本發(fā)明涉及一種電子元器件的清潔裝置，尤其涉及一種磁頭清洗裝置及具有該磁頭清洗裝置的磁頭清潔機。

背景技術(shù)：

磁盤的薄膜磁頭若附著有塵埃微粒，會磁效應和光效應影響數(shù)據(jù)存儲磁盤的正常使用，嚴重時還可能會引起薄膜磁頭碎裂，導致薄膜磁頭的嚴重損壞進而導致數(shù)據(jù)存儲磁盤不敷使用。薄膜磁頭的污染物附著是導致現(xiàn)今數(shù)據(jù)存儲磁盤品質(zhì)的重要因素，為此，在磁盤生產(chǎn)過程中，薄膜磁頭的清潔是不可或缺的重要工序。

目前的薄膜磁頭清潔過程中，通常包括將薄膜磁頭通過由機械驅(qū)動的擦拭布往復擦拭磁頭表面進行物理清潔、輔以清潔劑的化學清潔作用，以達到清潔的目的。但是，長時間工作的擦拭布在將薄膜磁頭表面的塵埃微粒拭去后，塵埃微粒會附著于擦拭布，并當擦拭布繼續(xù)擦拭薄膜磁頭時，附著于擦拭布的塵埃微粒會對薄膜磁頭產(chǎn)生劃損，嚴重影響磁頭的清洗效果。

為此，需要一種改進的磁頭清洗裝置，通過磁頭清洗裝置的結(jié)構(gòu)改進達到改善磁頭清洗效果的目的。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種改進的磁頭清洗裝置，通過磁頭清洗裝置的結(jié)構(gòu)改進達到改善磁頭清洗效果的目的。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明公開了一種磁頭清洗裝置，包括用于容置磁頭的清洗箱，和設(shè)置于所述清洗箱內(nèi)的擦拭機構(gòu)，所述擦拭機構(gòu)包括用于定位磁頭擦拭布的定位組件，且所述擦拭機構(gòu)還設(shè)置有正對所述磁頭擦拭布的噴水通道。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的磁頭清洗裝置，于擦拭機構(gòu)內(nèi)還設(shè)置有正對磁頭擦拭布的噴水通道，該噴水通道通過對磁頭擦拭布噴灑具有沖擊力的水流，利用水流及時去除附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒，提高磁頭擦拭布的清潔度，避免附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒在磁頭擦拭布擦拭磁頭時對薄膜磁頭產(chǎn)生劃損，從而提高磁頭清洗裝置的清潔效果、保證清洗后的磁頭品質(zhì)穩(wěn)定可靠。本發(fā)明提供的磁頭清洗裝置，通過增設(shè)一噴水通道，即可達到保證磁頭清潔效果、改善磁頭品質(zhì)的目的，結(jié)構(gòu)簡單且效果較佳。

較佳的，所述磁頭清洗裝置還包括驅(qū)動所述清洗箱和所述擦拭機構(gòu)移動的驅(qū)動機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述磁頭擦拭布靠近或遠離磁頭；驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動磁頭擦拭布靠近磁頭時，磁頭擦拭布貼近磁頭以物理摩擦磁頭、去除附著于磁頭表面的塵埃微粒，磁頭擦拭布遠離磁頭時，經(jīng)噴水通道噴出的水流沖擊磁頭擦拭布，使得附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒脫離磁頭擦拭布，以保證經(jīng)過清洗后的磁頭的品質(zhì)。

較佳的，所述噴水通道設(shè)置于所述磁頭擦拭布背離磁頭的一側(cè)，所述驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述磁頭擦拭布向背離磁頭的方向移動；附著于磁頭的塵埃微粒在磁頭擦拭布擦拭磁頭的過程中，在物理作用下脫離磁頭、附著于磁頭擦拭布朝向磁頭的一側(cè)；噴水通道設(shè)置于磁頭擦拭布背離磁頭的一側(cè)，因而經(jīng)由噴水通道噴出的水流以塵埃微粒進入磁頭擦拭布的方向的反向沖擊磁頭擦拭布，從而使得附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒更加容易脫離磁頭擦拭布。

較佳的，所述驅(qū)動機構(gòu)包括驅(qū)動所述清洗箱和所述擦拭機構(gòu)的X向驅(qū)動單元、Y向驅(qū)動單元、及Z向驅(qū)動單元；X向驅(qū)動單元、Y向驅(qū)動單元、及Z向驅(qū)動單元的其中一者驅(qū)動磁頭擦拭布向背離磁頭的方向移動，X向驅(qū)動單元、Y向驅(qū)動單元、及Z向驅(qū)動單元的剩余兩者用于驅(qū)動磁頭擦拭布沿磁頭表面發(fā)生物理摩擦，以去除磁頭表面的塵埃微粒；本領(lǐng)域人員可以根據(jù)X向驅(qū)動單元、Y向驅(qū)動單元、及Z向驅(qū)動單元根據(jù)磁頭清洗裝置的布局具體劃分其功能。

較佳的，所述定位組件包括定位塊和定位柱；若干個所述定位塊的上側(cè)面位于同一平面內(nèi)，且若干所述定位塊呈間隔的設(shè)置，相鄰的兩所述定位塊之間設(shè)置有一所述定位柱，且所述定位柱位于所述定位塊上側(cè)面的下方；所述噴水通道為開設(shè)于所述定位塊并貫穿所述定位塊的上側(cè)面的噴水孔；于定位塊開設(shè)貫穿上側(cè)面的噴水孔，其結(jié)構(gòu)非常簡單，且穩(wěn)定可靠。

較佳的，所述清洗箱上側(cè)開設(shè)有供磁頭進入或離開所述清洗箱的開口。

較佳的，所述磁頭清洗裝置還包括用于對磁頭承載裝置進行定位的定位機構(gòu)。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還提供了一種使用如前任一項所述的磁頭清洗裝置的磁頭清洗方法，包括步驟：將磁頭置入清洗箱內(nèi)；擦拭機構(gòu)清洗磁頭；將清洗完畢的磁頭取出清洗箱；在“擦拭機構(gòu)清洗磁頭”之后，還包括“經(jīng)噴水通道噴出的水流沖洗磁頭擦拭布”的步驟。

在于擦拭機構(gòu)清洗磁頭之后，磁頭擦拭布附著有塵埃顆粒，附著有塵埃顆粒的磁頭擦拭布繼續(xù)擦拭磁頭時，附著于磁頭擦拭布的塵埃微?？赡軙Ρ∧ご蓬^產(chǎn)生劃損。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的磁頭清洗方法，在“擦拭機構(gòu)清洗磁頭”之后，還包括“經(jīng)噴水通道噴出的水流沖洗磁頭擦拭布”的步驟，利用水流及時去除附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒，提高磁頭擦拭布的清潔度，從而使得清洗后的磁頭品質(zhì)穩(wěn)定可靠。

進一步的，“經(jīng)噴水通道噴出的水流沖洗磁頭擦拭布”之前，還包括步驟：擦拭機構(gòu)向遠離磁頭的方向移動；擦拭機構(gòu)向遠離磁頭的方向移動，使得在之后進行的“經(jīng)噴水通道噴出的水流沖洗磁頭擦拭布”的過程中，磁頭擦拭布和磁頭呈間隔的設(shè)置，水流可以充分沖擊磁頭擦拭布，將附著于磁頭擦拭布的塵埃顆粒去除干凈。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還提供了一種磁頭清潔機，包括磁頭清洗裝置、DI清潔裝置、空氣烘箱，及輸送裝置，所述輸送裝置驅(qū)動磁頭承載裝置于所述磁頭清洗裝置、所述DI清潔裝置、所述空氣烘箱間移動；其中，所述磁頭清洗裝置如前任一項所述。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的磁頭清潔機，通過改進磁頭清洗裝置的結(jié)構(gòu)、于擦拭機構(gòu)內(nèi)增設(shè)噴水通道，該噴水通道通過對磁頭擦拭布噴灑具有沖擊力的水流，利用水流及時去除附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒，提高磁頭擦拭布的清潔度，避免附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒在磁頭擦拭布擦拭磁頭時對薄膜磁頭產(chǎn)生劃損，從而提高磁頭清洗裝置的清潔效果、保證清洗后的磁頭品質(zhì)穩(wěn)定可靠。本發(fā)明提供的磁頭清潔機，通過增設(shè)一噴水通道，即可達到保證磁頭清潔效果、改善磁頭品質(zhì)的目的，結(jié)構(gòu)簡單且效果較佳。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提供的磁頭清潔機的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明提供的磁頭清潔機去除外部殼體后的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本發(fā)明提供的磁頭清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為本發(fā)明提供的磁頭清洗裝置另一角度上的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5為圖3中A-A方向的剖視圖。

圖6為圖5中B部的放大圖。

圖7為本發(fā)明提供的磁頭清洗裝置的分解示意圖。

具體實施方式

為詳細說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實施方式并配合附圖詳予說明。

如圖1和圖2所示，本發(fā)明提供的磁頭清潔機，包括磁頭清洗裝置100、DI清潔裝置200、空氣烘箱300，及輸送裝置400，輸送裝置400驅(qū)動磁頭承載裝置800于磁頭清洗裝置100、DI清潔裝置200、空氣烘箱300間移動。結(jié)合圖3-圖7所示，更具體地：

如圖1所示，磁頭清潔機由外殼500包覆形成一大型的框體結(jié)構(gòu)，其能夠?qū)Υ蓬^進行自動化清洗作業(yè)。可以理解的，外殼500上還開設(shè)有供作業(yè)人員操控磁頭清潔機進行清潔作業(yè)的人機界面、用于方便檢修和多個開閉門、用于顯示磁頭清潔機工作狀態(tài)的狀態(tài)燈等。

圖2所示為去除外殼500后的磁頭清潔機的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。該示意圖主要為顯示磁頭清潔機的主要內(nèi)部構(gòu)件和排布，故非重要構(gòu)件或公知構(gòu)件，如控制箱、電機、調(diào)速器等，在圖2中未加以顯示。

如圖2所示，磁頭清潔機包括呈依次線性排布的磁頭上料位600、磁頭清洗裝置100、DI清潔裝置200、空氣烘箱300、及磁頭下料位700，輸送裝置400設(shè)置于磁頭清潔機的一側(cè)，通過夾具和傳送帶以將磁頭依次于磁頭上料位600、磁頭清洗裝置100、DI清潔裝置200、空氣烘箱300、及磁頭下料位700間移動。其中，輸送裝置400將磁頭上料位600的磁頭移送至磁頭清洗裝置100內(nèi)實現(xiàn)清洗、將經(jīng)由磁頭清洗裝置100清洗過的磁頭移送至DI清潔裝置200進行進一步清潔、將經(jīng)由DI清潔裝置200清潔過的磁頭移送至空氣烘箱300進行烘干、將經(jīng)由空氣烘箱300烘干的磁頭移送至磁頭下料位700，以實現(xiàn)下料。進一步的，外殼500正對磁頭上料位600的一側(cè)開設(shè)有放料口510、外殼500正對磁頭下料位700的一側(cè)開設(shè)有取料口(圖中未示)。

可以理解的，為增加磁頭清洗效率和磁頭清洗性能，磁頭并非單獨地設(shè)置，結(jié)合圖2所示，若干個磁頭由磁頭承載裝置800所限位，并由磁頭承載裝置800限位的若干個磁頭連同磁頭承載裝置800作為一整體于磁頭清潔機內(nèi)被輸送裝置400于磁頭清潔機內(nèi)移動、清洗、清潔、烘干。

本發(fā)明提供的磁頭清潔機，其改進點在于磁頭清洗裝置100。結(jié)合圖3-圖7所示的磁頭清洗裝置100，包括用于容置磁頭的清洗箱110，和設(shè)置于清洗箱110內(nèi)的擦拭機構(gòu)120，擦拭機構(gòu)120包括用于定位磁頭擦拭布的定位組件121；本發(fā)明提供的磁頭清洗裝置100，于擦拭機構(gòu)120設(shè)置有正對磁頭擦拭布的噴水通道122。該噴水通道122通過對磁頭擦拭布噴灑具有沖擊力的水流，利用水流及時去除附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒，提高磁頭擦拭布的清潔度，避免附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒在磁頭擦拭布擦拭磁頭時對薄膜磁頭產(chǎn)生劃損，從而提高磁頭清洗裝置100的清潔效果、保證清洗后的磁頭品質(zhì)穩(wěn)定可靠。

如圖3和圖4所示，磁頭清洗裝置100包括清洗箱110、設(shè)置于清洗箱110內(nèi)的擦拭機構(gòu)120、及驅(qū)動清洗箱110和擦拭機構(gòu)120移動的驅(qū)動機構(gòu)130。其中，清洗箱110具有向上的開口111，以供磁頭承載裝置800上下移動進入或離開清洗箱110；擦拭機構(gòu)120設(shè)置于清洗箱110內(nèi)，且擦拭機構(gòu)120與清洗箱110呈相對固定地設(shè)置。驅(qū)動機構(gòu)130包括驅(qū)動清洗箱110和擦拭機構(gòu)120的X向驅(qū)動單元131、Y向驅(qū)動單元132、及Z向驅(qū)動單元133。在本實施例中，如圖4所示，Z向驅(qū)動單元133固定設(shè)置于磁頭清潔機的機架上，Z向驅(qū)動單元133的輸出端固定連接有清洗箱110，Z向驅(qū)動單元133用于驅(qū)動清洗箱110和設(shè)置于清洗箱110內(nèi)的擦拭機構(gòu)120靠近或遠離磁頭承載裝置800，以使得擦拭機構(gòu)120的磁頭擦拭布貼近或遠離磁頭；如圖3所示，X向驅(qū)動單元131和Y向驅(qū)動單元132用于驅(qū)動清洗箱110和設(shè)置于清洗箱110內(nèi)的擦拭機構(gòu)120于平行于磁頭承載裝置800的平面內(nèi)移動，以使得磁頭擦拭布沿磁頭表面發(fā)生物理摩擦，去除磁頭表面的塵埃微粒。當然，本領(lǐng)域人員可以根據(jù)X向驅(qū)動單元131、Y向驅(qū)動單元132、及Z向驅(qū)動單元133根據(jù)磁頭清洗裝置100的布局具體劃分其功能。該X向驅(qū)動單元131、Y向驅(qū)動單元132、及Z向驅(qū)動單元133可以為氣缸或液壓缸。

可以理解的，伸入清洗箱110內(nèi)以進行磁頭清洗的磁頭承載裝置800于空間內(nèi)的位置應當呈固定的、磁頭承載裝置800應當不被X向驅(qū)動單元131、Y向驅(qū)動單元132、及Z向驅(qū)動單元133所驅(qū)動，如此方可使得磁頭承載裝置800定位的磁頭與磁頭擦拭布發(fā)生相對位移，進而實現(xiàn)前述功能。在本實施例中，磁頭清洗裝置100還包括用于對磁頭承載裝置800進行定位的定位機構(gòu)140。具體地，如圖3所示，磁頭清潔裝置200的上側(cè)、于清洗箱110的外緣側(cè)，還設(shè)置有一平板結(jié)構(gòu)，該平板結(jié)構(gòu)脫離清洗箱110及驅(qū)動機構(gòu)130的設(shè)置，且該平板結(jié)構(gòu)被磁頭清潔機的機架所固定；該平板結(jié)構(gòu)構(gòu)成定位磁頭承載裝置800的定位機構(gòu)140。

在不同于本實施例的其他實施例中，亦可以設(shè)置為擦拭機構(gòu)120為固定的、磁頭承載裝置800相對磁頭擦拭機構(gòu)120于平面內(nèi)移動實現(xiàn)擦拭、磁頭承載裝置800相對磁頭擦拭機構(gòu)120豎直方向內(nèi)移動實現(xiàn)靠近或遠離磁頭擦拭布。該技術(shù)方案同樣可以實現(xiàn)本發(fā)明所要達到的技術(shù)效果，

結(jié)合圖5-圖7所示，擦拭機構(gòu)120設(shè)置于清洗箱110內(nèi)、磁頭承載裝置800經(jīng)由清洗箱110上側(cè)的開口111進入或離開清洗箱110，當磁頭承載裝置800進入清洗箱110內(nèi)時，磁頭承載裝置800位于擦拭機構(gòu)120的上方、被磁頭承載裝置800所定位的若干個磁頭正對被擦拭機構(gòu)120所定位的磁頭擦拭布，且磁頭與磁頭擦拭布相貼。

請參閱圖5和圖6所示，擦拭機構(gòu)120包括一平板狀結(jié)構(gòu)，于該平板狀結(jié)構(gòu)上設(shè)置有定位槽121a和定位柱121b；若干個定位槽121a的上側(cè)面位于同一平面內(nèi)，且若干定位槽121a呈間隔的設(shè)置，相鄰的兩定位槽121a之間設(shè)置有一定位柱121b，且定位柱121b位于定位槽121a上側(cè)面的下方；如圖6所示，磁頭擦拭布于定位槽121a的上側(cè)面相貼，且磁頭擦拭布依次繞接于定位柱121b，因而磁頭擦拭布被若干個定位槽121a的上側(cè)面限位形成非連續(xù)的磁頭擦拭布平面，以擦拭被磁頭承載裝置800所限位的磁頭表面。

進一步的，本發(fā)明提供的磁頭清洗裝置100，于擦拭機構(gòu)120內(nèi)還設(shè)置有正對磁頭擦拭布的噴水通道122。如圖6所示，噴水通道122為開設(shè)于定位槽121a并貫穿定位柱121b的上側(cè)面的噴水孔122；當Z向驅(qū)動單元133驅(qū)動擦拭機構(gòu)120向上移動時，非連續(xù)的磁頭擦拭布平面與被磁頭承載裝置800所定位的若干個磁頭相貼合，在X向驅(qū)動單元131和Y向驅(qū)動單元132的驅(qū)動下，磁頭擦拭布于平行于磁頭承載裝置800的平面內(nèi)移動、摩擦去除輔助于磁頭表面的塵埃顆粒；當Z向驅(qū)動單元133驅(qū)動擦拭機構(gòu)120向下移動時，非連續(xù)的磁頭擦拭布平面與被磁頭承載裝置800所定位的若干個磁頭相間隔，噴水通道122噴出的水流沖擊正對定位槽121a的上側(cè)面的磁頭擦拭布，利用水流及時去除附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒，提高磁頭擦拭布的清潔度，避免附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒在磁頭擦拭布擦拭磁頭時對薄膜磁頭產(chǎn)生劃損。

結(jié)合圖1-圖7所示，對本發(fā)明提供的磁頭清潔機的工作過程做一詳細說明：

如圖1和圖2所示，人工或外力器械將定位有磁頭的磁頭承載裝置800經(jīng)由外殼500的放料口510上料至磁頭上料位600；輸送裝置400將進入磁頭承載裝置800經(jīng)由清洗箱110上側(cè)開口111進入清洗箱110內(nèi)；

Z向驅(qū)動單元133驅(qū)動擦拭機構(gòu)120向上移動，非連續(xù)的磁頭擦拭布平面與被磁頭承載裝置800所定位的若干個磁頭相貼合，在X向驅(qū)動單元131和Y向驅(qū)動單元132的驅(qū)動下，磁頭擦拭布于平行于磁頭承載裝置800的平面內(nèi)移動、摩擦去除輔助于磁頭表面的塵埃顆粒；

清理告一階段后，Z向驅(qū)動單元133驅(qū)動擦拭機構(gòu)120向下移動，非連續(xù)的磁頭擦拭布平面與被磁頭承載裝置800所定位的若干個磁頭相間隔，噴水通道122噴出的水流沖擊正對定位槽121a的上側(cè)面的磁頭擦拭布，利用水流及時去除附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒。

待定位有磁頭的磁頭承載裝置800經(jīng)由清洗箱體110清洗完畢后，輸送裝置400驅(qū)動磁頭承載裝置800經(jīng)由清洗箱110上側(cè)開口111離開清洗箱110，并驅(qū)動依次經(jīng)由移送至DI清潔裝置200進行進一步清潔、將經(jīng)由DI清潔裝置200清潔過的磁頭移送至空氣烘箱300進行烘干、將經(jīng)由空氣烘箱300烘干的磁頭移送至磁頭下料位700，以便外力經(jīng)由外殼500的取料口將清潔完畢磁頭連同磁頭承載裝置800一起取出。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的磁頭清潔機，通過改進磁頭清洗裝置100的結(jié)構(gòu)、于擦拭機構(gòu)120內(nèi)增設(shè)噴水通道122，該噴水通道122通過對磁頭擦拭布噴灑具有沖擊力的水流，利用水流及時去除附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒，提高磁頭擦拭布的清潔度，避免附著于磁頭擦拭布的塵埃微粒在磁頭擦拭布擦拭磁頭時對薄膜磁頭產(chǎn)生劃損，從而提高磁頭清洗裝置100的清潔效果、保證清洗后的磁頭品質(zhì)穩(wěn)定可靠。本發(fā)明提供的磁頭清潔機，通過增設(shè)一噴水通道122，即可達到保證磁頭清潔效果、改善磁頭品質(zhì)的目的，結(jié)構(gòu)簡單且效果較佳。

以上所揭露的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，當然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，因此依本發(fā)明申請專利范圍所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。