專利名稱：具有頻率選擇表面的涂層基片的制作方法
相關(guān)申請(qǐng)的橫向引用本申請(qǐng)要求2001年10月25日提交的美國(guó)專利申請(qǐng)No.60/351,055的優(yōu)先權(quán)，該專利申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容包含于此，以供參考。
背景技術(shù)：
1.發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明總體涉及一種在涂層基片上設(shè)置頻率選擇表面的方法，在一個(gè)實(shí)施例中，涉及在沉積于汽車擋風(fēng)玻璃毛坯上的太陽(yáng)能控制涂覆層內(nèi)進(jìn)行激光標(biāo)記、熔化、腐蝕或刪除頻率選擇表面的方法。
2.技術(shù)根據(jù)在汽車的透明片中，例如擋風(fēng)玻璃和后燈，接收和/或傳輸無線電頻率(RF)波(例如調(diào)頻(AM)、調(diào)幅(FM)、超高頻(UHF)、甚高頻(VHF)、蜂窩電話等)的天線，都是裝在透明片上或者結(jié)合進(jìn)透明片中。這些天線可以由沉積在透明片上的導(dǎo)電透明薄膜構(gòu)成，或者由設(shè)置在透明片上的金屬導(dǎo)線或金屬帶構(gòu)成。為了減少在車輛內(nèi)部的熱聚集，透明片也可以涂覆太陽(yáng)能控制薄膜，這種薄膜吸收或者反射太陽(yáng)能。這種太陽(yáng)能控制薄膜一般是透明導(dǎo)電薄膜。通常，太陽(yáng)能控制薄膜和天線均結(jié)合在一種透明片中，使太陽(yáng)能控制薄膜或設(shè)置在天線的同一表面上，或設(shè)置在天線的外側(cè)。太陽(yáng)能控制薄膜的一個(gè)缺點(diǎn)在于其也反射無線電波，這就可以削弱或者降低處于其下面的天線的接收質(zhì)量。此外，天線的一些部分和導(dǎo)電的太陽(yáng)能控制薄膜經(jīng)過透明片以構(gòu)成電流連接(通常是指“耦合”)并不是罕見的，這樣就使天線失調(diào)諧及其性能下降。為了解決無線電頻率RF能量反射和耦合問題，覆蓋天線(即在天線外側(cè))的太陽(yáng)能控制薄膜的一部分可以去除，以便利于無線電頻率RF能量經(jīng)過透明片的這些部分傳輸?shù)教炀€。不過，太陽(yáng)能控制薄膜的去除會(huì)增加太陽(yáng)能傳輸入車輛內(nèi)部，這將提高車輛的溫度。另一種現(xiàn)有的解決辦法是在太陽(yáng)能控制薄膜內(nèi)切出狹長(zhǎng)切口，以構(gòu)成通常所指的頻率選擇表面?！邦l率選擇表面”是指這樣一種表面，該表面對(duì)太陽(yáng)能的反射和/或吸收比較高，但它也允許無線電頻率RF經(jīng)過在所涂覆的表面上相距一段距離地制出的狹窄開口通過。例如，美國(guó)專利No.5,364,685公開了一種面板，其中，一種具有較高無線電波反射能力的層被分為柵格圖案，該柵格圖案具有由在這種層上切出的一系列垂直和水平的切口所形成的不連續(xù)方塊段，使每一方塊段的寬度不大于無線電波波長(zhǎng)的1/20，以使該無線電波穿過頻率選擇表面。WO96/31918和美國(guó)專利No.5,867,129公開了其它形式的頻率選擇表面。在這些已知的系統(tǒng)中，狹長(zhǎng)切口允許無線電頻率RF能量穿過太陽(yáng)能控制薄膜傳輸，而薄膜的其它部分保證車輛內(nèi)部的太陽(yáng)能控制保護(hù)。盡管這種切口圖案是可以接受的，問題在于這些切口圖案的制造。例如，為了用單個(gè)刪除裝置例如用激光器提供大面積的切口圖案，激光器必須遍及涂覆層的長(zhǎng)度和寬度極精確地來回移動(dòng)，從而不得不使用復(fù)雜的精密運(yùn)動(dòng)裝置。作為替換，可以使用多激光器以形成圖案的相鄰部分。可是，問題在于這種多激光器處理過程中，相鄰的激光器必須小心地精確對(duì)準(zhǔn)，使由一個(gè)激光器所生成的一條切口例如一條水平切口，可以不受相鄰激光器的干擾而連續(xù)地進(jìn)行，以在涂覆層形成單個(gè)的連續(xù)切口。由于多個(gè)激光器固有的不精確，或者由于相鄰激光器變得沒有對(duì)準(zhǔn)的結(jié)果，由一條激光器所生成的圖案可能偏離由另一條激光器所生成的圖案，這樣，相鄰的切口不連續(xù)，即沒有對(duì)準(zhǔn)。這種圖案的偏離降低了柵格圖案的有效性，這是由于其允許導(dǎo)電的太陽(yáng)能控制覆蓋層較大區(qū)域仍舊本質(zhì)上原封未動(dòng)，這就會(huì)導(dǎo)致高的無線電頻率RF能量反射和/或與天線的相鄰區(qū)域耦合，對(duì)天線的性能造成不利影響。因此，提供一種在導(dǎo)電涂覆層制造頻率選擇表面的方法，以減少或消除上述問題中的一些問題將是有益的。
發(fā)明概述本發(fā)明提供了一種在具有電阻的電磁能衰減涂覆層上制造頻率選擇表面的方法，該方法包括限定第一標(biāo)記區(qū)域和第一標(biāo)記公差；限定第二標(biāo)記區(qū)域和第二標(biāo)記公差；在第一標(biāo)記區(qū)域?qū)ν扛矊拥倪x定部分標(biāo)記以限定第一圖案；在第二標(biāo)記區(qū)域?qū)ν扛矊拥倪x定部分標(biāo)記以限定第二圖案，使第一和第二圖案彼此相距一段距離，其相距距離至少等于標(biāo)記裝置的組合公差；和，在第一圖案和第二圖案之間標(biāo)記涂覆層的涂覆層帶，使至少一個(gè)連接器分段以一種方式本質(zhì)上增加涂覆層帶的電阻。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，涂覆層帶標(biāo)記包括在涂覆層帶的至少一部分內(nèi)標(biāo)記至少一個(gè)連接器分段，使第一圖案與第二圖案互相連接。在另一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，本方法還包括將涂覆層沉積在基片上；將涂層后的基片與另外附加的基片組合以形成一種疊層；將至少一個(gè)天線元件結(jié)合在疊層中，使至少一個(gè)天線元件與涂覆層相距一段距離并鄰近第一和第二圖案。本發(fā)明還提供了在涂層基片上制造頻率選擇表面的方法，該方法包括在基片上沉積一種具有電阻的涂覆層；在涂覆層內(nèi)制出第一圖案；在涂覆層內(nèi)制出第二圖案，其中第一圖案和第二圖案被涂覆層帶所分離；和將涂覆層帶的布局設(shè)置成使涂覆層帶的電阻本質(zhì)上增加。本發(fā)明還提供了一種具有頻率選擇表面的基片，該基片包括基片；具有電阻的電磁能衰減涂覆層，沉積在基片的至少一部分；第一圖案，在涂覆層內(nèi)標(biāo)記而成；和第二圖案，在涂覆層內(nèi)鄰近第一圖案標(biāo)記而成，其中，第一圖案與第二圖案被涂覆層帶分離，該涂覆層帶的布局設(shè)置成本質(zhì)上增加涂覆層帶的電阻。在本發(fā)明一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，還包括至少一種連接器分段，該連接器分段至少?gòu)木o靠第一圖案延伸，穿過涂覆層帶至少一部分，達(dá)到至少緊靠第二圖案處。在另一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，基片是一種包括至少一個(gè)玻璃板層的疊層透明片，并進(jìn)一步包括至少一種天線，該天線與涂覆層相距一段距離，并鄰近第一圖案和第二圖案。
對(duì)附圖的簡(jiǎn)要說明

圖1為示意性平面視圖(未按比例)，示出了在具有本發(fā)明特征的基片的涂覆層內(nèi)標(biāo)記頻率選擇表面的方法。圖2為本發(fā)明的頻率選擇表面的平面視圖(未按比例)，該頻率選擇表面在一種汽車透明片上制成。圖3為結(jié)合了本發(fā)明技術(shù)特征的疊層式汽車透明片的前視圖(未按比例)。圖4為圖3所示疊層式汽車透明片沿IV-IV線剖切的剖面圖(未按比例)，示出了頻率選擇表面以及相關(guān)聯(lián)的天線元件。圖5為結(jié)合了本發(fā)明技術(shù)特征的替換頻率選擇表面的平面視圖(未按比例)。圖6為類似于圖4所示結(jié)合了本發(fā)明技術(shù)特征的另一種涂層基片的剖面圖(未按比例)。
對(duì)發(fā)明的說明在此所用關(guān)于空間或方向的術(shù)語，例如“里面”、“外面”、“上面”、“下面”、“頂”、“底”以及類似的術(shù)語，與附圖所示本發(fā)明的形態(tài)有關(guān)。但是，應(yīng)當(dāng)了解，本發(fā)明可以假設(shè)各種不同的替換取向，因此，這些術(shù)語不能看作是限制。此外，在技術(shù)特征和權(quán)利要求中所使用的表示尺寸、物理特征、處理參數(shù)、成分?jǐn)?shù)量、反應(yīng)狀態(tài)以及類似對(duì)象的所有數(shù)字，均可以理解為是由術(shù)語“大約”在各種情況下所作的修改。因此，除非有相反的指定，在以下的技術(shù)特征和權(quán)利要求中提出的數(shù)值均為近似值，這些數(shù)值，可以根據(jù)試圖通過本發(fā)明所希望獲得的特性改變。最低限度，不試圖限制權(quán)利要求范圍的等價(jià)物的原理的應(yīng)用，每一個(gè)數(shù)值至少應(yīng)當(dāng)是根據(jù)所報(bào)告的重要數(shù)字并通過應(yīng)用規(guī)定的圓整技術(shù)來建立。此外，在此所公開的全部范圍，應(yīng)理解為是包括界限在內(nèi)的開始到終結(jié)的范圍值，并包含任何和全部被歸入其中的子范圍。例如，所述“1至10”的范圍應(yīng)當(dāng)理解為包括在最小值1和最大值10之間(并包括最小和最大值)的任何和全部子范圍；就是說，包括所有從1或大于1開始，例如從1至6.1開始，到最大值10或小于最大值結(jié)束，例如到5.5至10結(jié)束，其間所包含的全部子范圍。此外，在此所用的“沉積在...上”或“設(shè)置在...上”等術(shù)語，其含義為沉積在其上或設(shè)置在其上，但并不是必須與表面接觸。例如，在基片上“沉積上”涂覆層并不排除在所沉積的涂覆層與基片之間，存在一種或更多種相同成分的或不同成分的涂覆層薄膜出現(xiàn)。現(xiàn)在對(duì)根據(jù)本發(fā)明在一種涂層基片上制造頻率選擇表面的一種作為示例的方法予以說明，特別結(jié)合在汽車透明片的太陽(yáng)能控制涂覆層制出頻率選擇表面的應(yīng)用。不過應(yīng)當(dāng)了解，本發(fā)明并不局限于在太陽(yáng)能控制涂層的應(yīng)用，而可以實(shí)用于任何這樣的涂層，該涂層反射、吸收或削弱在一個(gè)頻率范圍的電磁能傳輸，例如在無線電頻率RF能量范圍但并不局限于此范圍的電磁能傳輸，這些電磁能是希望穿過涂層基片的。此外，本發(fā)明并不局限于在陸地車輛的透明片的使用，而可實(shí)用于任何所希望的基片，例如建筑用的窗戶和空中、太空、水面和水下交通工具用的透明片，但不局限于此，這里僅僅列舉幾個(gè)。圖1示出了基片20，該基片具有沉積在基片20至少一部分上的涂覆層22。涂覆層22可以是在所希望的頻率范圍反射、吸收或削弱電磁能傳輸?shù)耐扛矊?，例如在AM、FM、UHF、VHF波段或微波范圍，但并不局限于這些范圍。一種頻率選擇表面(FSS)24，根據(jù)本發(fā)明在涂覆層22中制成，對(duì)此將在下面予以說明。圖1中作為示例的FSS24具有第一圖案25，其與第二圖案26相距一段距離，該距離由箭頭線27表示。本發(fā)明并不限制基片20，而可以是任何具有所希望特性的電介質(zhì)材料，例如不透明的、半透明的、透明的或者本質(zhì)上透明的基片?！氨举|(zhì)上透明”是指具有60％或更多的可見光透射率?！鞍胪该鳌笔侵妇哂写笥?％至小于60％的可見光透射率?！安煌该鳌笔侵妇哂锌梢姽獾耐干渎蕿?％。適當(dāng)?shù)幕睦影ㄋ芰匣?例如聚丙烯酸酯、聚碳酸酯和聚乙烯對(duì)苯二酸酯(polythyleneterephthalate)(PET)基片)；陶瓷基片；玻璃基片；或者這些材料的混合物或這些材料的化合物。例如，基片可以是傳統(tǒng)的不染色鈉-氧化鈣-硅石玻璃，就是“清晰玻璃”，或者可以是染色的或以別的方式的變色玻璃，硼硅酸鹽玻璃，加鉛玻璃，回火的、不回火的、退火的或者熱強(qiáng)化的玻璃，但是并不局限于這些。玻璃可以是任何形式的，例如傳統(tǒng)的浮法玻璃(float glass)、平板玻璃(flat glass)或者浮法玻璃帶(float glass ribbon)，而且可以是具有任何光學(xué)特性的任何成分，例如任何數(shù)值的可見光傳輸、紫外線傳輸、紅外線傳輸和/或總太陽(yáng)能傳輸。實(shí)用于本發(fā)明的玻璃類型，在例如在美國(guó)專利No.4,746,347；No.4,792,5 36；No.5,240,88 6；No.5,385,872和No.5,393,593中給予了說明，但并不局限于此。例如基片20可以是從一種浮法玻璃帶切下的一段、建筑窗戶的一個(gè)玻璃塊、一個(gè)天窗、一種絕緣玻璃裝置的一塊，汽車透明片的一層，例如擋風(fēng)玻璃、側(cè)燈、后燈，或者太陽(yáng)頂，或者飛行器的透明片，這里僅僅列出幾種。涂覆層22可以是任何涂覆層，該涂覆層反射、吸收或者以其它方式削弱所希望頻率范圍的電磁輻射傳輸。所希望的頻率范圍例如可以是微波能量或者更為具有代表性的RF能量，例如傳統(tǒng)的AM、FM和/或電視波段(例如UHF和/或VHF波段)。例如，涂覆層22可以是沉積在基片20的表面28至少一部分上的太陽(yáng)能控制涂覆層。在此所使用的術(shù)語“太陽(yáng)能控制涂覆層”是指這樣一種涂覆層，該涂覆層改變或者影響一個(gè)或者更多個(gè)太陽(yáng)能控制特性，例如，在基片上沉積了涂覆層與沒有涂覆層的基片比較，影響到基片涂覆層的發(fā)射率、陰影系數(shù)、傳播、吸收、反射等等，但是并不局限于這些特性。太陽(yáng)能控制涂覆層可以阻擋、吸收、反射或者過濾一種或更多種電磁頻譜選擇區(qū)域。例如但并不局限于紫外線UV區(qū)域(小于400nm(納米))，可見光區(qū)域(大于400nm至780nm)，或者紅外線IR區(qū)域(大于780nm)。不具有限制性的適合于作太陽(yáng)能控制涂覆層的例子，在下列美國(guó)專利中可以找到美國(guó)專利No.4,898,789；5,821,001；4,716,086；4,610,771；4,902,580；4,716,086；4,806,220；4,898,790；4,834,857；4,948,677；5,059,295和5,028,759，也可以在美國(guó)專利申請(qǐng)No.09/058,440中找到。太陽(yáng)能控制涂覆層22可以具有一種或者更多種成分或功能相同或不同的涂覆層膜。在此所使用的術(shù)語“層”或“膜”是指希望的或者選擇的涂覆合成物的涂覆區(qū)域。一個(gè)“涂覆層”由一個(gè)或者更多個(gè)“層”或“膜”組成。太陽(yáng)能控制涂覆層22可以是單層或多層涂覆層，并可以包括一種或者更多種金屬、金屬氧化物、非金屬、半金屬、半導(dǎo)體和/或合金、混合物、合成物、化合物或者它們的混合產(chǎn)物。例如，太陽(yáng)能控制涂覆層22可以是一種單層金屬氧化物涂覆層、多層金屬氧化物涂覆層、非金屬氧化物涂覆層，或者是一種多層涂覆層。適于本發(fā)明實(shí)用的太陽(yáng)能控制涂覆層的不具有限制性的例子，可以是從市場(chǎng)購(gòu)得Pennsylvania的Pittsburgh的PPG工業(yè)公司以SUNGATE和SOLARBAN注冊(cè)的系列產(chǎn)品。這種太陽(yáng)能控制涂覆層的通常包括一種或者更多種抗反射涂覆層膜，該涂覆層膜包括電介質(zhì)材料或者抗反射材料，例如金屬氧化物或者金屬合金的氧化物，這些材料最好對(duì)可見光完全透明或者本質(zhì)上透明。太陽(yáng)能控制涂覆層22還可以包括含有反射金屬的紅外線反射膜，例如黃金、銅或銀以及它們的化合物或合金這樣一些貴重金屬，可以進(jìn)一步包括起動(dòng)膜或屏障膜，例如在現(xiàn)有技術(shù)中已知的鈦，設(shè)置在金屬反射層之上或之下。太陽(yáng)能控制涂覆層22可以用任何傳統(tǒng)的方式沉積，例如但并不局限于磁控濺射真空沉積(MSVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、噴濺高溫分解(即高溫分解沉積)、大氣壓CVD(APCVD)、低壓CVD(LPCVD)、等離子體強(qiáng)化CVD(PECVD)、等離子輔助CVD(PACVD)、熱束或電子束蒸發(fā)、陰極射線弧沉積、等離子體噴濺沉積和濕化學(xué)沉積(例如sol-gel，鏡子包銀等等)。在本發(fā)明的一個(gè)作為示例的實(shí)施例中，F(xiàn)SS24是由由兩個(gè)或者更多個(gè)相鄰的刻線裝置制成。在此所用術(shù)語“刻記”或者“標(biāo)記”是指切出、刪除、熔化、融化、移去或者用其它方式使涂覆層的導(dǎo)電性斷開的操作。在此所用術(shù)語“標(biāo)記裝置”是指能夠?qū)ν扛矊?2制出標(biāo)記部的任何裝置，最好該裝置所進(jìn)行的操作不會(huì)對(duì)下面的基片20帶來不利的影響。標(biāo)記裝置可以是任何所希望的型式，例如機(jī)械切刀裝置、制作掩膜的裝置或者激光器，但不局限于這些。第一標(biāo)記裝置(未示出)的第一標(biāo)記區(qū)30和相鄰的第二標(biāo)記裝置(未示出)的第二標(biāo)記區(qū)32在圖1用虛線示意性地示出，并描繪出在該區(qū)域內(nèi)相應(yīng)的標(biāo)記裝置對(duì)涂覆層所可能進(jìn)行的標(biāo)記操作，例如刪除。盡管并不是必需的，在一個(gè)不具有限制作用的本發(fā)明實(shí)施例中，第一和第二標(biāo)記裝置彼此相鄰。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠意識(shí)到的每一個(gè)標(biāo)記裝置具有其相應(yīng)的標(biāo)記區(qū)域，該區(qū)域由標(biāo)記裝置距被標(biāo)記表面之間的距離和標(biāo)記裝置性能參數(shù)所限定，例如運(yùn)動(dòng)度、運(yùn)動(dòng)精確度等等。標(biāo)記區(qū)域30、32并不必需描繪出標(biāo)記裝置對(duì)涂覆層可能進(jìn)行操作，例如刪除操作，的最大可能區(qū)域。相反地，標(biāo)記區(qū)域30、32可能只是相應(yīng)的標(biāo)記裝置所可能進(jìn)行標(biāo)記操作的最大可能總區(qū)域的一部分。因此，標(biāo)記區(qū)域30、32描述了相應(yīng)的標(biāo)記裝置在其中可以進(jìn)行操作的區(qū)域，且在此區(qū)域中，不連續(xù)的圖案可以由該標(biāo)記裝置刪除。標(biāo)記區(qū)域30、32在圖1中示意性地表示為圓形。不過，應(yīng)當(dāng)理解，標(biāo)記裝置可以限定任何形狀的標(biāo)記區(qū)域，例如但又并不局限于圓形、正方形、橢圓形、矩形三角形等等，而且相鄰的標(biāo)記區(qū)域甚至可以是不同的形狀。再有，應(yīng)當(dāng)理解圖1中所示虛線所描述的標(biāo)記區(qū)域30、32，僅僅是作為說明的目的，并描繪了標(biāo)記裝置可以進(jìn)行操作的假想邊界。這種區(qū)域并不是在涂覆層22上可以看見的。此外，每一個(gè)標(biāo)記裝置具有相應(yīng)的標(biāo)記公差?！皹?biāo)記公差”是指裝置的精確度，例如標(biāo)記裝置對(duì)一種形狀重復(fù)標(biāo)記的能力，例如，當(dāng)標(biāo)記裝置設(shè)定在距基片一個(gè)給定的距離時(shí)，該裝置能夠在基片上所希望的相同位置對(duì)線或線段重復(fù)標(biāo)記的能力。這種標(biāo)記公差通常用加或減(“±”)值表示該裝置在操作過程中對(duì)于所希望的位置的變化或偏離情況如何。一個(gè)標(biāo)記裝置的標(biāo)記公差通常由該裝置的制造商保證。作為選擇，一個(gè)標(biāo)記裝置的標(biāo)記公差這樣確定使該裝置在一個(gè)特定的位置(“設(shè)定位置”)重復(fù)地在基片上標(biāo)記，隨后檢測(cè)實(shí)際標(biāo)記出的刻記相對(duì)于設(shè)定位置的變化。第一和第二標(biāo)記裝置的標(biāo)記公差的絕對(duì)值的和，在此定義為該兩標(biāo)記裝置的“公差組”或“組合公差”。例如，一個(gè)標(biāo)記裝置的標(biāo)記公差為±0.3mm，而第二個(gè)標(biāo)記裝置的標(biāo)記公差為±0.1mm，組合公差則為0.4mm(0.3mm+0.1mm＝0.4mm)。第一圖案25是由第一標(biāo)記裝置(例如第一激光器，但并不局限于第一激光器)在第一標(biāo)記區(qū)域30內(nèi)作的標(biāo)記。第二圖案26是由第二標(biāo)記裝置(例如第二激光器，但并不局限于第二激光器)在第二標(biāo)記區(qū)域32內(nèi)作的標(biāo)記。在圖1所示的示例中，第一和第二圖案25、26兩者均示出為柵格，該柵格分別由不導(dǎo)電的垂直和水平線段40、42構(gòu)成，將涂覆層22分割為數(shù)個(gè)四邊形的涂覆層區(qū)域44。切出的線段40、42最好延伸至穿透涂覆層22到達(dá)基片表面28，并在導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域44之間形成不導(dǎo)電的或者本質(zhì)上不導(dǎo)電的斷口或者間隙。應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明并不局限于制出柵格圖案，相反，線段40和42可以是任何形狀，即可以是直線、曲線或者兩者的組合，以形成任何形狀的圖案。此外，涂覆層區(qū)域44在兩個(gè)圖案25、26之間，可以具有不同的尺寸和形狀，甚至在相同圖案內(nèi)可以是不同的尺寸和形狀。與傳統(tǒng)方法相反，本發(fā)明的FSS24并不通過延伸垂直和水平的線段40、42以形成遍及圖案整個(gè)表面的單個(gè)的柵格圖案。相反，單個(gè)圖案，即分離的圖案，是單獨(dú)的標(biāo)記裝置在標(biāo)記區(qū)域內(nèi)制成，相鄰的圖案25、26是由涂覆層22的一種中間導(dǎo)電涂覆層區(qū)域或涂覆層帶46所分離。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，相鄰的圖案25、26之間的距離27設(shè)置成大于標(biāo)記裝置的組合公差，以保證兩個(gè)圖案25和26不會(huì)重疊。例如，如果第一標(biāo)記裝置具有的標(biāo)記公差為±0.25mm，而第二標(biāo)記裝置具有的標(biāo)記公差為±0.25mm，圖案25和26標(biāo)記成這樣，使兩個(gè)圖案25、26之間的距離27大于0.5mm，以保證兩個(gè)圖案將不致重疊。在本發(fā)明的一個(gè)作為示例的實(shí)踐中，并如圖1所示意性地示出的，標(biāo)記裝置定位成這樣，使第一標(biāo)記裝置的標(biāo)記區(qū)域30與相鄰的第二標(biāo)記裝置的標(biāo)記區(qū)域32重疊。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，標(biāo)記裝置定位成這樣，使標(biāo)記區(qū)域30、32重疊的距離如圖中箭頭線34所示，該重疊的距離等于或大于兩個(gè)圖案25、26之間的距離27加上相鄰標(biāo)記裝置的組合公差之和。例如，第一標(biāo)記裝置具有的標(biāo)記公差為±0.25mm，第二標(biāo)記裝置具有的標(biāo)記公差為±0.25mm，兩個(gè)圖案25、26被分離的距離27為0.75mm，則距離34至少為1.25mm(即0.25mm+0.25mm+0.75mm)。曾經(jīng)發(fā)現(xiàn)在相鄰的圖案25、26之間的中間導(dǎo)電涂層帶46，在某些頻率是可以共振的并轉(zhuǎn)發(fā)信號(hào)，該信號(hào)將與相應(yīng)的天線元件(對(duì)此天線元件將在后面詳細(xì)討論)的接收發(fā)生干擾。此外，涂覆層帶46也可以與相鄰的天線元件耦合，可以導(dǎo)致天線性能降級(jí)。為了避免這種狀態(tài)發(fā)生，相鄰的圖案之間的涂覆層帶46設(shè)置成本質(zhì)上增加涂覆層帶46的電阻?！氨举|(zhì)上增加涂覆層帶46的電阻”是指這種形狀的涂覆層帶，和或?qū)ν扛矊訋?6的其它修改的結(jié)果，從涂覆層帶46的上端90到涂覆層帶46的下端92測(cè)量，涂覆層帶46的電阻至少加倍，例如增至三倍，或者至少增至5倍，或者至少增至10倍。在本發(fā)明的一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，圖案25和26彼此相對(duì)定位，以使涂覆層帶46以具有一種高寬比例(涂覆層帶的高度與涂覆層帶的寬度比)至少為50∶1的方式設(shè)置，例如100∶1或者200∶1或者300∶1。當(dāng)從涂覆層帶的頂?shù)酵扛矊訋У牡走M(jìn)行測(cè)量時(shí)，這么窄的涂覆層帶的設(shè)置，將增加涂覆層帶的電阻，這將因此減小相應(yīng)的天線元件與涂覆層帶46的耦合，還將減少在導(dǎo)電的涂覆層帶46中生成的RF電流流動(dòng)，從而改善接收。避免由涂覆層帶46生成的這種狀態(tài)的另一種途徑，是斷開涂覆層帶的連續(xù)性，以便增加從涂覆層帶頂?shù)酵扛矊訋У姿鶞y(cè)量的涂覆層帶的電阻。如上所述，電阻增加將降低耦合和減少涂覆層帶中的RF電流流動(dòng)，結(jié)果改善天線元件的接收。為此，在本發(fā)明的一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，在相鄰的第一和第二圖案25、26之間，在涂覆層帶46中標(biāo)記出一個(gè)或者更多個(gè)連接器分段50，例如由第一或第二標(biāo)記裝置其中之一制出。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，連接器分段50是不連續(xù)的連接器分段。“不連續(xù)”是指連接器分段50與線段42不對(duì)準(zhǔn)或者不是該線段的延伸，圖1所示本發(fā)明不具有限制性的特定實(shí)施例中，該線段為水平線段。連接器分段50定位與配置成這樣，使連接器分段50在中間導(dǎo)電的涂覆層帶46中的裝配，使涂覆層帶46的連續(xù)性本質(zhì)上中斷，增加涂覆層帶46的電阻。線段50可以是各種形狀，例如為連續(xù)的直線或曲線段，或者數(shù)個(gè)線段，但并不局限于此，這些線段設(shè)置成使這些線段的裝配本質(zhì)上增加涂覆層帶46的電阻。在本發(fā)明的不具有限制性的實(shí)施例中，連接器分段50的第一端至少延伸至至少緊靠近第一圖案25，該分段至少穿過涂覆層帶46的一部分延伸，而連接器分段50的相反的第二端至少延伸至緊靠第二圖案26。在另一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，分段50延伸至至少一個(gè)圖案的涂覆層區(qū)域44，而在另一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，分段50延伸至每一個(gè)相鄰的圖案的至少一個(gè)涂覆層區(qū)域44。在又一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，分段50至少延伸至進(jìn)入一個(gè)圖案的涂覆層區(qū)域44，而在另一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，分段50延伸進(jìn)入每一個(gè)相鄰的圖案的至少一個(gè)涂覆層區(qū)域44。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，如上所述的這種連接器分段設(shè)置，分段50并非必需在相鄰的圖案的相鄰的涂覆層區(qū)域之間延伸，只不過從一個(gè)圖案的涂覆層區(qū)域44到一個(gè)相鄰的圖案的涂覆層區(qū)域44。在本發(fā)明的一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，連接器分段50的長(zhǎng)度，大于圖案25、26之間所希望距離27與標(biāo)記裝置組合公差之和，這樣，連接器分段50將至少延伸至每一個(gè)圖案25、26，且很可能進(jìn)入該圖案。例如，如果第一和第二標(biāo)記裝置兩者的標(biāo)記公差均為±0.25mm，而圖案25、26設(shè)計(jì)成以0.75mm的距離分離，連接器分段50的長(zhǎng)度應(yīng)當(dāng)大于1.25mm(即0.25+0.25+0.75)。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，在本發(fā)明的實(shí)施例中，包括多個(gè)連接器分段50延伸穿過導(dǎo)電的涂覆層帶46，連接器分段可以相互平行但并不要求平行。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，連接器分段50在相鄰的圖案之間的涂覆層帶46內(nèi)彼此交叉。在另一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，多連接器分段50在標(biāo)記出的圖案的相同涂覆層區(qū)域之間延伸。在本發(fā)明不具有限制性的實(shí)施例中，如圖2所示的頻率選擇表面48，使用激光刪除裝置，在一種多層電導(dǎo)涂覆層中制成，其具有如下尺寸和公差標(biāo)記區(qū)域＝305mm×305mm(區(qū)域的各角不能用)；標(biāo)記公差＝±0.25mm；相鄰的柵格圖案之間的距離＝0.75mm，每一個(gè)柵格寬200mm長(zhǎng)300mm；線間距＝3.5mm，標(biāo)記區(qū)域重疊＝2.5mm；連接器分段長(zhǎng)度＝1.75mm。圖2示出了一個(gè)FSS48，該FSS具有四個(gè)根據(jù)本發(fā)明在四個(gè)相鄰標(biāo)記裝置的標(biāo)記區(qū)域制成的相鄰柵格圖案52、54、56、58，并被導(dǎo)電區(qū)域59分離。此柵格均制成由四邊形形狀構(gòu)成，如上所述，導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域被不導(dǎo)電的狹長(zhǎng)切口或者線段分離。一個(gè)或者更多個(gè)連接器分段60在每一對(duì)相鄰的柵格圖案52、54、56和58之間穿過導(dǎo)電的區(qū)域59延伸，以形成FSS48。在圖2所示本發(fā)明的不具有限制性的實(shí)施例中，至少一個(gè)圖案，例如圖案52，具有寬度W在50mm至500mm范圍，例如100mm至500mm，例如200mm至400mm，例如大約300mm；長(zhǎng)度L在50mm至500mm范圍；例如100mm至500mm，例如100mm至300mm，例如200mm。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，單獨(dú)的涂覆層區(qū)域(即構(gòu)成圖案的正方形)寬度在1mm至5mm范圍，長(zhǎng)度大約1mm至5mm，例如寬3mm至4mm，長(zhǎng)3mm至4mm，例如寬度3.5mm長(zhǎng)3.5mm。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，導(dǎo)電的區(qū)域59可以具有0.1mm至2mm的寬度，例如0.2mm至1.5mm的寬度，例如0.25mm至大約1.25mm的寬度。在一個(gè)不具有限制性的實(shí)施例中，連接器分段60可以具有1mm至5mm的范圍的長(zhǎng)度，例如1.5mm至4.5mm，例如2mm至4mm，例如2mm至3mm。圖3和4示出了一種疊層式汽車透明片64，該透明片具有根據(jù)本發(fā)明結(jié)合具有多基片結(jié)構(gòu)制成的兩個(gè)FSS66和68。更特別地，但并不對(duì)本發(fā)明具有限制作用，如圖4所示，疊層式透明片64是由塑料夾層74，例如用聚乙烯丁縮醛，使第一外玻璃板層70與第二玻璃板層72相距一段距離而制成。在疊層之前，第一玻璃層板70的表面75被涂覆以一太陽(yáng)能控制涂覆層76。此涂覆層76按上述方法切制或標(biāo)記以在第一玻璃層板上制成兩個(gè)相距一段距離的頻率選擇表面66、68，如圖3所示。盡管在本發(fā)明中不具有限制性，在一個(gè)實(shí)施例中，上FSS66和下FSS68各自可以由兩個(gè)或者更多個(gè)如上所述的且如圖2所示的縱向相鄰圖案。FSS66和68可以在平直玻璃板上制出，隨后對(duì)該玻璃板進(jìn)行彎曲和/或熱處理以制成第一板層70。作為替換，F(xiàn)SS66和68可以在涂覆的基片被彎曲和熱處理之后制出以制成第一板層70。一個(gè)或更多個(gè)天線可以設(shè)置在透明片64上或透明片之內(nèi)。此天線可以是傳統(tǒng)形式的，例如但并不局限于導(dǎo)電的透明薄膜和/或金屬導(dǎo)線或者金屬帶。例如，而又對(duì)本發(fā)明不具有限制性的，天線可以定位在板層72的內(nèi)表面79(即定位在第一和第二板層70，72之間)，或者定位在中間層74內(nèi)，或者第二板層72的外表面77上(即面向車輛內(nèi)部)。但是，在任何情況下，天線與涂覆層76相距一段距離，頻率選擇表面在該涂覆層內(nèi)制出，就是說，中間層74的至少一部分和/或第二板層72，在天線與涂覆層76之間延伸。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，第二板層72包括一個(gè)或者更多個(gè)上FM天線78，一個(gè)或者更多個(gè)中AM天線80，和一個(gè)或者更多個(gè)下FM或UHF天線82，設(shè)置在外表面77上。由于AM頻率對(duì)由導(dǎo)電的太陽(yáng)能控制涂覆層耦合較少敏感，涂覆層76可以在鄰近AM天線80的區(qū)域上方保持完整無損，即在涂覆層76的這個(gè)區(qū)域沒有FSS需要切割。不過，本發(fā)明的AM天線80外側(cè)的一種FSS，如果需要，可以刪除。根據(jù)本發(fā)明制成的FSS66和68可以在導(dǎo)電的太陽(yáng)能控制涂覆層76內(nèi)，鄰近FM和UHF天線78和82制成，即，穿過透明片64到達(dá)天線78和82的電磁信號(hào)，必須首先穿過頻率選擇表面的至少一部分，以降低耦合并增加天線78、82的接收。盡管在圖2中所示出的是柵格圖案的線性序列，應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明并不局限于這種線性序列。例如圖5示出了本發(fā)明的四個(gè)圖案84、86、88、90，這些圖案本質(zhì)上為矩形構(gòu)成，具有在相鄰的圖案之間延伸的連接器分段94。于是，在本發(fā)明的一個(gè)作為示例的實(shí)例中，F(xiàn)SS由兩個(gè)或者更多個(gè)單獨(dú)的圖案構(gòu)成，該單獨(dú)的圖案是在一個(gè)或者更多個(gè)標(biāo)記裝置的標(biāo)記區(qū)域內(nèi)分別制出的，具有設(shè)置在相鄰圖案之間的導(dǎo)電的帶或?qū)щ姷膮^(qū)域。連接器分段在相鄰的圖案之間延伸以減小導(dǎo)電帶的導(dǎo)電性和對(duì)RF能量的反射。應(yīng)該看出，當(dāng)采用多個(gè)標(biāo)記裝置標(biāo)記一個(gè)或多個(gè)上述圖案時(shí)，各裝置的操作可以依次進(jìn)行，即第一裝置完成第一圖案，然后第二裝置開始第二圖案；各裝置也可同時(shí)操作，即兩個(gè)或更多裝置同時(shí)標(biāo)記兩個(gè)或更多圖案；或兩種情況相組合，即第一裝置開始標(biāo)記第一圖案，同時(shí)，第二裝置不標(biāo)記，而在第一圖案標(biāo)記完成之前，第二裝置開始標(biāo)記第二圖案。盡管上面所討論的作為示例的實(shí)施例是針對(duì)本發(fā)明在制造疊層透明片方面的實(shí)踐，本發(fā)明并不局限于在疊層透明片的應(yīng)用。例如圖6示出了一種結(jié)合了本發(fā)明特征的單塊電路產(chǎn)品100?！皢螇K電路”的意思是具有單獨(dú)的結(jié)構(gòu)支撐或者板層102，例如一種玻璃板或者與上述與基片20相關(guān)的任何材料。板層102具有第一主表面104和與其相反的第二主表面106。涂覆層108，例如太陽(yáng)能控制涂覆層，可以沉積在主表面例如表面104的全部或者一部分上。一個(gè)或者更多個(gè)傳統(tǒng)的天線，例如FM天線110和112，可以設(shè)置在另一個(gè)主表面106上。天線110和112可以是，例如，傳統(tǒng)的鍍銀陶瓷式天線、印刷在表面106上的絲屏。一個(gè)或者更多個(gè)FSS，例如114和116，可以在涂覆層104內(nèi)，用上述工藝過程，鄰近天線110、112，例如在該天線的外側(cè)制成，以改善電磁能，例如RF能通過涂覆層104到達(dá)天線110和112。在本發(fā)明的另一方面，一個(gè)或者更多個(gè)FSS可以用諸如單個(gè)的激光的單個(gè)標(biāo)記裝置制成。例如，激光可以定位成這樣，使標(biāo)記區(qū)域限定在準(zhǔn)備刪除的涂覆層的一部分。被限定的標(biāo)記區(qū)域可以是激光可以進(jìn)行標(biāo)記操作的實(shí)際區(qū)域的全部或者一部分。激光可以刪除在標(biāo)記區(qū)域內(nèi)的一個(gè)圖案(第一圖案)，然后基片和/或激光可以作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使標(biāo)記區(qū)域定位與基片上的一個(gè)新位置，可以標(biāo)記另一個(gè)圖案(第二圖案)。在基片運(yùn)動(dòng)的過程中，連接器分段可以被刪除。作為替換，在第一圖案被標(biāo)記之后，基片和/或激光可以作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使在新位置的標(biāo)記區(qū)域與先前的標(biāo)記區(qū)域重疊(正如上述對(duì)圖1的相關(guān)說明)，而第二圖案和連接器分段可以在涂覆層中刪除。在本發(fā)明的一個(gè)方面，分離的圖案和連接器分段呈現(xiàn)一種美學(xué)上令人高興的FSS，特別是如果在透明片的視覺區(qū)域內(nèi)使用。本領(lǐng)域的技術(shù)人員容易理解，只要不超出上述說明所公開的概念范疇，對(duì)本發(fā)明可以修改。因此，在此所詳細(xì)說明的特定實(shí)施例僅僅是舉例，并不限制本發(fā)明的范圍，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其任何和全部等同物的全部范圍所限定。
權(quán)利要求
1.一種在具有電阻的電磁能衰減涂覆層制造頻率選擇表面的方法，該方法包括限定第一標(biāo)記區(qū)域和第一標(biāo)記公差；限定第二標(biāo)記區(qū)域和第二標(biāo)記公差；在第一標(biāo)記區(qū)域標(biāo)記涂覆層的選定部分，以限定第一圖案；在第二標(biāo)記區(qū)域標(biāo)記涂覆層的選定部分，以限定第二圖案，使第一和第二圖案彼此相距一段距離，其相距距離至少等于標(biāo)記裝置的組合公差；和在第一圖案和第二圖案之間標(biāo)記涂覆層帶，使至少一個(gè)連接器分段以一方式本質(zhì)上增加涂覆層帶的電阻。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，第一圖案標(biāo)記包括用第一標(biāo)記裝置對(duì)涂覆層進(jìn)行標(biāo)記，而第二圖案標(biāo)記包括用第二標(biāo)記裝置對(duì)涂覆層進(jìn)行標(biāo)記。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，第一圖案標(biāo)記和第二圖案標(biāo)記包括用唯一的標(biāo)記裝置對(duì)涂覆層進(jìn)行標(biāo)記。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中，在第一圖案標(biāo)記之前，使涂覆層相對(duì)于標(biāo)記裝置定位，使標(biāo)記裝置能夠在第一標(biāo)記區(qū)域內(nèi)對(duì)涂覆層進(jìn)行標(biāo)記，在第二圖案標(biāo)記之前，使涂覆層相對(duì)于標(biāo)記裝置定位，使標(biāo)記裝置能夠在第二標(biāo)記區(qū)域內(nèi)對(duì)涂覆層進(jìn)行標(biāo)記，
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，涂覆層帶標(biāo)記增加涂覆層帶的涂覆層的電阻至少5倍。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，涂覆層帶標(biāo)記包括在涂覆層帶的至少一部分內(nèi)標(biāo)記至少一個(gè)連接器分段。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，涂覆層帶標(biāo)記包括用至少一個(gè)連接器分段使第一圖案與第二圖案互相連接。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中，涂覆層帶標(biāo)記包括標(biāo)記至少一個(gè)連接器分段，該連接器分段的長(zhǎng)度至少等于組合公差加第一和第二圖案之間距離的總和。
9.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，至少一個(gè)連接器分段是一不連續(xù)的連接器分段。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，第一圖案標(biāo)記和第二圖案標(biāo)記包括分別標(biāo)記第一柵格圖案和第二柵格圖案，該柵格圖案各自包括數(shù)個(gè)導(dǎo)電的涂覆區(qū)域。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，還包括從第一圖案的至少一個(gè)導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域，使至少一個(gè)連接器分段延伸到第二圖案的至少一個(gè)導(dǎo)電的涂覆層。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括限定至少一個(gè)附加標(biāo)記區(qū)域和至少一個(gè)附加的標(biāo)記公差，在至少一個(gè)附加標(biāo)記區(qū)域內(nèi)標(biāo)記涂覆層的選定部分，以限定至少一個(gè)附加圖案，在第一圖案和第二圖案和至少一個(gè)附加圖案之間標(biāo)記附加涂覆層帶，而以這樣的方式具有至少一個(gè)附加連接器分段，該方式本質(zhì)上增加附加涂覆層帶的電阻。
13.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括在基片上沉積涂覆層，使涂層基片與附加基片組合以構(gòu)成一疊層，將至少一天線元件結(jié)合進(jìn)疊層，使得至少一個(gè)天線元件與涂覆層相距一段距離，并鄰近第一和第二圖案。
14.一種涂層基片，該基片具有用權(quán)利要求1所述方法制成的頻率選擇表面。
15.一種在涂層基片上制造頻率選擇表面的方法，該方法包括在基片上沉積一具有電阻的涂覆層；在涂覆層內(nèi)形成第一圖案；在涂覆層內(nèi)形成第二圖案，其中，第一圖案和第二圖案被涂覆層帶所分離；和將涂覆層帶設(shè)置成使涂覆層帶的電阻本質(zhì)上增加。
16.一種具有頻率選擇表面的基片，其包括基片；具有電阻的電磁能衰減涂覆層，該涂覆層沉積在基片的至少一部分；第一圖案，其在涂覆層內(nèi)標(biāo)記而成；和第二圖案，其在涂覆層內(nèi)鄰近第一圖案標(biāo)記而成，其中，第一圖案與第二圖案被涂覆層帶分離，該涂覆層帶設(shè)置成本質(zhì)上增加涂覆層帶的電阻。
17.如權(quán)利要求16所述的基片，其中，涂覆層帶具有至少50∶1的長(zhǎng)寬比。
18.如權(quán)利要求16所述的基片，還包括至少一連接器分段，該連接器分段至少?gòu)木o靠第一圖案延伸，穿過至少一部分涂覆層帶，達(dá)到至少緊靠第二圖案處。
19.如權(quán)利要求16所述的基片，其中，涂覆層帶設(shè)置成使涂覆層帶中的涂覆層的電阻增加至少5倍。
20.如權(quán)利要求16所述的基片，其中，涂覆層是一太陽(yáng)能控制涂覆層。
21.如權(quán)利要求20所述的基片，其中，太陽(yáng)能控制涂覆層包括兩個(gè)或者更多個(gè)鍍銀層和兩個(gè)或者更多個(gè)介電質(zhì)層。
22.如權(quán)利要求16所述的基片，其中，基片是一玻璃基片。
23.如權(quán)利要求22所述的基片，其中，玻璃基片是包括至少一個(gè)玻璃片層的疊層基片。
24.如權(quán)利要求23所述的基片，其中，疊層是一疊層透明片，并進(jìn)一步包括至少一天線，該天線與涂覆層相距一段距離，并鄰近第一圖案和第二圖案。
25.如權(quán)利要求1所述的基片，其中，第一和第二圖案為柵格圖案，各自包括由本質(zhì)上為非導(dǎo)電的線段所限定的數(shù)個(gè)導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域。
26.如權(quán)利要求26所述的基片，其中，涂覆層帶的寬度為大約0.2mm至大約1.5mm。
27.如權(quán)利要求26所述的基片，其中，涂覆層帶的寬度為大約0.25mm至大約1.25mm。
28.如權(quán)利要求25所述的基片，還包括至少一個(gè)連接器分段，其從至少緊靠第一圖案延伸，穿過至少一部分涂覆層帶，達(dá)到至少緊靠第二圖案處。
29.如權(quán)利要求28所述的基片，其中，至少一個(gè)連接器分段從第一圖案的至少一個(gè)導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域延伸達(dá)到第二圖案的至少一個(gè)導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域。
30.如權(quán)利要求29所述的基片，其中，至少一個(gè)連接器分段的至少一個(gè)是不連續(xù)的連接器分段。
31.如權(quán)利要求29所述的基片，其中，連接器分段的長(zhǎng)度在1mm至5mm范圍內(nèi)。
32.如權(quán)利要求29所述的基片，其中，基片是一疊層透明片，其包括至少一個(gè)玻璃板層，并進(jìn)一步包括至少一天線，該天線與涂覆層相距一段距離，并鄰近第一和第二圖案。
33.如權(quán)利要求29所述的基片，其中，導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域本質(zhì)上是四邊形。
34.如權(quán)利要求33所述的基片，其中，導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域的長(zhǎng)度在2mm至5mm范圍，而寬度在2mm至5mm范圍。
35.如權(quán)利要求34所述的基片，其中，導(dǎo)電的涂覆層區(qū)域的長(zhǎng)度在3mm至4mm范圍，而寬度在3mm至4mm范圍。
36.如權(quán)利要求25所述的基片，其中，每一個(gè)柵格圖案的長(zhǎng)度在100mm至500mm范圍，寬度在100mm至500mm范圍。
37.如權(quán)利要求36所述的基片，其中，每一個(gè)柵格圖案的長(zhǎng)度在200mm至300mm范圍，寬度在200mm至300mm范圍。
38.如權(quán)利要求16所述的基片，在涂覆層還包括至少一個(gè)附加圖案，該附加圖案通過附加涂覆層帶，鄰近第一涂覆層或第二涂覆層而與該涂覆層分離，該附加涂覆層帶設(shè)置成本質(zhì)上增加附加涂覆層帶的電阻。
全文摘要
一種在具有電阻的電磁能衰減涂覆層上制造頻率選擇表面的方法，該方法包括下列步驟限定第一標(biāo)記區(qū)域和第一標(biāo)記公差；限定第二標(biāo)記區(qū)域和第二標(biāo)記公差；在第一標(biāo)記區(qū)域?qū)ν扛矊拥倪x定部分標(biāo)記以限定第一圖案；在第二標(biāo)記區(qū)域?qū)ν扛矊拥倪x定部分標(biāo)記以限定第二圖案，使第一和第二圖案彼此相距一段距離，該距離至少等于標(biāo)記裝置的組合公差；和，在第一圖案和第二圖案之間標(biāo)記涂覆層的涂覆層帶，使至少一個(gè)連接器分段以一種方式本質(zhì)上增加涂覆層帶的電阻。一種具有頻率選擇表面的涂層基片，包括基片；具有電阻的電磁能衰減涂覆層，該涂覆層沉積在基片的至少一部分；第一圖案，在涂覆層內(nèi)標(biāo)記而成；和第二圖案，在涂覆層內(nèi)鄰近第一圖案標(biāo)記而成，其中，第一圖案與第二圖案被涂覆層帶分離，該涂覆層帶的布局設(shè)置成本質(zhì)上增加涂覆層帶的電阻。
文檔編號(hào)H01Q1/12GK1561559SQ02819311
公開日2005年1月5日 申請(qǐng)日期2002年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2001年10月25日
發(fā)明者查爾斯·S·弗爾策爾 申請(qǐng)人:Ppg工業(yè)俄亥俄公司