專(zhuān)利名稱(chēng)：光盤(pán)生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)專(zhuān)用靶材的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
[0001]本實(shí)用新型涉及ー種光盤(pán)生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)專(zhuān)用靶材，具體的說(shuō)是ー種外形更適合
6.0生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)使用的濺鍍用靶材。
背景技術(shù)：
在光盤(pán)生產(chǎn)過(guò)程中，要用濺鍍機(jī)轟擊濺鍍靶材在光盤(pán)上濺射上ー層反射層，靶材的外部形狀關(guān)系到濺鍍層是否均勻，從而影響盤(pán)片的質(zhì)量。這就要求我們找到一種適合6.0線(xiàn)生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)的濺鍍靶材外部形狀。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是要提供一種適合6. 0生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)的濺鍍靶材外部形狀，使濺鍍層更加均勻，提高盤(pán)片的質(zhì)量。本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，該靶材包括靶材主體I,所述的靶材主體I的中心加工有鎖緊孔2，在鎖緊孔2的上面加工有臺(tái)階狀的濺鍍凹槽面3。本實(shí)用新型由于采用上述結(jié)構(gòu)，使得靶材的結(jié)構(gòu)更加的適合6. 0生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)使用，結(jié)構(gòu)更加的合理，使濺鍍層更加均勻，提高了盤(pán)片的生產(chǎn)質(zhì)量。

圖I是光盤(pán)生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)專(zhuān)用靶材整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型圖I中A向投影結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
由附圖1、2所示該靶材包括靶材主體I,所述的靶材主體I的中心加工有鎖緊孔2，在鎖緊孔2的上面加工有臺(tái)階狀的濺鍍凹槽面3。使用時(shí)將靶材用鎖緊螺母(插入鎖緊孔中)固定在濺鍍機(jī)陰極腔內(nèi)，接通電源，打開(kāi)冷卻水，抽真空，真空達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)后，濺鍍機(jī)開(kāi)始工作，轟擊濺鍍靶材在光盤(pán)上濺射上ー層反射層。
權(quán)利要求1.光盤(pán)生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)專(zhuān)用靶材，該靶材包括靶材主體(I)，其特征在于所述的靶材主體(I)的中心加工有鎖緊孔(2)，在鎖緊孔(2)的上面加工有臺(tái)階狀的濺鍍凹槽面(3)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種光盤(pán)生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)專(zhuān)用靶材，具體的說(shuō)是一種外形更適合6.0生產(chǎn)線(xiàn)濺鍍機(jī)使用的濺鍍用靶材,該靶材包括靶材主體，所述的靶材主體的中心加工有鎖緊孔，在鎖緊孔的上面加工有臺(tái)階狀的濺鍍凹槽面,本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)更加的合理，使濺鍍層更加均勻，盤(pán)片的生產(chǎn)質(zhì)量更高。
文檔編號(hào)G11B7/26GK202404895SQ201120521279
公開(kāi)日2012年8月29日 申請(qǐng)日期2011年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月14日
發(fā)明者劉萬(wàn)學(xué), 劉果, 徐光 , 鄒國(guó)旗 申請(qǐng)人:吉林慶達(dá)數(shù)碼有限公司