光學介質(zhì)再現(xiàn)裝置和光學介質(zhì)再現(xiàn)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及用于再現(xiàn)諸如光盤之類的光學介質(zhì)的光學介質(zhì)再現(xiàn)裝置、以及光學介 質(zhì)再現(xiàn)方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有兩種實現(xiàn)光盤高密度化的方法。一種方法是通過縮短信道位長（即標記長 度）而在線密度方向上實現(xiàn)高密度化。另一種方法是通過縮窄軌道間距。然而，當縮窄軌 道間距時，增加了來自相鄰軌道的信息泄露（相鄰軌道串擾）。已提出了一種用于減少相鄰 軌道串擾（在下文中酌情簡稱為串擾）的方法。
[0003] 例如，專利文獻1描述了通過為自適應均衡器單元提供用于待再現(xiàn)軌道以及所 述待再現(xiàn)軌道兩側(cè)的軌道的再現(xiàn)信號，并通過控制自適應均衡器單元的抽頭系數(shù)（tap coefficient)，來消除干擾。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0005] 專利文獻
[0006] 專利文獻1 :日本專利申請公開No. 2012-079385

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 發(fā)明要解決的問題
[0008] 專利文獻1中記載的裝置需要用于同時讀取待再現(xiàn)軌道及其兩側(cè)軌道的三條光 束。需要對所述三條光束讀取出的再現(xiàn)信號的相位進行匹配。可以通過一條光束順序地再 現(xiàn)三個軌道，并同步再現(xiàn)信號。應注意的是，需要用于同步的存儲器。因此，由于光拾取頭 具有復雜結(jié)構(gòu)，相位匹配變得復雜，并且電路尺寸增大，因此專利文獻1中記載的裝置并不 合乎需要。
[0009] 本公開內(nèi)容的一個目的是提供一種通過使用一個軌道的再現(xiàn)信號來消除串擾的 光學介質(zhì)再現(xiàn)裝置和光學介質(zhì)再現(xiàn)方法，以解決上述問題。
[0010] 問題的解決手段
[0011] 為了解決上述問題，本公開內(nèi)容提供了一種用于對其中形成多個軌道的光學介質(zhì) 進行光學再現(xiàn)的光學介質(zhì)再現(xiàn)裝置，包括：
[0012] 檢測單元，用于將從光學介質(zhì)返回的光束的橫截面劃分為多個區(qū)域，并形成所述 多個區(qū)域的各自的檢測信號；
[0013] 多輸入自適應均衡器，所述多輸入自適應均衡器具有多個自適應均衡器單元，其 中所述多個區(qū)域的各自的檢測信號被分別輸入到所述多個自適應均衡器單元中，并且對所 述多個自適應均衡器單元的輸出進行計算以形成均衡信號；
[0014] 二進制化單元，用于將所述均衡信號二進制化，以提供二進制數(shù)據(jù)；以及
[0015] 均衡誤差計算單元，用于根據(jù)來自所述二進制化單元的二進制數(shù)據(jù)而得到的均衡 目標信號、以及從所述多輸入自適應均衡器輸出的均衡信號來確定均衡誤差，并將所述均 衡誤差作為用于自適應均衡的控制信號而提供給所述自適應均衡器單元。
[0016] 發(fā)明效果
[0017] 根據(jù)本公開內(nèi)容，可以通過僅僅使用從待再現(xiàn)軌道中讀取的輸出來消除串擾。不 需要使用三個光束來進行讀取。此外，不需要利用一個光束順序地再現(xiàn)三個軌道并由存儲 器進行同步。有利地，光拾取頭沒有復雜結(jié)構(gòu)，不需要相位匹配，不增加存儲器。以這種方 式，可以以更簡單的結(jié)構(gòu)增加光盤密度。此處所述的效果不是限制性的，而僅僅是為了例證 說明，還可以存在除了此處所述之外的其他效果。
【附圖說明】
[0018] 圖1是示出根據(jù)本公開內(nèi)容一個實施方式的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。.
[0019] 圖2是示出根據(jù)本公開內(nèi)容一個實施方式的光拾取頭的結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0020] 圖3是示出根據(jù)一個實施方式的例證性數(shù)據(jù)檢測處理單元的方框圖。
[0021] 圖4是示出數(shù)據(jù)檢測處理單元中的例證性多輸入自適應均衡器的方框圖。
[0022] 圖5是示出例證性多輸入自適應均衡器的方框圖。
[0023] 圖6是示出均衡誤差計算單元的方框圖。
[0024] 圖7是用于各自圖解區(qū)域劃分的第一實施方式的示意圖。
[0025] 圖8是示出通過劃分為兩個和三個得到的再現(xiàn)性能的圖表。
[0026] 圖9是示出通過劃分為三個和四個得到的再現(xiàn)性能的圖表。
[0027] 圖10是示出通過劃分為四個、五個和六個得到的再現(xiàn)性能的圖表。
[0028] 圖11是用于說明盤在切向方向上的歪斜裕度的圖表。
[0029] 圖12是用于說明盤在徑向方向上的歪斜裕度的圖表，示出了區(qū)域劃分的第三實 施方式，并示出了再現(xiàn)性能。
[0030] 圖13是示出區(qū)域劃分的第二實施方式并示出再現(xiàn)性能的圖表。
[0031] 圖14是示出區(qū)域劃分的第三實施方式并示出再現(xiàn)性能的圖表。
[0032] 圖15是示出區(qū)域劃分的第四實施方式并示出再現(xiàn)性能的圖表。
[0033] 圖16是示出區(qū)域劃分的第五實施方式并示出再現(xiàn)性能的圖表。
[0034] 圖17是示出區(qū)域劃分的第六實施方式并示出再現(xiàn)性能的圖表。
[0035] 圖18是示出區(qū)域劃分的第七實施方式并示出再現(xiàn)性能的圖表。
[0036] 圖19是示出區(qū)域劃分的多種圖案的示意圖。
[0037] 圖20是示出區(qū)域劃分的多種圖案的再現(xiàn)性能的圖表。
[0038] 圖21是示出當線密度改變時的再現(xiàn)性能的圖表。
[0039] 圖22是示出當線密度改變時的再現(xiàn)性能的圖表。
【具體實施方式】
[0040] 下文說明的實施方式僅僅是描述本公開內(nèi)容的優(yōu)選實施方式，并為其增加技術(shù)上 優(yōu)選的各種限定。然而，只要沒有對于本公開內(nèi)容特別限定的描述，則本公開內(nèi)容的范圍不 應該局限于稍后描述的實施方式。
[0041] 將按以下順序描述各實施方式。
[0042] 〈1.實施方式〉
[0043] 〈2.變型例〉
[0044] 〈1.實施方式〉
[0045] [光盤裝置]
[0046] 如圖1所示，適用于本公開內(nèi)容的光盤裝置包括用于在作為光學記錄介質(zhì)的光盤 100上記錄和再現(xiàn)信息的光拾取頭101，以及用于旋轉(zhuǎn)光盤100的主軸電機。為了沿光盤 100的徑向方向移動光拾取頭101，設置螺紋機構(gòu)（進給電動機）103。
[0047] 作為光盤100,可以使用諸如BD(Blu-rayDisc?)之類的高密度光盤。BD是一種高 密度光盤，具有在一個表面的單層上大約25G字節(jié)以及在一個表面的雙層上大約50G字節(jié) 的記錄容量。根據(jù)BD技術(shù)規(guī)范，光源波長是405nm，物鏡的數(shù)值孔徑（NA)可大到0. 85,以減 少光束光點直徑。根據(jù)⑶技術(shù)規(guī)范，光源波長是780nm，NA是0. 45,光點直徑是2. 11μm。 根據(jù)DVD技術(shù)規(guī)范，光源波長是650nm，ΝΑ是0. 6,光點直徑是1. 32μm。根據(jù)BD技術(shù)規(guī)范， 光點直徑可以小到0. 58μm。
[0048] 近年來，已經(jīng)對于BD(Blu-rayDisc?)實際應用BDXL?，BDXL?通過縮短信道位 長（即標記長度）并在線密度方向上實現(xiàn)高密度化，而具有在三層上100GB以及在四層上 128GB的大容量。
[0049] 為了進一步提高記錄容量，一種利用在溝槽（groove)軌道和臺面（land)軌道兩 者上存儲數(shù)據(jù)的方法（稱為臺面/溝槽記錄方法）的光盤是適合需要的。所述溝槽軌道是 由溝槽構(gòu)成的軌道。所述溝槽被定義為當制造光盤時被激光照射的部分。夾在相鄰溝槽之 間的區(qū)域稱為臺面。所述臺面軌道是由臺面構(gòu)成的軌道。在由多個信息記錄層疊置而成的 多層光盤的情形中，可以進一步提高記錄容量。
[0050] 當將能夠執(zhí)行所述高密度記錄的光盤100裝載入光盤裝置中時，在記錄/再現(xiàn)時， 光盤100被主軸電機102以恒線速度（CLV)或者恒角速度（CAV)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。當再現(xiàn)時，光 盤100的軌道上記錄的標記信息被光拾取頭（光學頭）101讀取。當在光盤100上記錄數(shù) 據(jù)時，由光拾取頭101在光盤100的軌道上以相位變化標記或者色素變化標記的方式記錄 用戶數(shù)據(jù)。
[0051 ] 在可記錄盤的情形中，在由擺動溝槽形成的軌道上記錄由相位變化標記形成的記 錄標記。在每一單層具有23. 3GB的BD的情形中，通過RLL(1，7)PP調(diào)制法（RLL;游程長度 受限碼，PP:奇偶校驗保持/禁止rmtr(最小跳變游程重復控制））等等，以0. 12μm/位， 0. 08μm/信道位的線密度記錄相位變化標記。類似地，在具有25GB/層的BD的情形中，記錄 是以0. 0745μm/信道位執(zhí)行的。在具有32GB/層的BDXL?的情形中，記錄是以0. 05826μm/ 信道位執(zhí)行的。在具有33. 4GB/層的BDXL?的情形中，記錄是以0. 05587μm/信道位執(zhí)行 的。依據(jù)盤的類型，以與信道位長相對應的密度執(zhí)行記錄。當通過"T"表示信道時鐘周期時， 標記長度為2T到8T。在只讀盤的情形中，不形成溝槽，而是以壓坑列（embosspitcolumn) 的方式記錄通過RLL(1，7)PP調(diào)制方法調(diào)制的數(shù)據(jù)。
[0052] 在光盤100的內(nèi)周區(qū)域處，通過壓坑或者擺動溝槽記錄只讀管理信息，比如盤的 物理信息等。還通過光拾取頭101執(zhí)行這些信息的讀出。此外，還通過光拾取頭101讀出 作為光盤100上的溝槽軌道擺動而埋設的ADIP信息。
[0053] 光拾取頭101包括作為激光光源的激光二極管，用于檢測反射光的光檢測器，作 為激光的輸出端的物鏡，和用于利用激光經(jīng)由物鏡照射盤記錄表面、并將其反射光引導到 光檢測器的光學系統(tǒng)等。在光拾取頭101內(nèi)，雙軸機構(gòu)在尋軌方向和聚焦方向上可移動地 支撐物鏡。整個光拾取頭101可以通過螺紋機構(gòu)103在盤徑向方向上移動。驅(qū)動電流從激 光驅(qū)動器113饋送到光拾取頭101的激光二極管，由此激光二極管產(chǎn)生激光。
[0054] 來自光盤100的反射光被光檢測器檢測，被轉(zhuǎn)換為與所接收光的光量相對應的電 信號，并被饋送到矩陣電路104。矩陣電路104包括與來自作為光檢測器的多個光接收元件 的輸出電流相對應的電流/電壓變換電路和矩陣計算/放大電路，并通過矩陣計算處理產(chǎn) 生需要的信號?？紤]到信號傳輸質(zhì)量，電流/電壓變換電路可以形成在光檢測器元件內(nèi)。例 如，它產(chǎn)生與再現(xiàn)數(shù)據(jù)相對應的再現(xiàn)信息信號（RF信號），用于伺服控制的聚焦誤差信號， 以及尋軌誤差信號。此外，它產(chǎn)生推挽信號，作為與溝槽的擺動有關(guān)的信號（即，用于檢測 擺動的信號）。
[0055] 從矩陣電路104輸出的再現(xiàn)信息信號被饋送到數(shù)據(jù)檢測處理單元105,聚焦誤差 信號和尋軌誤差信號被饋送到光學塊伺服電路111，推挽信號被饋送到擺動信號處理電路 106〇
[0056] 數(shù)據(jù)檢測處理單元105對再現(xiàn)信息信號執(zhí)