1.一種磁頭清洗裝置，包括用于容置磁頭的清洗箱，和設(shè)置于所述清洗箱內(nèi)的擦拭機構(gòu)，其特征在于，所述擦拭機構(gòu)包括用于定位磁頭擦拭布的定位組件，且所述擦拭機構(gòu)還設(shè)置有正對所述磁頭擦拭布的噴水通道。
2.如權(quán)利要求1所述的磁頭清洗裝置，其特征在于，所述磁頭清洗裝置還包括驅(qū)動所述清洗箱和所述擦拭機構(gòu)移動的驅(qū)動機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述磁頭擦拭布靠近或遠離磁頭。
3.如權(quán)利要求2所述的磁頭清洗裝置，其特征在于，所述噴水通道設(shè)置于所述磁頭擦拭布背離磁頭的一側(cè)，所述驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述磁頭擦拭布向背離磁頭的方向移動。
4.如權(quán)利要求3所述的磁頭清洗裝置，其特征在于，所述驅(qū)動機構(gòu)包括驅(qū)動所述清洗箱和所述擦拭機構(gòu)的X向驅(qū)動單元、Y向驅(qū)動單元、及Z向驅(qū)動單元。
5.如權(quán)利要求1所述的磁頭清洗裝置，其特征在于，所述定位組件包括定位塊和定位柱；若干個所述定位塊的上側(cè)面位于同一平面內(nèi)，且若干所述定位塊呈間隔的設(shè)置，相鄰的兩所述定位塊之間設(shè)置有一所述定位柱，且所述定位柱位于所述定位塊上側(cè)面的下方；所述噴水通道為開設(shè)于所述定位塊并貫穿所述定位塊上側(cè)面的噴水孔。
6.如權(quán)利要求1所述的磁頭清洗裝置，其特征在于，所述清洗箱上側(cè)開設(shè)有供磁頭進入或離開所述清洗箱的開口。
7.如權(quán)利要求1所述的磁頭清洗裝置，其特征在于，所述磁頭清洗裝置還包括用于對磁頭承載裝置進行定位的定位機構(gòu)。
8.一種使用如權(quán)利要求1-7任一項所述的磁頭清洗裝置的磁頭清洗方法，包括步驟：將磁頭置入清洗箱內(nèi)；擦拭機構(gòu)清洗磁頭；將清洗完畢的磁頭取出清洗箱；其特征在于，在“擦拭機構(gòu)清洗磁頭”之后，還包括“經(jīng)噴水通道噴出的水流沖洗磁頭擦拭布”的步驟。
9.如權(quán)利要求8所述的磁頭清洗方法，其特征在于，“經(jīng)噴水通道噴出的水流沖洗磁頭擦拭布”之前，還包括步驟：擦拭機構(gòu)向遠離磁頭的方向移動。
10.一種磁頭清潔機，包括磁頭清洗裝置、DI清潔裝置、空氣烘箱，及輸送裝置，所述輸送裝置驅(qū)動磁頭承載裝置于所述磁頭清洗裝置、所述DI清潔裝置、及所述空氣烘箱間移動；其特征在于，所述磁頭清洗裝置如權(quán)利要求1-7任一項所述。