專利名稱：一種采用非線性激光晶體的和頻紫外固體激光器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及固體激光器件設(shè)計領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
紫外激光可應(yīng)用于原子和分子光譜、生物學(xué)、同位素分離、激光化學(xué)、光數(shù)據(jù)存儲等，在微電子、激光加工、科研等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。雖然準(zhǔn)分子激光器可以直接輸出紫外激光，然而該類激光采用了腐蝕性氣體，具有高壓氣體放電，需要定期維護，而且體積龐大。因此，從比較成熟的半導(dǎo)體激光泵浦激光晶體產(chǎn)生近紅外基波激光，再經(jīng)過非線性光學(xué)的方法進行變頻是成功獲得紫外激光的較好手段，如1064nm的摻Nd3+固體基波激光首先經(jīng)KTiOPO4(KTP)晶體倍頻獲得532nm，然后經(jīng)過LiB3O4(LBO)、β-BaB2O4(BBO)、BiB3O6或YCa4O(BO3)3(YCOB)對1064nm與532nm和頻產(chǎn)生355nm的紫外激光。
盡管與準(zhǔn)分子激光器相比，采用上述方案具有高效、長壽命和全固態(tài)結(jié)構(gòu)等優(yōu)點。但是，整個系統(tǒng)需要一塊激光晶體、兩塊非線性光學(xué)晶體分別用于倍頻與和頻，整個系統(tǒng)仍然比較復(fù)雜，調(diào)整、維護也比較困難。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明設(shè)計了利用一塊可摻雜稀土離子并具有非線性光學(xué)性能的晶體同時輸出近紅外基波光和倍頻光，再利用一塊非線性光學(xué)晶體對基波和倍頻激光和頻產(chǎn)生紫外激光的器件。
本發(fā)明的紫外激光系統(tǒng)，是由作為泵浦源的半導(dǎo)體激光器或其他紅外光源、一塊摻雜稀土離子的非線性激光晶體、一塊和頻用的非線性光學(xué)晶體、保證基波激光起振和紫外激光輸出的鍍膜片組成。其中摻雜稀土離子的非線性激光晶體能夠有效吸收泵浦光，產(chǎn)生基波激光并能同時對基波激光自倍頻，該基波激光和自倍頻激光經(jīng)非線性光學(xué)晶體和頻后處于紫外波段。例如在目前已有的非線性光學(xué)晶體BiB3O6、LaSc3(BO3)4、GdxY1-xAl3(BO3)4和GdxY1-xCa4O(BO3)3(其中x可以從0變化到1)中，以0.5at.％～10.0at.％的Nd3+離子或1.0at.％～50.0at.％的Yb3+離子取代Bi3+、La3+、Gd3+和Y3+離子。在非線性激光晶體的切割和安裝過程中，保證經(jīng)泵浦光激勵后的基波激光通光方向與倍頻該基波激光的相位匹配方向一致。非線性光學(xué)晶體，如LBO、BBO、BiB3O6或YCOB按非線性激光晶體的基波激光和倍頻激光的和頻相位匹配方向切割、加工和安裝。
也可以用第二塊摻雜稀土離子的非線性激光晶體替代上述和頻用的非線性光學(xué)晶體，該非線性激光晶體在起和頻作用的同時也可以被泵浦光激勵并輸出基波激光參與倍頻與和頻過程。
現(xiàn)結(jié)合附圖1和2來說明本發(fā)明方案的實現(xiàn)方式首先，根據(jù)有效吸收泵浦光和輸出紫外激光波長的要求，選擇合適的稀土離子；再選擇能被上述稀土離子有效摻雜的非線性光學(xué)晶體作為基質(zhì)晶體，進行稀土離子按一定濃度摻雜的非線性激光晶體生長。
其次，根據(jù)倍頻晶體中稀土離子基波激光的需要對生長所得的非線性激光晶體1進行定向切割加工，使其通光方向與倍頻相位匹配方向一致，晶體的長度可根據(jù)具體的材料和器件要求確定(一般在幾毫米到幾厘米之間)，端面積一般在毫米見方到厘米見方之間。之后將該晶體置于附圖所示的入射鍍膜腔鏡3和出射鍍膜腔鏡4之間。泵浦光可以沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦該非線性激光晶體。再將非線性光學(xué)晶體2進行定向切割加工，使其通光方向與非線性激光晶體輸出的基波與倍頻激光的和頻相位匹配方向一致。
附圖1是腔內(nèi)和頻紫外激光系統(tǒng)的示意圖。非線性光學(xué)晶體2置于非線性激光晶體1和腔鏡4之間，最后，紫外激光沿方向7輸出。
附圖2是腔外和頻紫外激光系統(tǒng)的示意圖。非線性光學(xué)晶體2置于出射腔鏡4之外，最后，紫外激光沿方向7輸出。
在非線性激光晶體的通光面鍍泵浦光、基波光和倍頻光的增透膜，在非線性光學(xué)晶體的通光面鍍基波光、倍頻光與和頻光的增透膜，可以提高激光運轉(zhuǎn)效率。
利用一塊非線性激光晶體同時產(chǎn)生基波光和倍頻光，與一塊非線性光學(xué)晶體結(jié)合，采用除附圖外的其他器件構(gòu)造或添加其他光學(xué)元器件，同樣可以實現(xiàn)紫外激光輸出。
與目前常用的一塊激光晶體和兩塊非線性光學(xué)晶體為主構(gòu)成的紫外激光系統(tǒng)相比，本發(fā)明少用一塊非線性光學(xué)晶體，即用類似于通常倍頻的器件構(gòu)造獲得三倍頻的紫外激光輸出。使得器件更為簡單和緊湊，有助于提高運行的穩(wěn)定性并降低器件成本，將進一步拓展紫外固態(tài)激光器件的應(yīng)用領(lǐng)域。


附圖1和附圖2分別是腔內(nèi)和頻紫外激光系統(tǒng)的示意圖和腔外和頻紫外激光系統(tǒng)的示意圖。其中，1是摻稀土離子的非線性激光晶體，其通光方向與倍頻基波激光的相位匹配方向一致；2是通光方向與非線性激光晶體1輸出的基波與倍頻激光的和頻相位匹配方向一致的非線性光學(xué)晶體；3是激光腔的入射鍍膜腔鏡；4是激光腔的出射鍍膜腔鏡；5是端面泵浦光入射方向；6是側(cè)向泵浦光入射方向；7是紫外激光輸出方向。
具體實施例方式
實例1807nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Nd3+:YAl3(BO3)4和非線性光學(xué)晶體BBO構(gòu)成354nm腔內(nèi)和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體NdxY1-xAl3(BO3)4(x在0.005到0.1之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝30.6°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體BBO兩端面沿垂直于I類1062nm與531nm和頻相位匹配角θ＝31.4°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于非線性激光晶體2和腔鏡4之間(見附圖1)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長807nm附近高透，Nd3+離子基波激光波長1062nm、倍頻光531nm及和頻光354nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在和頻光354nm附近高透，在807nm、1062nm及531nm附近高反(R＞99％)。這便是一個適于807nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出354nm的紫外固體激光。
實例2807nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Nd3+:YAl3(BO3)4和非線性光學(xué)晶體BBO構(gòu)成354nm腔外和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體NdxY1-xAl3(BO3)4(x在0.005到0.1之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝30.6°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體BBO兩端面沿垂直于I類1062nm與531nm和頻相位匹配角θ＝31.4°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡4之外(見附圖2)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長807nm附近高透，Nd3+離子基波激光波長1062nm、倍頻光531nm及和頻光354nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在倍頻光531nm附近高透，807nm附近高反(R＞99％)，基波1062nm附近透過與531nm相當(dāng)光子數(shù)的激光。這便是一個適于807nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出354nm的紫外固體激光。
實例3807nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Nd3+:YAl3(BO3)4和非線性光學(xué)晶體LBO構(gòu)成354nm腔內(nèi)和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體NdxY1-xAl3(BO3)4(x在0.005到0.1之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝30.6°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體LBO兩端面沿垂直于I類1062nm與531nm和頻相位匹配角θ＝90°，＝37.5°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于非線性激光晶體2和腔鏡4之間(見附圖1)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長807nm附近高透，Nd3+離子基波激光波長1062nm、倍頻光531nm及和頻光354nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在和頻光354nm附近高透，在807nm、1062nm及531nm附近高反(R＞99％)。這便是一個適于807nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出354nm的紫外固體激光。
實例4807nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Nd3+:YAl3(BO3)4和非線性光學(xué)晶體LBO構(gòu)成354nm腔外和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體NdxY1-xAl3(BO3)4(x在0.005到0.1之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝30.6°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體LBO兩端面沿垂直于I類1062nm與531nm和頻相位匹配角θ＝90°，＝37.5°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡4之外(見附圖2)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長807nm附近高透，Nd3+離子基波激光波長1062nm、倍頻光531nm及和頻光354nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在倍頻光531nm附近高透，807nm附近高反(R＞99％)，基波1062nm附近透過與531nm相當(dāng)光子數(shù)的激光。這便是一個適于807nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出354nm的紫外固體激光。
實例5977nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Yb3+:GdCa4O(BO3)3和非線性光學(xué)晶體BBO構(gòu)成344nm腔內(nèi)和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體YbxGd1-xCa4O(BO3)3(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝67.27°，＝129.4°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體BBO兩端面沿垂直于I類1030nm與515nm和頻相位匹配角θ＝32.4°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于非線性激光晶體2和腔鏡4之間(見附圖1)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長977nm附近高透，Yb3+離子基波激光波長1030nm、倍頻光515nm及和頻光344nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在和頻光344nm附近高透，在977nm、1030nm及515nm附近高反(R＞99％)。這便是一個適于977nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出344nm的紫外固體激光。
實例6977nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Yb3+:GdCa4O(BO3)3和非線性光學(xué)晶體BBO構(gòu)成344nm腔外和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體YbxGd1-xCa4O(BO3)3(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝67.27°，＝129.4°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體BBO兩端面沿垂直于I類1030nm與515nm和頻相位匹配角θ＝32.4°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡4之外(見附圖2)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長977nm附近高透，Yb3+離子基波激光波長1030nm、倍頻光515nm及和頻光344nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在倍頻光515nm附近高透，977nm附近高反(R＞99％)，基波1030nm附近透過與515nm相當(dāng)光子數(shù)的激光。這便是一個適于977nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出344nm的紫外固體激光。
實例7977nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Yb3+:GdCa4O(BO3)3和非線性光學(xué)晶體LBO構(gòu)成344nm腔內(nèi)和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體YbxGd1-xCa4O(BO3)3(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝67.27°，＝129.4°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體LBO兩端面沿垂直于I類1030nm與515nm和頻相位匹配角θ＝90°，＝40.2°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于非線性激光晶體2和腔鏡4之間(見附圖1)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長977nm附近高透，Yb3+離子基波激光波長1030nm、倍頻光515nm及和頻光344nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在和頻光344nm附近高透，在977nm、1030nm及515nm附近高反(R＞99％)。這便是一個適于977nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出344nm的紫外固體激光。
實例8977nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Yb3+:GdCa4O(BO3)3和非線性光學(xué)晶體LBO構(gòu)成344nm腔外和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體YbxGd1-xCa4O(BO3)3(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝67.27°，＝129.4°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體LBO兩端面沿垂直于I類1030nm與515nm和頻相位匹配角θ＝90°，＝40.2°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡4之外(見附圖2)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長977nm附近高透，Yb3+離子基波激光波長1030nm、倍頻光515nm及和頻光344nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在倍頻光515nm附近高透，977nm附近高反(R＞99％)，基波1030nm附近透過與515nm相當(dāng)光子數(shù)的激光。這便是一個適于977nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出344nm的紫外固體激光。
實例9977nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Yb3+:YAl3(BO3)4和非線性光學(xué)晶體BBO構(gòu)成347nm腔內(nèi)和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體YbxY1-xAl3(BO3)4(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝31.1°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體BBO兩端面沿垂直于I類1040nm與520nm和頻相位匹配角θ＝32.1°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于非線性激光晶體2和腔鏡4之間(見附圖1)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長977nm附近高透，Yb3+離子基波激光波長1040nm、倍頻光520nm及和頻光347nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在和頻光347nm附近高透，在977nm、1040nm及520nm附近高反(R＞99％)。這便是一個適于977nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出347nm的紫外固體激光。
實例10977nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，非線性激光晶體Yb3+:YAl3(BO3)4和非線性光學(xué)晶體BBO構(gòu)成347nm腔外和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
非線性激光晶體YbxY1-xAl3(BO3)4(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝31.1°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。非線性光學(xué)晶體BBO兩端面沿垂直于I類1040nm與520nm和頻相位匹配角θ＝32.1°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡4之外(見附圖2)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長977nm附近高透，Yb3+離子基波激光波長1040nm、倍頻光520nm及和頻光347nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在倍頻光520nm附近高透，977nm附近高反(R＞99％)，基波1040nm附近透過與520nm相當(dāng)光子數(shù)的激光。這便是一個適于977nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出347nm的紫外固體激光。
實例11977nm波長的半導(dǎo)體激光泵浦，兩塊非線性激光晶體Yb3+:YAl3(BO3)4構(gòu)成347nm腔內(nèi)和頻紫外激光輸出系統(tǒng)。
第一塊非線性激光晶體YbxY1-xAl3(BO3)4(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類倍頻相位匹配角θ＝31.1°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于腔鏡3和4之間。第二塊非線性激光晶體YbxY1-xAl3(BO3)4(x在0.01到0.5之間)兩端面沿垂直于I類1040nm與520nm和頻相位匹配角θ＝39.8°，＝0°定向切割，同時確定晶體的大小(一般為5×5×10mm3，10mm為相位匹配方向)，兩個垂直于相位匹配方向的5×5mm2端面拋光后置于非線性激光晶體2和腔鏡4之間(見附圖1)。入射鍍膜腔鏡3在泵浦光波長977nm附近高透，Yb3+離子基波激光波長1040nm、倍頻光520nm及和頻光347nm附近高反(R＞99％)；出射腔鏡4在和頻光347nm附近高透，在977nm、1040nm及520nm附近高反(R＞99％)。這便是一個適于977nm的半導(dǎo)體激光沿方向5端面泵浦或沿方向6側(cè)向泵浦第一塊Yb3+:YAl3(BO3)4晶體、同時參照類似方案泵浦第二塊Yb3+:YAl3(BO3)4晶體的紫外固體激光系統(tǒng)，沿方向7輸出347nm的紫外固體激光。
權(quán)利要求
1.一種采用非線性激光晶體的和頻紫外固體激光器，是由作為泵浦源的半導(dǎo)體激光器或其他紅外光源、一塊摻雜稀土離子的非線性激光晶體(1)、一塊和頻用的非線性光學(xué)晶體(2)、保證基波激光起振和紫外激光輸出的鍍膜片組成，其中摻雜稀土離子的非線性激光晶體(1)有效吸收泵浦光，產(chǎn)生基波激光并同時對基波激光自倍頻，該基波激光和自倍頻激光經(jīng)非線性光學(xué)晶體(2)和頻后處于紫外波段。
2.如權(quán)利要求1所述的固體激光器，其特征在于所述的非線性激光晶體(1)采用為BiB3O6、LaSc3(BO3)4、GdxY1-xAl3(BO3)4或GdxY1-xCa4O(BO3)3為基質(zhì)晶體，其中x的取值為0～1，并以0.5at.％～10.0at.％的Nd3+離子或1.0at.％～50.0at.％的Yb3+離子取代Bi3+、La3+、Gd3+或Y3+離子。
3.如權(quán)利要求1所述的固體激光器，其特征在于所述的非線性光學(xué)晶體(2)為LBO、BBO、BiB3O6或YCOB晶體。
4.如權(quán)利要求1所述的固體激光器，其特征在于所述的非線性光學(xué)晶體采用第二塊摻雜稀土離子的非線性激光晶體替代。
5.如權(quán)利要求1或4所述的固體激光器，其特征在于所述的非線性激光晶體(1)與第二塊摻雜稀土離子的非線性激光晶體，采用分別按倍頻與和頻匹配方向切割的兩塊非線性激光晶體Yb3+:YAl3(BO3)4。
全文摘要
一種采用非線性激光晶體的和頻紫外固體激光器，涉及固體激光器件設(shè)計領(lǐng)域。利用摻雜稀土離子的非線性激光晶體同時輸出基波與倍頻激光，再經(jīng)過一非線性光學(xué)晶體對該基波與倍頻激光和頻，輸出紫外波段的固體激光。該器件結(jié)構(gòu)簡單緊湊、穩(wěn)定性和可靠性較高、制造成本較低。
文檔編號H01S3/16GK1691442SQ20041003459
公開日2005年11月2日 申請日期2004年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月20日
發(fā)明者黃藝東, 陳雨金, 黃志云 申請人:中國科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所