專利名稱：蒸汽處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在被處理物的表面噴射蒸汽來進行蒸汽處理的蒸汽處理裝置，特別是涉及適用于半導體器件、液晶顯示屏等的制造工序中的清洗(漂洗)工序和照相平板印刷工序的保護層剝離工序等的技術。
背景技術：
在半導體器件、液晶顯示屏等電子機器的領域中，在其制造過程中必須有對半導體基板或玻璃基板等被處理基板進行清洗處理的工序。
在用于這樣的清洗工序中的清洗裝置中，有一種將蒸汽噴射到被處理基板的表面來進行清洗的類型的清洗裝置。圖4是示意噴射蒸汽類型的現(xiàn)有的清洗裝置的簡略構成圖(例如，參照專利文獻1)。
圖4中的符號60為腔室。在該腔室60里具有送出被處理基板61的機構62、基板的支承·旋轉機構63、接觸被支承于該支承·旋轉機構63上的基板61并供給基板表面水蒸汽的蒸汽導入口71、將水蒸汽噴射在基板61表面的水蒸汽噴嘴72、將氣體噴射在基板61表面的氣體噴嘴73和排氣·排液機構66。
在使用圖4的清洗裝置來清洗基板時，把輸送到腔室60內(nèi)的被處理基板61支承在支承·旋轉機構63上之后，來自氣體噴嘴73的氣體噴射在該被清洗基板61的表面，同時，通過從水蒸汽噴嘴72噴射水蒸汽來進行清洗處理。
專利文獻1特開2001-252631號公報。
但是圖4這樣的裝置，被供給用于清洗之后的蒸汽，因從被處理基板61彈回等而向整個腔室60內(nèi)飛散，有時會附著在腔室60的內(nèi)壁等上。被供給用于清洗之后的蒸汽，由于含從基板除去的除去物較多，所以，上述除去物會附著在腔室60的內(nèi)壁等上。
另外，由于腔室60的排氣是由排氣·排液機構66一起排氣，所以，被供給清洗用于之后的蒸汽在進入排氣的氣流之前會附著在腔室60的內(nèi)壁上凝結。在該冷凝液中，由于溶解有附著在腔室60內(nèi)壁的除去物，一旦它們落在被清洗基板上，就會產(chǎn)生已經(jīng)洗凈的面又被污染的問題。另外，在現(xiàn)有的清洗裝置中，由于腔室60內(nèi)由排氣·排液機構66一起進行，所以，排氣量增多。
另外，存在著因構成腔室60的材料，在溶解于附著在上述內(nèi)壁的冷凝液中，它們落在被清洗基板上而產(chǎn)生污染之類的問題。作為其對策，雖然可以凈化腔室，即，由不會污染被處理基板的材料來構成腔室，但是這樣成本太高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述情況，其目的在于提供一種能夠防止從被處理物除去的除去物再次附著在被處理物上、而且能夠減小排氣量、降低成本的蒸汽處理裝置。
本發(fā)明者為了解決上述課題刻苦鉆研以及反復研究，結果發(fā)現(xiàn)，由于附著在被處理物上的微粒子等的粒子和有機物等附著物，用蒸汽比用液體的方法更容易除去，所以通過把調(diào)整了溫度和壓力的蒸汽噴射在被處理物上能夠高效地除去，另外，從被處理物除去的除去物和液體一起排出比和蒸汽一起排出，搬運除去物的能力更高，將供給蒸汽處理后的蒸汽冷卻成為冷凝液，并通過與該冷凝液一起排出能夠高效地排出上述除去物，通過以上處理能夠解決上述課題而完成了本發(fā)明。
即，本發(fā)明的蒸汽處理裝置，其特征在于，具有由向被處理物噴射用于蒸汽處理的蒸汽的蒸汽噴嘴、設在該蒸汽噴嘴附近并將供給蒸汽處理后的蒸汽的至少一部分排出到蒸汽處理系統(tǒng)外的排氣機構、以及冷卻蒸汽處理后的蒸汽的冷卻機構所組成的蒸汽處理部，在上述被處理物表面和上述蒸汽處理部之間的間隙中，形成有使被上述冷卻機構冷卻而凝結的上述蒸汽的冷凝液流過的流路。
作為從蒸汽噴嘴噴射出的蒸汽，不限于水蒸汽，根據(jù)本發(fā)明的蒸汽處理裝置的用途也可以是保護層剝離液等藥液的蒸汽。
根據(jù)這種結構的蒸汽處理裝置，通過調(diào)整由蒸汽噴射嘴噴向基板的蒸汽的溫度和壓力，能夠高效地除去被處理物上的附著物。然后，由于供給蒸汽處理后的蒸汽的至少一部分被上述冷卻機構冷卻成為冷凝液，所以，供給蒸汽處理后仍以蒸汽形式存在的蒸汽減少，而且，由于剩下的該蒸汽能夠由排氣機構迅速排出到蒸汽處理部的系統(tǒng)外，所以，與現(xiàn)有的裝置相比，供給蒸汽處理后的蒸汽飛散的區(qū)域減小了，而且從被處理物除去的有機物和塵埃等的除去物與上述冷凝液一起、能夠經(jīng)由上述流路高效地排出到蒸汽處理系統(tǒng)外，從而能夠防止從被處理物除去的除去物(被處理物的除去物)再次附著在被處理物上。
并且，在本實施例的蒸汽處理裝置中，供給蒸汽處理后的蒸汽繼續(xù)以蒸汽形式存在的蒸汽減少，能夠減小排氣量。
另外，在本發(fā)明的蒸汽處理裝置中，由于供給蒸汽處理后的蒸汽飛散的區(qū)域減小，不必凈化蒸汽處理裝置的整體，例如，由于只要由不會污染被處理物的材料來構成排氣機構部分即可，能夠消減凈化所必需的材料費，從而能夠實現(xiàn)低成本。
在本發(fā)明的蒸汽處理裝置中，上述冷卻機構也可以由冷卻流入上述排氣機構前的蒸汽的第1冷卻機構和冷卻通過上述排氣機構的蒸汽的第2冷卻機構構成。
根據(jù)這種結構的蒸汽處理裝置，由于能夠提高供給蒸汽處理后的蒸汽的冷凝效果，所以，從被處理物除去的除去物與上述冷凝液一起、經(jīng)由上述流路能夠高效地排出到蒸汽處理系統(tǒng)外。具體地說，供給蒸汽處理后的蒸汽的至少一部分，在流入上述排氣機構之前被上述第1冷卻機構冷卻而成為冷凝液，從被處理物除去的除去物與該冷凝液一起，能夠經(jīng)由上述流路高效地排出到蒸汽處理系統(tǒng)外，另外，供給蒸汽處理后的蒸汽中進入了上述排氣機構的蒸汽被上述第2冷卻機構冷卻而成為冷凝液，從被處理物除去的除去物與該冷凝液一起、能夠經(jīng)由上述流路高效地排出到蒸汽處理系統(tǒng)外。
另外，在本發(fā)明的蒸汽處理裝置中，把上述蒸汽的冷凝液排出蒸汽處理系統(tǒng)外的冷凝液排出機構，最好與上述流路連通。
根據(jù)這種結構的蒸汽處理裝置，由于能夠提高通過上述流路的冷凝液的排出效果，所以也能夠提高被該冷凝液搬運的被處理物的除去物的排出效果，從而也能夠提高防止被處理物的除去物再次附著在被處理物上的效果。
另外，本發(fā)明的蒸汽處理裝置，最好具有使上述被處理物以傾斜的狀態(tài)輸送的傾斜輸送機構。在這種情況下，蒸汽噴嘴最好設在被移動物的移動方向一側。
根據(jù)這種結構的蒸汽處理裝置，由于沿被處理物的移動方向、以被處理物上升的角度傾斜輸送，供給蒸汽處理后產(chǎn)生的冷凝液能夠高效地脫離被處理物，所以能夠進一步提高冷凝液以及被處理物的除去物的排出效果，也能夠進一步提高防止被處理物的除去物再次附著在被處理物上的效果，從而能夠高效地進行蒸汽處理。
另外，本發(fā)明的蒸汽處理裝置，也可以是使上述第1冷卻機構和上述第2冷卻機構一體化的裝置。
根據(jù)這種結構的蒸汽處理裝置，與分別設置第1冷卻機構和上述第2冷卻機構的情況相比較，具有能夠小型化蒸汽處理裝置的優(yōu)點。


圖1是表示本發(fā)明第1實施例的蒸汽處理裝置的概略構成圖。
圖2是表示本發(fā)明第2實施例的蒸汽處理裝置的概略構成圖。
圖3是表示本發(fā)明第3實施例的蒸汽處理裝置的概略構成圖。
圖4是表示使用蒸汽來清洗基板的類型與現(xiàn)有的清洗裝置的概略構成圖。
圖中1-本體，1a-噴嘴側底面，1b-排出管側底面，2-蒸汽噴嘴，5-排氣機構，5a-蒸汽排氣管，5b-排氣泵，5c-開口部，6-冷卻機構(第1以及第2冷卻機構)，6a、26a、36a-冷卻用管，6b、26b、36b-冷卻水儲蓄槽，6c、26c、36c-冷卻水，8-冷凝液排出機構，8a冷凝液排出管，8b-排液泵，10、10a、10b-蒸汽處理部，14-蒸汽處理區(qū)域，15-流路，25-輸送滾輪(輸送機構)，26-第1冷卻機構，36-第2冷卻機構，35-輸送滾輪(傾斜輸送機構)，A-被處理基板(被處理物)，G1-蒸汽，G2-供給蒸汽處理后的蒸汽(蒸汽處理后的蒸汽)，L2-蒸汽的冷凝液，S-輸送方向。
具體實施例方式
下面參照附圖對本發(fā)明的實施例進行說明。另外，用以下敘述的實施例、對將本發(fā)明的蒸汽處理裝置應用于對作為被處理物的數(shù)百mm見方、最好1～2m見方的大型的玻璃基板等的被處理基板進行濕刻處理后，進行實施清洗處理(漂洗處理)工序的情況進行說明。
圖1是表示本發(fā)明的第1實施例的蒸汽處理裝置的概略結構的截面圖。
第1實施例的蒸汽處理裝置，具有以本體1和設置在該本體1側方的多個蒸汽噴嘴2為本體的蒸汽處理部10、和多個輸送滾輪(輸送機構)25。
在本體1上，設有將供給蒸汽處理后的蒸汽的至少一部分排出到蒸汽處理系統(tǒng)外的排氣機構5、對供給蒸汽處理后的蒸汽進行冷卻的冷卻機構6、將被該冷卻機構6冷卻而凝結的蒸汽的冷凝液排出到蒸汽處理系統(tǒng)外的冷凝液排出機構8。蒸汽處理部10的本體1的底面具有平坦面。另外，本體1的側面之中設有蒸汽噴嘴2一側的側面呈傾斜面。
本實施例的蒸汽處理裝置的蒸汽處理部10，配設于在蒸汽處理時的被處理基板A的上側，并設置為此時在蒸汽處理部10和被處理基板A的表面之間具有間隙。另外，在該被處理基板A的表面和蒸汽處理部10的間隙中形成有被所述冷卻機構6冷卻而凝結的蒸汽的冷凝液可以通過的流路15。
多個輸送滾輪(輸送機構)25輸送經(jīng)濕刻處理后的被處理基板A，并能夠使其從蒸汽處理部10的下方通過。另外，圖中的符號S為被處理基板A的輸送方向(移動方向)。
蒸汽噴嘴2沿本體1的側面設有多個，被處理基板A被輸送到蒸汽處理部10的下側時，使這些有數(shù)蒸汽噴嘴2位于被處理基板A的上側，并且沿與被處理基板A的移動方向交叉的方向并排設置。在被處理基板A被輸送到蒸汽處理部10的下側時，各蒸汽噴嘴2的前端配置為朝向被處理基板A的表面。另外，在圖1中，由于其他的蒸汽噴嘴2被前面一側的蒸汽噴嘴2擋住而看不見，所以只圖示出一根蒸汽噴嘴2。
用于供給該蒸汽噴嘴2蒸汽的蒸汽供給源2a，通過連接管2b連結在各蒸汽噴嘴2上。本實施例的蒸汽處理裝置在用于上述這種清洗工序時，由蒸汽供給源2a供給各蒸汽噴嘴2水蒸汽。另外，在蒸汽供給源2a上具有將供給該蒸汽供給源2a的液體L1加熱并氣化的加熱機構(圖示省略)。
在蒸汽供給源2a上還具有對加熱所述液體L1而產(chǎn)生蒸汽的溫度、蒸汽的壓力、蒸汽飽和度、蒸汽產(chǎn)生量進行控制的控制機構(圖示省略)。
在進行蒸汽處理時，蒸汽處理部10，其蒸汽噴嘴2配置在被處理基板A的輸送方向S一側。
在進行蒸汽處理時，向本體1的底面和被處理基板A表面的間隙中、并朝向被處理基板A表面，從多個蒸汽噴嘴2噴射蒸汽G1，利用該蒸汽G1進行清洗。因此，在本體1的底面和被處理基板A表面的間隙中形成蒸汽處理區(qū)域14。另外，該蒸汽處理區(qū)域14主要形成于比后面敘述的冷卻用管6a靠蒸汽噴嘴2一側的本體1的底面(噴嘴一側底面)1a和被處理基板A表面之間的間隙的區(qū)域。
排氣機構5是由設在本體1上的多個蒸汽排氣管5a和連接在各蒸汽排氣管5a上的排氣泵5b所構成。
設在本體1上的多個蒸汽排氣管5a，在被處理基板A被輸送到蒸汽處理部10的下側時，這些多個蒸汽排氣管5a，在被處理基板A的上側并且沿與被處理基板A的移動方向S交差的方向并排配置。各蒸汽排氣管5a，被設置成從本體1的上面向底面傾斜。另外，各蒸汽排氣管5a的一端部在本體1的底面開口，各蒸汽排氣管5a與本體1的底面和被處理基板A表面的間隙連通。蒸汽排氣管5a的開口部5c形成于蒸汽噴嘴2的附近位置。而且，在圖1中，由于其他的蒸汽噴嘴5a被前面一側的蒸汽噴嘴5a擋住而看不見，所以只圖示出一個蒸汽排氣管5a。
供給蒸汽處理后的蒸汽G2(有時也稱為蒸汽處理后的蒸汽)盡管存在于本體1的底面和被處理基板A之間，但通過排氣泵5b的動作，至少一部分蒸汽處理后的蒸汽G2能夠經(jīng)由蒸汽排氣管5a被排出到蒸汽處理系統(tǒng)外。
冷卻機構6，由形成于本體1上比蒸汽排氣管5a靠近蒸汽噴嘴2的冷卻用管6a和連接在該冷卻用管6a上的冷卻水儲蓄槽6b所構成。該冷卻用管6a的延伸方向平行于多個蒸汽噴嘴2的排列方向。另外，該冷卻用管6a設置成接觸到比蒸汽排氣管5a靠近蒸汽噴嘴2一側的本體1的底面(噴嘴側底面)1a和蒸汽排氣管5a的側面。
在該冷卻機構6中，在蒸汽處理時從冷卻水儲蓄槽6b向冷卻用管6a內(nèi)供給冷卻水6c，但由于該冷卻用管6a接觸噴嘴側底面1a，所以通過冷卻用管6a對蒸汽處理后的蒸汽G2中的、流入蒸汽排氣管5a之前的蒸汽進行冷卻，能夠使其成為蒸汽的冷凝液L2。該冷凝液L2存在于被處理基板A表面和噴嘴側底面1a的間隙中。
另外，由于該冷卻用管6a接觸蒸汽排氣管5a的側面，所以經(jīng)由蒸汽排氣管5a內(nèi)的蒸汽處理后的蒸汽G2至少有一部分得到冷卻，并能夠成為蒸汽的冷凝液L2。由于該蒸汽排氣管5a如上述那樣是傾斜的，所以，在蒸汽排氣管5a產(chǎn)生的蒸汽的冷凝液L2被傳送到管的內(nèi)表面而落在被處理基板A表面和本體1底面的間隙中。因而，蒸汽處理后的蒸汽G2的大部分在冷卻用管6a的附近被冷卻而成為蒸汽的冷凝液L2。
本實施例中的冷卻機構6，是將對流入排氣機構前的蒸汽進行冷卻的第1冷卻機構、和對經(jīng)由排氣機構的蒸汽進行冷卻的第2冷卻機構一體化式的冷卻機構。
冷凝液排出機構8，是由在與本體1的、設有蒸汽噴嘴2一側相反側的側面附近所設置的多個冷凝液排出管8a、和連接在該冷凝液排出管8a上的排液泵8b所構成。
設在本體1上的多個冷凝液排出管8a，被設置為在將被處理基板A輸送到蒸汽處理部10的下側時，這些多個冷凝液排出管8a，在被處理基板A的上側并且沿與被處理基板A的移動方向S交差的方向并排設置。另外，各冷凝液排出管8a的一端在本體1的底面開口，該冷凝液排出管8a與本體1的底面和被處理基板A表面的間隙連通。而且，在圖1中，由于其他的冷凝液排出管8a被前面一側的冷凝液排出管8a擋住而看不見，所以只圖示出一個冷凝液排出管8a。
冷凝液排出機構8在蒸汽處理時，一旦排液泵8b動作，則在蒸汽排氣管5a和冷卻用管6a的附近產(chǎn)生的蒸汽的冷凝液L2，經(jīng)由比蒸汽排氣管5a靠近冷凝液排出管8a一側的本體1的底面(排出管側底面)1b和被處理基板A表面的間隙進入冷凝液排出管8a，并經(jīng)由該冷凝液排出管8a內(nèi)排出到蒸汽處理的系統(tǒng)外。因而，排出管側底面1b和被處理基板A表面的間隙，成為蒸汽的冷凝液的流路15。該流路15形成于蒸汽處理區(qū)域14的后方(與被處理基板的前進方向相反的方向)。
使用圖1所示的蒸汽處理裝置10、對被處理基板A實施蒸汽處理來清洗基板表面，其實施過程如下向從冷卻水儲蓄槽6b向冷卻用管6a供給冷卻水6c、并且也使排氣泵5b以及排液泵8b動作的蒸汽處理部10的下側，一邊以規(guī)定速度由輸送滾輪25輸送被處理基板A、一邊由多個蒸汽噴嘴2把蒸汽噴射到被處理基板A的表面實施蒸汽處理，除去附著在基板A表面的附著物。在蒸汽處理時，控制由蒸汽噴嘴2噴射的蒸汽，以便根據(jù)附著在基板A上的附著物的種類、由所述控制機構控制蒸汽壓和溫度等條件，能夠以高效率除去附著物。
雖然蒸汽處理后的蒸汽G2存在于本體1的底面和被處理基板A之間，但蒸汽處理后的蒸汽G2至少有一部分經(jīng)由蒸汽排氣管5a內(nèi)排出到蒸汽處理系統(tǒng)外，另外，蒸汽處理后的蒸汽G2之中的、流入蒸汽排氣管5a前的蒸汽G2的一部分和流入蒸汽排氣管5a的蒸汽G2的一部分，在冷卻用管6a的附近被冷卻成為蒸汽的冷凝液L2。這些蒸汽的冷凝液L2經(jīng)由流路15進入冷凝液排出管8a內(nèi)，并經(jīng)由冷凝液排出管8a被排出到蒸汽處理系統(tǒng)外。
采用本實施例的蒸汽處理裝置，被處理基板A的附著物能夠被從蒸汽噴嘴向基板噴射的蒸汽高效地去除。
然后，由于蒸汽處理后的蒸汽G2的大部分被冷卻用管6a冷卻成為蒸汽的冷凝液L2，所以，供給蒸汽處理后仍以蒸汽形式繼續(xù)存在的蒸汽減少，而且，由于剩下的該蒸汽由排氣機構5能夠迅速排出到蒸汽處理部的系統(tǒng)外，所以，與現(xiàn)有的裝置相比，蒸汽處理后的蒸汽飛散的區(qū)域減小，從被處理基板A除去的有機物和塵埃等的除去物(被處理基板的除去物)能夠與蒸汽的冷凝液G2一起、依次經(jīng)由流路15和冷凝液排出管8a高效地排出蒸汽處理系統(tǒng)外，能夠防止被處理基板的除去物再次附著在被處理基板上。
并且，在本實施例的蒸汽處理裝置中，供給蒸汽處理后的蒸汽G2仍以蒸汽形式存在的蒸汽減少，能夠減小排氣量。
另外，在本實施例的蒸汽處理裝置中，供給蒸汽處理后的蒸汽G2飛散區(qū)域減少，所以不需要凈化整個蒸汽處理裝置，例如，只要將蒸汽排氣管5a的內(nèi)面和本體1的底面用不會污染被處理基板A的的材料構成即可，所以可以減少因凈化所需要的材料費用，可降低成本。
另外，在本實施例的蒸汽處理裝置中，配置在蒸汽處理部10的冷卻機構26，兼作第1冷卻機構和第2冷卻機構，所以與分別設置所述第1冷卻機構和所述第2冷卻機構的情況相比，具有能夠使蒸汽處理裝置小型化的優(yōu)點。
圖2是表示本發(fā)明的第2實施例的蒸汽處理裝置的概略結構的截面圖。
第2實施例的蒸汽處理裝置，與圖1所示的第1實施例的蒸汽處理裝置的不同之處在于，設置在蒸汽處理裝置10a上的冷卻機構，由第1冷卻機構26、和與該第1冷卻機構26分開來設置的第2冷卻機構36所構成。
第1冷卻機構26，由在比蒸汽排氣管5a靠近蒸汽噴嘴2的、在本體1上形成的冷卻用管26a和與該冷卻用管26a連接的冷卻水儲蓄槽26b所構成。該冷卻用管26a的延伸方向與多個蒸汽噴嘴2的排列方向平行。另外，該冷卻用管26a設置成接觸比蒸汽排氣管5a靠近蒸汽噴嘴2一側的本體1的底面(噴嘴側底面)1a。
第2冷卻機構36，由在比蒸汽排氣管5a靠近冷凝液排出管8a的、在本體1上形成的冷卻用管36a和與該冷卻用管36a連接的冷卻水儲蓄槽36b所構成。該冷卻用管36a的延伸方向與多個蒸汽噴嘴2的排列方向平行。另外，該冷卻用管36a設置成接觸蒸汽排氣管5a的側面和排出管側底面1b。
在該冷卻機構26中，在蒸汽處理時，從冷卻水儲蓄槽26b向冷卻用管26a內(nèi)供給冷卻水26c，但由于該冷卻用管26a接觸噴嘴側底面1a，所以利用冷卻用管26a可對蒸汽處理后的蒸汽G2之中流入蒸汽排氣管5a前的蒸汽進行冷卻，并使之成為蒸汽的冷凝液L2。該冷凝液L2存在于被處理基板A表面和噴嘴側底面1a的間隙中。
在該冷卻機構36中，在蒸汽處理時，從冷卻水儲蓄槽36b向冷卻用管26a內(nèi)供給冷卻水36c，但由于該冷卻用管36a接觸蒸汽排氣管5a的側面，所以經(jīng)由蒸汽排氣管5a內(nèi)的蒸汽處理后的蒸汽G2的至少一部分被冷卻，并能夠成為蒸汽的冷凝液L2。由于該蒸汽排氣管5a如上述的那樣是傾斜的，所以，在蒸汽排氣管5a產(chǎn)生的蒸汽的冷凝液L2被傳送到管內(nèi)表面、并落在被處理基板A表面和本體1底面的間隙中。另外，由于該冷卻用管36a接觸排出管側底面1b，所以在蒸汽G2不進入蒸汽排氣管5a內(nèi)、而到達排出管側底面1b和被處理基板A的間隙中的情況下，冷卻該蒸汽G2被冷卻，能夠成為蒸汽的冷凝液L2。因而，蒸汽處理后的蒸汽G2的大部分，在冷卻用管26a以及36a的附近被冷卻而成為蒸汽的冷凝液L2。
本實施例的冷卻機構，是分別設置對流入排氣機構前的蒸汽進行冷卻的第1冷卻機構26、和對經(jīng)由排氣機構的蒸汽進行冷卻的第2冷卻機構36的類型的冷卻機構。
使用圖2所示的蒸汽處理裝置對被處理基板A實施蒸汽處理來清洗基板表面，實施以下過程。
向從對應于冷卻用管26a、36a的冷卻水儲蓄槽供給冷卻水、并且使排氣泵5b以及排液泵8b工作的蒸汽處理部10的下側，以規(guī)定速度由輸送滾輪25輸送被處理基板A，同時將對由多個蒸汽噴嘴2噴出的蒸汽壓和溫度等條件進行控制的蒸汽、噴射到被處理基板A的表面實施蒸汽處理，除去附著在基板A表面的附著物。
蒸汽處理后的蒸汽G2，雖然存在于本體1的底面和被處理基板A之間，但蒸汽處理后的蒸汽G2至少一部分，經(jīng)由蒸汽排氣管5a內(nèi)排出蒸汽處理系統(tǒng)外，另外，蒸汽處理后的蒸汽G2中的、流入蒸汽排氣管5a前的蒸汽G2的一部分，在冷卻用管26a的附近被冷卻成為蒸汽的冷凝液L2。另外，在蒸汽處理后的蒸汽G2中的、流入了蒸汽排氣管5a的蒸汽G2的一部分，在冷卻用管36a的附近被冷卻成為蒸汽的冷凝液L2。另外，在有于蒸汽處理后的蒸汽G2中的、沒流入蒸汽排氣管5a內(nèi)而到達排出管側底面1b和被處理基板A之間的間隙的蒸汽G2的情況下，使這些蒸汽G2在冷卻用管36a的附近被冷卻而成為蒸汽的冷凝液L2。這些蒸汽的冷凝液L2經(jīng)由流路15進入冷凝液排出管8a內(nèi)，并經(jīng)由冷凝液排出管8a排出到蒸汽處理系統(tǒng)外。
采用本實施例的蒸汽處理裝置，由于能夠提高蒸汽處理后的蒸汽G2的冷凝效果，所以，從被處理基板出去的除去物能夠與冷凝液L2一起經(jīng)由流路15而進一步高效地排出到蒸汽處理系統(tǒng)外。
圖3是表示本發(fā)明的第3實施例的蒸汽處理裝置的概略結構的截面圖。
第3實施例的蒸汽處理裝置，與圖1所示的第1實施例的蒸汽處理裝置的不同之處在于，具有以傾斜的狀態(tài)輸送被處理基板的多個輸送滾輪(傾斜輸送機構)35，另外一點是，在蒸汽處理部10b上沒有設置冷凝液排出機構8。
多個輸送滾輪35(傾斜輸送機構)以傾斜的狀態(tài)輸送濕處理后的被處理基板A，使其能夠通過蒸汽處理部10b的下方。具體地說，多個輸送滾輪35被設置成能夠以被處理基板A沿移動方向(輸送方向)S上升的角度進行輸送。
使用圖3所示的蒸汽處理裝置對被處理基板A實施蒸汽處理來清洗基板表面，其實施過程如下。
從冷卻水儲蓄槽6b向冷卻用管6a供給冷卻水6c，并且由輸送滾輪35把被處理基板A以沿移動方向(輸送方向)上升的角度并以規(guī)定速度輸送到使排氣泵5b工作的蒸汽處理部10的下側，同時把控制了蒸汽壓和溫度等條件的、從多個蒸汽噴嘴2噴出的蒸汽、噴射到被處理基板A的表面實施蒸汽處理，除去附著在基板A表面的附著物。在蒸汽處理時，如像上那樣傾斜輸送被處理基板A的話，則在比蒸汽處理區(qū)域14低的位置形成流路15。
蒸汽處理后的蒸汽G2雖然存在于本體1的底面和被處理基板A之間，但蒸汽處理后的蒸汽G2的至少一部分經(jīng)由蒸汽排氣管5a排出到蒸汽處理系統(tǒng)外，另外，蒸汽處理后的蒸汽G2中的、流入蒸汽排氣管5a前的蒸汽G2的一部分、和流入了蒸汽排氣管5a的蒸汽G2的一部分，在冷卻用管6a的附近被冷卻而成為蒸汽的冷凝液L2。這些蒸汽的冷凝液L2經(jīng)由流路15到達被處理基板A的端部并在這里落到下方，被排出到蒸汽處理系統(tǒng)外。
本實施例的蒸汽處理裝置，能夠防止從被處理基板A除去的除去物再次附著在被處理基板A上，而且能夠減少排氣量，能夠實現(xiàn)低成本的蒸汽處理裝置。
另外，在第1～第3實施例中，雖然是對將本發(fā)明應用于用于進行清洗的裝置進行了說明，但本發(fā)明并不限于清洗工序，本發(fā)明還能夠應用于進行像保護層剝離工序等除去被處理物的附著物那樣的一種以上工序的裝置。
另外，在第1～第3實施例中，雖然對被處理物為數(shù)百mm見方，更好是1～2m見方的大型玻璃基板等被處理基板的情況進行了說明，但也可以是半導體晶圓那樣的圓形的被處理物。
根據(jù)以上說明的本發(fā)明，能夠防止從被處理物除去的除去物再次附著在被處理物上，而且能夠減少排氣量，能夠實現(xiàn)低成本的蒸汽處理裝置。
權利要求
1.一種蒸汽處理裝置，其特征在于，具有由向被處理物噴射用于蒸汽處理的蒸汽的蒸汽噴嘴、設在該蒸汽噴嘴附近并將供給蒸汽處理后的蒸汽的至少一部分排出到蒸汽處理系統(tǒng)外的排氣機構、以及冷卻蒸汽處理后的蒸汽的冷卻機構所組成的蒸汽處理部，在所述被處理物表面和所述蒸汽處理部之間的間隙中，形成有使被所述冷卻機構冷卻而凝結的所述蒸汽的冷凝液通過的流路。
2.根據(jù)權利要求1所述的蒸汽處理裝置，其特征在于所述冷卻機構，由冷卻流入所述排氣機構前的蒸汽的第1冷卻機構和冷卻通過所述排氣機構的蒸汽的第2冷卻機構組成。
3.根據(jù)權利要求1所述的蒸汽處理裝置，其特征在于將所述蒸汽的冷凝液排出到蒸汽處理系統(tǒng)外的冷凝液排出機構與所述流路連通。
4.根據(jù)權利要求1所述的蒸汽處理裝置，其特征在于具有以傾斜的狀態(tài)輸送所述被處理物的傾斜輸送機構。
5.根據(jù)權利要求2所述的蒸汽處理裝置，其特征在于將所述蒸汽的冷凝液排出到蒸汽處理系統(tǒng)外的冷凝液排出機構與所述流路連通。
6.根據(jù)權利要求2所述的蒸汽處理裝置，其特征在于具有以傾斜的狀態(tài)輸送所述被處理物的傾斜輸送機構。
7.根據(jù)權利要求2所述的蒸汽處理裝置，其特征在于所述第1冷卻機構和所述第2冷卻機構為一體化機構。
全文摘要
一種蒸汽處理裝置，具有由向被處理物(A)噴射用于蒸汽處理的蒸汽(G
文檔編號H01L21/304GK1517157SQ20041000155
公開日2004年8月4日 申請日期2004年1月13日 優(yōu)先權日2003年1月14日
發(fā)明者渡部弘也, 三森健一, 伊藤卓雄, 一, 雄 申請人:阿爾卑斯電氣株式會社