專利名稱：磁記錄介質(zhì)用玻璃素板以及磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁記錄介質(zhì)用玻璃素板和使用該素板的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法。
背景技術(shù)：
近年,在磁記錄介質(zhì)、尤其是磁盤存儲器中，正在推進(jìn)快速的高記錄密度化。磁盤存儲器是通過使磁頭略微露出到高速旋轉(zhuǎn)的記錄介質(zhì)(磁盤)上進(jìn)行掃描而實(shí)現(xiàn)隨機(jī)存取，為了兼具高記錄密度和高速存取，希望降低磁盤和磁頭的間隔(磁頭露出量)以及提高磁盤的轉(zhuǎn)數(shù)。目前主流的磁盤基材是在鋁(Al)上鍍了鎳磷(Ni-P)的基板，但是，發(fā)展趨勢是使用玻璃基板，玻璃基板比鋁合金基板硬，磁頭對基板表面的耐沖擊性優(yōu)異，平坦性和平滑性優(yōu)異。降低磁頭的浮上量時，如果磁頭的主平面不是平滑的面，存在磁頭接觸主平面發(fā)生障礙的擔(dān)憂。此外，如果磁盤的主平面的表面粗糙度大、與磁頭的距離變動時，則存在讀取和寫入的可靠性下降的問題。進(jìn)而，如果主平面上有傷痕等缺陷，則有讀取和寫入量下降的擔(dān)憂，因此，需要的是在主平面上沒有傷痕等缺陷的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。通常，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板經(jīng)過以下工序制造按照以下工序?qū)⒉Ａ匕迩袛嗉庸こ梢子诩庸さ男螤畹墓ば?；加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的圓盤形狀加工工序；磨削加工圓盤形狀基板的內(nèi)周端部和外周端部的倒角工序；研磨倒角后的內(nèi)周端部和/或外周端部的端面研磨工序；研磨端面研磨后的玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；以及清洗玻璃基板、提高清潔度的清洗工序等。根據(jù)需要，可以在所述各工序間設(shè)置清洗玻璃基板的工序、蝕刻玻璃基板的工序。這樣的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造中，在主平面研磨工序前的加工工序中，進(jìn)行使多片玻璃基板的主平面之間重合或者直接保持主平面，那樣的重合和保持時，容易發(fā)生玻璃碎片或異物的夾雜。因此，存在玻璃基板的主平面上容易產(chǎn)生傷痕等缺陷的問題。通常，玻璃基板的主平面上產(chǎn)生的傷痕等缺陷可以通過在主平面研磨工序中研磨主平面來除去，但是，由于因夾雜異物等產(chǎn)生的傷痕的深度不是一定的，因此，深的傷痕在主平面研磨工序中不能被完全除去，存在傷痕等缺陷殘留在產(chǎn)品中，降低產(chǎn)品的產(chǎn)率的擔(dān)憂。此外，為了除去因夾雜異物產(chǎn)生的深傷痕等缺陷，有必要增大主平面研磨工序中的研磨量，且增大研磨量時，為了確保作為產(chǎn)品的規(guī)定的板厚，有必要增加玻璃素板的板厚。因此，存在材料的損失大，且研磨工序等作業(yè)消耗時間的問題。—直以來，為了防止板玻璃的制造、搬送、運(yùn)送、加工工序中產(chǎn)生傷痕等缺陷，有人提出用亞硫酸氣體等處理玻璃板，在表面形成由硫酸鹽等無機(jī)鹽類構(gòu)成的被膜的方法(例如，參考專利文獻(xiàn)I)。但是，即使想將專利文獻(xiàn)I中記載的方法用于防止在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板制造工序中的所述傷痕等缺陷，由于被膜的厚膜非常薄，不能充分防止由于玻璃基板主平面的異物夾雜等引起的傷痕等缺陷。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :國際公開W02002/051767號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的技術(shù)問題本發(fā)明是為了解決所述問題而完成的發(fā)明，目的是提供能夠以良好的產(chǎn)率獲得防止主平面研磨工序前產(chǎn)生的傷痕等缺陷、尤其是防止由于異物夾雜等產(chǎn)生的傷痕等缺陷、主平面的平滑性優(yōu)異的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板、以及磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法。解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板，是用于形成在中央部具有圓孔的圓盤形狀的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的、具有主平面和側(cè)面的玻璃素板，其特征在于，在至少一個主平面上，具有含有樹脂的保護(hù)膜。本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板中，優(yōu)選所述保護(hù)膜具有在中央部有圓形孔部的圓環(huán)形的平面形狀。此外，所述保護(hù)膜優(yōu)選具有O. Olmm O. 5mm的膜厚。本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法具有準(zhǔn)備具有主平面和側(cè)面的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序；將所述磁記錄介質(zhì)用玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的賦形工序；研磨所述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；和所述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序具有在玻璃素板的至少一個主平面上形成含有樹脂的保護(hù)膜、制成磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的保護(hù)膜形成工序。本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法中，所述保護(hù)膜形成工序具有在所述玻璃素板的至少一個主平面上印刷或涂布含有液態(tài)固化性樹脂的組合物的工序；和使該印刷層或涂布層固化的工序。此外，所述保護(hù)膜形成工序可以具有在所述玻璃素板的至少一個主平面上貼合含有樹脂的保護(hù)膜的工序。在所述保護(hù)膜形成工序中形成的所述保護(hù)膜優(yōu)選具有在中央部有圓形孔部的圓環(huán)形的平面形狀。此外，所述保護(hù)膜形成工序中形成的所述保護(hù)膜優(yōu)選具有O. Olmm O. 5mm的膜厚。進(jìn)而，優(yōu)選在所述賦形工序和所述主平面研磨工序之間具有除去所述保護(hù)膜的保護(hù)膜除去工序。本說明書中，將保護(hù)膜形成前的玻璃板記為“玻璃素板”。此外，將在該“玻璃素板”的主平面上形成了保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)的記為“磁記錄介質(zhì)用玻璃素板”，“玻璃素板”和“磁記錄介質(zhì)用玻璃素板”區(qū)別記載。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板和磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，可以以良好的產(chǎn)率獲得防止在主平面研磨工序前產(chǎn)生的傷痕等缺陷、主平面的平滑性優(yōu)異、沒有凹形缺陷的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。此外，能夠降低供給制造磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板和玻璃素板的厚度，減少研磨量，實(shí)現(xiàn)降低材料損失和提高生產(chǎn)率。


圖I通過本發(fā)明制造的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的剖面立體圖。圖2表示本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的一個實(shí)施方式的平面圖。圖3表示本發(fā)明的實(shí)施方式中印刷保護(hù)膜形成用樹脂材料的方法的一例的圖。圖4表示本發(fā)明的實(shí)施方式中通過印刷等形成的樹脂組合物的固化方法的一例的圖。圖5表示本發(fā)明的實(shí)施例例I 3的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法的流程圖。圖6表示本發(fā)明的實(shí)施例例4 6的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法的流程圖。圖7表示本發(fā)明的實(shí)施例例7 9的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法的流程圖。圖8表示本發(fā)明的實(shí)施例例10和比較例例11的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式以下，說明實(shí)施本發(fā)明的方式，但本發(fā)明不受以下記載的實(shí)施方式的限制。<磁記錄介質(zhì)用玻璃素板>本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板是用于制造在中央部具有圓孔的圓盤形狀的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的玻璃素板。首先，將使用本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板制造的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的一例示于圖I。圖I所示的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板10具有在中央部有圓形貫通孔即圓孔11的圓盤形狀，具有由圓孔11的內(nèi)壁面即內(nèi)周側(cè)面101和外周側(cè)面102、以及上下I對主平面103構(gòu)成的圓盤形狀。此外，在內(nèi)周側(cè)面101和上下兩個主平面103的交叉部以及外周側(cè)面102和上下兩個主平面103的交叉部分別形成倒角部104 (內(nèi)周面倒角部和外周面倒角部)。本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的一例示于圖2。圖2所示的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板20具有上下一對主平面和側(cè)面，在至少一個主平面21上具有含有樹脂的保護(hù)膜22。構(gòu)成保護(hù)膜22的樹脂可以例舉液態(tài)的、在涂布后形成固化膜的固化型樹脂，例如，熱固化性樹脂、光固化型樹脂等反應(yīng)固化型樹脂。從固化作業(yè)的安全性、作業(yè)環(huán)境、操作容易性等觀點(diǎn)，優(yōu)選光固化型樹脂，更優(yōu)選可見光固化型樹脂。此外，優(yōu)選固化物對玻璃的粘結(jié)性(密合性)良好且易于剝離的樹脂，與在有機(jī)溶劑中剝離的類型相比，優(yōu)選在水或溫水中能夠剝離的樹脂。此外，含有樹脂的保護(hù)膜22可以貼合樹脂膜形成。關(guān)于用于形成保護(hù)膜22的優(yōu)選樹脂材料以及保護(hù)膜22的形成方法將在后述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法項下說明。保護(hù)膜22的平面形狀如圖2所示，優(yōu)選中央部具有圓形孔部的圓環(huán)形，即甜甜圈形。此外，所述甜甜圈形保護(hù)膜22的外徑尺寸和圓形孔部的內(nèi)徑尺寸優(yōu)選均與后述的圓形加工工序后的玻璃基板的主平面的外徑尺寸和內(nèi)徑尺寸相同，更優(yōu)選與倒角加工后的上述尺寸相同。進(jìn)而，出于主平面研磨前的加工工序中不用削掉保護(hù)膜、加工作業(yè)性良好，而且保護(hù)膜材料的損失成分少的理由，特別優(yōu)選保護(hù)膜22的外徑尺寸和圓形孔部的內(nèi)徑尺寸與最終產(chǎn)品磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的所述尺寸相同。保護(hù)膜22不限定于無間隙地被覆所述甜甜圈形等平面區(qū)域的所謂β標(biāo)準(zhǔn)膜形的膜，也可以為以格柵狀或點(diǎn)狀等小尺寸的圖案蓋住該平面區(qū)域的膜。以格柵狀或點(diǎn)狀等圖案形成甜甜圈形狀的保護(hù)膜22，在主平面的保護(hù)這一點(diǎn)上遜色于所述β標(biāo)準(zhǔn)膜形的保護(hù)膜，但是具有易于剝離且能夠降低樹脂等保護(hù)膜材料的使用量這些優(yōu)點(diǎn)。保護(hù)膜22的膜厚優(yōu)選O. Olmm O. 5mm。保護(hù)膜22的膜厚不足O. Olmm時，有不能充分防止玻璃碎片或異物的夾雜等引起的主平面的傷痕等缺陷的擔(dān)憂。此外，膜厚超過O. 5mm時，存在除去保護(hù)膜22較為耗時，形成保護(hù)膜22的樹脂材料的固化較為耗時等問題的擔(dān)憂。此外，在從保護(hù)膜22的形成到主平面研磨之間實(shí)施的其他加工工序(例如，端面研磨工序等)中也存在產(chǎn)率下降的擔(dān)憂。保護(hù)膜22的膜厚優(yōu)選O. 05mm O. 5mm,更優(yōu)選
O.05mm O. 4mm,特別優(yōu)選 O. 06mm O. 2mm。這樣，通過使用在玻璃素板的至少一個主平面上具有含有樹脂的保護(hù)膜的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板，按照下述方法制造磁記錄介質(zhì)用玻璃基板，可以以良好的產(chǎn)率獲得防止在主平面研磨工序前發(fā)生的傷痕等缺陷、具有平滑性優(yōu)異的主平面的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。此外，可以降低玻璃素板的厚度、減少研磨量，實(shí)現(xiàn)降低玻璃材料等的損失和縮短研磨時間等帶來的產(chǎn)率的提高?！创庞涗浗橘|(zhì)用玻璃基板的制造方法〉本發(fā)明的實(shí)施方式涉及的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法具有(I)磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序、(2)賦形工序、(3)端面研磨工序、(4)保護(hù)膜除去工序、(5)主平面研磨工序、和(6)清洗工序。其特征在于，(I)磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序具有在玻璃素板的至少一個主平面上形成含有樹脂的保護(hù)膜的保護(hù)膜形成工序(la)。實(shí)施方式的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法中，可以在各工序之間實(shí)施玻璃基板的清洗(工序間清洗)和玻璃基板表面(玻璃基板的部分或全部表面(例如，主平面、內(nèi)周端面和外周端面中的至少一部分))的蝕刻(工序間蝕刻)。此外，要求磁記錄介質(zhì)用玻璃基板具有高機(jī)械強(qiáng)度時，可以在主平面研磨工序前或主平面研磨工序后，或者主平面研磨工序之間(一次研磨和二次研磨之間或二次研磨和三次研磨之間)實(shí)施在玻璃基板的表層形成強(qiáng)化層的強(qiáng)化工序(例如，化學(xué)強(qiáng)化工序)。下面對各工序進(jìn)行說明。( I)磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序(I)磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序是準(zhǔn)備具有主平面和側(cè)面、在至少一個主平面上具有含有樹脂的保護(hù)膜的玻璃素板即磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的工序，具有在玻璃素板表面形成保護(hù)膜的保護(hù)膜形成工序(Ia)和將在表面上形成了保護(hù)膜的玻璃素板切斷為規(guī)定的尺寸的切斷工序(lb)。構(gòu)成玻璃素板的玻璃可以是無定形玻璃也可以是晶體玻璃，還可以是表層具有強(qiáng)化層的強(qiáng)化玻璃(例如，化學(xué)強(qiáng)化玻璃)。此外，玻璃素板可以是通過浮法成形的玻璃素板也可以是通過熔融法、下拉法(down draw)、再曳引(redraw)法、棍壓法或加壓成形法成形的玻璃素板。(Ia)保護(hù)膜形成工序保護(hù)膜形成工序中，在玻璃素板的至少一個主平面上形成含有樹脂的保護(hù)膜。保護(hù)膜可以形成在玻璃素板的一個主平面上，優(yōu)選在兩個主平面上形成保護(hù)膜。構(gòu)成保護(hù)膜的樹脂可以例舉熱固化型樹脂、光固化型樹脂等固化型樹脂。這些固化型樹脂中，作為光固化性樹脂可以例舉可見光固化型樹脂和紫外線固化型樹脂?？梢姽夤袒蜆渲唧w可以例舉丙烯酸類樹脂、聚硫醇改性丙烯酸類樹脂等，紫外線固化型樹脂可以例舉環(huán)氧類樹脂、丙烯酸類樹脂、甲基丙烯酸類樹脂、聚酰亞胺類樹脂、硅氧烷樹脂、環(huán)氧丙烯酸酯樹脂、丙烯酸氨基甲酸乙酯樹脂、氧雜環(huán)丁烷樹脂、乙烯基醚樹脂、苯并噁嗪樹
脂等。此外，熱固化型樹脂可以例舉環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、酚醛樹脂、醋酸乙烯酯樹脂
坐寸ο在玻璃素板的至少一個主平面上貼合樹脂膜形成含有樹脂的保護(hù)膜時，樹脂膜可以例舉聚對苯二甲酸乙二醇酯類膜、聚硅氧烷樹脂類膜、聚氯乙烯樹脂膜、聚乙烯類膜、聚烯烴類膜、聚酯類膜、氟樹脂類膜、聚碳酸酯類膜、聚丙烯類膜、聚苯硫醚類膜、對位芳族聚酰胺類膜、聚乳酸膜、聚酰亞胺類膜、尼龍類膜等。如上所述，從固化作業(yè)的安全性、作業(yè)環(huán)境、操作容易性等觀點(diǎn)，優(yōu)選光固化型樹月旨，更優(yōu)選可見光固化型樹脂。此外，優(yōu)選固化物對玻璃的粘結(jié)性(密合性)良好且易于剝離的樹脂，與在有機(jī)溶劑中剝離的類型相比，優(yōu)選在水或溫水中能夠剝離的樹脂。所述固化型樹脂是能夠通過熱、光固化的樹脂，本發(fā)明的保護(hù)膜實(shí)際上是由該固化型樹脂的固化物構(gòu)成，本說明書中，由構(gòu)成保護(hù)膜的樹脂固化后固化物(樹脂固化物)也記為“固化樹脂”，用于形成該“固化樹脂”的樹脂材料(含有固化性樹脂的組合物)也記為“固化性樹脂組合物”。由這樣的固化型樹脂構(gòu)成的保護(hù)膜中，可以含有以樹脂為主體的微珠或微囊(平均粒徑O. 005 O. 5mm)、或者二氧化硅粒子(平均粒徑O. 005 O. 1mm)。含有比例相對于構(gòu)成保護(hù)膜的樹脂優(yōu)選為88質(zhì)量％以下。本說明書中，平均粒徑表示粒度分布累積50%點(diǎn)的粒子直徑即d50。粒徑是使用激光衍射式或激光散射式等粒度分布計或掃描型電子顯微鏡(SEM)測定的值。能夠使用的微珠或微囊可以舉例如下。·高分子中空微球復(fù)合物混合中空微球............7 卜4夕口 7 7工7 一 μ F L系列(松本油脂制藥株式會社制)·高分子中空微球復(fù)合物(外殼熱塑性樹脂+內(nèi)部脂肪族烴發(fā)泡劑)............夕夕口 77工7* —(株式會社吳羽((株)夕> ^ )制)·熱膨脹性微囊(熱塑性高分子外殼+低沸點(diǎn)烴內(nèi)核)............— 系列(松本油脂制藥株式會社制)·熱膨脹性微囊(在樹脂外殼中包裹發(fā)泡劑(液態(tài)烴))............EXPANCEL(日本菲萊特株式會社(日本7 49 4卜(株))制)·微珠(聚甲基丙烯酸甲酯構(gòu)成的微粒)............V 卜V 4 ” α 7 7工7* — M系列(松本油脂制藥株式會社制)
·微珠(交聯(lián)聚丙烯酸烷基酯構(gòu)成的具有橡膠狀彈性的微粒)............V 7 卜V 4 口 7 7工7* — S系列(松本油脂制藥株式會社制) 親水性微珠(丙烯酸類聚合物微粒)·微樹脂珠(丙烯酸珠、聚乙烯珠、聚丙烯珠、聚氯乙烯珠、聚苯乙烯珠)通過在保護(hù)膜中含有這樣的微小粒子(微珠或微囊)，具有可以減少構(gòu)成保護(hù)膜的固化型樹脂的量，膜厚的控制容易，在溫水中容易剝離，玻璃基板之間難以密合，端面研磨后容易將玻璃基板從玻璃基板層疊體中分離等優(yōu)點(diǎn)。由固化樹脂構(gòu)成的用于形成保護(hù)膜的優(yōu)選樹脂材料(固化性樹脂組合物)可以例舉夕U 7 :/ 7卜CP3722(商品名安德魯株式會社((株)7—制)。該樹脂材料是以含有熱膨脹性微囊的高沸點(diǎn)甲基丙烯酸和高沸點(diǎn)二甲基丙烯酸為主成分的液態(tài)材料，
通過照射可見光固化，形成以丙烯酸類樹脂為主體的粘結(jié)性良好的保護(hù)膜。此外，這樣形成的保護(hù)膜通過浸潰在溫水中被輕易地剝離。為了形成由所述固化樹脂構(gòu)成的保護(hù)膜，將用于形成該固化樹脂的樹脂材料即液態(tài)固化性樹脂組合物印刷或涂布在玻璃素板的至少一個主平面上形成印刷層或涂布層后，使該印刷層或涂布層固化。印刷方法和涂布方法可以例舉下述方法。(I)印刷方法使用凸版印刷(活版印刷)、凹版印刷(gravure printing)、平版印刷(off setprinting)、絲網(wǎng)印刷(screen printing)等版式,或使用噴墨方式,將液態(tài)的固化性樹脂組合物印刷成規(guī)定的形狀。如圖3所示，凸版印刷(活版印刷)可以采用浸透方式進(jìn)行印刷。圖3中，符號30表不浸透式壓模，符號31表不玻璃素板。此外,符號32表不印刷層。該壓模30由多孔質(zhì)橡膠等構(gòu)成，具有要印刷的規(guī)定的圖案形狀(例如，甜甜圈形狀)的印刷部301和設(shè)置在印刷部301上、在微細(xì)的連續(xù)氣泡內(nèi)吸納液態(tài)固化性樹脂組合物的吸納部302。此外，通過將印刷部301壓在玻璃素板31上，將從吸納部302浸透到印刷部301的所述液態(tài)固化性樹脂組合物轉(zhuǎn)印到玻璃素板31的主平面上，形成與印刷部301同形狀的印刷層32。(2)涂布方法通過刷涂、輥涂、吹涂(噴涂、無空氣噴涂)、滾涂等，在玻璃素板的主平面上形成規(guī)定的平面形狀(例如，甜甜圈形狀)的涂布層。這樣形成于玻璃素板主平面上的印刷層或涂布層(以下也表示為印刷層等)可以通過施加對應(yīng)于樹脂種類的固化方法，即可見光或紫外線照射、加熱等固化方法使其固化。例如，以光固化性樹脂為主成分的液態(tài)樹脂組合物的固化可以如圖4所示進(jìn)行。即，可以采取一邊通過傳送帶43使形成了印刷層等41的玻璃素板42連續(xù)移動，一邊向印刷層等41照射來自可見光源44的光從而使其固化的方式。雖然在形成由這樣的固化型樹脂構(gòu)成的保護(hù)膜時采用印刷或涂布通過固化形成所述固化樹脂的液態(tài)固化性樹脂組合物從而使印刷層等固化的方法，但也可以通過事先將形成甜甜圈形狀等規(guī)定形狀的帶有粘結(jié)劑的樹脂膜或自粘結(jié)型樹脂膜貼合在玻璃素板的主平面上以形成保護(hù)膜。這樣的保護(hù)膜形成用樹脂膜可以例舉聚氯乙烯樹脂膜、聚乙烯類膜、聚烯烴類膜、聚酯類膜、氟樹脂類膜、聚碳酸酯類膜、聚丙烯類膜、聚苯硫醚類膜、對位芳族聚酰胺類膜、聚乳酸膜、聚酰亞胺類膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯類膜、聚硅氧烷樹脂類膜、尼龍類膜等。(Ib)切斷工序(Ib)切斷工序中，將在主平面上形成規(guī)定形狀(例如，甜甜圈形狀)的保護(hù)膜的玻璃素板切斷成規(guī)定的形狀和尺寸以使其包圍保護(hù)膜的外周，制成具有規(guī)定的平面形狀(例如正方形等矩形平面形狀或圓盤形狀)的小板。該切斷工序(Ib)可以在保護(hù)膜形成工序(Ia)前進(jìn)行。即，將大尺寸的玻璃素板切斷成相當(dāng)于I片磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的尺寸的小板后，在每I片小板上形成具有所述甜甜圈形狀等平面形狀的保護(hù)膜?；蛘?，對于每一片通過加壓成型成型為圓盤形狀或甜甜圈形狀的玻璃素板，形成具有所述甜甜圈形狀等平面形狀的保護(hù)膜。這樣獲得具有規(guī)定的形狀和尺寸、且至少一個主平面上具有保護(hù)膜的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板。( Ic)第I主平面磨削工序在(Ic)第I主平面磨削工序中，磨削玻璃素板的上下兩個主平面或在設(shè)置于保護(hù)膜形成工序(Ia)之前的切斷工序(Ib)中被切斷為規(guī)定的尺寸和形狀的玻璃素板的主平面。該主平面磨削中，通過雙面磨削裝置或單面磨削裝置，進(jìn)行使用了游離研磨粒的游離研磨粒磨削或使用了固定研磨粒工具的固定研磨粒磨削。游離研磨粒和固定研磨?？梢允褂闷骄酱笥谠诤笫龅牡?主平面磨削工序中使用的研磨粒的平均粒徑的金剛石粒子、氧化鋁粒子、碳化硅粒子等。(2)賦形工序(2)賦形工序是將具有規(guī)定尺寸的平面形狀、至少一個主平面上具有保護(hù)膜的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的工序，具有(2a)圓形加工工序和(2b)倒角工序。在保護(hù)膜形成工序(Ia)后進(jìn)行切斷工序(Ib)的流程中，可以將切斷工序(Ib)插入(2)賦形工序中。(2a)圓形加工工序(2a)圓形加工工序中，將所述磁記錄介質(zhì)用玻璃素板切成圓形的同時，在中央部形成圓孔(圓形的貫通孔)。(2b)倒角工序(2b)倒角工序中，在經(jīng)圓形加工過的玻璃基板的內(nèi)周側(cè)面和上下兩個主平面的交叉部、以及外周側(cè)面和上下兩個主平面的交叉部分別進(jìn)行倒角加工，形成內(nèi)周面倒角部和外周面倒角部。(3)端面研磨工序(3)端面研磨工序中，為了除去在玻璃基板的圓形加工和倒角加工時生成的傷痕等，同時將在倒角加工中形成端面的凹凸磨削面平滑化，降低端面的粗糙度，進(jìn)行內(nèi)周端面(內(nèi)周側(cè)面和內(nèi)周面倒角部)和外周端面(外周側(cè)面和外周面倒角部)的研磨。也可以在端面研磨后進(jìn)行內(nèi)周端面的蝕刻。(3)端面研磨工序中，例如，疊層多片玻璃基板形成多個玻璃基板疊層體，使用含有研磨粒的研磨液和研磨刷研磨內(nèi)周端面和外周端面。內(nèi)周端面的研磨和外周端面的研磨可以同時進(jìn)行也可以分別進(jìn)行。此外，也可以只實(shí)施內(nèi)周端面的研磨或外周端面的研磨中的其一。分別進(jìn)行內(nèi)周端面的研磨和外周端面的研磨時，進(jìn)行的順序沒有特別限定，先進(jìn)行哪個研磨都可以。例如，也可以采用這樣的方法對疊層玻璃基板的玻璃基板疊層體進(jìn)行外周端面的研磨，接著在玻璃基板疊層體的狀態(tài)下直接進(jìn)行內(nèi)周端面的研磨，然后，將玻璃基板層疊體分離，將玻璃基板一片一片地收納在盒子等中，送至下一個工序。研磨?？梢允褂枚趸嬃Ｗ印⒍趸桦x子、氧化鋁粒子、氧化鋯粒子、鋯石粒子、碳化硅粒子、碳化硼粒子、金剛石粒子等。從研磨速度這一點(diǎn)，優(yōu)選使用二氧化鈰粒子。從端面研磨的效率(研磨速度)和通過研磨獲得的端面的平滑性等觀點(diǎn)，研磨粒的平均粒徑優(yōu)選為O. I 5μπι。如前所述，本說明書中，平均粒徑表示粒度分布累積50%點(diǎn)的粒子直徑即d50。粒徑是使用激光衍射式或激光散射式等的粒度分布計測定的值。(4)保護(hù)膜除去工序保護(hù)膜除去工序中，將玻璃基板的主平面的保護(hù)膜在后述的(5)主平面研磨工序前除去。保護(hù)膜的除去可以通過直接剝?nèi)ケＷo(hù)膜的方法或通過浸潰在水、溫水或有機(jī)溶劑等中剝離或溶解保護(hù)膜進(jìn)來行。此外，也可以在(5)主平面研磨工序前設(shè)置磨削主平面的工序(第2主平面磨削工序)，通過該工序磨削除去保護(hù)膜。也可以在通過水、溫水或有機(jī)溶
劑等玻璃保護(hù)膜后，再進(jìn)行所述第2主平面磨削工序。還可以省略這樣的(4)保護(hù)膜除去工序。即，雖然(5)主平面研磨工序中的研磨速度下降，但可以對帶有保護(hù)膜狀態(tài)下的玻璃基板直接進(jìn)行主平面研磨工序。(4a)保護(hù)膜剝離工序(4a)保護(hù)膜剝離工序中，將玻璃基板浸潰在水、溫水或有機(jī)溶劑等剝離性或溶解性的溶劑中使構(gòu)成保護(hù)膜的樹脂軟化、膨潤或溶解，由此將保護(hù)膜從玻璃基板剝離，或溶解除去。剝離性溶劑可以根據(jù)構(gòu)成保護(hù)膜的樹脂的種類選擇。此外，將玻璃基板浸潰在水、溫水或有機(jī)溶劑等剝離性或溶解性溶劑中時，可以照射超聲波。(4b)第2主平面磨削工序(4b)在第2主平面磨削工序中調(diào)整玻璃基板的平坦度和板厚。此外,可以通過磨削玻璃基板的主平面削掉主平面上形成的保護(hù)膜。在第2主平面磨削中，通過雙面磨削裝置或單面磨削裝置，進(jìn)行使用了游離研磨粒的游離研磨粒磨削或使用了固定研磨粒工具的固定研磨粒磨削。游離研磨粒和固定研磨?？梢允褂美缙骄綖镺. 5 10 μ m的金剛石粒子、氧化鋁粒子、碳化硅粒子等。(5)主平面研磨工序磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造中，主平面的研磨是為了除去在圓形加工或倒角加工、主平面的磨削等時生成的傷痕等，將凹凸平滑化制成鏡面的目的而進(jìn)行的。(5)主平面研磨工序中優(yōu)選使用含有研磨粒的研磨液和發(fā)泡樹脂制研磨墊(硬質(zhì)研磨墊或軟質(zhì)研磨墊)，通過雙面研磨裝置進(jìn)行上下兩個主平面的研磨。研磨粒可以使用二氧化硅粒子、氧化鋁粒子、氧化鋯粒子、鋯石粒子、二氧化鈰粒子等?？梢灾贿M(jìn)行一次研磨，也可以在進(jìn)行一次研磨之后使用平均粒徑更小的研磨粒進(jìn)行二次研磨。此外，也可以在二次研磨后使用粒徑小的研磨粒進(jìn)一步進(jìn)行三次研磨(最終研磨)。(6)清洗工序(6)清洗工序中，對主平面被研磨后的玻璃基板進(jìn)行了例如使用洗劑的擦洗清洗后，依次進(jìn)行浸潰在洗劑溶液中的狀態(tài)下的超聲波清洗、浸潰在純水中的狀態(tài)下的超聲波清洗。清洗后，實(shí)施干燥。干燥方法有例如采用異丙醇蒸氣的蒸氣干燥、采用暖風(fēng)的暖水暖風(fēng)干燥、旋轉(zhuǎn)干燥等。在這樣制造的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上形成磁性層等的薄膜，制造磁盤。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式涉及的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，可以以良好的產(chǎn)率獲得防止在主平面研磨工序前產(chǎn)生的傷痕等缺陷、主平面的平滑性優(yōu)異的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。此外，能夠降低供給制造磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的玻璃素板的厚度，減少研磨量，實(shí)現(xiàn)降低材料損失和提高生產(chǎn)率。實(shí)施例 下面通過實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行具體說明，但本發(fā)明不受這些實(shí)施例的限定。以下的例I 11中，例I 10是本發(fā)明的實(shí)施例，例11是比較例。例I將通過浮法成形的以SiO2為主成分的板厚O. 7mm的玻璃素板按照圖5所示的例I的流程圖進(jìn)行加工，制造磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。例I的流程圖中各工序的具體情況如下所示。[第I主平面固定研磨粒磨削工序](SlOl)通過雙面磨削裝置,使用含有平均粒徑為20 μ m的金剛石研磨粒的固定研磨粒工具，進(jìn)行玻璃素板的兩個主平面的磨削。磨削加工量(深度)在兩個面上為25 μ m(0. 025mm)。[保護(hù)膜形成工序](S102)在玻璃素板的兩個主平面上，使用圖3所示的浸透壓模式印刷裝置，將可見光固化型樹脂(安德魯株式會社(7 — 7>社)制，產(chǎn)品^ 1J 7 7° ^卜CP3722)印刷成中央部具有圓形孔部的圓環(huán)形狀(甜甜圈形狀)。然后，照射可見光10分鐘左右，使印刷層固化，形成膜厚100 μ m (O. Imm)的保護(hù)膜。[切角(切碎)工序](S103)將兩個主平面上形成甜甜圈形狀的保護(hù)膜的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板切斷成為四邊圍住保護(hù)膜的外周，制成具有長寬75mm的正方形的平面形狀的方板。這樣得到在兩個主平面上具有保護(hù)膜的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板。[圓形加工工序](S104)將上述方板沿圓形外周切割，同時在中央部形成圓孔，最終形成外徑65mm、內(nèi)徑20mm的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。[倒角工序](S105)對加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的內(nèi)周側(cè)面和外周側(cè)面進(jìn)行倒角加工以獲得最終倒角寬度O. 15_、倒角角度45°的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。[端面研磨工序](S106)使用含有平均粒徑為I. 3 μ m的二氧化鈰研磨粒的研磨液和研磨刷研磨經(jīng)過倒角加工的玻璃基板的外周端面(外周側(cè)面和外周倒角部)與內(nèi)周端面(內(nèi)周側(cè)面和內(nèi)周倒角部)。依序在進(jìn)行完外周端面的研磨后接著進(jìn)行內(nèi)周端面的研磨。研磨量(深度)在外周端面和內(nèi)周端面上均為12 μ m (0.012mm)。[蝕刻工序](S107)用氫氟酸-硝酸混合酸水溶液蝕刻端面研磨后的玻璃基板的內(nèi)周面。然后，使內(nèi)周端面的加工傷痕的前部鈍化。
[保護(hù)膜剝離工序](S108)將玻璃基板浸潰在60°C的溫水中，剝離保護(hù)膜。[第2主平面固定研磨粒磨削工序](S109)通過雙面磨削裝置使用含有平均粒徑為3μηι的金剛石研磨粒的固定研磨粒工具磨削剝離了保護(hù)膜后的玻璃基板的主平面。磨削加工量(深度)在兩個面上為20 μ m(O. 02mm)。[主平面研磨工序](SllO)使用雙面研磨裝置研磨玻璃基板的主平面。研磨分為一次研磨和最終研磨兩個階段研磨，一次研磨中使用含有平均粒徑為O. 8 μ m的二氧化鋪研磨粒的研磨液和起毛革(7
々二一卜'' ；Suede)墊,最終研磨中使用含有平均粒徑為20nm的二氧化娃研磨粒的研磨液和起毛革墊，分別進(jìn)行。研磨量(深度)，將一次研磨和最終研磨的研磨量合計，在兩個面為20 μ m (O. 02mm)。[精密清洗工序](Slll)主平面研磨后的玻璃基板依次進(jìn)行擦洗清洗、超聲波清洗，通過異丙醇進(jìn)行蒸氣干燥。這樣得到外徑65mm、內(nèi)徑20mm、板厚O. 635mm的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。例2 例10按照圖5 圖8所示的各流程圖加工通過浮法成形的以SiO2為主成分的板厚
0.7mm的玻璃素板,得到外徑65mm、內(nèi)徑20mm、板厚O. 635mm的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。例2 例10的各流程只改變例I中的流程和工序順序，各個工序按照與例I同樣的條件進(jìn)行。例3、4和例8、9中的主平面固定研磨粒磨削工序與例I中的第2主平面固定研磨粒磨削工序同樣地進(jìn)行。例11按照圖8所示的例11的流程圖加工通過浮法成形的以SiO2S主成分的板厚
1.27mm的玻璃素板,得到外徑65mm、內(nèi)徑20mm、板厚O. 635mm的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。例11中，第I主平面固定研磨粒磨削工序(SlOl)中的磨削加工量(深度)在兩個面上為365 μ m(O. 365mm)，第2主平面固定研磨粒磨削工序(S109)中的磨削加工量(深度)在兩個面上為250 μ m(0. 25mm),主平面研磨工序(SI 10)中的研磨量(深度)在兩個面上為20 μ m(0. 02mm),其他工序在與例I同樣的條件下進(jìn)行。接著，對于這樣在例I 例11中得到的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板(各例500片)，在暗室內(nèi)照射30萬勒克司的光，目測檢查主平面的傷痕缺陷。然后，調(diào)查檢出傷痕缺陷的玻璃基板的片數(shù)，按照下式，求出各例的傷痕缺陷率，算出相對于比較例例11的傷痕缺陷率的相對傷痕缺陷率。這樣算出的采用目測的相對傷痕缺陷率的值示于表I中。采用目測的傷痕缺陷率=(采用目測發(fā)現(xiàn)傷痕的玻璃基板片數(shù)(片)/目測檢查的基板的片數(shù)(片))XlOO采用目測的相對傷痕缺陷率(％)=(各實(shí)施例的采用目測的傷痕缺陷率/比較例的采用目測的傷痕缺陷率)X100進(jìn)而，在例I 例11中得到的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板中，對于采用目測檢查沒有檢測到傷痕缺陷的玻璃基板，進(jìn)行采用AOI (自動光學(xué)檢查裝置)的檢查，檢測傷痕缺陷。然后，通過下式算出傷痕缺陷率，進(jìn)一步算出相對于比較例的傷痕缺陷率的相對傷痕缺陷率。
采用AOI的傷痕缺陷率=(采用AOI發(fā)現(xiàn)傷痕的玻璃基板片數(shù)(片)/AOI檢查的基板的片數(shù)(片))X100采用AOI的相對傷痕缺陷率(％)=(各實(shí)施例的采用AOI的傷痕缺陷率/比較例的采用AOI的傷痕缺陷率)X100這樣算出的采用AOI的相對傷痕缺陷率的值示于表I中。[表 I]
權(quán)利要求
1.一種磁記錄介質(zhì)用玻璃素板，是用于形成在中央部具有圓孔的圓盤形狀的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的、具有主平面和側(cè)面的玻璃素板，其特征在于，在至少一個主平面上，具有含有樹脂的保護(hù)膜。
2.如權(quán)利要求I所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板，所述保護(hù)膜具有在中央部有圓形孔部的圓環(huán)形的平面形狀。
3.如權(quán)利要求I或2所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板,所述保護(hù)膜具有O.Olmm O. 5mm的膜厚。
4.一種磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，該方法具有 準(zhǔn)備具有主平面和側(cè)面的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序; 將所述磁記錄介質(zhì)用玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的賦形工序； 研磨所述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；和 所述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序具有在玻璃素板的至少一個主平面上形成含有樹脂的保護(hù)膜、制成磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的保護(hù)膜形成工序。
5.如權(quán)利要求4所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，所述保護(hù)膜形成工序具有在所述玻璃素板的至少一個主平面上印刷或涂布含有液態(tài)固化性樹脂的組合物的工序；和使該印刷層或涂布層固化的工序。
6.如權(quán)利要求4所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，所述保護(hù)膜形成工序具有在所述玻璃素板的至少一個主平面上貼合含有樹脂的保護(hù)膜的工序。
7.如權(quán)利要求4 6中任一項所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，所述保護(hù)膜形成工序中形成的所述保護(hù)膜具有在中央部有圓形孔部的圓環(huán)形的平面形狀。
8.如權(quán)利要求4 7中任一項所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，所述保護(hù)膜形成工序中形成的所述保護(hù)膜具有O. Olmm O. 5mm的膜厚。
9.如權(quán)利要求4 8中任一項所述的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法,在所述賦形工序和所述主平面研磨工序之間，具有除去所述保護(hù)膜的保護(hù)膜除去工序。
全文摘要
課題以高產(chǎn)率獲得防止在主平面研磨工序前產(chǎn)生的傷痕等缺陷、主平面的平滑性優(yōu)異的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。解決方法一種磁記錄介質(zhì)用玻璃素板，是用于形成在中央部具有圓孔的圓盤形狀的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的玻璃素板，在至少一個主平面上，具有含有樹脂的保護(hù)膜。磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，該方法具有磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序；將所述玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的賦形工序；研磨所述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；和所述玻璃基板的清洗工序，所述磁記錄介質(zhì)用玻璃素板準(zhǔn)備工序具有在玻璃素板的至少一個主平面上形成含有樹脂的保護(hù)膜、制成磁記錄介質(zhì)用玻璃素板的保護(hù)膜形成工序。
文檔編號G11B5/84GK102881295SQ20121023972
公開日2013年1月16日 申請日期2012年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月15日
發(fā)明者萬波和夫 申請人:旭硝子株式會社