專利名稱：噴嘴裝置及具備該噴嘴裝置的基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將藥液或洗凈液等的處理液噴出、涂布在液晶玻璃基板、半導(dǎo)體晶片(硅晶片)、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等的基板上的噴嘴裝置及具備該噴嘴裝置的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
例如，構(gòu)成液晶基板的玻璃基板，經(jīng)過各種工序來制造，在各工序中，對玻璃基板涂布各種處理液，例如抗蝕劑或顯影液的涂布、其剝離用的藥液或洗凈液的涂布等。
將處理液涂布于玻璃基板上，目前通過基板處理裝置來進(jìn)行，該裝置具備支撐機(jī)構(gòu)，用來水平地支撐玻璃基板；噴嘴裝置，用來將處理液噴出在水平支撐的玻璃基板上；移動裝置，用來將噴嘴裝置在玻璃基板上方沿該玻璃基板移動(掃描)等。作為上述噴嘴裝置來說，使用圖12及圖13所示的噴嘴裝置。
如上述圖12及圖13所示，上述噴嘴裝置100，具備長形的噴嘴體101，在玻璃基板W上方，沿其寬度方向(在圖12中與紙面正交的方向，即圖13所示的箭頭H方向)配設(shè)；以及托架108，固裝于該噴嘴體101上、且連結(jié)于上述移動裝置的適宜支撐部等。
噴嘴體101，由長形的第一構(gòu)件102及第二構(gòu)件106所構(gòu)成，這些第一構(gòu)件102及第二構(gòu)件106具備使密封用襯墊107介于中間地接合的構(gòu)造。第一構(gòu)件102，沿其長邊方向，具備開口于一方側(cè)面的槽103，通過第二構(gòu)件106接合于此第一構(gòu)件102而閉塞該開口部，來形成供給室103。
另外，在第一構(gòu)件102設(shè)置供給口104，一方開口于其上面，另一方連通于上述供給室103。此供給口104，使管接頭112介于中間地連接有供給管111，該供給管111連接于處理液供給裝置110，從處理液供給裝置110經(jīng)過供給管111、供給口104供給處理液至上述供給室103內(nèi)。
另外，在上述第一構(gòu)件102，將開口于其下面及上述供給室103的噴出孔105，沿第一構(gòu)件102的長邊方向以規(guī)定間距穿設(shè)成一列，供給至上述供給室103內(nèi)的處理液，在此噴出孔105內(nèi)流通，從其開口部噴出，來涂布于基板W上。
具有上述構(gòu)成的噴嘴裝置100，其上述托架108連結(jié)于上述移動裝置的適宜支撐部而支撐于該移動裝置，通過此移動裝置向與玻璃基板W的寬度方向(箭頭H方向)正交的方向移送(掃描)。
根據(jù)具備如上述構(gòu)成的基板處理裝置，玻璃基板W在由上述支撐機(jī)構(gòu)水平地支撐的狀態(tài)下，從處理液供給裝置110供給已加壓的處理液至噴嘴裝置100，從上述各噴出孔105的開口部噴出。
從上述各噴出孔105所噴出的處理液，分別形成一條條線狀液流，全體形成簾狀而流下，涂布于玻璃基板W上。然后，通過上述移動裝置，當(dāng)將噴嘴裝置100沿與玻璃基板W的寬度方向(箭頭H方向)正交的方向移動時(shí)，則要涂布于玻璃基板W上的處理液就變成向噴嘴裝置100的移動方向延伸的條狀積存液而載置于玻璃基板W上，接著，鄰接的條狀積存液彼此通過表面張力混合，形成規(guī)定膜厚的處理液膜。
在上述現(xiàn)有的基板處理裝置中，如上述那樣將處理液涂布于玻璃基板W上，由所涂布的處理液來處理玻璃基板W。
然而，現(xiàn)在，玻璃基板等基板W的尺寸逐年加大。因此，為了能對基板W的全域進(jìn)行均質(zhì)的處理，且能降低其處理成本，越來越提高以盡量少量的處理液將均勻膜厚的處理液涂布于基板W上的要求。
因此，需要使上述現(xiàn)有例的噴嘴裝置100的噴出孔105的口徑盡量變?yōu)樾?，并且使其配置間距盡量狹窄，然而，在上述噴嘴裝置100中，因?qū)⑵鋰姵隹?05排成一列，故若使上述配置間距過分狹窄，則從上述各噴出孔105噴出而以一條條線狀態(tài)流下的液流間距就變成極接近，其結(jié)果，鄰接的液流彼此黏接，互相糾纏混合，不但變成帶狀液流流下，而且因其表面張力而使液流寬度變成縮窄狀態(tài)，產(chǎn)生不能在基板W全寬度涂布處理液的問題，此外，產(chǎn)生所涂布的處理液的膜厚反而變厚的問題。另一方面，若將配置間距取大來避免鄰接的液流彼此黏接，因從各噴出口所噴出的處理液量少，如圖14所示，載置于基板W上的各積存液R就互相不接觸而成為獨(dú)立狀態(tài)，無法在基板W上形成處理液膜。
另外，上述噴嘴裝置100，因構(gòu)成為從其噴嘴體101的上端向下端依次連續(xù)地設(shè)置供給口104、供給室103、噴出孔105的構(gòu)造，故處理液的涂布結(jié)束時(shí)，即使將來自處理液供給裝置110的處理液的供給停止，因已填充于供給室103內(nèi)的處理液的重量會作用于噴出孔105內(nèi)的處理液，故處理液會從上述噴出孔105滴落于基板W上。因此處理液的滴落而使涂布于基板W上的處理液的膜厚產(chǎn)生不均勻。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是有鑒于以上實(shí)情而提出的，其目的在于提供一種能以少量的處理液、并且在基板上形成均勻膜厚的處理液膜的噴嘴裝置及具備該噴嘴裝置的基板處理裝置。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明涉及一種噴嘴裝置以及具備該噴嘴裝置的基板處理裝置，該噴嘴裝置，具備長形的噴嘴體，從該噴嘴體噴出處理液而涂布于被處理物上，其特征在于上述噴嘴體，具備多個(gè)噴出口，形成于其下面；儲液室，使所供給的處理液滯留；以及，液噴出流路，一方連通于上述各噴出口，另一方連通于上述儲液室，使滯留于上述儲液室的處理液流通至上述噴出口，從上述噴出口噴出；上述噴出口，沿上述噴嘴體的長邊方向排列成多列，并且各列的噴出口配置于鄰接的噴出口列的各噴出口配置間，使各噴出口沿排列方向配設(shè)成交錯(cuò)狀。
該噴嘴裝置，配設(shè)于由支撐機(jī)構(gòu)支撐的基板上方，將已加壓的處理液從處理液供給機(jī)構(gòu)供給至噴嘴體，并且利用移動機(jī)構(gòu)沿上述基板向與噴嘴體長邊方向正交的方向相對地移動。
在通過上述支撐機(jī)構(gòu)將處理對象的基板水平地支撐的狀態(tài)下，當(dāng)將已加壓的處理液從上述處理液供給機(jī)構(gòu)供給至噴嘴體時(shí)，則所供給的處理液會流入至噴嘴體的儲液室內(nèi)，在流通于液噴出流路內(nèi)后，從排列成多列的各噴出口噴出。
從各噴出口噴出的處理液，分別形成一條條線狀液流，全體形成簾狀而流下，而涂布于基板上。并且，通過上述移動機(jī)構(gòu)，當(dāng)將噴嘴體沿與其長邊方向正交的方向移動時(shí)，則從各噴出口流下的處理液就形成向噴嘴體移動方向延伸的條狀積存液而載置于基板上。
在本發(fā)明的噴嘴裝置中，因?qū)⑸鲜鰢姵隹谘厣鲜鰢娮祗w的長邊方向排列成多列，并且將各列的噴出口配置于鄰接的噴出口列的各噴出口配置間，并使各噴出口沿排列方向配設(shè)成交錯(cuò)狀，故能使噴嘴體的長邊方向的全體噴出口的配置間距更為密集，能使載置于基板上的上述條狀積存液的鄰接彼此為極接近而形成使兩者接觸的狀態(tài)。由此，鄰接的條狀積存液彼此通過表面張力混合，而形成規(guī)定膜厚的均質(zhì)處理液膜。
這樣，在本發(fā)明的噴嘴裝置中，因?qū)姵隹谠O(shè)置多列且配設(shè)為交錯(cuò)狀，故即使各噴出口的口徑為小徑，亦不會使各列噴出口的配置間距縮小至必要以上，而能使噴出口全體的配置間距更為密集，能以少量的處理液在基板上形成均質(zhì)膜厚的處理液膜。
因此，在本發(fā)明的噴嘴裝置及基板處理裝置中，不會產(chǎn)生如將噴出口排列成一列的上述現(xiàn)有的噴嘴裝置那樣，因縮小噴出口的配置間距，使從各噴出口噴出的液流彼此在流下中接觸而混合，形成帶狀液流而流下這樣的問題。
另外，若將儲液室與液噴出流路上下連續(xù)地設(shè)置，就與上述現(xiàn)有的噴嘴裝置同樣，即使停止來自處理液供給機(jī)構(gòu)的處理液的供給，因填充于儲液室內(nèi)的處理液的重量會作用于液噴出流路內(nèi)的處理液，故擔(dān)心處理液會從噴出口滴落，使涂布于基板上的處理液膜產(chǎn)生厚度不均勻。
為了解除如上所述的缺陷，優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是將上述儲液室和液噴出流路，沿其長邊方向平行地并排設(shè)置，配置成使液噴出流路的上端位于儲液室的上端的上方，且由連通路連通儲液室的上端部和液噴出流路的上端部。
如此構(gòu)成，在從處理液供給機(jī)構(gòu)供給處理液的狀態(tài)下，因儲液室內(nèi)的處理液壓較液噴出流路內(nèi)的處理液壓為高，故處理液會從儲液室流入液噴出流路內(nèi)而從噴出口噴出，另一方面，處理液的供給停止時(shí)，填充于儲液室內(nèi)的處理液的重量不會作用于液噴出流路內(nèi)的處理液，液噴出流路內(nèi)的處理液通過本身的表面張力停留于該液噴出流路內(nèi)。通過這樣的作用，能防止處理液的供給停止時(shí)自上述噴出口的液滴落。
另外，上述液噴出流路的結(jié)構(gòu)可以是，其由分別個(gè)別地連通于上述各噴出口的多個(gè)縱孔而構(gòu)成，各縱孔的上端部與上述儲液室的上端部由上述連通路連通。或者其結(jié)構(gòu)也可以是，由分別個(gè)別地連通于上述各噴出口的多個(gè)縱孔、和形成于該縱孔的上方且下端部連通于上述縱孔的上端部的液供給室所構(gòu)成，并使上述液供給室的上端部和上述儲液室的上端部由上述連通路連通。然而，在此情形下，從防止上述液滴落的觀點(diǎn)來看，液供給室的容量應(yīng)該是使各縱孔內(nèi)的處理液能利用本身的表面張力停留于該縱孔內(nèi)的程度。
另外，上述各噴出口的口徑，優(yōu)選為0.35mm以上5mm以下，其各列的配置間距，優(yōu)選為1mm以上10mm以下。
另外，上述支撐機(jī)構(gòu)及移動機(jī)構(gòu)，可以由滾輪傳送裝置所構(gòu)成，該滾輪傳送裝置具備支撐上述基板的多個(gè)滾輪群，且通過各滾輪的旋轉(zhuǎn)將上述基板進(jìn)行直線地傳送。
或者，上述支撐機(jī)構(gòu)由載置基板的載置臺所構(gòu)成，上述移動機(jī)構(gòu)由將上述噴嘴體沿上述基板進(jìn)行直線地移送的移送裝置所構(gòu)成也可以。在此情形下，也可以進(jìn)一步設(shè)置使上述載置臺水平旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置。根據(jù)此基板處理裝置，在由噴嘴裝置涂布處理液于基板上后，通過上述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置使基板水平旋轉(zhuǎn)，由此，涂布于基板上的處理液因離心力而拉伸為薄，更能形成均質(zhì)膜厚的處理液膜于基板上。
另外，就可采用本發(fā)明的處理對象的基板來說，未有任何限制，對于液晶玻璃基板、半導(dǎo)體晶片(硅晶片)、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等的各種基板，均能采用本發(fā)明。再者，對于處理液來說，亦未有任何限制，可以使用在半導(dǎo)體或液晶的制造工序中所使用的顯影液、抗蝕液、抗蝕層剝離液、蝕刻液、洗凈液(包括純水、臭氧水、含氫水、電解離子水)等各種處理液。


圖1是表示本發(fā)明的優(yōu)選方式的基板處理裝置的俯視剖面圖，是圖2中的箭頭II-II方向的俯視剖面圖。
圖2是圖1中的箭頭I-I方向的側(cè)視剖面圖。
圖3是表示本發(fā)明的優(yōu)選方式的噴嘴裝置的主視剖面圖，是圖5中的箭頭IV-IV方向的主視剖面圖。
圖4是圖3所示的噴嘴裝置的仰視圖。
圖5是圖3中的箭頭III-III方向的側(cè)視剖面圖。
圖6是用于說明本實(shí)施方式的噴嘴裝置的處理液涂布作用的說明圖。
圖7是用于說明本實(shí)施方式的噴嘴裝置的處理液涂布作用的說明圖。
圖8是表示本發(fā)明的其它方式的噴嘴裝置的主視剖面圖，是圖9中的箭頭VI-VI方向的剖面圖。
圖9是圖8中的箭頭V-V方向的側(cè)視剖面圖。
圖10是表示本發(fā)明的其它方式的基板處理裝置的主視剖面圖。
圖11是圖10所示的基板處理裝置的俯視圖。
圖12是表示現(xiàn)有例的噴嘴裝置的側(cè)視剖面圖。
圖13是圖12所示的噴嘴裝置的仰視圖。
圖14是用于說明現(xiàn)有例的噴嘴裝置的處理液涂布作用的說明圖。
具體實(shí)施例方式
以下，為更詳細(xì)說明本發(fā)明，根據(jù)附圖加以說明。
如圖1及圖2所示，本發(fā)明的基板處理裝置1，具備罩體2，形成封閉空間；傳送裝置3，具備以規(guī)定間距配置在上述封閉空間內(nèi)的傳送滾輪4，將處理對象的基板W由該傳送滾輪4支撐而傳送；噴嘴裝置10，配置于一連串的傳送滾輪4群的上方，將處理液噴出至上述基板W上來進(jìn)行涂布；以及，處理液供給裝置37，供給已加壓的處理液至噴嘴裝置10等。
傳送裝置3，除上述的多個(gè)傳送滾輪4以外，還具備旋轉(zhuǎn)自如地支撐這些傳送滾輪4的軸承8和驅(qū)動傳送滾輪4的驅(qū)動機(jī)構(gòu)9等。傳送滾輪4，由旋轉(zhuǎn)軸5及滾輪6、7所構(gòu)成，該旋轉(zhuǎn)軸5的兩端分別由上述軸承8旋轉(zhuǎn)自如地支撐，該滾輪6、7沿著旋轉(zhuǎn)軸5的長邊方向以規(guī)定間距固裝于此旋轉(zhuǎn)軸5上，旋轉(zhuǎn)軸5的軸方向兩端部的滾輪7分別具備凸緣部，由該凸緣部限制在滾輪6、7上所傳送的基板W，使其不會從傳送路上脫離。
另外，雖未具體地圖示，但上述驅(qū)動機(jī)構(gòu)9由驅(qū)動馬達(dá)和卷掛于各旋轉(zhuǎn)軸5來傳達(dá)上述驅(qū)動馬達(dá)的動力至各旋轉(zhuǎn)軸的傳動皮帶所構(gòu)成，使上述各旋轉(zhuǎn)軸5旋轉(zhuǎn)，讓基板W沿箭頭T方向傳送。
上述噴嘴裝置10，如圖1所示，具備長形的噴嘴體11，沿基板W的寬度方向(箭頭H方向)配設(shè)；以及托架30，固裝于此噴嘴體11，且連結(jié)于適宜構(gòu)造體(未圖示)等。
如圖3至圖5所示，噴嘴體11，由長形的第一構(gòu)件12及第二構(gòu)件15所構(gòu)成，而這些第一構(gòu)件12及第二構(gòu)件15具有以密封用襯墊20、21介于中間而接合的構(gòu)造。這些第一構(gòu)件12及第二構(gòu)件15，其各橫剖面形狀呈具有水平邊12b、15b和垂直邊12a、15a的鉤狀，第一構(gòu)件12的水平邊12b端面與第二構(gòu)件15的垂直邊15a端面以上述襯墊20介于中間而接合，第一構(gòu)件12的垂直邊12a端面與第二構(gòu)件15的水平邊15b端面以上述襯墊21介于中間而接合。
另外，在第一構(gòu)件12的水平邊12b下面與垂直邊12a端面所交叉的隅部，沿上述長邊方向形成槽部13，在第二構(gòu)件15的水平邊15b上面與其垂直邊端面所交叉的角部，沿上述長邊方向形成槽部19，在第一構(gòu)件12及第二構(gòu)件15如上述那樣接合的狀態(tài)下，由上述槽部13及19形成儲液室22。
另外，開口于第二構(gòu)件15的水平邊15b上面的槽狀的液供給室16，沿上述長邊方向與上述儲液室22平行地并排設(shè)置，進(jìn)而，穿設(shè)多個(gè)縱孔17，使其一方開口于上述液供給室16的底面，另一方開口于上述水平邊15b的下面，作為噴出口18。此縱孔17，如圖4所示，沿第二構(gòu)件15的長邊方向排列成2列(A列及B列)。各列的噴出口18，其配置間距P相同，配置于鄰接的噴出口18列的各噴出口18配置間的中間位置，來使各噴出口18全體沿排列方向配置成交錯(cuò)狀。另外，配置間距P，若設(shè)噴出口18口徑為d，優(yōu)選為P≤2d。
另外，上述第一構(gòu)件12及第二構(gòu)件15，接合成使在第一構(gòu)件12的水平邊12b下面與第二構(gòu)件15的水平邊15b上面之間，產(chǎn)生規(guī)定高度(尺寸t)的間隙，此間隙構(gòu)成用來連通上述儲液室22與液供給室16的連通路23。另外，如圖5所示，液供給室16的上端位于儲液室22上端的上方。
另外，如圖3所示，在第一構(gòu)件12及第二構(gòu)件15的兩側(cè)端部，分別以襯墊23介于中間來接合結(jié)合構(gòu)件24，由上述儲液室22、連通路23及液供給室16所構(gòu)成的處理液的流路通過上述襯墊20、21、23來密閉。
如圖3至圖5所示，在第一構(gòu)件12的長邊方向大致中央部，形成在其上面及儲液室22開口的供給口14，在此供給口14，借助管接頭35連接供給管36，該供給管36連接于上述處理液供給裝置37，將已加壓的處理液從上述處理液供給裝置37經(jīng)過供給管36、供給口14而供給至上述儲液室22內(nèi)。
根據(jù)具備以上結(jié)構(gòu)的本例的基板處理裝置1，當(dāng)由傳送裝置3沿箭頭T方向傳送的基板W抵達(dá)規(guī)定位置時(shí)，開始由處理液供給裝置37進(jìn)行處理液的供給，已加壓的處理液就從處理液供給裝置37通過供給管36供給至上述噴嘴體11。供給至噴嘴體11的處理液從供給口14流入儲液室22內(nèi)后，依次流經(jīng)連通路23內(nèi)、液供給室16內(nèi)、縱孔17內(nèi)，從配設(shè)為A列及B列的2列的各噴出口18分別噴出，形成一條條線狀液流，全體形成簾狀而流下。
另一方面，由上述傳送裝置3將基板W在上述噴嘴體11的下方沿箭頭T方向繼續(xù)傳送，從上述噴嘴體11形成一條條線狀流下的處理液，作為向基板W的傳送方向延伸的條線狀積存液載置于基板W上。更具體而言，從位于基板W的傳送方向(箭頭T方向)下游側(cè)的A列的噴出口18流下的液流載置于基板W上，接著，從位于上游側(cè)的B列的噴出口18流下的液流載置于基板W上。圖6表示此狀態(tài)。另外，在圖6中，以實(shí)線表示從A列的噴出口18流下的積存液Ra，以虛線表示從B列的噴出口18流下的積存液Rb。
雖根據(jù)A、B各列的噴出口18的配置間距P而定，但如上所述，若將配置間距P設(shè)定為P≤2d，則如圖6所示，從A列的噴出口18流下的處理液(Ra)和從B列的噴出口18流下的處理液(Rb)，在基板W上疊合而兩者混合，通過其表面張力，使處理液薄薄擴(kuò)展在基板W上，如圖7所示，在基板W上形成規(guī)定膜厚的均質(zhì)的處理液膜(R)。
然而，如上所述，現(xiàn)在，玻璃基板等基板W的尺寸逐年增大。為能對基板W全域進(jìn)行均質(zhì)的處理，并且能降低其處理成本，要求以盡量少量的處理液將均勻的膜厚的處理液能涂布于基板W上的技術(shù)。因此，需要使噴出口18的口徑盡量為小徑，并且使其配置間距P盡量狹窄。
然而，如上所述，在現(xiàn)有例中，因噴出口排成一列，故若使其配置間距密集，從各噴出口噴出所流下的液流間距就變成極接近，其結(jié)果是，所鄰接的液流彼此黏接，互相糾纏混合，不但變成帶狀液流流下，而且因其表面張力而使液流的寬度變成縮窄狀態(tài)，產(chǎn)生不能在基板全寬度涂布處理液的問題，另外，產(chǎn)生所涂布的處理液膜厚反而變厚的問題。另一方面，若使配置間距取大，因從各噴出口所噴出的處理液量少，載置于基板上的各積存液就互相不接觸而成為獨(dú)立狀態(tài)，故無法在基板上形成處理液膜。
與此相對，在本例的基板處理裝置1中，因?qū)姵隹?8沿噴嘴體11的長邊方向排列成2列，并且將各列的噴出口18配置于鄰接的噴出口18列的各噴出口18配置間的中間位置，使全體沿排列方向配設(shè)成交錯(cuò)狀，故在噴出口18口徑縮小的情形下，即使將各列的配置間距P不狹窄至必要以上，亦能使2列的噴出口18全體的配置間距狹窄，能使載置于基板W上的各積存液彼此極接近而使兩者接觸的狀態(tài)，能將規(guī)定膜厚的均質(zhì)的處理液膜形成于基板W上。順便說一下，在本例中，具體的各列的配置間距是P，而全體的配置間距是P/2。
另外，為了以少量的處理液能在基板W上形成均質(zhì)的膜厚的處理液膜，所希望的上述各噴出口18的口徑d是0.35mm以上5mm以下，各列的配置間距P是1mm以上10mm以下。
當(dāng)如上所述那樣將處理液涂布在基板W的上面全面后，則停止從處理液供給裝置37供給處理液。此時(shí)，在本例中，因使液供給室16的上端位于儲液室22上端的上方，故填充于儲液室22內(nèi)的處理液重量不會作用于液供給室16內(nèi)的處理液，液供給室16及縱孔17內(nèi)的處理液則利用本身的表面張力停留于該液供給室16及縱孔17內(nèi)。如此，通過如上所述的作用，能防止處理液的供給停止時(shí)處理液從上述噴出口18滴落，防止形成于基板W上的處理液膜的膜厚產(chǎn)生不均勻。
然后，對依次傳送的基板W重復(fù)上述處理，形成處理液膜于各基板W上。
以上雖就本發(fā)明的一實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但本發(fā)明的具體實(shí)施方式
絲毫不限制于此。例如，在上例中，雖將噴出口18及縱孔17配設(shè)成2列，但將這些配設(shè)3列以上的多列也可以。然而，即使是此情形，各列的噴出口18，重要的是配置于鄰接的噴出口18列的各噴出口配置間，來使各噴出口18沿排列方向配設(shè)成交錯(cuò)狀。
另外，在上例是，雖設(shè)置槽狀的液供給室16，在此液供給室16下方穿設(shè)縱孔17而構(gòu)成，但如圖8及圖9所示，亦可不設(shè)置上述液供給室16，而將各縱孔17開口于第二構(gòu)件15的水平邊15b上面，直接連通于上述連通路23而構(gòu)成亦可。如此構(gòu)成，亦能獲得與上例的基板處理裝置1同樣效果。
另外，本發(fā)明的基板處理裝置，亦能構(gòu)成如圖10及圖11所示的形態(tài)。在此情形下，對基板W進(jìn)行的處理液涂布處理，不是連續(xù)處理，而是逐片處理。如圖10及圖11所示，此基板處理裝置50，由下列構(gòu)件等所構(gòu)成支撐旋轉(zhuǎn)裝置51，將基板W支撐成水平，且使之水平旋轉(zhuǎn)；噴嘴裝置10，如上述圖3至圖5所示者，或如圖8及圖9所示者；處理液供給裝置37，供給處理液至該噴嘴裝置10；以及移送裝置60，支撐噴嘴裝置10并沿基板W移動。
上述支撐旋轉(zhuǎn)裝置51，由將基板W真空吸引而水平支撐的旋轉(zhuǎn)夾頭52、支撐此旋轉(zhuǎn)夾頭52的旋轉(zhuǎn)軸53及使旋轉(zhuǎn)軸53以軸中心旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)部54等所構(gòu)成，通過驅(qū)動機(jī)構(gòu)部54的動力，來使旋轉(zhuǎn)軸53及旋轉(zhuǎn)夾頭52旋轉(zhuǎn)，并使支撐于旋轉(zhuǎn)夾頭52的基板W作水平旋轉(zhuǎn)。驅(qū)動機(jī)構(gòu)部54具備分度機(jī)能，將旋轉(zhuǎn)軸53沿其旋轉(zhuǎn)方向的規(guī)定角度作分度，以在旋轉(zhuǎn)前后使旋轉(zhuǎn)夾頭52位于預(yù)先所設(shè)定的旋轉(zhuǎn)角度位置。并且，在如此分度的旋轉(zhuǎn)夾頭52上，以圖11所示的姿勢載置基板W，基板W由該旋轉(zhuǎn)夾頭52吸引、支撐。另外，圖中的符號55是包圍基板W周圍的罩體。
上述移送裝置60，由支撐臂61和移送機(jī)構(gòu)部62等所構(gòu)成，上述支撐臂61支撐噴嘴裝置10，使其長邊方向沿著基板W的寬度方向(箭頭H方向)，上述移送機(jī)構(gòu)部62使該支撐臂61沿著與上述寬度方向(箭頭H方向)正交的箭頭T’方向移動如此，根據(jù)此基板處理裝置50，首先，將基板W載置于旋轉(zhuǎn)夾頭52上，在由該旋轉(zhuǎn)夾頭52吸附、支撐的狀態(tài)下，噴嘴裝置10通過上述移送裝置60沿接近基板W的方向移送。然后，與此同時(shí)，從處理液供給裝置37供給已加壓的處理液至噴嘴裝置10，處理液從其噴出口18流下，涂布處理液于基板W上。接著，在涂布處理液于基板W上面全面后，使噴嘴裝置10回至原位置。
噴嘴裝置10回至原位置后，接著，通過上述驅(qū)動機(jī)構(gòu)部54使基板W水平旋轉(zhuǎn)僅規(guī)定時(shí)間。由此，涂布于基板W上的處理液通過離心力來拉伸為薄，使形成于基板W上的處理液的膜厚更為均質(zhì)。然后，使基板W停止，結(jié)束一連串的處理。
另外，對于可采用本發(fā)明的處理對象的基板來說，未有任何限制，對于液晶玻璃基板、半導(dǎo)體晶片(硅晶片)、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等的各種基板，均能采用本發(fā)明。對處理液亦未有任何限制，可以使用在半導(dǎo)體或液晶的制造工序中所使用的顯影液、抗蝕液、抗蝕層剝離液、蝕刻液、洗凈液(包括純水、臭氧水、含氫水、電解離子水)等各種處理液。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性如上所述，本發(fā)明的噴嘴裝置及具備該噴嘴裝置的基板處理裝置，適合作為在液晶玻璃基板、半導(dǎo)體晶片、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等的基板上均勻地涂布藥液或洗凈液等處理液的裝置。
權(quán)利要求
1.一種噴嘴裝置，具備長形的噴嘴體，從該噴嘴體噴出處理液而涂布于被處理物上，其特征在于所述噴嘴體，具備多個(gè)噴出口，形成于其下面；儲液室，使所供給的處理液滯留；以及，液噴出流路，一方連通于所述各噴出口，另一方連通于所述儲液室，使滯留于所述儲液室的處理液流通至所述噴出口，從所述噴出口噴出；所述噴出口，沿所述噴嘴體的長邊方向排列成多列，并且各列的噴出口配置于鄰接的噴出口列的各噴出口配置間，使各噴出口沿排列方向配設(shè)成交錯(cuò)狀。
2.如權(quán)利要求1所述的噴嘴裝置，其特征在于將所述儲液室與液噴出流路，沿著所述長邊方向平行地并排設(shè)置，將所述液噴出流路的上端配置在所述儲液室的上端的上方，并且，所述儲液室的上端部和所述液噴出流路的上端部由連通路連通。
3.如權(quán)利要求2所述的噴嘴裝置，其特征在于由分別個(gè)別地連通于所述各噴出口的多個(gè)縱孔來構(gòu)成所述液噴出流路，由所述連通路連通各縱孔的上端部和所述儲液室的上端部。
4.如權(quán)利要求2所述的噴嘴裝置，其特征在于由分別個(gè)別地連通于所述各噴出口的多個(gè)縱孔和形成于該縱孔上方且下端部連通于所述縱孔的上端部的液供給室來構(gòu)成所述液噴出流路，由所述連通路連通所述液供給室的上端部和所述儲液室的上端部。
5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的噴嘴裝置，其特征在于所述各噴出口的口徑是0.35mm以上5mm以下，其各列的配置間距是1mm以上10mm以下。
6.一種基板處理裝置，其特征在于包括支撐基板的支撐機(jī)構(gòu)；配設(shè)于所述支撐機(jī)構(gòu)所支撐的基板的上方、將處理液噴出于該基板上的權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的噴嘴裝置；將已加壓的處理液供給至該噴嘴裝置的處理液供給機(jī)構(gòu)；和，使所述噴嘴體和所述支撐機(jī)構(gòu)所支撐的基板沿著與噴嘴體的長邊方向正交的方向相對移動的移動機(jī)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于所述支撐機(jī)構(gòu)及移動機(jī)構(gòu)由滾輪傳送裝置所構(gòu)成，該滾輪傳送裝置具備支撐所述基板的多個(gè)滾輪群，且通過各滾輪的旋轉(zhuǎn)將所述基板施以線性傳送。
8.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于所述支撐機(jī)構(gòu)由載置基板用的載置臺所構(gòu)成，所述移動機(jī)構(gòu)由將所述噴嘴體沿與其長邊方向正交的方向、并沿所述基板進(jìn)行直線移送的移送裝置所構(gòu)成。
9.如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于還具備使所述載置臺進(jìn)行水平旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及能以少量的處理液、而且在基板上形成均勻膜厚的處理液膜的噴嘴裝置及具備該噴嘴裝置的基板處理裝置。噴嘴裝置(10)，具備多個(gè)噴出口(18)，形成于下面；儲液室(22)，使所供給的處理液滯留；以及，液噴出流路(23、17)，一方連通于各噴出口(18)，另一方連通于儲液室(22)，使滯留于儲液室(22)的處理液流通至噴出口(18)，從噴出口(18)噴出。噴出口(18)，沿噴嘴裝置(10)的長邊方向排列成多列，并且各列的噴出口(18)配置于鄰接的噴出口(18)列的各噴出口配置間，使各噴出口(18)沿排列方向配設(shè)成交錯(cuò)狀。
文檔編號H01L21/00GK1582202SQ0182387
公開日2005年2月16日 申請日期2001年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月11日
發(fā)明者赤坂丈士, 水川茂, 村田貴, 中田勝利, 松元俊二 申請人:住友精密工業(yè)株式會社