的處理的基板(不進(jìn)行該處理的基板)，也必須運(yùn)送到該處理單元。這時(shí)，在已有的基板處理裝置中，運(yùn)送來了不希望處理的基板的處理單元，對(duì)該基板不進(jìn)行處理而運(yùn)出，從而防止對(duì)基板進(jìn)行沒有預(yù)定的不要的處理。
專利文獻(xiàn)1為特開2000-183019公報(bào)。
但是，以前的裝置中存在這樣的問題，即既然運(yùn)送到處理單元中，則難以將不要處理的基板完全無處理而運(yùn)送。例如，在進(jìn)行藥液的濕式處理的處理單元中，內(nèi)部的運(yùn)送部或粘著有藥液，或成為內(nèi)部環(huán)境的溶劑成分濃度高的狀態(tài)。在將基板運(yùn)入這樣的處理單元中時(shí)，即使不進(jìn)行處理單元的處理本身而運(yùn)出基板，也有由于藥液而對(duì)本來不需要處理的基板產(chǎn)生影響的問題。
并且，即使運(yùn)送路徑上的處理單元的其中之一不能運(yùn)送基板時(shí)，所有的基板都成為不能運(yùn)送狀態(tài)，有在不必要進(jìn)行該處理單元的處理的基板也產(chǎn)生該影響的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而做出的，其目的在于提供一種基板處理裝置，對(duì)于不需要規(guī)定的處理的基板，能可靠排除進(jìn)行該規(guī)定處理的處理單元產(chǎn)生的影響。
為了解決上述問題，(1)的發(fā)明是，一種基板處理裝置，對(duì)被投入的基板進(jìn)行處理，其特征是具有對(duì)基板進(jìn)行規(guī)定的處理的至少1個(gè)處理單元；將基板運(yùn)入、運(yùn)出上述處理單元的主運(yùn)送路徑；繞過上述處理單元的副運(yùn)送路徑；在上述主運(yùn)送路徑和上述副運(yùn)送路徑之間交接基板的運(yùn)送裝置；路徑確定裝置，其選擇是通過上述主運(yùn)送路徑還是通過上述副運(yùn)送路徑運(yùn)送上述被投入的基板，確定上述基板的運(yùn)送路徑；控制裝置，其對(duì)應(yīng)于由上述路徑確定裝置確定的上述基板的運(yùn)送路徑，控制上述運(yùn)送裝置。
另外，(2)的發(fā)明是，如(1)所述的基板處理裝置，其特征是，上述運(yùn)送裝置是能在上下方向上升降的同時(shí)運(yùn)送基板的運(yùn)送機(jī)械手，上述副運(yùn)送路徑配置在上述主運(yùn)送路徑的上部。
另外，(3)的發(fā)明是，如(1)所述的基板處理裝置，其特征是，還具有緩沖貯存裝置，其能在與上述運(yùn)送裝置之間進(jìn)行基板的交接，同時(shí)暫時(shí)蓄積基板。
另外，(4)的發(fā)明是，如(3)所述的基板處理裝置，其特征是，上述緩沖貯存裝置能蓄積上述處理單元內(nèi)可同時(shí)存在的最多張數(shù)或其以上張數(shù)的基板。
另外，(5)的發(fā)明是，如(1)所述的基板處理裝置，其特征是，在上述基板處理裝置中投入多個(gè)基板的情況下，而且在從上述主運(yùn)送路徑排出的基板和從上述副運(yùn)送路徑排出的基板發(fā)生沖突時(shí)，上述控制裝置優(yōu)先處理從上述主運(yùn)送路徑排出的基板。
另外，(6)的發(fā)明是，如(1)所述的基板處理裝置，其特征是，上述主運(yùn)送路徑是將朝著規(guī)定方向的去路和朝著上述規(guī)定方向的相反方向的歸路連接而并列設(shè)置，上述副運(yùn)送路徑從上述去路的中途接收基板，在上述歸路的中途送出上述基板。
另外，(7)的發(fā)明是，如(6)所述的基板處理裝置，其特征是，上述副運(yùn)送路徑是緩沖貯存器，其在暫時(shí)蓄積基板的同時(shí)，還設(shè)置有面對(duì)上述去路的第1開口部和面對(duì)上述歸路的第2開口部。
另外，(8)的發(fā)明是，如(6)所述的基板處理裝置，其特征是，上述副運(yùn)送路徑能在雙方向上運(yùn)送基板。
另外，(9)的發(fā)明是，如(1)所述的基板處理裝置，其特征是，還具有旋轉(zhuǎn)裝置，其使從上述基板處理裝置送出的基板旋轉(zhuǎn)而成規(guī)定的姿勢(shì)。
另外，(10)的發(fā)明是，如(1)所述的基板處理裝置，其特征是，上述處理單元對(duì)運(yùn)送來的基板，通過規(guī)定的處理液進(jìn)行處理。
在(1)至(10)所述的發(fā)明中，通過選擇是通過主運(yùn)送路徑還是通過副運(yùn)送路徑運(yùn)送被投入的基板，確定基板的運(yùn)送路徑，從而對(duì)于不進(jìn)行處理單元的處理的基板，繞過處理單元而進(jìn)行運(yùn)送。因而，能在可靠地排除處理單元的影響的同時(shí)運(yùn)送基板。
在(2)所述的發(fā)明中，副運(yùn)送路徑被配置在主運(yùn)送路徑的上部，所以能抑制占用面積。
在(3)所述的發(fā)明中，通過還具有能在與運(yùn)送裝置之間進(jìn)行基板的交接、同時(shí)暫時(shí)蓄積基板的緩沖貯存裝置，在多個(gè)基板中能吸收因運(yùn)送路徑的不同引起的運(yùn)送時(shí)間差。例如，處理單元處于維護(hù)中時(shí)，在上游能使基板退讓。進(jìn)而能實(shí)現(xiàn)將在后投入的基板先行運(yùn)送等的基板的超越運(yùn)送。
在(4)所述的發(fā)明中，通過緩沖貯存裝置能蓄積處理單元內(nèi)可同時(shí)存在的最多張數(shù)或其以上的張數(shù)的基板，從而能可靠地實(shí)現(xiàn)使用副運(yùn)送路徑的超越運(yùn)送。
在(5)所述的發(fā)明中，通過在基板處理裝置中投入多個(gè)基板的情況下，而且在從主運(yùn)送路徑排出的基板和從副運(yùn)送路徑排出的基板發(fā)生沖突時(shí)，優(yōu)先處理從主運(yùn)送路徑排出的基板，從而使運(yùn)送到處理單元中的基板進(jìn)行等待，所以能防止對(duì)該基板進(jìn)行必要次數(shù)以上的處理。
在(6)所述的發(fā)明中，通過副運(yùn)送路徑從主運(yùn)送路徑的去路的中途接收基板，在主運(yùn)送路徑的歸路的中途送出基板，從而副運(yùn)送路徑的基板運(yùn)送距離變短。所以由副運(yùn)送路徑運(yùn)送的基板能夠高速運(yùn)送。
在(7)所述的發(fā)明中，副運(yùn)送路徑是緩沖貯存器，其在暫時(shí)蓄積基板的同時(shí)，還設(shè)置有面對(duì)去路的第1開口部和面對(duì)歸路的第2開口部，所以不需要設(shè)置在副運(yùn)送路徑上運(yùn)送基板的結(jié)構(gòu)。不需要在主運(yùn)送路徑和副運(yùn)送路之間另外設(shè)置緩沖貯存器。因而，能使裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單化。
在(8)所述的發(fā)明中，副運(yùn)送路徑能在雙方向上運(yùn)送基板，所以副運(yùn)送路徑不僅作為繞過配置在去路上的處理單元的運(yùn)送路徑，而且，也能兼用作繞過配置在歸路上的處理單元的運(yùn)送路徑。
在(9)所述的發(fā)明中，具有使從基板處理裝置送出的基板旋轉(zhuǎn)而成規(guī)定的姿勢(shì)的旋轉(zhuǎn)裝置，所以即使是運(yùn)送路徑不同的基板，也能調(diào)整為相同姿勢(shì)后送出。因而，能統(tǒng)一所送出的基板的姿勢(shì)。
在(10)所述的發(fā)明中，處理單元對(duì)運(yùn)送來的基板，通過規(guī)定的處理液進(jìn)行處理，所以與以前的裝置相比，能特別有效地排除處理單元的影響。


圖1是表示本發(fā)明的基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)和運(yùn)送基板的路徑的視圖。
圖2是表示兩面具有開口部的緩沖貯存器的結(jié)構(gòu)的視圖。
圖3是說明基板在副運(yùn)送路徑運(yùn)送時(shí)的基板姿勢(shì)的視圖。
圖4是說明基板在主運(yùn)送路徑運(yùn)送時(shí)的基板姿勢(shì)的視圖。
圖5是表示第2實(shí)施形式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)和運(yùn)送基板的路徑的視圖。
圖6是表示第3實(shí)施形式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)和運(yùn)送基板的路徑的視圖。
圖7是表示第4實(shí)施形式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)和運(yùn)送基板的路徑的視圖。
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的最佳實(shí)施形式。
1、第1實(shí)施形式圖1是表示本發(fā)明的基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)和運(yùn)送基板的路徑的視圖?；逄幚硌b置1具有校驗(yàn)代碼讀取器(ベリコ一ドリ一ダ)10、運(yùn)送機(jī)械手20～22、傳送帶30、31、緩沖貯存器(バッフア)40、41、蝕刻單元50、分離單元51、旋轉(zhuǎn)單元60、檢查單元70和控制部80。
在圖1中，運(yùn)送機(jī)械手20、21表示為側(cè)面圖。傳送帶30和蝕刻單元50以同一平面狀并列圖示，但實(shí)際上傳送帶30配置在蝕刻單元50的上部，這些形成了2層構(gòu)造的結(jié)構(gòu)。通過這樣配置傳送帶30，基板處理裝置1能防止占用面積的增大。
為了圖示的方便，圖1僅圖示出1個(gè)控制部80，但實(shí)際上基板處理裝置1有使校驗(yàn)代碼讀取器10、運(yùn)送機(jī)械手20～22等各構(gòu)成可獨(dú)力動(dòng)作的控制部80。那些多個(gè)控制部80通過未圖示的電纜而相互連接，在通過通信進(jìn)行信息傳遞的同時(shí)，能夠獨(dú)立地控制各構(gòu)成。以下，特別將校驗(yàn)代碼讀取器10的控制部80稱為控制部VCRC，將運(yùn)送機(jī)械手20～22的控制部80稱為控制部RBC1～RBC3，與其他控制部80適當(dāng)區(qū)別而進(jìn)行說明。
在圖1中，以實(shí)線箭頭表示的路徑是主運(yùn)送路徑MTR，以虛線箭頭表示的路徑是副運(yùn)送路徑STR1、STR2，即，本實(shí)施形式的基板處理裝置1有2個(gè)副運(yùn)送路徑STR1、STR2。
基板處理裝置1，構(gòu)成為通過抗蝕劑液的涂敷、曝光和顯像處理，對(duì)掩蓋了電路圖形的基板進(jìn)行蝕刻處理后，實(shí)行分離除去抗蝕劑膜、檢查處理結(jié)果的一連串處理的裝置。
1.1、主運(yùn)送路徑基板處理裝置1具有從校驗(yàn)代碼讀取器10經(jīng)由蝕刻單元50、分離單元51，進(jìn)而通過旋轉(zhuǎn)單元60、檢查單元70而到傳送帶31的主運(yùn)送路徑MTR。主運(yùn)送路徑MTR是將基板運(yùn)入、運(yùn)出基板處理裝置1所具有的各處理單元用的路徑，相當(dāng)于在現(xiàn)有技術(shù)的裝置中通過全部的基板的路徑。主運(yùn)送路徑MTR是連接從校驗(yàn)代碼讀取器10經(jīng)由蝕刻單元50到分離單元51的去路、和從分離單元51經(jīng)由旋轉(zhuǎn)單元60、檢查單元70到傳送帶31的歸路的構(gòu)成。以下，說明本實(shí)施形式的基板處理裝置1的主運(yùn)送路徑MTR的主要構(gòu)成。
校驗(yàn)代碼讀取器10將投入到基板處理裝置1的基板保持在運(yùn)送機(jī)械手20接收的位置。未圖示的光學(xué)系統(tǒng)讀取在該基板規(guī)定位置上印刷的識(shí)別代碼(校驗(yàn)代碼(Veri Code))。而根據(jù)所讀取的識(shí)別代碼，控制部VCRC制成基板信息。所謂基板信息是針對(duì)各個(gè)基板制成的信息的總稱，例如，由基板標(biāo)識(shí)符、處理履歷、預(yù)定的處理、優(yōu)先順序等的多個(gè)信息構(gòu)成。
控制部VCRC在將基板保持在規(guī)定位置的動(dòng)作完成的時(shí)刻，將制成的基板信息發(fā)送給運(yùn)送機(jī)械手20的控制部RBC1。
運(yùn)送機(jī)械手20～22都配置在主運(yùn)送路徑MTR上，分別具有保持基板的運(yùn)送臂、使運(yùn)送臂上下升降的升降機(jī)構(gòu)、在水平方向上使運(yùn)送臂進(jìn)退的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制這些機(jī)構(gòu)的控制部(控制部RBC1～控制部RBC3)。通過這樣的構(gòu)成，運(yùn)送機(jī)械手20～22能接收在運(yùn)送臂可動(dòng)范圍內(nèi)保持的基板，同樣交接到運(yùn)送臂可動(dòng)范圍內(nèi)的規(guī)定位置。
特別是由于副運(yùn)送路徑STR1設(shè)置在運(yùn)送機(jī)械手20、21的可動(dòng)范圍內(nèi)，運(yùn)送機(jī)械手20、21能在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR1之間交接基板。同樣，由于副運(yùn)送路徑STR2設(shè)置在運(yùn)送機(jī)械手21、22的可動(dòng)范圍內(nèi)，運(yùn)送機(jī)械手21、22能在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR2之間交接基板。
如上述那樣，運(yùn)送機(jī)械手21～22由于具有升降機(jī)構(gòu)，所以也能在上下方向上運(yùn)送基板。因而，如本實(shí)施形式的基板處理裝置1那樣，副運(yùn)送路徑STR1設(shè)置在主運(yùn)送路徑MTR的上部，即使那些是2層構(gòu)造的情況，也能交接基板。
運(yùn)送機(jī)械手20配置在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR1分支的位置上。運(yùn)送機(jī)械手20的運(yùn)送臂由控制部RBC1控制，從校驗(yàn)代碼讀取器10接收基板，運(yùn)送到構(gòu)成副運(yùn)送路徑STR1的傳送帶30或構(gòu)成主運(yùn)送路徑MTR的蝕刻單元50。
運(yùn)送機(jī)械手20也能將向傳送帶30或蝕刻單元50運(yùn)送的基板暫時(shí)運(yùn)送到緩沖貯存器40中并蓄積后，再運(yùn)送到傳送帶30或蝕刻單元50。即，運(yùn)送機(jī)械手20接收基板的目的地是校驗(yàn)代碼讀取器10或緩沖貯存器40，基板的運(yùn)送目的地是傳送帶30、緩沖貯存器40或蝕刻單元50。
運(yùn)送機(jī)械手21配置在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR1匯合、主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR1分支的位置。運(yùn)送機(jī)械手21的運(yùn)送臂從傳送帶30或蝕刻單元50接收基板，運(yùn)送到構(gòu)成副運(yùn)送路徑STR2的緩沖貯存器41或者構(gòu)成主運(yùn)送路徑MTR的分離單元51。
運(yùn)送機(jī)械手21也能將向分離單元51運(yùn)送的基板暫時(shí)運(yùn)送到緩沖貯存器41中并存儲(chǔ)后，再運(yùn)送到分離單元51。即，運(yùn)送機(jī)械手21接收基板的目的地是傳送帶30、蝕刻單元50或緩沖貯存器41，基板的運(yùn)送目的地是緩沖貯存器41或分離單元51。
運(yùn)送機(jī)械手22配置在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR2匯合的位置。運(yùn)送機(jī)械手22的運(yùn)送臂從緩沖貯存器41或分離單元51接收基板，運(yùn)送到旋轉(zhuǎn)單元60。
運(yùn)送機(jī)械手22也能將從分離單元51接收的基板暫時(shí)運(yùn)送到緩沖貯存器41中并存儲(chǔ)后，再取出、運(yùn)送到旋轉(zhuǎn)單元60。即，運(yùn)送機(jī)械手22接收基板的目的地是緩沖貯存器41或分離單元51，基板的運(yùn)送目的地是緩沖貯存器41或旋轉(zhuǎn)單元60。
各運(yùn)送機(jī)械手20～22在哪個(gè)定時(shí)接收哪個(gè)基板，將接收的基板運(yùn)送到哪個(gè)運(yùn)送目的地，由控制部RBC1～RBC3決定，后面詳細(xì)敘述。
緩沖貯存器40具有在內(nèi)部保持基板的多個(gè)擱架，能用運(yùn)送機(jī)械手20進(jìn)行存取。緩沖貯存器40具有如下功能，即通過用上述的擱架保持由運(yùn)送機(jī)械手20運(yùn)送來的基板，暫時(shí)蓄積基板。在圖1中，緩沖貯存器40配置在運(yùn)送機(jī)械手20和蝕刻單元50之間，但只要是能用運(yùn)送機(jī)械手20運(yùn)入、運(yùn)出基板的位置即可，緩沖貯存器40的位置不限于此。
蝕刻單元50，對(duì)用抗蝕劑膜掩蓋了電路圖形的基板，通過規(guī)定的藥液進(jìn)行濕式處理。具體地說，是用上述規(guī)定的藥液浸蝕基板而在該基板表面上形成電路圖形的單元。本實(shí)施形式的蝕刻單元50內(nèi)能同時(shí)存在最多張數(shù)N的基板。
分離單元51是除去在基板表面上附著的不要的物質(zhì)(抗蝕劑膜、氧化膜等)的單元。例如，通過蝕刻單元50而蝕刻處理過的基板必需除去預(yù)先形成的掩蓋用的抗蝕劑膜。因而，基板處理裝置1通過分離單元51處理這樣的基板，除去不要的抗蝕劑膜。
旋轉(zhuǎn)單元60是有使所接收的基板僅旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度的功能的單元。旋轉(zhuǎn)單元60的控制部80，根據(jù)基板和所接收的基板信息，判定該基板的姿勢(shì)(包含朝向)，只旋轉(zhuǎn)必要的角度，從而調(diào)整該基板的姿勢(shì)。由于基板處理裝置1具有這樣的旋轉(zhuǎn)單元60，所以即使是運(yùn)送路徑不同的基板，也能調(diào)整成相同姿勢(shì)后送出。所以本實(shí)施形式的基板處理裝置1能統(tǒng)一送出基板的姿勢(shì)。
檢查單元70是檢查在基板處理裝置1中處理的基板，根據(jù)該檢查結(jié)果判定基板的好壞的單元。作為檢查單元70進(jìn)行的檢查，例如有宏觀檢查、圖形匹配檢查，線寬測(cè)定檢查等，但也可以進(jìn)行除此以外的檢查。
1.2、副運(yùn)送路徑副運(yùn)送路徑STR1是從運(yùn)送機(jī)械手20通過傳送帶30直到運(yùn)送機(jī)械手21的路徑，主要構(gòu)成為繞過蝕刻單元50的路徑。通過副運(yùn)送路徑STR1運(yùn)送的基板，在直到從基板處理裝置1(傳送帶31)運(yùn)出的期間，不運(yùn)送到蝕刻單元50。即，副運(yùn)送路徑STR1、STR2并不是單純因?yàn)檫\(yùn)送路徑的配置設(shè)計(jì)的原因或處理順序的狀況的原因，而為了暫時(shí)避開特定的單元而設(shè)置的路徑。
傳送帶30主要由大至水平方向保持基板的保持部件和在規(guī)定的方向上運(yùn)送基板用的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成。傳送帶30將從運(yùn)送機(jī)械手20接收的基板，運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR1的前進(jìn)方向(虛線箭頭的方向)，停止在運(yùn)送機(jī)械手21接收該基板的位置上。作為實(shí)現(xiàn)傳送帶30的機(jī)構(gòu)，以前提出有滾動(dòng)運(yùn)送機(jī)構(gòu)和往返運(yùn)送機(jī)構(gòu)等，當(dāng)然不限于這樣的機(jī)構(gòu)。
副運(yùn)送路徑STR2是從運(yùn)送機(jī)械手21通過緩沖貯存器41直到運(yùn)送機(jī)械手22的路徑，主要構(gòu)成為繞過分離單元51的路徑。即，通過副運(yùn)送路徑STR2運(yùn)送的基板，在基板處理裝置1中，以后也不運(yùn)送到分離單元51，而從基板處理裝置1運(yùn)出。
圖2是表示緩沖貯存器41和運(yùn)送機(jī)械手21、22的側(cè)面圖。緩沖貯存器41和緩沖貯存器40同樣具有在內(nèi)部保持基板的多個(gè)擱架。在緩沖貯存器41的側(cè)面，設(shè)置著向運(yùn)送機(jī)械手21(主運(yùn)送路徑MTR的去路側(cè))開口的多個(gè)開口部411和向運(yùn)送機(jī)械手22(主運(yùn)送路徑MTR的歸路側(cè))開口的多個(gè)開口部412。
即，緩沖貯存器41的各個(gè)擱架，能由運(yùn)送機(jī)械手21和運(yùn)送機(jī)械手22的任一個(gè)進(jìn)行基板的運(yùn)入和運(yùn)出。因而，通過運(yùn)送機(jī)械手22運(yùn)出由運(yùn)送機(jī)械手21運(yùn)入的基板，緩沖貯存器41具有作為繞過分離單元51的副運(yùn)送路徑STR2的功能。
緩沖貯存器41，確定其擱架數(shù)，使得能蓄積在蝕刻單元50內(nèi)可同時(shí)存在的最多張數(shù)N或其以上的張數(shù)的基板。由此，基板處理裝置1能可靠地實(shí)現(xiàn)使用副運(yùn)送路徑STR2的超越運(yùn)送。
1.3、動(dòng)作說明接著，說明具有這樣構(gòu)成的本實(shí)施形式的基板處理裝置1的動(dòng)作的一例。
首先，在基板處理裝置1中投入基板時(shí)，校驗(yàn)代碼讀取器10讀取該基板的識(shí)別符而制成基板信息，同時(shí)將該基板保持在規(guī)定位置。校驗(yàn)代碼讀取器10的控制部VCRC，向運(yùn)送機(jī)械手20的控制部RBC1發(fā)送該基板的基板信息，從而傳遞基板可接收的形態(tài)。
運(yùn)送機(jī)械手20的控制部RBC1從控制部VCRC接收基板信息時(shí)，根據(jù)所接收的基板信息，確定該基板信息表示的基板的運(yùn)送路徑。例如，根據(jù)基板信息中所包含的關(guān)于「預(yù)定的處理」的信息，判定對(duì)該基板是否預(yù)定了蝕刻單元50的處理。根據(jù)該判定結(jié)果，對(duì)于預(yù)定了蝕刻單元50的處理的基板，選擇主運(yùn)送路徑MTR，將主運(yùn)送路徑MTR確定為該基板的運(yùn)送路徑。另一方面，對(duì)于沒有預(yù)定該處理的基板，選擇副運(yùn)送路徑STR1，將副運(yùn)送路徑STR1確定為該基板的運(yùn)送路徑。
作為運(yùn)送機(jī)械手20的基板的接收目的地，存在校驗(yàn)代碼讀取器10和緩沖貯存器40。因而存在這樣的情況來自校驗(yàn)代碼讀取器10的基板的接收要求、和將緩沖貯存器40中存儲(chǔ)的存儲(chǔ)運(yùn)送到下游側(cè)的定時(shí)發(fā)生沖突。這時(shí)，控制部RBC1參照各基板的基板信息中所包含的“優(yōu)先順序”，控制運(yùn)送臂，接收“優(yōu)先順序”高的基板。另外，若是相同的“優(yōu)先順序”的基板，則控制運(yùn)送臂，優(yōu)先接收先投入的基板(存儲(chǔ)在緩沖貯存器40中的基板)。但是，基板的運(yùn)送控制也不限于這樣的情況。
控制部RBC1控制運(yùn)送臂，將主運(yùn)送路徑MTR成為運(yùn)送路徑的基板運(yùn)送到蝕刻單元50，將副運(yùn)送路徑STR1成為運(yùn)送路徑的基板運(yùn)送到傳送帶30。也有將向下游側(cè)運(yùn)送的基板暫時(shí)運(yùn)送到緩沖貯存器40中蓄積的情況。
這樣，通過運(yùn)送機(jī)械手20運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR的基板通過蝕刻單元50進(jìn)行藥液處理，在表面形成電路圖形。
另一方面，不進(jìn)行蝕刻處理的基板，用傳送帶30運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR1上，繞過蝕刻單元50進(jìn)行運(yùn)送。這樣，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，不進(jìn)行蝕刻處理的基板(換句話說，禁止蝕刻處理的基板)不運(yùn)送到蝕刻單元50。因而，能可靠排除在這樣的基板上產(chǎn)生蝕刻單元50的影響。
還有，被繞過的單元可以是進(jìn)行任何處理的單元。但是，在使用藥液進(jìn)行濕式處理的蝕刻單元50那樣的單元中，運(yùn)送不假想觸及到使用的藥液的基板時(shí)，對(duì)該基板的影響大。因而，如本實(shí)施形式的基板處理裝置1那樣具有進(jìn)行濕式處理的單元時(shí)，用副運(yùn)送路徑使不進(jìn)行該單元處理的基板繞過，特別有效。
這樣，作為投入到基板處理裝置1的基板中不進(jìn)行蝕刻處理的基板，可以想象有例如在投入到基板處理裝置1中之前的涂敷抗蝕劑的階段涂敷不好的基板等。即，對(duì)于判定為涂敷不好的基板，進(jìn)行蝕刻處理時(shí)當(dāng)然形成的電路圖形也不好。因而，這樣的基板必需除去所涂敷的抗蝕劑后用涂敷裝置進(jìn)行再處理。然而，由于蝕刻處理是浸蝕基板的處理，將進(jìn)行蝕刻處理后的基板恢復(fù)到再處理用是困難的。因此，投入到基板處理裝置1中，不進(jìn)行蝕刻處理，用分離單元51僅進(jìn)行判定為涂敷不好的抗蝕劑膜的分離處理，從基板處理裝置1運(yùn)出后，再進(jìn)行涂敷處理。即，假想將基板處理裝置1作為再工作裝置使用的情形等。
控制部RBC1，從在所確定的運(yùn)送路徑中位于下游側(cè)的裝置(傳送帶30、蝕刻單元50)的控制部80接收表示該裝置狀態(tài)的信息，根據(jù)該信息運(yùn)送基板。例如，若是蝕刻單元50不能接收基板的狀態(tài)，則對(duì)于將主運(yùn)送路徑MTR作為運(yùn)送路徑的基板，暫時(shí)運(yùn)送到緩沖貯存器40中蓄積。蝕刻單元50變成接收基板的狀態(tài)，從蝕刻單元50的控制部要求運(yùn)送基板時(shí)，從緩沖貯存器40取出該基板，運(yùn)送到蝕刻單元50。
這樣，由于本實(shí)施形式的基板處理裝置1具有緩沖貯存器40，例如，在處理單元處于維護(hù)中時(shí)，能使基板避開。
即使是蝕刻單元50不能接收基板的狀態(tài)下，若從校驗(yàn)代碼讀取器10接收的基板是運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR1的基板，則控制部RBC1控制運(yùn)送臂，將基板運(yùn)送到傳送帶30。
以前的裝置中，由于與對(duì)基板的處理無關(guān)，運(yùn)送路徑是一個(gè)，所以運(yùn)送路徑上的單元是不能接收基板的狀態(tài)時(shí)，成為全部基板不能運(yùn)送到下游側(cè)的狀態(tài)。然而，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，由于使運(yùn)送路徑的一部分雙路化，對(duì)于不進(jìn)行蝕刻單元50的處理的基板，不停頓處理，能用副運(yùn)送路徑STR1運(yùn)送到下游側(cè)。即，對(duì)于不需要進(jìn)行蝕刻處理的基板，能排除蝕刻單元50處理狀態(tài)的影響。
在蝕刻單元50不能使用并且不能恢復(fù)時(shí)等，控制部RBC1對(duì)于確定主運(yùn)送路徑MTR作為運(yùn)送路徑的基板，能變更運(yùn)送路徑，確定副運(yùn)送路徑STR1作為運(yùn)送路徑。即，能將投入到基板處理裝置1中的基板迅速運(yùn)出。這樣，由于運(yùn)送機(jī)械手20的控制部RBC1決定各個(gè)基板的運(yùn)送路徑，從而基板處理裝置1能根據(jù)各種各樣的狀況而隨機(jī)應(yīng)變地應(yīng)對(duì)。
控制部RBC1，在接收優(yōu)先度高的基板時(shí)，控制運(yùn)送臂，使該優(yōu)先度高的基板優(yōu)先運(yùn)送，同時(shí)，將該基板的基板信息發(fā)送到運(yùn)送機(jī)械手21的控制部RBC2，從而將運(yùn)送優(yōu)先基板的情況通知給控制部RBC2。由此，在下游側(cè)，優(yōu)先基板也比其他基板優(yōu)先處理。
蝕刻單元50的處理結(jié)束時(shí)，蝕刻單元50的控制部80通過向運(yùn)送機(jī)械手21發(fā)送處理結(jié)束的基板的基板信息，通知蝕刻單元50中可運(yùn)出的基板準(zhǔn)備好了。傳送帶30的控制部80，在運(yùn)送的基板到達(dá)了傳送帶30出口側(cè)的階段，通過將該基板的基板信息發(fā)送到運(yùn)送機(jī)械手21，通知可運(yùn)出的基板準(zhǔn)備好了。
接收這樣的通知(基板運(yùn)送要求)時(shí)的運(yùn)送機(jī)械手21的動(dòng)作和運(yùn)送機(jī)械手20的動(dòng)作大致相同，但發(fā)生來自傳送帶30的通知和來自蝕刻單元50的通知幾乎同時(shí)進(jìn)行的情況。這時(shí)，運(yùn)送機(jī)械手21的控制部RBC2使來自蝕刻單元50的通知優(yōu)先。
即，在傳送帶30和蝕刻單元50的要求發(fā)生沖突時(shí)，運(yùn)送機(jī)械手21將由蝕刻單元50保持的基板比由傳送帶30保持的基板優(yōu)先運(yùn)出。這樣的優(yōu)先處理也在蝕刻單元50的處理結(jié)束的基板、和緩沖貯存器41內(nèi)蓄積的基板之間進(jìn)行。這時(shí)，控制部RBC2控制運(yùn)送臂，優(yōu)先接收由蝕刻單元50保持的基板。
由此，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，能夠防止由于使基板停頓在蝕刻單元50中，而產(chǎn)生對(duì)蝕刻單元50內(nèi)存在的基板的蝕刻處理過剩等的影響。
在基板處理裝置1中，運(yùn)送機(jī)械手21的控制部RBC1所選擇的主運(yùn)送路徑MTR是分離單元51，副運(yùn)送路徑STR2是緩沖貯存器41。將運(yùn)送機(jī)械手21接收的基板運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR2的方法，和副運(yùn)送路徑STR20的情形大致相同。
即，控制部RBC2參照基板信息中所包含的“優(yōu)先順序”，從而在緩沖貯存器41中蓄積發(fā)生沖突的基板中優(yōu)先順序低的基板，先將優(yōu)先順序高的基板運(yùn)送到下游側(cè)。即，基板處理裝置1由于具有緩沖貯存器41，所以能實(shí)現(xiàn)后投入的基板先運(yùn)送等的基板的超越運(yùn)送。
特別是在從運(yùn)送機(jī)械手20的控制部RBC1接收到優(yōu)先基板存在的通知時(shí)(那時(shí)，在蝕刻單元50中最多存在N張基板)，控制部RBC1將從蝕刻單元50接收的基板不管其運(yùn)送路徑而運(yùn)送到緩沖貯存器41中蓄積。并且，在優(yōu)先基板到達(dá)的時(shí)刻，使該優(yōu)先基板優(yōu)先于在緩沖貯存器41中蓄積的基板而運(yùn)送到下游側(cè)。這樣，由于緩沖貯存器41能保持可在蝕刻單元50中同時(shí)存在的最多張數(shù)N或其以上的張數(shù)的基板，所以基板處理裝置1對(duì)于在相同運(yùn)送路徑運(yùn)送的基板，也能可靠地超越運(yùn)送。
在基板處理裝置1中，副運(yùn)送路徑STR2由緩沖貯存器41構(gòu)成。即，副運(yùn)送路徑STR2不僅是將基板運(yùn)送到下游側(cè)用的機(jī)構(gòu)，而且也兼用作蓄積基板用的機(jī)構(gòu)。因而，需要識(shí)別被運(yùn)送到緩沖貯存器41的基板是通過副運(yùn)送路徑STR2運(yùn)送的基板(與由運(yùn)送機(jī)械手20運(yùn)送到傳送帶30的基板相當(dāng)?shù)幕?、還是僅蓄積而按順序等待的基板(與由運(yùn)送機(jī)械手20運(yùn)送到緩沖貯存器41的基板相當(dāng)?shù)幕?。
本實(shí)施形式的基板處理裝置1的控制部RBC2，針對(duì)僅在緩沖貯存器41中蓄積的基板，對(duì)運(yùn)送機(jī)械手22的控制部RBC3不進(jìn)行基板運(yùn)送要求，僅針對(duì)要通過副運(yùn)送路徑STR2運(yùn)送的基板(更詳細(xì)地說是到了運(yùn)送定時(shí)的基板)進(jìn)行該基板運(yùn)送要求。而且，僅配置在副運(yùn)送路徑STR2下游側(cè)的運(yùn)送機(jī)械手22的控制部RBC3接收了基板運(yùn)送要求的基板被從緩沖貯存器41接收并運(yùn)送。由此，控制部RBC3沒有接收基板運(yùn)送要求的基板繼續(xù)蓄積在緩沖貯存器41內(nèi)，例如，在運(yùn)送機(jī)械手21準(zhǔn)備將該基板運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR時(shí)，能從緩沖貯存器41接收該基板。
基板處理裝置1中，在經(jīng)由主運(yùn)送路徑MTR(蝕刻單元50)的基板和經(jīng)由副運(yùn)送路徑STR1(傳送帶30)的基板之間，在運(yùn)送時(shí)間上產(chǎn)生差。因而，可以想象到即使是不希望進(jìn)行基板的超越運(yùn)送時(shí)，通過運(yùn)送時(shí)間短的運(yùn)送路徑運(yùn)送的基板也會(huì)超越通過運(yùn)送時(shí)間比較長(zhǎng)的運(yùn)送路徑運(yùn)送的基板的情況?？墒?，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，即使在那樣的的情況下后投入的基板先到達(dá)運(yùn)送機(jī)械手21，通過在緩沖貯存器41中蓄積該基板，從而能吸收因運(yùn)送路徑不同引起的運(yùn)送時(shí)間的差。因而，例如，若基板信息中包含禁止超越運(yùn)送的信息，則基板處理裝置1能遵守投入的順序而排出基板。
這樣，用運(yùn)送機(jī)械手21運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR的基板，由分離單元51進(jìn)行分離處理。運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR2的基板，繞過分離單元51而運(yùn)送到下游側(cè)，所以能排除分離單元51的處理的影響。
分離單元51的處理結(jié)束時(shí)，分離單元51的控制部80通過向運(yùn)送機(jī)械手22發(fā)送處理結(jié)束了的基板的基板信息，通知在分離單元51中可運(yùn)出的基板準(zhǔn)備好了。另外，運(yùn)送機(jī)械手21的控制部RBC2，通過在與緩沖貯存器41交接將副運(yùn)送路徑STR2作為運(yùn)送路徑的基板的階段，向運(yùn)送機(jī)械手22的控制部RBC3發(fā)送該基板的基板信息(相當(dāng)于發(fā)送基板運(yùn)送要求)，從而通知在緩沖貯存器41中可運(yùn)出的基板準(zhǔn)備好了。
接收這些通知時(shí)，運(yùn)送機(jī)械手22的控制部RBC3控制運(yùn)送臂，接收準(zhǔn)備好了的基板。在這些通知發(fā)生沖突時(shí)，在參照各基板信息中包含的“優(yōu)先順序”等的同時(shí)，決定優(yōu)先接收的基板。運(yùn)送機(jī)械手22配置在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR2匯合的位置上，但因?yàn)樵谙掠蝹?cè)僅存在主運(yùn)送路徑MTR，所以控制部RBC3不必要確定已接收的基板的運(yùn)送路徑。但是，在存在應(yīng)比從分離單元51接收的基板優(yōu)先運(yùn)送的基板時(shí)等，有將該基板運(yùn)送到緩沖貯存器41中暫時(shí)待機(jī)的情況。
運(yùn)送機(jī)械手22將運(yùn)送到下游側(cè)的基板運(yùn)送到旋轉(zhuǎn)單元60中。
基板處理裝置1中，因?yàn)樵诓煌倪\(yùn)送路徑運(yùn)送基板，由于其運(yùn)送路徑的不同，產(chǎn)生各基板姿勢(shì)不同的情況。圖3和圖4是說明這些基板的姿勢(shì)的不同的平面圖。在圖3和圖4中，各四方形基板W表面表示的黑點(diǎn)表示相互對(duì)應(yīng)的相同位置，以便易于理解依次運(yùn)送的各基板W的姿勢(shì)。
如圖3所示，在將基板W運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR2時(shí)，將未附有黑點(diǎn)的方向作為前頭而交接給運(yùn)送機(jī)械手21的基板W，以點(diǎn)P為中心旋轉(zhuǎn)90°，運(yùn)送到緩沖貯存器41。該基板W由運(yùn)送機(jī)械手22接收，以點(diǎn)Q為中心旋轉(zhuǎn)90°，運(yùn)送到旋轉(zhuǎn)單元60。因而，這時(shí)，旋轉(zhuǎn)單元60接收的基板W成為將未附有黑點(diǎn)一方的端部作為運(yùn)送方向的前頭的姿勢(shì)。
另一方面，如圖4所示，在將基板W運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR時(shí)，以與圖3所示的情況相同的朝向交接給運(yùn)送機(jī)械手21的基板W，以點(diǎn)P為中心旋轉(zhuǎn)180°，運(yùn)送到分離單元51。分離單元51不旋轉(zhuǎn)所接收的基板，按順序進(jìn)行處理，向運(yùn)送機(jī)械手22運(yùn)出。在分離單元51處理結(jié)束了的基板W由運(yùn)送機(jī)械手22接收，以點(diǎn)P為中心旋轉(zhuǎn)180°，運(yùn)送到旋轉(zhuǎn)單元60。因而，這時(shí)，旋轉(zhuǎn)單元60接收的基板W的姿勢(shì)是將附有黑點(diǎn)一方的端部作為運(yùn)送方向的前頭的姿勢(shì)。
本實(shí)施形式的基板處理裝置1，通過旋轉(zhuǎn)單元60的控制部80根據(jù)基板和所接收的基板信息判定該基板的姿勢(shì)，旋轉(zhuǎn)該基板而成為規(guī)定的姿勢(shì)后運(yùn)送到檢查單元70。即，在旋轉(zhuǎn)單元60以圖3所示的姿勢(shì)接收了基板的情況下，不旋轉(zhuǎn)基板，而運(yùn)送到檢查單元70。另一方面，在以圖4所示的姿勢(shì)接收基板的情況下，旋轉(zhuǎn)所接收的基板180°而成為與圖3所示的情況相同的姿勢(shì)后，運(yùn)送到檢查單元70。
由此，基板處理裝置1能防止因運(yùn)送路徑不同而使運(yùn)出的基板姿勢(shì)不同的情況。即，從基板處理裝置1送出的基板全部是相同的姿勢(shì)，所以后面工序的裝置不必要考慮基板的姿勢(shì)。
用旋轉(zhuǎn)單元60調(diào)整了姿勢(shì)的基板運(yùn)送到檢查單元70，接受規(guī)定的檢查后，運(yùn)送到傳送帶31，從基板處理裝置1運(yùn)出。
如以上那樣，由于本實(shí)施形式的基板處理裝置1具有將基板運(yùn)入、運(yùn)出處理單元(蝕刻單元50和分離單元51)的主運(yùn)送路徑MTR、和繞過那些處理單元的副運(yùn)送路徑STR1、STR2，通過繞過處理單元而進(jìn)行運(yùn)送，能在可靠地排除處理單元的影響的同時(shí)運(yùn)送基板。
副運(yùn)送路徑STR1由于配置在主運(yùn)送路徑MTR的上部，所以能抑制占用面積。
由于具有用運(yùn)送機(jī)械手20～22可存取的同時(shí)、暫時(shí)存儲(chǔ)基板的緩沖貯存器40、41，所以在多個(gè)基板中能吸收因運(yùn)送路徑的不同引起的運(yùn)送時(shí)間的差。另外，例如在處理單元處于維護(hù)中時(shí)，能在上游使基板避開。并且，能實(shí)現(xiàn)后投入的基板先運(yùn)送等的基板的超越運(yùn)送。
緩沖貯存器41能蓄積可在蝕刻單元5內(nèi)同時(shí)存在的最多張數(shù)N或其以上的張數(shù)的基板，從而能可靠地實(shí)現(xiàn)用副運(yùn)送路徑STR1的超越運(yùn)送。
在從主運(yùn)送路徑MTR排出的基板、和從副運(yùn)送路徑STR1排出的基板發(fā)生沖突時(shí)，控制部80(控制部RBC1)通過優(yōu)先處理從主運(yùn)送路徑MTR排出的基板，使運(yùn)送到蝕刻單元50的基板等待，能防止進(jìn)行必要以上的蝕刻處理。
主運(yùn)送路徑MTR連接、并列設(shè)置朝向規(guī)定方向的去路和朝向規(guī)定方向的相反方向的歸路，副運(yùn)送路徑STR2從去路的中途接收基板，在歸路的中中送出基板，從而副運(yùn)送路徑STR2的基板的運(yùn)送距離變短。因而，能高速運(yùn)送用副運(yùn)送路徑STR2運(yùn)送的基板。
副運(yùn)送路徑STR2是在暫時(shí)蓄積基板的同時(shí)、設(shè)置了面向去路的第1開口部411和面向歸路的第2開口部412的緩沖貯存器41，所以不必要設(shè)置運(yùn)送基板到副運(yùn)送路徑STR2的機(jī)構(gòu)。由于在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR2之間不必要另外設(shè)置緩沖貯存器，所以能使裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單化。
由于具有使從基板處理裝置1送出的基板旋轉(zhuǎn)而成規(guī)定的姿勢(shì)的旋轉(zhuǎn)單元60，所以即使是運(yùn)送路徑不同的基板，也能調(diào)整成相同的姿勢(shì)后送出。因而，能統(tǒng)一送出的基板的姿勢(shì)。
在基板處理裝置1中，旋轉(zhuǎn)單元60和檢查單元70是不能繞過的處理單元，但基板處理裝置1也可以具有這樣的處理單元。
2、第2實(shí)施形式在第1實(shí)施形式中，說明了基板處理裝置具有多個(gè)處理單元的例子，但處理單元的數(shù)量也可以是1個(gè)。
圖5是表示根據(jù)這樣的原理構(gòu)成的第2實(shí)施形式的基板處理裝置2的構(gòu)成、和運(yùn)送基板的路徑的視圖。在基板處理裝置2中，對(duì)于具有和第1實(shí)施形式的基板處理裝置1大致相同的功能的構(gòu)成，使用相同的符號(hào)，同時(shí)適當(dāng)省略說明。
基板處理裝置2具有緩沖貯存器42，代替緩沖貯存器41，在運(yùn)送機(jī)械手21的下游側(cè)配置著傳送帶32。因此，基板處理裝置2的主運(yùn)送路徑MTR僅由在規(guī)定方向(在圖5的右方向)上運(yùn)送基板的去路構(gòu)成。
和第1實(shí)施形式的基板處理裝置1相同，配置在主運(yùn)送路徑MTR和副運(yùn)送路徑STR1匯合的位置上的運(yùn)送機(jī)械手21，在下游側(cè)不設(shè)置與副運(yùn)送路徑STR2相當(dāng)?shù)穆窂?。因此，運(yùn)送機(jī)械手21的控制部RBC2不決定所接收的基板的運(yùn)送路徑。但是，在需要進(jìn)行基板的超越運(yùn)送和基板運(yùn)送的時(shí)間調(diào)整時(shí)，將所接收的基板運(yùn)送到緩沖貯存器42，在緩沖貯存器42中暫時(shí)蓄積該基板。
緩沖貯存器42不是如第1實(shí)施形式的緩沖貯存器41那樣在兩面開口的構(gòu)造，具有和緩沖貯存器40同樣的構(gòu)造，僅由運(yùn)送機(jī)械手21可存取。傳送帶32將從運(yùn)送機(jī)械手21接收的基板，從基板處理裝置2中運(yùn)出。
若簡(jiǎn)單說明以上那樣構(gòu)成的基板處理裝置2的動(dòng)作，首先，在校驗(yàn)代碼讀取器10讀取識(shí)別代碼而制成基板信息的同時(shí)，將該基板保持在規(guī)定位置。運(yùn)送機(jī)械手20接收該基板，如在第1實(shí)施形式中說明的那樣，決定該基板的運(yùn)送路徑。
具體地說，運(yùn)送機(jī)械手20將需要蝕刻處理的基板運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR(蝕刻單元50)，將不要蝕刻處理的基板運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR1(傳送帶30)。
運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR的基板用蝕刻單元50蝕刻處理后，交接給運(yùn)送機(jī)械手21。另一方面，運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR1的基板到達(dá)傳送帶30的出口側(cè)后，交接給運(yùn)送機(jī)械手21。
運(yùn)送機(jī)械手21根據(jù)需要將所接收的基板運(yùn)送到緩沖貯存器42，或者將基板運(yùn)送到傳送帶32。
如以上那樣，按照第2實(shí)施形式的基板處理裝置2，即使處理單元是1個(gè)，也能得到和第1實(shí)施形式的基板處理裝置1同樣的效果。即，對(duì)于不要蝕刻處理的基板，能排除蝕刻單元50的暈響。這時(shí)，基板處理裝置2具有將該基板運(yùn)送到規(guī)定位置進(jìn)行處理的運(yùn)送裝置的功能。
3、第3實(shí)施形式在上述實(shí)施形式中，說明了基板處理裝置具有1個(gè)或2個(gè)副運(yùn)送路徑的例子，但副運(yùn)送路徑的數(shù)量也可以更多。
圖6是表示根據(jù)這樣原理構(gòu)成的第3實(shí)施形式的基板處理裝置3的構(gòu)成、和運(yùn)送基板的路徑的視圖。在基板處理裝置3中，對(duì)于具有和第1實(shí)施形式的基板處理裝置1同樣功能的構(gòu)成，加以相同的符號(hào)，適當(dāng)省略說明。
基板處理裝置3作為處理基板的處理單元，具有蝕刻單元52、54和分離單元53。本實(shí)施形式的基板處理裝置3具有作為蝕刻單元52的鋁蝕刻器、作為蝕刻單元54的鉻蝕刻器，各自的蝕刻單元52、54作為使用不同的藥液進(jìn)行蝕刻處理的處理單元而構(gòu)成。
副運(yùn)送路徑STR3主要是繞過蝕刻單元52的運(yùn)送路徑，副運(yùn)送路徑STR4主要是繞過分離單元53的運(yùn)送路徑。副運(yùn)送路徑STR5主要是繞過蝕刻單元54的運(yùn)送路徑。
構(gòu)成這些副運(yùn)送路徑STR3～STR5的傳送帶33～傳動(dòng)帶35分別具有和第1實(shí)施形式的傳送帶30相同的功能和構(gòu)造。即，是將在入口側(cè)交接的基板向出口側(cè)運(yùn)送、交接給在出口側(cè)配置的運(yùn)送機(jī)械手(分別是運(yùn)送機(jī)械手23、24、26)的功能。各自的傳送帶33～傳送帶35分別配置在繞過的處理單元的上部，和第1實(shí)施形式的傳送帶30同樣形成2層構(gòu)造。
緩沖貯存器43、44是具有和緩沖貯存器40同樣的功能和構(gòu)造的緩沖貯存器，分別僅能由運(yùn)送機(jī)械手23、26存取。緩沖貯存器41和第1實(shí)施形式的緩沖貯存器41相同，可由配置在兩側(cè)的運(yùn)送機(jī)械手24、25的任一個(gè)進(jìn)行存取。但是，緩沖貯存器41不是作為繞過處理單元的副運(yùn)送路徑而使用的緩沖貯存器，構(gòu)成主運(yùn)送路徑MTR。
運(yùn)送機(jī)械手23～26都具有和運(yùn)送機(jī)械手20同樣的構(gòu)造。
運(yùn)送機(jī)械手23從主運(yùn)送路徑MTR(蝕刻單元52)或副運(yùn)送路徑STR3(傳送帶33)接收基板，根據(jù)所接收的基板的基板信息決定運(yùn)送路徑，把將主運(yùn)送路徑MTR作為運(yùn)送路徑的基板運(yùn)送到分離單元53，把將副運(yùn)送路徑STR4作為運(yùn)送路徑的基板運(yùn)送到傳送帶34。
運(yùn)送機(jī)械手24從主運(yùn)送路徑MTR(分離單元53)或副運(yùn)送路徑STR4(傳送帶34)接收基板，將所接收的基板運(yùn)送到緩沖貯存器41。即，運(yùn)送機(jī)械手24沒有必要決定運(yùn)送的基板的運(yùn)送路徑。
運(yùn)送機(jī)械手25從緩沖貯存器41接收基板，決定所接收的基板的運(yùn)送路徑，把將主運(yùn)送路徑MTR作為運(yùn)送路徑的基板運(yùn)送到蝕刻單元54，把將副運(yùn)送路徑STR5作為運(yùn)送路徑的基板運(yùn)送到傳送帶35。
運(yùn)送機(jī)械手26從主運(yùn)送路徑MTR(蝕刻單元54)或副運(yùn)送路徑STR5(傳送帶35)接收基板，將所接收的基板運(yùn)送到檢查單元70。即，運(yùn)送機(jī)械手26沒有必要決定運(yùn)送的基板的運(yùn)送路徑。
如以上所述，在具有比上述實(shí)施形式示出的基板處理裝置1、2更多的副運(yùn)送路徑的基板處理裝置3中，也可得到和上述實(shí)施形式的基板處理裝置1、2同樣的效果。
4、第4實(shí)施形式在上述實(shí)施形式中，副運(yùn)送路徑僅在1個(gè)方向上運(yùn)送基板，但副運(yùn)送路徑不限定那樣的功能。
圖7是表示根據(jù)這樣的原理構(gòu)成的第4實(shí)施形式的基板處理裝置4的構(gòu)成、和運(yùn)送基板的路徑的視圖。對(duì)于基板處理裝置4的構(gòu)成中具有和上述實(shí)施形式同樣的功能的構(gòu)成，加以相同的符號(hào)，適當(dāng)省略說明。
基板處理裝置4，作為處理單元而具有蝕刻單元55和分離單元56。
運(yùn)送機(jī)械手27能在對(duì)校驗(yàn)代碼讀取器10、傳送帶36、緩沖貯存器45和蝕刻單元55可存取的位置(在圖7中實(shí)線表示的位置，以下稱為“投入位置”)、和對(duì)傳送帶31、緩沖貯存器46和分離單元56可存取的位置(在圖7中虛線表示的位置，以下稱為“運(yùn)出位置”)之間移動(dòng)。
傳送帶36的構(gòu)成是，通過正反轉(zhuǎn)換地驅(qū)動(dòng)運(yùn)送基板用的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，也能在圖7的左右任一方向上運(yùn)送基板。
以下，簡(jiǎn)單說明基板處理裝置4的動(dòng)作，但在基板處理裝置4中，進(jìn)行所有處理(蝕刻處理和分離處理)的基板因?yàn)樵谥鬟\(yùn)送路徑MTR上依次運(yùn)送，所以省略說明。
對(duì)于僅進(jìn)行蝕刻處理的基板，位于投入位置的運(yùn)送機(jī)械手27從校驗(yàn)代碼讀取器10接收該基板，運(yùn)送到主運(yùn)送路徑MTR(蝕刻單元55)。而在蝕刻單元55的蝕刻處理結(jié)束時(shí)，用運(yùn)送機(jī)械手28從蝕刻單元55運(yùn)出該基板，運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR6(傳送帶36)。
運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR6的基板，用傳送帶36向圖7中的左方向運(yùn)送，用運(yùn)送機(jī)械手27取出。從副運(yùn)送路徑STR6接收了基板的運(yùn)送機(jī)械手27移動(dòng)到運(yùn)出位置，將該基板交接給傳送帶31。這樣，交接給傳送帶31的基板通過傳送帶31而從基板處理裝置4中運(yùn)出，結(jié)束基板處理裝置4的處理。
另一方面，對(duì)于僅進(jìn)行分離處理的基板，位于投入位置的運(yùn)送機(jī)械手27將基板運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR6(傳送帶36)。運(yùn)送到副運(yùn)送路徑STR6的基板，向圖7中的右方向運(yùn)送，用運(yùn)送機(jī)械手28取出。從副運(yùn)送路徑STR6接收了基板的運(yùn)送機(jī)械手28，將該基板運(yùn)送到緩沖貯存器41。
運(yùn)送到緩沖貯存器41的基板用運(yùn)送機(jī)械手29取出，運(yùn)送到分離單元56，由分離單元56進(jìn)行分離處理。
分離處理結(jié)束時(shí)，運(yùn)送機(jī)械手27移動(dòng)到運(yùn)出位置，從分離單元56取出該基板，同時(shí)交接給傳送帶31。這樣，交接給傳送帶31的基板，用傳送帶31從基板處理裝置4運(yùn)出，結(jié)束基板處理裝置4的處理。
通常蝕刻單元55的構(gòu)成是，在規(guī)定方向上排列清洗裝置、蝕刻裝置和干燥裝置等多個(gè)裝置。在分離單元56，也同樣在規(guī)定方向上排列清洗裝置、蝕刻裝置和干燥裝置等而構(gòu)成。因此，蝕刻單元55和分離單元56都是只能從規(guī)定方向接收基板的單元。通常配置這些裝置，使得能夠沿圖7表示的主運(yùn)送路徑MTR來處理基板，所以只能在主運(yùn)送路徑MTR的基板運(yùn)送方向上接收基板。因而，例如，即使是僅進(jìn)行分離處理的基板，運(yùn)送機(jī)械手27也不能移動(dòng)到運(yùn)出位置后，運(yùn)送到分離單元56。然而，本實(shí)施形式的基板處理裝置4，由于具有能在雙方向上運(yùn)送基板的傳送帶36，所以能像上述那樣運(yùn)送基板，即使是僅進(jìn)行分離處理的基板，不通過蝕刻單元55也能進(jìn)行處理。
如上所述，第4實(shí)施形式的基板處理裝置4，也能得到和上述實(shí)施形式的基板處理裝置1～3同樣的效果。
構(gòu)成副運(yùn)送路徑STR6的傳送帶36具有在雙方向上運(yùn)送基板的功能，所以即使是選擇2個(gè)處理單元而使用的情況下，也不必要分別設(shè)置副運(yùn)送路徑，能使裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單化。
也可以在圖7中用虛線表示的位置上另外配置有運(yùn)送機(jī)械手的同時(shí)，在該運(yùn)送機(jī)械手27和運(yùn)送機(jī)械手27之間設(shè)置交接基板用的緩沖貯存器(和緩沖貯存器41同樣的緩沖貯存器)。這時(shí)，不要使運(yùn)送機(jī)械手27移動(dòng)的機(jī)構(gòu)和緩沖貯存器45、46，能使裝置結(jié)構(gòu)更加簡(jiǎn)單化。
5、變形例以上，說明了本發(fā)明的實(shí)施形式，但本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施形式，可進(jìn)行各種各樣的變形。
例如，由1個(gè)副運(yùn)送路徑繞過的處理單元的數(shù)量并不限于1個(gè)，也可以同時(shí)繞過進(jìn)行一連串處理的多個(gè)處理單元。
關(guān)于基板的路徑選擇和調(diào)度，不限于上述實(shí)施形式所示的例子，根據(jù)對(duì)基板實(shí)施的處理，也可以采用其他控制方法。
在上述實(shí)施形式的基板處理裝置1～4中，說明了副運(yùn)送路徑與主運(yùn)送路徑一同成為2層構(gòu)造的結(jié)構(gòu)，但副運(yùn)送路徑也可以設(shè)置在與主運(yùn)送路徑大致相同高度的位置。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，對(duì)被投入的基板進(jìn)行處理，其特征是，具有對(duì)基板進(jìn)行規(guī)定的處理的至少1個(gè)處理單元；將基板運(yùn)入、運(yùn)出上述處理單元的主運(yùn)送路徑；繞過上述處理單元的副運(yùn)送路徑；在上述主運(yùn)送路徑和上述副運(yùn)送路徑之間交接基板的運(yùn)送裝置；路徑確定裝置，其選擇是通過上述主運(yùn)送路徑還是通過上述副運(yùn)送路徑運(yùn)送上述被投入的基板，確定上述基板的運(yùn)送路徑；控制裝置，其對(duì)應(yīng)于由上述路徑確定裝置確定的上述基板的運(yùn)送路徑，控制上述運(yùn)送裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征是，上述運(yùn)送裝置是能在上下方向上升降的同時(shí)運(yùn)送基板的運(yùn)送機(jī)械手，上述副運(yùn)送路徑配置在上述主運(yùn)送路徑的上部。
3.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征是，還具有緩沖貯存裝置，其能在與上述運(yùn)送裝置之間進(jìn)行基板的交接，同時(shí)暫時(shí)蓄積基板。
4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征是，上述緩沖貯存裝置能蓄積上述處理單元內(nèi)可同時(shí)存在的最多張數(shù)或其以上的張數(shù)的基板。
5.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征是，在上述基板處理裝置中投入多個(gè)基板的情況下，而且在從上述主運(yùn)送路徑排出的基板和從上述副運(yùn)送路徑排出的基板發(fā)生沖突時(shí)，上述控制裝置優(yōu)先處理從上述主運(yùn)送路徑排出的基板。
6.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征是，上述主運(yùn)送路徑是將朝著規(guī)定方向的去路和朝著上述規(guī)定方向的相反方向的歸路連接而并列設(shè)置，上述副運(yùn)送路徑從上述去路的中途接收基板，在上述歸路的中途送出上述基板。
7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征是，上述副運(yùn)送路徑是緩沖貯存器，其在暫時(shí)蓄積基板的同時(shí)，還設(shè)置有面對(duì)上述去路的第1開口部和面對(duì)上述歸路的第2開口部。
8.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征是，上述副運(yùn)送路徑能在雙方向上運(yùn)送基板。
9.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征是，還具有旋轉(zhuǎn)裝置，其將從上述基板處理裝置送出的基板旋轉(zhuǎn)而成規(guī)定的姿勢(shì)。
10.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征是，上述處理單元對(duì)運(yùn)送來的基板，通過規(guī)定的處理液進(jìn)行處理。
全文摘要
一種基板處理裝置，對(duì)不要進(jìn)行規(guī)定處理的基板，能可靠排除進(jìn)行該規(guī)定處理的處理單元引起的影響?；逄幚硌b置(1)中，作為基板的運(yùn)送路徑，設(shè)置經(jīng)由蝕刻單元(50)和分離單元(51)的主運(yùn)送路徑(MTR)、繞過蝕刻單元(50)的副運(yùn)送路徑(STR1)(傳送帶(30))和繞過分離單元(50)的副運(yùn)送路徑(STR2)(緩沖貯存器(41))。在主運(yùn)送路徑(MTR)和副運(yùn)送路徑(STR1、STR2)間設(shè)置進(jìn)行基板交接的運(yùn)送機(jī)械手(20～22)。這種構(gòu)成中，例如不進(jìn)行蝕刻處理的基板，控制部(80)選擇副運(yùn)送路徑(STR1)作為運(yùn)送路徑，通過運(yùn)送機(jī)械手(20)運(yùn)送到傳送帶(30)，繞過蝕刻單元(50)進(jìn)行運(yùn)送。
文檔編號(hào)H01L21/027GK1655322SQ200510006898
公開日2005年8月17日 申請(qǐng)日期2005年2月5日 優(yōu)先權(quán)日2004年2月13日
發(fā)明者木村善和, 山本悟史 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社