專(zhuān)利名稱(chēng)：數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)以及用于校準(zhǔn)其的方法
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)以及用于校準(zhǔn)其的方法
背景技術(shù)：
光學(xué)拾取單元可能不能將焦點(diǎn)保持在光學(xué)介質(zhì)的某些缺陷上。

發(fā)明內(nèi)容
此處公開(kāi)了光帶技術(shù)、光帶制造，以及光帶使用的各方面。光帶技術(shù)的方法和系統(tǒng)公開(kāi)了光帶介質(zhì)，包括配置、組成、標(biāo)記，以及結(jié)構(gòu)；光帶制造方法，系統(tǒng)，以及設(shè)備方法和系統(tǒng)包括固化過(guò)程、涂敷方法、壓花、鼓、測(cè)試、跟蹤對(duì)準(zhǔn)壓模條帶；光帶方法和系統(tǒng)包括適用于所公開(kāi)的光帶的拾取頭；以及光帶用途包括用于多媒體應(yīng)用的光存儲(chǔ)介質(zhì)裝置。數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)可包括具有缺陷以及位于所述缺陷的每一側(cè)的多個(gè)道的光學(xué)介質(zhì)，所述多個(gè)道表現(xiàn)出(i)所述缺陷旁邊的表示缺陷位置信息的已調(diào)擺動(dòng)的字段，以及(ii)表示數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段。數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)也可以包括被配置成讀取已調(diào)擺動(dòng)的字段的光學(xué)拾取單元，以及可操作地與拾取單元置于一起的至少一個(gè)控制器。所述至少一個(gè)控制器可 以被配置成，響應(yīng)于所述拾取單元在所述缺陷的一側(cè)檢測(cè)缺陷位置信息，命令所述介質(zhì)在第一方向移動(dòng)，以便在所述缺陷的另一側(cè)上將所述拾取單元定位得與表示數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段相鄰。此處所提及的所有參考文獻(xiàn)都全部引用，作為參考。


圖I是包括光學(xué)伺服標(biāo)記以及數(shù)據(jù)光道的光學(xué)介質(zhì)的平面圖。圖2是光學(xué)介質(zhì)處理系統(tǒng)的透視圖。圖3不出了第一表面入射(空氣入射)WORM介質(zhì)層的實(shí)施例。圖4不出了第一表面入射(空氣入射)可重寫(xiě)介質(zhì)層的實(shí)施例。圖5示出了第二表面入射(帶基薄膜入射)WORM介質(zhì)層的實(shí)施例。圖6示出了第二表面入射(帶基薄膜入射)可重寫(xiě)介質(zhì)層的實(shí)施例。圖7A和7B是表不本發(fā)明的可能的實(shí)施例的光學(xué)介質(zhì)層疊的剖視圖。圖8A和8B包括不出了周?chē)鷰в袎拥沫h(huán)的黑點(diǎn)的光學(xué)介質(zhì)的圖像。圖9是與入売和與入暗介質(zhì)的圖像。圖10是寫(xiě)入亮和寫(xiě)入暗的信號(hào)比較。圖11是本發(fā)明的可能的實(shí)施例的框圖。圖12是示出了本發(fā)明的光學(xué)介質(zhì)的剖面的可能的實(shí)施例的示意圖。圖13是示出了讀取/伺服感應(yīng)元件的可能的操作模式和可能的相對(duì)運(yùn)動(dòng)的序列的時(shí)間間隔圖形。圖14示出了表示地址和同步信息的正弦信號(hào)的實(shí)施例。圖15示出了伺服系統(tǒng)解調(diào)器和解碼器的框圖實(shí)施例。圖16示出了圖15中所示出的伺服系統(tǒng)解調(diào)器的各種信號(hào)輸出的實(shí)施例。圖17示出了不同的光學(xué)標(biāo)記和讀回信號(hào)的實(shí)施例。
圖18示出了被嵌入到相同光學(xué)介質(zhì)光道上的數(shù)據(jù)字段白色標(biāo)記的伺服暗標(biāo)記的實(shí)施例。圖19示出了使用光帶介質(zhì)上的暗和白色標(biāo)記從伺服字段和數(shù)據(jù)字段所產(chǎn)生的讀回信號(hào)的實(shí)施例。圖20是本發(fā)明的可能的實(shí)施例的層類(lèi)型和層疊的圖形表示。圖21是當(dāng)對(duì)圖20的修改的實(shí)施例進(jìn)行測(cè)試時(shí)某個(gè)信號(hào)活動(dòng)的示波器顯示。圖22是示出了在532nm波長(zhǎng)入射光時(shí)3層WORM介質(zhì)中的反射敏感性的圖形。圖23是圖22的擴(kuò)展，示出了帶有大致十倍于用來(lái)生成圖22的圖形的層厚度的層厚度的介質(zhì)的反射率。圖24是示出了在680nm波長(zhǎng)入射光時(shí)DVD介質(zhì)中的反射敏感性的圖形。 圖25是示出了介質(zhì)的反射敏感性的圖形。圖26是示出了 LOTS介質(zhì)的反射敏感性的圖形。圖27是示出了 DVD介質(zhì)對(duì)入射光的波長(zhǎng)的反射敏感性的圖形。圖28是示出了介質(zhì)的交叉反射敏感性曲線(xiàn)的圖形。圖29示出了寫(xiě)后直讀(DRAW)光帶拾取的實(shí)施例。圖30示出了寫(xiě)后直讀(DRAW)光帶拾取的實(shí)施例。圖31示出了用于光帶系統(tǒng)中的次級(jí)射束的全息光學(xué)元件的實(shí)施例。圖32示出了用于光帶系統(tǒng)中的DRAW射束的全息光學(xué)元件的實(shí)施例。圖33示出了光帶系統(tǒng)中的第一激光二極管和第二激光二極管的朝向的實(shí)施例。圖34示出了帶有被集成到一個(gè)芯片中的第一和第二電光集成電路的DRAW光帶拾取頭的實(shí)施例。圖35示出了緊湊型DRAW光帶拾取頭的實(shí)施例。圖36示出了緊湊型DRAW光帶拾取頭的實(shí)施例。圖37示出了適用于光帶的光學(xué)跟蹤系統(tǒng)的實(shí)施例以及帶有移動(dòng)以跟蹤光帶的單元的本發(fā)明的實(shí)施例。圖38示出了光學(xué)漸暈效應(yīng)的實(shí)施例。圖39示出了集成光帶拾取頭設(shè)計(jì)的實(shí)施例。圖40示出了集成了寫(xiě)后直讀特征的集成光帶拾取頭的實(shí)施例。圖41示出了在光帶位置極值處光學(xué)頭輸送工具的重定向的實(shí)施例。圖42示出了光帶拾音頭輸送工具的實(shí)施例，示出了帶有獨(dú)立焦點(diǎn)和光道控制的多個(gè)頭通道。圖43示出了在光帶位置極值處光學(xué)頭輸送工具的重定向的實(shí)施例。圖44示出了讀取預(yù)先寫(xiě)入的數(shù)據(jù)并將信息提供到寫(xiě)入器以便寫(xiě)入接下來(lái)的信息的轉(zhuǎn)換器組件的實(shí)施例。圖45示出了信號(hào)調(diào)制器以及信號(hào)解調(diào)器的高級(jí)別實(shí)施例。圖46示出了信號(hào)解調(diào)器的實(shí)施例。圖47示出了每個(gè)單個(gè)光學(xué)頭的橫向光帶移動(dòng)(LTM)以及剩余運(yùn)動(dòng)(RM)的實(shí)施例。圖48示出了伺服光道信號(hào)解碼的的實(shí)施例。圖49示出了伺服信號(hào)的同步比特和地址比特的實(shí)施例。
圖50示出了伺服系統(tǒng)解調(diào)器/解碼器的實(shí)施例。圖51是墊片產(chǎn)生過(guò)程的可能的實(shí)施例的流程圖。圖52壓花鼓的平面組件的可能的實(shí)施例的側(cè)視圖和頂視圖。圖53是滾輪軸的可能的實(shí)施例的等距視圖。圖54是安裝在圖53的滾輪軸上的本發(fā)明的滾柱導(dǎo)軌組件的可能的實(shí)施例的側(cè)視圖。圖55是本發(fā)明的光帶支撐設(shè)備的可能的實(shí)施例的側(cè)視圖。圖56是圖55的可能的實(shí)施例的頂視圖。圖57是本發(fā)明的導(dǎo)向滾輪的可能的實(shí)施例的剖面平面圖?！D58A是用于在介質(zhì)上壓花伺服光道的通常形狀的機(jī)械鼓的輪廓。圖58B是機(jī)械鼓上的本發(fā)明的調(diào)整區(qū)的實(shí)施例的透視圖。圖59是調(diào)整區(qū)的平面圖和擺動(dòng)循環(huán)關(guān)系。圖60是本發(fā)明的光帶介質(zhì)位置和平面化支撐設(shè)備的可能的實(shí)施例的透視圖。圖61是與光帶介質(zhì)和介質(zhì)頭一起使用的圖60的實(shí)施例的端視圖。圖62是本發(fā)明的另一個(gè)可能的實(shí)施例的透視圖。圖63示出了帶有質(zhì)量降低開(kāi)口的卷軸的單一側(cè)面的實(shí)施例。圖64示出了卷軸組件的實(shí)施例。圖65示出了用于亞微米壓花的壓模墊片配置的實(shí)施例。圖66示出了壓模墊片的截面以及使用差動(dòng)螺釘?shù)木_調(diào)準(zhǔn)配置的實(shí)施例。圖67示出了使用集成了壓電轉(zhuǎn)換器、拾取頭，以及處理電子設(shè)備的閉環(huán)系統(tǒng)的自動(dòng)化對(duì)準(zhǔn)的實(shí)施例。圖68是本發(fā)明的光帶介質(zhì)測(cè)試器的可能的實(shí)施例的透視圖。圖69是修改的光帶驅(qū)動(dòng)器以及用于測(cè)試光帶介質(zhì)的光學(xué)介質(zhì)測(cè)試器的可能的實(shí)施例的正面圖。圖70是本發(fā)明的可能的實(shí)施例的側(cè)視圖，示出了墊片組件之前的壓花鼓。圖71是組合了墊片的圖I的可能的實(shí)施例的cut away端視圖。圖72是正在使用的本發(fā)明的對(duì)齊的裂縫的鼓的可能的實(shí)施例的端視圖。圖73描繪了多層光學(xué)介質(zhì)光帶的改善的性能的過(guò)程。圖74描繪了本發(fā)明的光帶的可能的實(shí)施例的剖視圖。圖75示出了現(xiàn)有技術(shù)的簡(jiǎn)化的涂敷路徑的側(cè)視圖。圖76示出了圖75的可能的實(shí)施例的頂視圖。圖77是示出了從襯底運(yùn)動(dòng)的方向查看時(shí)非均勻源分布對(duì)涂敷均勻度的影響的示意圖。圖78是示出了垂直于沉積區(qū)域處的襯底的平面查看時(shí)非均勻源分布襯底的影響的示意圖。圖79示出了本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的示意圖，示出了通過(guò)真空沉積區(qū)域的光帶路徑。圖80示出了通過(guò)圖79所示出的方法通過(guò)涂敷區(qū)域的多次操作的效果的示意表示方式。
圖81示出了其中單個(gè)惰輪輥被用來(lái)引導(dǎo)光帶的圖79的另一實(shí)施例。圖82示出了可以去除多余的涂敷的材料的當(dāng)前過(guò)程的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖83示出了用于單遍雙側(cè)涂敷的當(dāng)前過(guò)程的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖84示出了光存儲(chǔ)介質(zhì)的各實(shí)施例。圖85示出了與個(gè)人計(jì)算機(jī)集成的圖I的光學(xué)記錄介質(zhì)的實(shí)施例，以及實(shí)施例的子集的細(xì)節(jié)。圖86示出了獨(dú)立實(shí)施例中的圖84的光學(xué)記錄介質(zhì)。圖87示出了照像機(jī)實(shí)施例中的圖I的光學(xué)記錄介質(zhì)。
具體實(shí)施方式
光帶技術(shù)、制造，以及應(yīng)用可以高度互連，以實(shí)現(xiàn)提供在商業(yè)上可行的解決方案所需的成本、性能、密度，及其他目標(biāo)。諸如在制造可靠的、高質(zhì)量的光帶的同時(shí)降低制造成本之類(lèi)的目標(biāo)可能需要制造技術(shù)方法以及系統(tǒng)方面的實(shí)質(zhì)性的革新。為生產(chǎn)支持高密度存儲(chǔ)器和高性能的光帶，可能會(huì)在光帶技術(shù)以及制造方法以及系統(tǒng)方面需要實(shí)質(zhì)性的革新。因此，此處所公開(kāi)的制造光帶的方法和系統(tǒng)可以被用來(lái)制造此處所公開(kāi)的光帶，此處所公開(kāi)的有關(guān)光帶使用的方法和系統(tǒng)可以被用來(lái)使用此處所公開(kāi)的光帶。此處公開(kāi)了光帶技術(shù)、光帶制造，以及光帶使用的各方面。光帶技術(shù)的方法和系統(tǒng)公開(kāi)了光帶介質(zhì)，包括配置、組成、標(biāo)記，以及結(jié)構(gòu)；光帶制造方法，系統(tǒng)，以及設(shè)備方法和系統(tǒng)，包括固化過(guò)程、涂敷方法、壓花、鼓、測(cè)試、跟蹤對(duì)準(zhǔn)壓模條帶；光帶方法和系統(tǒng)，包括適用于所公開(kāi)的光帶的拾取頭；以及光帶用途，包括用于多媒體應(yīng)用的光存儲(chǔ)介質(zhì)裝置。光帶介質(zhì)上的使用導(dǎo)致光學(xué)伺服標(biāo)記與光帶介質(zhì)上的數(shù)據(jù)標(biāo)記可區(qū)別的方法所生成的光學(xué)伺服標(biāo)記，如此處所描述的，可以用于光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)光帶驅(qū)動(dòng)器中。參考圖1，光學(xué)伺服標(biāo)記110可以是跨越等于或大于光道130的“帶”的高度120的重復(fù)的、基本上正弦的(或鋸齒)圖案。伺服標(biāo)記Iio可以在光學(xué)上與數(shù)據(jù)標(biāo)記140區(qū)別。用于使伺服標(biāo)記110在光學(xué)上可區(qū)別的方法包括使伺服標(biāo)記110比數(shù)據(jù)標(biāo)記140寬得多?？梢酝ㄟ^(guò)使用一個(gè)或多個(gè)光學(xué)頭(未示出)以標(biāo)記光學(xué)介質(zhì)，將光學(xué)伺服標(biāo)記110包括在光學(xué)介質(zhì)上。用于標(biāo)記光學(xué)介質(zhì)的過(guò)程可包括相位改變、燒制或挖溝中的一項(xiàng)或多項(xiàng)。過(guò)程可包括使用伺服光道寫(xiě)入設(shè)備或者光存儲(chǔ)介質(zhì)驅(qū)動(dòng)器。生成光學(xué)伺服標(biāo)記110的方法包括利用信號(hào)發(fā)生器來(lái)控制一個(gè)或多個(gè)光學(xué)頭，該信號(hào)發(fā)生器被設(shè)置為隨著光學(xué)介質(zhì)以恒定的線(xiàn)性速度在一個(gè)或多個(gè)光學(xué)頭下移動(dòng)以正弦圖案生成光學(xué)伺服標(biāo)記110的頻率。信號(hào)發(fā)生器的頻率可以被選擇為，以便它將滿(mǎn)足將在其上面使用光學(xué)介質(zhì)的光帶驅(qū)動(dòng)器系統(tǒng)的伺服跟蹤系統(tǒng)的采樣要求。一個(gè)或多個(gè)光學(xué)頭中的每個(gè)都可以專(zhuān)用于光學(xué)介質(zhì)上的光道130的帶，每個(gè)光學(xué)頭都具有其自己的致動(dòng)器，以便在“帶”130內(nèi)跟蹤和聚焦。每個(gè)頭的運(yùn)動(dòng)范圍都可以與相鄰的光學(xué)頭的“帶”重疊。一旦可以完全地標(biāo)記光學(xué)介質(zhì)，沿著數(shù)據(jù)光道140讀取的光學(xué)頭將隨著被標(biāo)記的介質(zhì)經(jīng)過(guò)光學(xué)頭而作為讀取的脈沖150的圖案來(lái)檢測(cè)伺服標(biāo)記110。脈沖讀取圖案150具有由伺服標(biāo)記110圖案所定義的頻率160以及當(dāng)光帶被光學(xué)頭移動(dòng)時(shí)光帶的速度。
脈沖讀取圖案150還具有占空比(duty cycle) 170，該占空比170可以與頭相對(duì)于專(zhuān)用于該頭的“ 帶”的邊緣的位置成比例。脈沖讀取圖案150的頻率160對(duì)于跨光道的“帶”的所有頭位置基本上都是相同的。由公式(Tdl/Tf)%所計(jì)算出的占空比170可以對(duì)于如讀脈沖圖案111和113所示的每個(gè)光道而不同。脈沖讀取圖案150可以被用來(lái)以基本上固定的方式將光學(xué)頭定位在任何所需的光道上。預(yù)定的頻率的鎖相環(huán)可以被用來(lái)在定位光學(xué)頭方面限定脈沖讀取圖案150。用于在光帶介質(zhì)上生成跟蹤伺服圖案的方法，如此處所描述的，可以使用此處所描述的修改的光帶處理設(shè)備來(lái)執(zhí)行。參考圖2，可以通過(guò)帶基薄膜烤箱-擠壓機(jī)與伸展器220來(lái)準(zhǔn)備光學(xué)介質(zhì)帶基薄膜210以供使用，以提供具有預(yù)定的厚度和抗張強(qiáng)度的光學(xué)介質(zhì)帶基薄膜210。然后，可以通過(guò)模具230來(lái)處理光學(xué)介質(zhì)帶基薄膜210，該模具230包括接觸帶基薄膜210的側(cè)面的多個(gè)細(xì)微特征和間距開(kāi)口 250。模具230構(gòu)成交替的高和低凹槽240，這些凹槽240的寬度可以窄些，并基本上沿著帶基薄膜210的全長(zhǎng)并基本上跨其全寬延伸。另外，模具230還可以從一側(cè)移動(dòng)到另一側(cè)，基本上垂直于帶基薄膜210的運(yùn)動(dòng)軸，以及上下移動(dòng)，基本上垂直于帶基薄膜210的平面。帶基薄膜210通過(guò)模具230的運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致帶基薄膜210中的細(xì)微凹槽240的圖案。凹槽240的一種可能的用途可以用于伺服跟足示O模具230的上下運(yùn)動(dòng)可以允許準(zhǔn)確的槽深控制。仔細(xì)地控制模具230的從一側(cè)到另一側(cè)運(yùn)動(dòng)將生成預(yù)定圖案的凹槽。一種這樣的可能的圖案可以是正弦圖案，該圖案可能已知對(duì)適當(dāng)?shù)乃欧櫽泻锰?。模?30可以生成預(yù)定的槽距260和預(yù)定的槽深270。盡管模具230可以被構(gòu)建為用于生成多種凹槽到凹槽的間距和凹陷寬度，但是，一種可能的凹槽到凹槽間距可以是大致O. 74 μ m。如此處所描述的光帶介質(zhì)可以被構(gòu)建為支持一寫(xiě)多讀操作，或可重寫(xiě)操作。受支持的操作可以部分地由層材料的類(lèi)型以及光帶介質(zhì)中的層的順序來(lái)確定。參考圖3，第一表面入射(空氣入射)WORM光帶介質(zhì)的實(shí)施例包括頂涂層302、外涂層304、相變層308、反射層310、壓花層312、帶基薄膜或襯底314，以及背涂層318。頂涂層302，由濺射過(guò)程所施加的有機(jī)耐劃薄膜，為介質(zhì)的其他層提供保護(hù)層。頂涂層302可包括防反射特性(例如，低折射指數(shù))以防止不希望的激光320從介質(zhì)內(nèi)的各層的反射。在圖3的可能的實(shí)施例中，外涂層304可以是在光學(xué)上透明的，由諸如ZnS (商品名稱(chēng)ZS80)之類(lèi)的材料制成的接近于零吸收的保護(hù)層?？闪磉x地，外涂層304也可以包含Si02或可以保護(hù)較低層免受物理?yè)p壞的其他這樣的材料。外涂層304可以通過(guò)濺射過(guò)程來(lái)施加，并可包括防反射材料，以使激光320更有效地穿透它。在此可能的實(shí)施例中，相變涂層308可以是相變合金，如Ge-Sb-Te (鍺-銻-碲)，然而，也可以包括被稱(chēng)為寫(xiě)入亮(write-bright)相變材料的其他相變材料。當(dāng)接受到來(lái)自激光320的充分的熱量時(shí)，寫(xiě)入亮材料從無(wú)定形變?yōu)榫?。一旦變化，材料的成分防止它變回到無(wú)定形相。所產(chǎn)生的晶態(tài)點(diǎn)，比周?chē)臒o(wú)定形材料反射性更強(qiáng)，相對(duì)于周?chē)膮^(qū)域產(chǎn)生高對(duì)比度，可以是用于在WORM光帶介質(zhì)中存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的裝置。在此可能的實(shí)施例中，可以使用濺射過(guò)程來(lái)創(chuàng)建相變薄膜308。
由諸如鋁、或銻之類(lèi)的金屬材料制成的反射層310從穿過(guò)相變層308的激光320反射光。反射層310可以使用電子束來(lái)創(chuàng)建，可以熱蒸發(fā)，可以濺射，可以離子束沉積，或者可以利用類(lèi)似的過(guò)程來(lái)創(chuàng)建。反射層310進(jìn)一步衰減來(lái)自上面的光，它還從下面反射光，從而衰減并阻止來(lái)自上方和下方的任何光穿過(guò)和與激光320混合，這可能會(huì)在額定的反射的激光320中產(chǎn)生噪聲。反射層310還可有助于相變層308的結(jié)晶，通過(guò)促進(jìn)晶核形成，來(lái)產(chǎn)生合適的熱剖面。壓花層312包含用于伺服跟蹤的物理凸區(qū)和凹槽結(jié)構(gòu)。壓花層312可以通過(guò)鼓壓花和紫外線(xiàn)固化設(shè)備從單體流體制成，其中，它可以 被壓花有凸區(qū)和凹槽結(jié)構(gòu)，并同時(shí)被固化。在固化時(shí)，它從液體單體轉(zhuǎn)換固態(tài)聚合物，并可以永久地附著于襯底314。在壓花層312下面可以是提供機(jī)械支撐的襯底或帶基薄膜314?？梢詮闹T如聚萘二酸乙二醇酯(PEN)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)之類(lèi)的高性能熱塑性聚酯薄膜，或具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械、熱以及吸水性的用于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)產(chǎn)品的類(lèi)似的材料來(lái)制造帶基薄膜314。背涂層318可以被沉積在帶基薄膜314的背面。背涂層318可以是部分地導(dǎo)電層，以最小化靜電荷的積累，并具有充當(dāng)釋放在光帶子系統(tǒng)操作過(guò)程中所生成的殘存空氣的管道的紋理化表面。另外，背涂層318光學(xué)特性吸收和擴(kuò)散穿透反射層310的入射激光320。背涂層318可以是從包括通過(guò)漿液涂敷、鋁濺射層，以及鎳鉻濺射層所產(chǎn)生的炭黑薄膜的集合中選擇的材料中的一種。在一個(gè)實(shí)施例中，圖3的可能的實(shí)施例可以用于多波長(zhǎng)讀回到光學(xué)頭中。參考圖4，可以示出第一表面入射(空氣入射)可重寫(xiě)光帶介質(zhì)的實(shí)施例。在圖4的實(shí)施例中，可以在相變層308和反射層310之間插入介電材料402。介電層402將相變層308中的熱量限制到很小的量，以便促進(jìn)寫(xiě)入和擦除過(guò)程。介電層402可以包括ZnS、Si02，或類(lèi)似的材料，并可以通過(guò)濺射過(guò)程來(lái)產(chǎn)生。厚度可能需要是這樣的，以便它可以在光學(xué)上透明。在圖4的可能的實(shí)施例的介質(zhì)中，相變層308可以由允許使用寫(xiě)入暗(write-dark )技術(shù)的晶體材料制成。寫(xiě)入暗技術(shù)使用高強(qiáng)度的激光來(lái)將晶體材料的區(qū)域轉(zhuǎn)換為非反射區(qū)域，導(dǎo)致寫(xiě)入數(shù)據(jù)標(biāo)記，并使用中等強(qiáng)度的激光，通過(guò)將數(shù)據(jù)標(biāo)記返回到其晶態(tài)，來(lái)擦除數(shù)據(jù)標(biāo)記。參考圖5，可以示出第二表面入射(帶基薄膜入射)介質(zhì)的實(shí)施例，示出了圖3的各層的交替的排序。在此實(shí)施例中，激光320可以穿過(guò)頂涂層302、帶基薄膜314、壓花層312，以及外涂層304，被相變層308反射，并傳播回光學(xué)頭檢測(cè)器。此介質(zhì)中的各層的順序可以是頂涂層302、襯底或帶基薄膜314、壓花層312、外涂層304、相變層308、反射層310，以及背涂層318。圖5的實(shí)施例提供了使頂涂層302上的任何雜質(zhì)保持在激光320的焦平面之外的優(yōu)點(diǎn)。另外，帶基薄膜314還可以是在光學(xué)上透明的，低雙折射性材料，以在激光320穿過(guò)帶基薄膜314時(shí)防止激光320的失真。帶基薄膜314的合適的材料可以是聚碳酸酯、SpaltanPET等等。參考圖6，可以示出第二表面入射(帶基薄膜入射)可重寫(xiě)介質(zhì)的實(shí)施例。此實(shí)施例在相變層308和反射層310之間包括介電層602。介電層602將相變層308中的熱量限制到很小的量，以便促進(jìn)寫(xiě)入和擦除過(guò)程。介電層602可以包括ZnS、Si02，或類(lèi)似的材料，并可以通過(guò)濺射過(guò)程來(lái)產(chǎn)生。厚度可能需要是這樣的，以便它可以在光學(xué)上透明。如此處所描述的，光帶介質(zhì)可以修改，以由于非晶性相位和晶態(tài)相位之間的介質(zhì)過(guò)渡而產(chǎn)生高光學(xué)對(duì)比度。參考圖7A，本發(fā)明的一種可能的實(shí)施例包括具有常規(guī)幾何形狀的相變介質(zhì)疊層710，該疊層710首先包括塑料或玻璃襯底730上的薄的金屬層720，然后相變層740，然后，介電層750。相變介質(zhì)疊層710可以適于使用空氣入射激光束760的配置。參考圖7B，包括圖7A的各層的交替層疊的可能的替換實(shí)施例可以適合于襯底-入射激光770配置。在圖7A和7B的可能的實(shí)施例中，當(dāng)金屬層720可以是銻(Sb)時(shí)，相變層740可以是Te-Ge-Sb (碲鍺-銻)三元合金，而介電層750可以ZnS/Si02，介質(zhì)疊層710表現(xiàn)出獨(dú)特的寫(xiě)入特征。參考圖8A，以相對(duì)較低的激光寫(xiě)入功率施加于介質(zhì)疊層10-110的相對(duì)較長(zhǎng)的寫(xiě) 入脈沖(大致50ns或更長(zhǎng))導(dǎo)致具有比未被寫(xiě)入的周?chē)h(huán)境820更高的反射率的被寫(xiě)入點(diǎn)810。具體而言，利用相對(duì)較低的激光寫(xiě)入功率的相對(duì)較長(zhǎng)的寫(xiě)入脈沖，材料達(dá)到結(jié)晶溫度，該結(jié)晶溫度可以低于熔解溫度，將發(fā)生結(jié)晶，導(dǎo)致寫(xiě)入亮點(diǎn)810。參考圖8B，相對(duì)較短的寫(xiě)入脈沖(大致20ns或更少)，以及相對(duì)較高的激光寫(xiě)入功率，導(dǎo)致與入売和與入暗，包括由被売環(huán)包圍的暗中心構(gòu)成的被與入點(diǎn)830。売環(huán)可以由相變材料的部分結(jié)晶所導(dǎo)致。參考圖9，在相對(duì)較高的激光寫(xiě)入功率時(shí)，相變層740達(dá)到接近寫(xiě)入脈沖峰值的熔點(diǎn)，被熔化的材料的表面張力將材料從激光脈沖吸引到結(jié)晶的亮環(huán)910，并構(gòu)成凹坑920。隨著激光脈沖被去除材料快速地冷卻，凹坑可以是永久性的。凹坑920與亮環(huán)910的對(duì)比度可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)勝過(guò)圖8A中的傳統(tǒng)的亮點(diǎn)810以及其未被寫(xiě)入的周?chē)h(huán)境。參考圖10，由寫(xiě)入亮1010和寫(xiě)入暗1020所生成的信號(hào)測(cè)量值的比較示出了由較大的振幅波形所表示的寫(xiě)入暗1020的卓越的對(duì)比度。光帶系統(tǒng)可包括如此處所描述的用于與使用預(yù)先格式化的光道布局的光帶介質(zhì)一起使用的伺服跟蹤系統(tǒng)。參考圖11，格式化的光學(xué)介質(zhì)1110可以具有分段的光道布局。光帶輸送子系統(tǒng)1130以相對(duì)于數(shù)據(jù)/伺服光學(xué)感應(yīng)元件1120的基本上恒定的速度移動(dòng)介質(zhì)1110。伺服系統(tǒng)定序器1140從感應(yīng)元件1120接收表示從光學(xué)介質(zhì)1110檢測(cè)到的信息的信號(hào)。通過(guò)使用檢測(cè)到的信息，定序器1140從包括初始化、校準(zhǔn)、跟蹤、跳隙(Jump-gap)以及跳軌(Jump-track)的集合中選擇伺服系統(tǒng)1150的操作模式。在初始化模式下，伺服系統(tǒng)1150執(zhí)行初始化步驟。在校準(zhǔn)模式下，伺服系統(tǒng)1150可以確定對(duì)于跳隙、跳軌以及跟蹤模式的最佳設(shè)置。初始化和校準(zhǔn)模式可以在伺服系統(tǒng)1150通電期間發(fā)生。參考圖12，介質(zhì)1110上的段1210包括帶有長(zhǎng)度1230的光道1220。段1210可以被長(zhǎng)度1240的間隙(缺陷)分離。在段1210內(nèi)，每個(gè)光道1220都表現(xiàn)出表示例如前同步信號(hào)1212、數(shù)據(jù)1214或后同步信號(hào)1216的已調(diào)擺動(dòng)的字段，在一個(gè)實(shí)施例中，前同步信號(hào)1212包括多個(gè)同步1250和地址1260子字段。后同步信號(hào)1216字段可以在數(shù)據(jù)1214的末尾之后提供填充區(qū)域，并可包括與前同步信號(hào)1212相同類(lèi)型的信息。隨著介質(zhì)1110跨越過(guò)光學(xué)感應(yīng)元件1120，這些字段按順序呈現(xiàn)給伺服系統(tǒng)1150，光學(xué)感應(yīng)元件1120被配置成讀取已調(diào)擺動(dòng)的字段。由于前同步信號(hào)1212和后同步信號(hào)1216跨在間隙上，因此，光學(xué)感應(yīng)元件1120的檢測(cè)可以向伺服系統(tǒng)1150發(fā)出信號(hào)，光學(xué)感應(yīng)元件1120正在接近(在后同步信號(hào)1216的情況下)或者遠(yuǎn)離間隙移動(dòng)(在前同步信號(hào)1212的情況下)。如此，前同步信號(hào)1212和后同步信號(hào)1216表達(dá)間隙位置信息。在初始化和/或校準(zhǔn)模式下，伺服系統(tǒng)1150可以執(zhí)行下列步驟以在執(zhí)行跳隙之后學(xué)習(xí)在沿著介質(zhì)1110行進(jìn)的方向?qū)⒐鈱W(xué)感應(yīng)元件1120定位在哪里。假設(shè)在此示例中數(shù)據(jù)1214最初被定位在與光學(xué)感應(yīng)元件1120相鄰，伺服系統(tǒng)1150可以命令介質(zhì)1110移動(dòng)(從右到左)，直到光學(xué)感應(yīng)元件1120檢測(cè)到后同步信號(hào)1216。在檢測(cè)到后同步信號(hào)1216之后，伺服系統(tǒng)1150還可以進(jìn)一步命令介質(zhì)1110在預(yù)定的時(shí)間段(在該時(shí)間段內(nèi)，感應(yīng)元件1120不嘗試聚焦于介質(zhì)1110上)移動(dòng)(從右到左)，以便接近間隙和前同步信號(hào)1212最終傳遞光學(xué)感應(yīng)元件1120，并且間隙的另一側(cè)的數(shù)據(jù)1214被定位于與光學(xué)感應(yīng)元件1120相鄰的位置?；谂c介質(zhì)1110相關(guān)聯(lián)的規(guī)范，此被命令的移動(dòng)的預(yù)定義的時(shí)間(“第一時(shí)間”)可以預(yù)先加載到伺服系統(tǒng)1150中。也可以使用諸如測(cè)試等等之類(lèi)的其他技術(shù)來(lái)了解實(shí)現(xiàn)這樣的定位所需的時(shí)間。然后，伺服系統(tǒng)1150可以命令光學(xué)感應(yīng)元件1120重新聚焦。一旦光學(xué)感應(yīng)元件1120被重新聚焦于數(shù)據(jù)1214，伺服系統(tǒng)1150就可以命令介質(zhì)1110在相反方 向上移動(dòng)(從左到右)，以便早先傳遞的間隙開(kāi)始接近光學(xué)感應(yīng)元件1120。伺服系統(tǒng)1150可以繼續(xù)命令介質(zhì)1110的這種移動(dòng)，并可以跟蹤與此移動(dòng)相關(guān)聯(lián)的時(shí)間(“第二時(shí)間”)，直到光學(xué)感應(yīng)元件1120檢測(cè)到前同步信號(hào)1212或丟失焦點(diǎn)。在檢測(cè)到前同步信號(hào)1212之后，伺服系統(tǒng)1150可以記錄介質(zhì)1110相對(duì)于光學(xué)感應(yīng)元件1120的線(xiàn)性位置和/或記錄“第二時(shí)間”。如果相反光學(xué)感應(yīng)元件1120丟失焦點(diǎn)并且不能重新聚焦，則伺服系統(tǒng)1150可以將介質(zhì)1110標(biāo)識(shí)為有缺陷。由于介質(zhì)1110的間隙周期性地重復(fù)(如此處所討論的，介質(zhì)1110被具有間隙的壓花鼓壓花——如此，例如，鼓旋轉(zhuǎn)十周將產(chǎn)生介質(zhì)1110上的十組重復(fù)的間隙)，因此，對(duì)于周期性的組的間隙中的每個(gè)，可以執(zhí)行上面的步驟。伺服系統(tǒng)Ilio可以基于前同步信號(hào)1212和/或后同步信號(hào)1216中的信息來(lái)確定它正在遇到該組中的哪一個(gè)間隙，假設(shè)周期性的組的每一間隙都與獨(dú)特的前同步信號(hào)1212和/或后同步信號(hào)1216相關(guān)聯(lián)。伺服系統(tǒng)1150現(xiàn)在具有確定在跳隙操作完成時(shí)將光學(xué)感應(yīng)元件1120定位在何處的信息。例如，假設(shè)伺服系統(tǒng)1150命令介質(zhì)1110以一般而言恒定的速率移動(dòng)(在任一方向)，可以取“第一時(shí)間”和“第二時(shí)間”之間的差來(lái)確定在跳隙操作期間移動(dòng)介質(zhì)1110的時(shí)間的時(shí)長(zhǎng)(在該時(shí)間內(nèi)，光學(xué)感應(yīng)元件1120不嘗試聚焦于介質(zhì)1110上)。介質(zhì)1110在跳隙操作期間移動(dòng)的線(xiàn)性距離可以通過(guò)取(I) “第一時(shí)間”和介質(zhì)1110在“第一時(shí)間”內(nèi)的移動(dòng)速率的乘積和(ii) “第二時(shí)間”和介質(zhì)1110在“第二時(shí)間”內(nèi)的移動(dòng)速率的乘積之間的差來(lái)確定。其他情形也是可能的。參考圖11和13，當(dāng)由感應(yīng)元件1120檢測(cè)到后同步信號(hào)1216時(shí)，定序器1140將選擇從跟蹤模式改變?yōu)樘赌Ｊ健．?dāng)處于跳隙模式時(shí)，可以執(zhí)行上文所討論的使用當(dāng)在校準(zhǔn)模式下時(shí)確定的設(shè)置的間隙1310上的跳隙運(yùn)動(dòng)。跳隙運(yùn)動(dòng)將感應(yīng)元件1120定位在估計(jì)的光道位置處，并可以啟動(dòng)跟蹤模式。由于光道1220可能不會(huì)跨間隙1310對(duì)齊，因此，在初始化和/或校準(zhǔn)模式下，伺服系統(tǒng)1150可以執(zhí)行下列步驟以了解哪一個(gè)間隙后光道最接近地與給定間隙前光道對(duì)齊。當(dāng)聚焦于具有指定的物理地址的特定光道(可能在介質(zhì)1110的邊緣旁邊)并在遇到重復(fù)的間隙組的第一間隙之前，伺服系統(tǒng)1150可以命令介質(zhì)1110在第一方向(從右到左)移動(dòng)，并記錄該特定光道的指定的物理地址。在檢測(cè)到前同步信號(hào)1214之后，當(dāng)介質(zhì)1110(以及，因此間隙1310)移動(dòng)得經(jīng)過(guò)感應(yīng)元件1120時(shí)(當(dāng)然，在該時(shí)間，感應(yīng)元件不嘗試聚焦于介質(zhì)1110上)，伺服系統(tǒng)1150可以命令光學(xué)感應(yīng)元件1120 —般性地保持其位置。一旦間隙1310經(jīng)過(guò)光學(xué)感應(yīng)元件1120，伺服系統(tǒng)1150就可以命令感應(yīng)元件1120重新聚焦并確定/記錄它被聚焦于的間隙后的光道的物理光道地址。伺服系統(tǒng)1150可以確定在間隙1310使用上文所描述的技術(shù)或任何其他合適的技術(shù)通過(guò)感應(yīng)元件1120時(shí)光學(xué)感應(yīng)元件1120不聚焦于介質(zhì)1110的時(shí)長(zhǎng)。由于光道1220可能不會(huì)跨間隙1310對(duì)齊，因此，記錄的間隙前和間隙后光道地址可能不相同。然后，伺服系統(tǒng)1150可以將單一邏輯地址指定到記錄的物理地址。對(duì)于重復(fù)的間隙組的每個(gè)獨(dú)特的間隙，伺服系統(tǒng)1150可以繼續(xù)上面的過(guò)程。即，如果在重復(fù)的組中有四個(gè)獨(dú)特的間隙，則伺服系統(tǒng)1150可以執(zhí)行上面的過(guò)程四次，以便發(fā)現(xiàn)最接近地對(duì)齊的并且分別具有例如n，n+l，n-2和n+3的物理光道地址的一組四個(gè)分段的光道將被指定，例如，單一邏輯地址，η* (其中，η和η*具有整數(shù)值)。此信息可以通過(guò)光學(xué) 感應(yīng)元件1120被存儲(chǔ)到介質(zhì)1110 (或存儲(chǔ)在別處)和/或保存在與伺服系統(tǒng)1150相關(guān)聯(lián)的存儲(chǔ)器中。為確定介質(zhì)1110的其余光道的物理光道地址到邏輯光道地址的映射，伺服系統(tǒng)1150可以增大和/或縮小發(fā)現(xiàn)最接近地對(duì)齊的四個(gè)分段的光道(使用上面的示例)以及相對(duì)應(yīng)的指定的邏輯地址。具體而言(再次使用上面的示例)，伺服系統(tǒng)1150可以分別將物理光道地址η，η+1，η-2和n+3增大到n+1，n+2，n_l和n+4，并將相對(duì)應(yīng)的邏輯地址η*增大到η*+1等等。表I示出了這樣的增大和/或縮小以完成物理到邏輯地址映射的示例表I物理地址到邏輯地址的映射
物理道地址邏輯道地址
η-I，η, 11-3，n+2n*-l
η, η+1, η-2, η+3η*
η+1, η+2，η-1, η+4η*+1
η+2，η+3, η, η+5η*+2在正常的跟蹤模式下，如果，例如，光學(xué)感應(yīng)元件1120被聚焦于邏輯光道地址η%隨著介質(zhì)1110 (因此間隙)經(jīng)過(guò)感應(yīng)元件1120，伺服系統(tǒng)1150應(yīng)該預(yù)期遇到物理光道地址η, η+1, η-2和η+3，以該相對(duì)順序。繼續(xù)上面的示例，如果在跳隙操作之后感應(yīng)元件1120感應(yīng)間隙前物理光道地址η，然后感應(yīng)間隙后物理光道地址η+1，則伺服系統(tǒng)不必執(zhí)行跳道操作。然而，如果感應(yīng)元件1120在跳隙操作之后感應(yīng)間隙前物理光道地址η和間隙后物理光道地址η-3，則伺服系統(tǒng)可能需要執(zhí)行跳道操作以查找物理光道η+1。例如，伺服系統(tǒng)1150內(nèi)的解調(diào)器/解碼器可以處理同步1250和地址1260信息，以同步和解碼感應(yīng)元件1120可以被定位在其上的光道的地址?；诮?jīng)解碼的地址，伺服系統(tǒng)1150確定要跳到的光道的數(shù)量，以便移動(dòng)到所需的光道，并可以啟動(dòng)跳道操作。通過(guò)使用在校準(zhǔn)和/或初始化模式下確定的設(shè)置，感應(yīng)元件1120移動(dòng)到所需的光道位置并啟動(dòng)跟蹤模式。跟蹤模式再一次解碼光道地址，并基于此信息，啟動(dòng)另一個(gè)跳道，或在跟蹤模式下繼續(xù)。一旦可以驗(yàn)證所需的光道，跟蹤模式就可以簡(jiǎn)單地使用反饋系統(tǒng)來(lái)跟隨嵌入在介質(zhì)中的跟蹤信號(hào)(未示出)。如此處所描述的編碼有預(yù)定圖案的光帶介質(zhì)可以對(duì)適用于解釋編碼的圖案的光帶系統(tǒng)有用。參考圖14，示出了正弦伺服信號(hào)1402和鑒別器濾波器輸出信號(hào)1404。正弦曲線(xiàn) 伺服信號(hào)1402的頻率可以確定調(diào)制的載波頻率以及伺服解調(diào)器1502的時(shí)間選擇。在正弦伺服信號(hào)1402中，每?jī)蓚€(gè)周期都可以表示一個(gè)單元(cell) 1418。每個(gè)單元1418都可以在索引和地址比特上攜帶信息。單元1418內(nèi)的一個(gè)周期正弦相位翻轉(zhuǎn)可以表示索引比特1410 ;索引比特1410可以表明地址字段1412的開(kāi)始或鎖相環(huán)(PLL)子字段1414。多個(gè)地址子字段1418可以構(gòu)成伺服信號(hào)1402的全地址。在正弦伺服信號(hào)1402的任何單元1418中，兩個(gè)正弦周期的不存在可以表示零比特，而兩個(gè)正弦周期的存在可以表示一個(gè)比特的地址，因此，地址字段1412可以通過(guò)正弦伺服信號(hào)1402來(lái)表示。鑒別器濾波器輸出信號(hào)1404可以是正弦伺服信號(hào)1402的索引比特1410的表示形式。在一個(gè)實(shí)施例中，索引比特1410信號(hào)振幅可以大于預(yù)定的表示索引比特1410的索引閾值；索引比特1410可以表明地址字段1412的開(kāi)始。光道的地址字段1412可以重復(fù)許多次，以提供數(shù)據(jù)信號(hào)健壯性和改善的信噪比；對(duì)于光帶的2Λπι光道，地址字段1412可以具有M個(gè)單元。地址字段1412可以由相同長(zhǎng)度的PLL字段1414交錯(cuò)，并可以確保PLL字段1414和定序器的正確操作。參考圖15，可以示出伺服解調(diào)器和解碼器1502的框圖實(shí)施例。伺服解調(diào)器和解碼器1502可包括鑒別器濾波器1504、閾值檢測(cè)器1508、PLL 1510、同步器1512、同步的整流器1514、同步的可重新設(shè)置的積分器1518，以及第二閾值檢測(cè)器1520。鑒別器濾波器1504可以檢測(cè)從介質(zhì)檢測(cè)到的圖案信號(hào)的索引脈沖。索引脈沖(IdxPls)信號(hào)1604可以用于鎖相環(huán)(PLU1510。來(lái)自PLL 1510的VCO信號(hào)可以通過(guò)同步器1512同步，并用于同步的整流1514和SigIn 1522的可重新設(shè)置的積分1518。從同步的可重新設(shè)置的積分器1518中接收的閾值檢測(cè)器1520可以允許檢測(cè)地址1412。參考圖16，可以示出由伺服解調(diào)器和解碼器1502所生成的信號(hào)的實(shí)施例。SigIn1602表示正弦伺服信號(hào)1402，并可包括索引比特1410、地址字段1412，以及PLL字段1414。IdxPlx信號(hào)1604可以表示地址字段1412的開(kāi)始處的索引比特1410。SigRec 1608可以是Siglnl602信號(hào)的整流信號(hào)，可以包含索引比特1410、地址字段1412，以及PLL字段1414的整流信號(hào)。IntOut 1610和AddPls 1612信號(hào)可以表示從伺服解調(diào)器和解碼器1502輸出的地址字段1412。如此處所描述的，在光帶相變介質(zhì)上寫(xiě)入永久性的并且可區(qū)別的伺服標(biāo)記，可以對(duì)適用于解釋編碼圖案的光帶系統(tǒng)有用。此處所公開(kāi)的方法和系統(tǒng)可包括在光學(xué)介質(zhì)上寫(xiě)入本質(zhì)上可以是永久性的以及可輕松地與數(shù)據(jù)區(qū)別開(kāi)來(lái)的伺服標(biāo)記的獨(dú)特方法。參考圖17，除由光學(xué)頭接收到的讀回信號(hào)1712之外，還示出了不同相變光帶介質(zhì)標(biāo)記1710的實(shí)施例。不同的介質(zhì)標(biāo)記1710可包括無(wú)標(biāo)記1702、白標(biāo)記1704,以及暗標(biāo)記1708。在一個(gè)實(shí)施例中，讀回信號(hào)1712極性對(duì)于無(wú)標(biāo)記可以是中性的，對(duì)于白標(biāo)記1704可以是正的，而對(duì)于暗標(biāo)記1708是負(fù)的。在“寫(xiě)入亮”相變介質(zhì)中，可以通過(guò)對(duì)激光二極管施加特定量的功率以將光學(xué)介質(zhì)的狀態(tài)從無(wú)定形(低反射率)改變?yōu)榫B(tài)(高反射率)，來(lái)寫(xiě)入數(shù)據(jù)標(biāo)記。如果施加于激光二極管的功率超出此特定“帶”，則可以在介質(zhì)上創(chuàng)建永久性的暗標(biāo)記1708 (無(wú)反射率)，由于其極性以及其大小，永久性的暗標(biāo)記1708可以與由設(shè)備讀寫(xiě)通道作出的數(shù)據(jù)寫(xiě)入標(biāo)記1704區(qū)別開(kāi)來(lái)。暗標(biāo)記1708可以不被覆蓋，因此，對(duì)于介質(zhì)上的伺服圖案形成是理想的。參考圖18，可以示出嵌入帶有數(shù)據(jù)字段1810的伺服標(biāo)記1812的實(shí)施例。在采樣的伺服方法中，在預(yù)先格式化介質(zhì)過(guò)程中，可以使用數(shù)據(jù)標(biāo)記在相變介質(zhì)1802中嵌入光道地址和伺服定位信息。在一個(gè)實(shí)施例中，使用暗標(biāo)記1708在光學(xué)相變光帶介質(zhì)1802上形 成伺服標(biāo)記1812 (伺服字段)可以與白標(biāo)記1704數(shù)據(jù)字段1810區(qū)別開(kāi)來(lái)。暗標(biāo)記1708伺 服字段1812可以被嵌入到白標(biāo)記1704數(shù)據(jù)字段1810中，以為數(shù)據(jù)字段1810提供同步和地址信息。參考圖19，可以示出光帶介質(zhì)1802上的暗標(biāo)記1804和白標(biāo)記1808的接收到的讀回信號(hào)1908的實(shí)施例。如在圖18中所討論的，伺服字段1812的暗標(biāo)記1802可以被嵌入到光帶介質(zhì)1802上的白標(biāo)記1808的數(shù)據(jù)字段1810中。如圖171所示，暗標(biāo)記1804可以將負(fù)的讀回信號(hào)1902提供到光學(xué)頭。白標(biāo)記1808可以將正的讀回信號(hào)1904提供到光學(xué)頭。在一個(gè)實(shí)施例中，結(jié)果可以是可以為暗標(biāo)記1804伺服字段1812和白標(biāo)記1808數(shù)據(jù)字段1810兩者提供可區(qū)別的極性信號(hào)的讀回信號(hào)1908。讀回信號(hào)1908的可區(qū)別的極性可以允許讀取伺服字段1812和數(shù)據(jù)字段1810，這些伺服字段可以被寫(xiě)入在相同光帶1802光道上。參考圖20，第一表面入射(空氣入射)WORM光帶介質(zhì)的實(shí)施例包括頂涂層2002、夕卜涂層2004、相變層2008、金屬層2030、反射層2010、壓花層2012、帶基薄膜或襯底2014，以及背涂層2018。頂涂層2002可以是由濺射過(guò)程所施加的有機(jī)耐劃薄膜，為介質(zhì)的其他層提供保護(hù)層。頂涂層2002可包括防反射特性(例如，低折射指數(shù))以防止不希望的激光2020從介質(zhì)內(nèi)的各層的反射。在圖20的可能的實(shí)施例中，外涂層2004可以是在光學(xué)上透明的，由諸如ZnS (商品名稱(chēng)ZS80)之類(lèi)的材料制成的接近于零吸收的保護(hù)層?？闪磉x地，外涂層2004也可以包含Si02或可以保護(hù)較低層免受物理?yè)p壞的其他這樣的材料。外涂層2004可以通過(guò)濺射過(guò)程來(lái)施加，并可包括防反射材料，以使激光2020更有效地穿透它。在此可能的實(shí)施例中，相變涂層2008可以是相位變化合金，如Te-Ge-Sb(碲-鍺-銻)，然而，也可以包括被稱(chēng)為寫(xiě)入亮相變材料的其他相變材料。當(dāng)由Te-Ge-Sb制成時(shí)，相變涂層2008可以大致十九納米厚。當(dāng)接受到來(lái)自激光2020的充分熱量時(shí)，寫(xiě)入亮材料從無(wú)定形變?yōu)榫?。一旦變化，材料的成分防止它變回到無(wú)定形相。所產(chǎn)生的晶態(tài)點(diǎn)，比周?chē)臒o(wú)定形材料反射性更強(qiáng)，相對(duì)于周?chē)膮^(qū)域產(chǎn)生高對(duì)比度，可以是用于在WORM光帶介質(zhì)中存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的裝置。在此可能的實(shí)施例中，可以使用濺射過(guò)程來(lái)創(chuàng)建相變薄膜2008。金屬層2030可以是非常薄的鋁層。在此實(shí)施例中，金屬層2030可以大致由大致I到2納米厚的鋁制成。撞擊相變材料的激光的能量將其能量轉(zhuǎn)移到帶有三維高斯剖面的材料。激光撞擊區(qū)的中心將快速地升溫到相變材料熔點(diǎn)，而側(cè)翼區(qū)域?qū)⒅簧仙浇Y(jié)晶溫度，該結(jié)晶溫度可以低于熔解溫度。此能量轉(zhuǎn)移過(guò)程會(huì)產(chǎn)生類(lèi)似于“甜甜圈”的標(biāo)記，中間有一個(gè)孔，被亮的環(huán)包圍。這樣的標(biāo)記會(huì)產(chǎn)生高對(duì)比度以及高信噪比的優(yōu)點(diǎn)。另外，該過(guò)程可以非?？?，使得以非?？斓臄?shù)據(jù)速率來(lái)使用這樣的介質(zhì)進(jìn)行記錄成為可能。然而，在沒(méi)有金屬層2030的情況下，帶有大于大致O. 3mW的讀取功率的激光可以導(dǎo)致讀取蝕刻，這可能是介質(zhì)的相變層中的非故意的亮光道。金屬層2030增強(qiáng)介質(zhì)，以便它不僅提供高對(duì)比度的所有理想的特征以及快速的WORM介質(zhì)，而且對(duì)讀取蝕刻的抵御力也非常強(qiáng)。利用此實(shí)施例，帶有高達(dá)至少O. 8直到差不多ImW的讀取功率的激光將不會(huì)導(dǎo)致讀取蝕刻問(wèn)題。在此實(shí)施例中，不僅可以降低對(duì)讀取 蝕刻的敏感性，而且相對(duì)于沒(méi)有金屬層2030的光學(xué)介質(zhì)，寫(xiě)入標(biāo)記的載波噪聲比可以改進(jìn)大約5到IOdB。金屬層2030可以通過(guò)在激光寫(xiě)入期間充當(dāng)防止反射層2010中的金屬遷移到相變層2008中的屏障來(lái)提供這些優(yōu)點(diǎn)?？闪磉x地，金屬層2030中的特定原子鋁可以在沉積期間遷移到相變層2008中也是可以的。這樣的遷移可以推遲相變層2008結(jié)晶過(guò)程而不會(huì)在本質(zhì)上改變?nèi)劢鉁囟?。由諸如鋁或銻之類(lèi)的金屬材料制成的反射層2010從穿過(guò)相變層2008和薄的金屬層2030的激光2020反射光。當(dāng)由銻制成時(shí)，反射層2010可以大致20到30納米厚。反射層2010可以使用電子束來(lái)創(chuàng)建，可以熱蒸發(fā)，可以濺射，可以離子束沉積，或者可以利用類(lèi)似的過(guò)程來(lái)創(chuàng)建。反射層2010進(jìn)一步從下面反射光，衰減并阻止來(lái)自下方的任何光穿過(guò)和與激光2020混合，這可能會(huì)在反射激光2020中產(chǎn)生噪聲。反射層2010還可有助于相變層2008的結(jié)晶，通過(guò)促進(jìn)晶核形成，來(lái)產(chǎn)生合適的熱剖面。壓花層2012包含用于伺服跟蹤的物理凸區(qū)和凹槽結(jié)構(gòu)。壓花層2012可以通過(guò)鼓壓花和紫外線(xiàn)固化設(shè)備從單體流體制成，其中，它可以被壓花有凸區(qū)和凹槽結(jié)構(gòu)，并同時(shí)被固化。在固化時(shí)，它從液體單體轉(zhuǎn)換成固態(tài)聚合物，并可以永久地附著于襯底2014。在壓花層2012下面可以是提供機(jī)械支撐的襯底或帶基薄膜2014。可以從諸如聚萘二酸乙二醇酯(PEN)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)之類(lèi)的高性能熱塑性聚酯薄膜，或具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械、熱以及吸水性的用于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)產(chǎn)品的類(lèi)似材料來(lái)制造帶基薄膜2014。背涂層2018可以被沉積在帶基薄膜2014的背面。背涂層2018可以是部分導(dǎo)電層，以最小化靜電荷的積累，并具有充當(dāng)釋放在光帶子系統(tǒng)操作過(guò)程中所生成的殘存空氣的管道的紋理化表面。另外，背涂層2018光學(xué)特性吸收和擴(kuò)散穿透反射層2010的入射激光2020。背涂層2018可以是從包括通過(guò)漿液涂敷、鋁濺射層，以及鎳鉻濺射層所產(chǎn)生的炭黑薄膜的集合中選擇的材料中的一種。背涂層2018，當(dāng)由鋁、鎳鉻或其他金屬材料制成時(shí)，也可以應(yīng)用于磁帶介質(zhì)，以實(shí)現(xiàn)類(lèi)似的靜電放電以及殘存空氣的釋放。圖2可以是在對(duì)圖20中所描繪的介質(zhì)執(zhí)行3T操作時(shí)捕捉到的測(cè)試信號(hào)的波形的表示形式，通過(guò)去除外涂層104修改了介質(zhì)。由于外涂層2004可以是光學(xué)抗反射干擾層，因此，在3T寫(xiě)入操作期間，它不會(huì)顯著地影響介質(zhì)的剩余層的工作。信號(hào)2110描繪了表示讀取介質(zhì)上的激光標(biāo)記的結(jié)果的讀取信號(hào)的時(shí)域電壓測(cè)量值。信號(hào)2120描繪了用來(lái)確定讀取信號(hào)何時(shí)具有相關(guān)數(shù)據(jù)的控制信號(hào)。從圖21中可以看出，在當(dāng)信號(hào)2120可以是低的時(shí)間段2125內(nèi)，讀取信號(hào)具有相關(guān)數(shù)據(jù)。可以使用5ms每個(gè)分時(shí)刻度來(lái)捕捉信號(hào)2110和2120，并將它們顯示在示波器上。通過(guò)使用示波器的能力，可以使用I. 46 μ s每個(gè)分時(shí)刻度，作為信號(hào)2140，選擇并顯示讀取信號(hào)的代表性的部分2130。本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，圖21的波形描繪了圖20中所描繪的光學(xué)介質(zhì)的實(shí)施例的載波噪聲特征。敏感性圖表可以是示出了“微”變化對(duì)“宏”特性的影響的派生工具。圖22、23、24以及25示出了對(duì)薄膜疊層中的每一層的厚度的變化的反射敏感性。在圖22和23中，主要只對(duì)最后一層感興趣；在圖24中，主要只對(duì)第一和第三層感興趣，而在圖25中，主要只對(duì)第二和第四層感興趣。 在圖22，23以及24所示出的設(shè)計(jì)中，請(qǐng)注意，無(wú)定形和晶態(tài)曲線(xiàn)可以是平行的，無(wú)定形曲線(xiàn)可以始終低于晶態(tài)曲線(xiàn)。圖23可以是圖22的擴(kuò)展，示出了甚至對(duì)于十倍的層厚度，曲線(xiàn)仍保持平行。圖24的延長(zhǎng)的曲線(xiàn)將示出相同的現(xiàn)象，并可以省略。圖25示出了帶有交叉的無(wú)定形和晶態(tài)曲線(xiàn)的實(shí)施例。這意味著，可以設(shè)計(jì)相變系統(tǒng)(例如，作為光帶介質(zhì)的一部分)可以在無(wú)定形狀態(tài)下具有高反射率，在晶態(tài)下具有低反射率，或者在晶態(tài)下具有高反射率，在無(wú)定形狀態(tài)下具有低反射率。這可以是寫(xiě)入亮或者寫(xiě)入暗系統(tǒng)。例如，常規(guī)的DVD光盤(pán)將不能在WORM光盤(pán)播放器中正常地運(yùn)轉(zhuǎn)，因?yàn)楫?dāng)光盤(pán)可能暴露給WORM激光束時(shí)，WORM光盤(pán)播放器將導(dǎo)致反射率的增大，而當(dāng)被暴露于激光束時(shí)，DVD光盤(pán)將會(huì)導(dǎo)致反射率降低。然而，LOTS驅(qū)動(dòng)器可以是WORM驅(qū)動(dòng)器，可擦除的光帶可以用于LOTS驅(qū)動(dòng)器中的唯一途徑可以是在可以這樣制造可擦除的光帶以便當(dāng)被暴露于激光束時(shí)其反射率增大的情況下。圖26中所描繪的設(shè)計(jì)示出了當(dāng)暴露于對(duì)應(yīng)于LOTS波長(zhǎng)的532nm的波長(zhǎng)的激光束時(shí)反射率增大。在各實(shí)施例中，由相變層組成的四層光帶，隨著各層的厚度的變化，無(wú)定形到晶態(tài)反射率變化可以從正的變?yōu)樨?fù)的。帶有可以交叉的無(wú)定形和晶態(tài)反射率曲線(xiàn)的介質(zhì)(例如，光帶介質(zhì))可以在無(wú)定形狀態(tài)下具有聞反射率，在晶態(tài)下具有低反射率，或者在晶態(tài)下具有聞反射率，在無(wú)定形狀態(tài)下具有低反射率。這可以是寫(xiě)入亮或者寫(xiě)入暗系統(tǒng)。在各實(shí)施例中，由相變層組成的四層光帶，隨著各層的厚度的變化，無(wú)定形到晶態(tài)反射率變化可以從正的變?yōu)樨?fù)的。光學(xué)介質(zhì)的初始化器可以包括將足以將相變介質(zhì)初始化為晶態(tài)的能量提供到光學(xué)介質(zhì)的大功率激光器。大功率激光器可以被較低功率的激光器自動(dòng)地聚焦到介質(zhì)的相變層上。然而，當(dāng)可以初始化帶有平行的反射率曲線(xiàn)(例如，如圖27所示)的介質(zhì)時(shí)，較低功率的激光器可以飽和。在各實(shí)施例中，可以利用通過(guò)較低功率的激光器自動(dòng)地聚焦的大功率激光器來(lái)初始化其相變反射率曲線(xiàn)可能不平行的四層光帶，其中，激光的波長(zhǎng)可以大致是使反射率曲線(xiàn)交叉的那樣(例如，如圖28所示)。因此，其聚焦波長(zhǎng)可能大致等于跨越波長(zhǎng)的介質(zhì)反射率的初始化器設(shè)備可能不被飽和。這樣的設(shè)備對(duì)帶有較短的波長(zhǎng)的相變材料是有益的。一種新穎的組成(REWORM)將包括在高反射率無(wú)定形狀態(tài)沉積，初始化到低反射率晶態(tài)，以及寫(xiě)入到高反射率無(wú)定形狀態(tài)。這種組成的優(yōu)點(diǎn)可包括更快的擦除時(shí)間，因?yàn)閺木B(tài)寫(xiě)入到無(wú)定形狀態(tài)不取決于相變介質(zhì)的本征晶體生長(zhǎng)機(jī)制，這包括對(duì)從無(wú)定形狀態(tài)變?yōu)榫B(tài)的最少時(shí)間的約束。此處可以公開(kāi)可以通過(guò)將相變介質(zhì)返回到低反射率狀態(tài)來(lái)擦除光帶的設(shè)備。這樣的設(shè)備將通過(guò)將高反射率信息改變?yōu)榈头瓷渎薁顟B(tài)來(lái)擦除在高反射率狀態(tài)下在光帶上寫(xiě)入的任何信息。這樣的設(shè)備可以作為獨(dú)立的、與用來(lái)在光帶上寫(xiě)入以及讀取信息的另一設(shè)備分開(kāi)的設(shè)備。具體而言，這樣的設(shè)備可以用于使用寫(xiě)入亮光帶的應(yīng)用中。 此處可以公開(kāi)這樣的設(shè)備當(dāng)與光帶介質(zhì)一起使用時(shí)，向光帶寫(xiě)入信息，掩蓋光帶上的任何預(yù)先寫(xiě)入的信息，使預(yù)先寫(xiě)入的信息不能被光帶讀取設(shè)備讀取。這可以具有防止光帶上的敏感信息被掩蓋以致于預(yù)先寫(xiě)入到光帶的敏感信息將不可讀的的優(yōu)點(diǎn)。此優(yōu)點(diǎn)將對(duì)具有光帶上的必須被光帶系統(tǒng)擦除的敏感信息的第一用戶(hù)有利，因?yàn)樗乐构鈳到y(tǒng)的第二用戶(hù)在執(zhí)行擦除之前讀取敏感信息?？梢栽谶B續(xù)的濺射涂敷機(jī)器上制造可擦除的相變光帶介質(zhì)，其中，可以將所有層同時(shí)沉積到介質(zhì)上。這可以這樣做到通過(guò)在可以沉積第一層之后不久在沉積的第一層上面沉積第二層，并同時(shí)在介質(zhì)的其他部分沉積第一層。在一個(gè)實(shí)施例中，這可以通過(guò)將濺射(層沉積)源定位在旋轉(zhuǎn)的熱量提取鼓(冷卻鼓)周?chē)错樞驅(qū)⒔橘|(zhì)移動(dòng)得經(jīng)過(guò)每個(gè)濺射源。如上文所描述的，可以沉積薄膜，第一層被沉積在聚合物類(lèi)型的材料的織物上，該材料在介質(zhì)移動(dòng)得經(jīng)過(guò)每個(gè)濺射源時(shí)可以與冷卻鼓接觸。將此技術(shù)應(yīng)用于一個(gè)或多個(gè)沉積層的基于碲的可擦除的相變配方，可以在各層之間產(chǎn)生分級(jí)的材料接口。在各層之間帶有分級(jí)的材料接口的此介質(zhì)的優(yōu)點(diǎn)可包括應(yīng)變消除或熱傳導(dǎo)性過(guò)渡，這與所產(chǎn)生的相變結(jié)構(gòu)相比可以導(dǎo)致性能提高。這樣的性能改善可以被表現(xiàn)為信號(hào)抖動(dòng)減少或擦除循環(huán)特性增強(qiáng)。在各實(shí)施例中，整個(gè)多層介質(zhì)中的每個(gè)接口的不同等級(jí)是理想的。此處的各方面可以涉及適用于從/向光帶讀取和/或?qū)懭霐?shù)據(jù)的改善的光學(xué)拾取頭系統(tǒng)。光學(xué)頭能夠在光帶上讀取和/或?qū)懭霐?shù)據(jù)。光帶可在相變層中包括格式化的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)，它可以適用于被寫(xiě)入、被重新寫(xiě)入、擦除和/或從中讀取。光學(xué)頭可包括對(duì)于光學(xué)頭、讀頭、寫(xiě)頭、讀/寫(xiě)頭、寫(xiě)后直讀頭的輸送工具，用于光學(xué)頭定位的活節(jié)單元、用于解碼光帶上的數(shù)據(jù)的解調(diào)機(jī)構(gòu)等等。光學(xué)頭可包括光源、透鏡、致動(dòng)器、光束分離器、光束偏振器、電光集成電路，和/或其他系統(tǒng)。應(yīng)該理解，光學(xué)頭能夠讀取、寫(xiě)入、讀取和寫(xiě)入，寫(xiě)后直讀，或者，它可以以別的方式被配置成滿(mǎn)足特定應(yīng)用的需要。此處描述了光學(xué)頭以及相關(guān)的機(jī)構(gòu)的幾個(gè)不同方面；不同的方面可以合并到光學(xué)頭中，或者，可以分別地使用。在一個(gè)實(shí)施例中，如此處所描述的光學(xué)拾取頭(OPH)可以與光帶介質(zhì)一起用于寫(xiě)后直讀(DRAW)模式下。在一個(gè)實(shí)施例中，低功率寫(xiě)后直讀(DRAW)激光二極管可以和拾取頭(PUH)中的較高功率的激光二極管一起使用。兩個(gè)激光二極管可以具有基本上相同的波長(zhǎng)。在一個(gè)實(shí)施例中，全息光學(xué)元件(HOE)可以被插入在DRAW激光束路徑中，而+1 (—階)以及-I光束可以用于DRAW功能。+1階光束可以用于介質(zhì)運(yùn)動(dòng)的第一方向，而-I階光束可以用于第二方向。在PUH中可以有兩種實(shí)現(xiàn)DRAW功能的方法。第一方法的實(shí)施例可以是對(duì)于讀取、伺服讀取，以及DRAW具有基本上相同的波長(zhǎng)的用于只寫(xiě)入的較高功率激光二極管LD12902和較低功率的第二激光二極管LD22914。來(lái)自?xún)蓚€(gè)激光器的光束可以被組合以在PUH中產(chǎn)生除DRAW之外的所有所要求的功能。第二方法的實(shí)施例可以是讓LD12902用于寫(xiě)入、讀取，以及伺服功能，而較低功率的LD22914可以用于DRAW。參考圖29，可以示出對(duì)于讀取、伺服環(huán)路，以及DRAW可以具有基本上相同的波長(zhǎng)的用于只寫(xiě)入的較高功率激光二極管LD12902和較低功率的第二激光二極管LD22914的基 于DRAW的方法I的實(shí)施例?？梢杂袃蓚€(gè)光路，一個(gè)用于大功率激光二極管LD12902，另一個(gè)用于低功率激光二極管LD22914。與LD12902相關(guān)聯(lián)的路徑可以向介質(zhì)提供寫(xiě)入能量。被表示為C0L12904的準(zhǔn)直儀可以是提供校準(zhǔn)的并且無(wú)像散光束的像散透鏡，該光束可以由物鏡聚焦到光帶介質(zhì)上。與LD22914相關(guān)聯(lián)的路徑可以更復(fù)雜以提供讀取、伺服環(huán)路以及DRAW功能。與此路徑相關(guān)聯(lián)的全息光學(xué)元件(H0E2) 2920可以包含光柵以及全息裝置，如圖31所示。光柵202可以將傳出的準(zhǔn)直光束拆分為3個(gè)光束，即，O階，+1階以及-I階光束。O階光束可以用于提供聚焦和跟蹤的伺服功能，并可以提供額定讀取功能。+1和-I階光束可以用于DRAW。H0E22920可以包含相位全息裝置204，該相位全息裝置204可以在正交方向衍射返回的+/-I階光束，以在分段檢測(cè)器上產(chǎn)生6個(gè)點(diǎn)。來(lái)自分段的檢測(cè)器陣列的信號(hào)可以被用來(lái)同時(shí)生成聚焦和跟蹤信號(hào)以及DRAW信號(hào)。分段的檢測(cè)器陣列和信號(hào)放大器可以被集成到一個(gè)電光集成電路E0IC2上。由于LD22914可以是較低功率的激光二極管，因此，它可以與EOIC集成。來(lái)自L(fǎng)D12902和LD22914的兩個(gè)準(zhǔn)直光束可以在物鏡處被組合，以保持LD12902和LD22914的焦點(diǎn)?？梢酝ㄟ^(guò)下列公式，通過(guò)物鏡的焦距，fobj，H0E22920的光柵202間距Λ，來(lái)控制O
階光束以及+1、-I階光束的焦點(diǎn)之間的距離λd = fobj * (t I - — foy
Λ其中，λ可以是LD波長(zhǎng)。例如，如果可以使用O. Imm的Λ , 650nm的LD波長(zhǎng)，以及2. 5mm的J^bj,那么，α +1等于37度，d等于13微米。參考圖30，可以示出對(duì)于光學(xué)介質(zhì)(例如，光帶)的基于方法2的DRAW光學(xué)拾取頭的實(shí)施例?？梢杂袃蓚€(gè)通過(guò)光學(xué)拾取頭的光路，一個(gè)用于主光束，另一個(gè)用于次要光束，該次要光束用于DRAW。主光束可以主要用于寫(xiě)入、聚焦、跟蹤，以及額定讀取。光源LD12902可以由透鏡C0L12904、然后通過(guò)全息光學(xué)元件(H0E1) 3008進(jìn)行準(zhǔn)直。HOEl結(jié)構(gòu)可以與圖31中所描述的相同。在此情況下，可以只需光柵來(lái)使用三光束跟蹤方案。如果可以使用單一返回光束來(lái)生成焦點(diǎn)和光道信號(hào)，則可以不需要光柵。可以使用全息裝置來(lái)將返回光束衍射到LD12902源的側(cè)面。可以由透鏡C0L22918然后由H0E22920來(lái)準(zhǔn)直激光源LD22914。由于次要光束的用途可以是寫(xiě)后直讀，因此，H0E22920可以用于此用途。H0E22920中的光柵可以是O階抑制光柵，大部分能量在+/-I階衍射，如圖32所示。+1階可以在主光束點(diǎn)的焦點(diǎn)前面，而-I階在主光束點(diǎn)的后面，遠(yuǎn)到跟蹤方向能走多遠(yuǎn)。一個(gè)階可以在介質(zhì)可能在第一方向移動(dòng)時(shí)用于DRAW,另一個(gè)可以用于介質(zhì)可能在第二方向移動(dòng)時(shí)。在全息元件H0E13008中具有正確的槽深是重要的，以便控制O階抑制。例如，如果全息元件H0E13008可以是帶有1.55的折射率的玻璃板，則當(dāng)使用帶有655nm波長(zhǎng)的光源時(shí)，槽深可能需要550nm，以完全地抑制O階光束。對(duì)O階光束的完全抑制可以是理想的， 但可能不是必需的。即，可以使用較小的槽深。例如，當(dāng)深度為380nm時(shí)，能量可以均勻分布在三個(gè)階光束_0，+1以及-I。這可以適當(dāng)?shù)仄鹱饔?。更多的O階能量不合乎需要，因?yàn)樗赡軐?dǎo)致更大的相對(duì)強(qiáng)度噪聲(RIN)。如圖32所示，全息元件H0E22920也可以包含相位全息裝置。相位全息裝置的用途可以是將返回的±1階光束衍射到正確的位置以便進(jìn)行數(shù)據(jù)檢測(cè)。參考圖29和圖31兩者，可以使用偏振光束分光器PBS 2910將主要和次要光束合并。利用偏振光束分光器PBS 2910,反射光束可以返回到它們自己的原始方向。參考圖33，另一種特征可以是兩個(gè)激光二極管的朝向。兩個(gè)光束的偏振方向可以基本上彼此垂直。例如，光源LD12902可以在可以主要平行于光帶運(yùn)動(dòng)和介質(zhì)平面的方向的方向上偏振，而光源LD22914可以在可以垂直于光帶運(yùn)動(dòng)但是可以平行于介質(zhì)的平面的方向偏振。這可以使得在偏振光束分光器PBS 2910處組合兩個(gè)光束成為可能。由于從激光二極管發(fā)出的單個(gè)空間模光可以主要平行于P-N結(jié)平面3402地偏振，因此，光源LD12902和光源LD22914的P-N結(jié)平面3402可以彼此垂直。如果激光二極管沒(méi)有被集成到電光集成電路檢測(cè)器陣列中，則兩個(gè)光束的光路配置的許多其他版本也是可以的。然而，這樣的配置可能沒(méi)有集成LD-EOIC陣列緊湊。DRAW拾取頭的另一種版本可以在圖34中示出，其中，激光二極管和兩個(gè)電光集成電路可以被集成到一個(gè)娃芯片上。由于如圖33所示在一個(gè)硅芯片上彼此成90度角地安裝兩個(gè)激光二極管可能存在一些制造挑戰(zhàn)，因此，在圖35和圖36中示出了兩個(gè)其他版本，其中，兩個(gè)激光二極管具有相同的朝向。圖35中所示出的實(shí)施例可以與圖29中所討論的第一實(shí)施例提供相同的功能。圖36中所示出的實(shí)施例可以與基于圖30的方法2中所討論的實(shí)施例提供相同的功能。然而，在這些版本中，可以將另一種雙折射板3602添加到次要光束中，以將其偏振旋轉(zhuǎn)90度。由于在各實(shí)施例中，光源LD12902可以用于寫(xiě)入而光源LD22914可以用于DRAW讀取，光源LD22914功率要求可能不那么苛刻，并且成本低些，因此，較低功率的激光可以用于光源LD22914。在一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)拾取頭(0ΡΗ)可以適用于準(zhǔn)許如此處所描述的光學(xué)介質(zhì)(例如，光帶)具有大的跟蹤范圍。參考圖37，示出了常規(guī)PUH 3702的實(shí)施例(圖37A)以及集成的電光組件3704的實(shí)施例(圖37B)。使用光致動(dòng)器3708只移動(dòng)物鏡可能導(dǎo)致相對(duì)于光學(xué)組件的其余部分的不希望有的光束移動(dòng)；這可能會(huì)在光束焦點(diǎn)從適當(dāng)?shù)奈恢梅秶x開(kāi)時(shí)導(dǎo)致伺服跟蹤錯(cuò)誤。通過(guò)使用光學(xué)組件3704，整個(gè)光學(xué)透鏡組件可以被致動(dòng)器3710移動(dòng)以跟蹤光帶。這可以在電光集成電路3712上保持返回光束的適當(dāng)?shù)奈恢?。如此，跟蹤范圍現(xiàn)在可以基于致動(dòng)器的范圍，而并非通過(guò)光學(xué)漸暈以及下面所討論的光束行走問(wèn)題。參考圖38，例圖示出了當(dāng)只能移動(dòng)物鏡以跟蹤光帶光道時(shí)導(dǎo)致的光學(xué)漸暈。常規(guī)拾取頭(PUH)由于光學(xué)漸暈以及光束行走所導(dǎo)致的問(wèn)題，可能具有跟蹤范圍限制。當(dāng)光道中心在從物鏡射出之前可能接近于高斯光束輪廓的中心時(shí)，可以在四元組檢測(cè)器上獲取完美的推拉圖案。當(dāng)考慮中的光道由于介質(zhì)偏轉(zhuǎn)(runout)而從第一位置3804向下移動(dòng)時(shí)，伺服環(huán) 路可能導(dǎo)致透鏡也向下移動(dòng)。如此，焦點(diǎn)將試圖跟蹤中心；然而，這可能導(dǎo)致照射到物鏡上的高斯光束輪廓不再以光圈為中心。這種微小的不平衡可能會(huì)導(dǎo)致檢測(cè)器3802處的推拉圖案也不平衡，導(dǎo)致小的錯(cuò)誤信號(hào)。可以使用有限的共軛物鏡3810，其中，照射到物鏡上的光束具有發(fā)散波前。當(dāng)透鏡移動(dòng)以跟蹤偏轉(zhuǎn)時(shí)，返回光束可能會(huì)在檢測(cè)器3812上遭受光束行走問(wèn)題。在常規(guī)的PUH實(shí)施例中，檢測(cè)器上的不平衡的推拉圖案以及光束行走可能會(huì)在電光集成電路上產(chǎn)生不太希望的光束位置。不太希望的光束位置可能將PUH能夠覆蓋的光道的數(shù)量限制到數(shù)十個(gè)光道。參考圖39，可以示出本發(fā)明的實(shí)施例，帶有電光集成電路(EOIC) 3902、激光二極管(LD) 3904、像散透鏡3908、全息光學(xué)元件(HOE) 3910、致動(dòng)器3912，以及物鏡3914，所有都是單一組件3918的組成部分。通過(guò)與組件3918 —起移動(dòng)物鏡3914，可以消除光學(xué)漸暈以及光學(xué)偏移問(wèn)題。準(zhǔn)確地定位拾取頭(PUH)組件3918要求充分的伺服帶寬，如此，組件3918可能要求較低的重量?？梢酝ㄟ^(guò)集成的設(shè)計(jì)來(lái)提供較低的重量。在集成的設(shè)計(jì)中，可以將激光二極管LD 3904直接安裝在電光集成電路EOIC3902上。電光集成電路EOIC 3902可包括帶有分段的檢測(cè)器、電流放大器，以及電壓放大器的硅芯片。簡(jiǎn)單的光柵可以用于全息元件HOE 3910;全息元件HOE 3910可以將光束分割為O階和± I階。O階可以具有50%的效率，而土 I階可以各自具有大致25%的效率。O階光束可以用于讀/寫(xiě)，以及聚焦/跟蹤功能。當(dāng)O階光束可以被返回到全息元件HOE 3910時(shí)，兩個(gè)一階光束可以向電光集成電路EOIC 3902的左和右六段檢測(cè)器衍射。每個(gè)衍射光束都可以用于聚焦/跟蹤和讀/寫(xiě)功能。兩段中的信號(hào)可以相當(dāng)，并可以相加以將SNR(信噪比)提高3dB。在另一實(shí)施例中，簡(jiǎn)單光柵可以替換為軸上全息裝置。它可以提供正的和負(fù)的透鏡效應(yīng)，以便，例如，一個(gè)六元件段可以接收來(lái)自最佳焦點(diǎn)之前的光，而其他六元件段可以接收來(lái)自介質(zhì)上的最佳焦點(diǎn)之后的光。這可以允許使用微分點(diǎn)聚焦方法。全息裝置的另一個(gè)顯著優(yōu)點(diǎn)可以是，傳出的光束中的兩個(gè)一階光束可以焦點(diǎn)沒(méi)對(duì)準(zhǔn)；這可以產(chǎn)生少量的到檢測(cè)器中的反射光。兩個(gè)一階點(diǎn)可能是不希望有的，因此，可以忽略少量的反射光。在一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)在跟蹤光帶介質(zhì)時(shí)移動(dòng)整個(gè)組件，光電組件可以保持平衡的推拉圖案，而不會(huì)在電光集成電路EOIC 3902上的檢測(cè)器處產(chǎn)生光束行走。帶有光電組件的一致的平衡的推拉圖案的改善的焦點(diǎn)可以在光帶上提供更大數(shù)量的被覆蓋的光道；集成光電組件能夠覆蓋數(shù)千光道。參考圖40，可以示出被合并到集成的設(shè)計(jì)組件3918中的寫(xiě)后直讀(DRAW)特征的實(shí)施例。可以在圖29到34中進(jìn)一步描述DRAW。DRAW可以是可以提供±1階光束的另一個(gè)低功率激光二極管。±1階光束可以允許光學(xué)拾取頭(PUH)緊隨在寫(xiě)入之后執(zhí)行讀取以最小化寫(xiě)入錯(cuò)誤。將DRAW合并到集成的設(shè)計(jì)組件3918中可以隨著主光束從跟蹤整個(gè)組件3918進(jìn)行接收來(lái)向DRAW提供相同的改善的跟蹤。在一個(gè)實(shí)施例中，如此處所描述的走帶機(jī)構(gòu)可以適用于輸送用來(lái)與光帶機(jī)構(gòu)中的光帶連接的多個(gè)光學(xué)頭。光帶驅(qū)動(dòng)器可以具有光帶導(dǎo)向系統(tǒng)，無(wú)需在可卸光帶盒卷軸和卷帶盤(pán)之間安置任何單獨(dú)的導(dǎo)向機(jī)構(gòu)。當(dāng)可以將可卸光帶盒插入到光帶驅(qū)動(dòng)器中時(shí)，可以使用卷帶導(dǎo)桿將介質(zhì)拉到卷帶盤(pán)上，卷帶導(dǎo)桿可以附接到介質(zhì)盒中的導(dǎo)桿材料中。 參考圖41，可以示出在光帶位置極值光學(xué)頭輸送工具的重定向的實(shí)施例。頭輸送工具4102可以被定位在盒卷軸4104和卷帶盤(pán)4108之間。頭輸送工具4102可以被定位在允許橫向定位以便從頭輸送工具4102到介質(zhì)的距離可以被控制的機(jī)制上；可能需要頭輸送工具4102與介質(zhì)有某一距離，以便進(jìn)行最優(yōu)的讀/寫(xiě)操作。隨著介質(zhì)可以從盒卷軸4104移到卷帶盤(pán)4108，可以針對(duì)到介質(zhì)的變化的距離，調(diào)整頭輸送工具4102機(jī)制。隨著介質(zhì)可以在各卷軸之間移動(dòng)，還可針對(duì)介質(zhì)與頭輸送工具4102的變化的角度，調(diào)整頭輸送工具4102。在一個(gè)實(shí)施例中，隨著介質(zhì)從盒卷軸4104移到卷帶盤(pán)4108，相對(duì)于頭輸送工具4102的角度和距離可以基于每個(gè)卷軸上的介質(zhì)的量而變化；在光帶驅(qū)動(dòng)器的操作期間，角度和距離可以連續(xù)地變化?？梢酝ㄟ^(guò)伺服控制的機(jī)制的補(bǔ)償系統(tǒng)中的算法來(lái)確定頭輸送工具4102的準(zhǔn)確位置。在單一頭輸送工具中可以使用多個(gè)頭，以增大光驅(qū)動(dòng)器的數(shù)據(jù)傳輸速率。每個(gè)單個(gè)頭都可以使用其自己的伺服控制定位系統(tǒng)來(lái)進(jìn)行頭的準(zhǔn)確定位，然后，可以使用頭輸送工具4102來(lái)大致將頭陣列定位于光帶的附近。這可以大大地最小化使用許多光學(xué)頭的復(fù)雜性。參考圖42，頭輸送工具4102可包括多個(gè)光學(xué)頭4202，其中每個(gè)光學(xué)頭4202都有其自己的伺服控制的傳動(dòng)器以及定位系統(tǒng)。光學(xué)頭4202可以如此排列，以便每個(gè)光學(xué)頭4202都可以負(fù)責(zé)讀取光帶的區(qū)域4204中的數(shù)據(jù)以及在其中寫(xiě)入數(shù)據(jù)。在一個(gè)實(shí)施例中，光帶的區(qū)域4204可以是若干個(gè)光帶光道。在頭輸送工具1102中可以有足夠的光學(xué)頭4102，以覆蓋光帶的所有區(qū)域4204或光道。每個(gè)光學(xué)頭4202都可以能夠被定位到光學(xué)頭4202的區(qū)域4204內(nèi)的記錄光道中的任何一個(gè)中，而不會(huì)影響其他光學(xué)頭4202 ;每個(gè)光學(xué)頭4202的運(yùn)動(dòng)范圍都可以完全在伺服控制的傳動(dòng)器運(yùn)動(dòng)范圍內(nèi)。另外，每個(gè)光學(xué)頭4202的聚焦控制都可以具有足夠的運(yùn)動(dòng)范圍，以使每個(gè)光學(xué)頭4202在光帶從光帶的開(kāi)始處移動(dòng)到末尾時(shí)在光帶的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)過(guò)程中保持聚焦；聚焦的保持可以在光帶運(yùn)動(dòng)的任一方向。再次參考圖41的光帶驅(qū)動(dòng)器，可以沒(méi)有固定光帶的位置的引導(dǎo)部件4112，因此，頭輸送工具4102可以橫向地移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)以與光帶保持適當(dāng)?shù)某?。在一個(gè)實(shí)施例中，頭輸送工具4102可以具有其自己的閉環(huán)伺服系統(tǒng)，信息從單個(gè)光學(xué)頭4202產(chǎn)生。此系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)可以是，頭輸送工具4102可以使用來(lái)自光學(xué)頭4202的傳感器信息，可以不要求頭輸送工具4102的額外的傳感器。系統(tǒng)和方法還可允許在介質(zhì)的兩側(cè)4110都有頭輸送工具4102，至少兩個(gè)頭輸送工具41024110可以連接到同一個(gè)頭輸送系統(tǒng)。圖42示出了包含若干個(gè)單個(gè)頭4202的頭輸送工具的實(shí)施例。在一個(gè)實(shí)施例中，頭輸送工具4102中的單個(gè)光學(xué)頭4202的數(shù)量可以基于頭輸送工具4102的大小和需要被覆蓋的光道的數(shù)量以及光帶寬度。例如，如果光學(xué)介質(zhì)上有一千個(gè)光道并且每個(gè)單個(gè)光學(xué)頭4202能夠覆蓋一個(gè)區(qū)域4204內(nèi)的兩百個(gè)光道，則頭輸送工具4102中可以只有五個(gè)單個(gè)光學(xué)頭4202。在一個(gè)實(shí)施例中，光學(xué)頭4202的數(shù)量可以不直接與光道的數(shù)量以及每個(gè)單個(gè)光學(xué)頭4202可以覆蓋的光道的數(shù)量相關(guān)；在單個(gè)光學(xué)頭4202之間可以有一定數(shù)量的重疊的光道，因此，增大特定數(shù)量的光道所需的光學(xué)頭4202的數(shù)量。每個(gè)光學(xué)頭4202都可以在其控制聚焦和數(shù)據(jù)光道獲取的能力方面是獨(dú)立的。每個(gè)光學(xué)頭4202都可以對(duì)齊到專(zhuān)門(mén)的區(qū)域4204內(nèi)的多個(gè)數(shù)據(jù)磁道中的任何一個(gè)。 在一個(gè)實(shí)施例中，如此處所描述的，可以針對(duì)使用光帶介質(zhì)的高密度存儲(chǔ)器來(lái)修改光帶驅(qū)動(dòng)器。在典型的光帶驅(qū)動(dòng)器中，可以有將介質(zhì)從盒卷軸，穿過(guò)頭輸送工具引導(dǎo)到卷帶盤(pán)的旋轉(zhuǎn)輥。這些切削加工的輥的用途之一可以是減少由盒和卷帶盤(pán)所產(chǎn)生的橫向光帶運(yùn)動(dòng)；然而，輥本身可以比卷軸以較高頻率產(chǎn)生橫向光帶運(yùn)動(dòng)。在各實(shí)施例中，頭組合件的伺服控制的定位系統(tǒng)可以為這樣的系統(tǒng)產(chǎn)生補(bǔ)償來(lái)自卷軸的低頻運(yùn)動(dòng)的能力，可以改善該能力，并可以?xún)?yōu)于對(duì)于輥較高頻率的能力。參考圖43，可以示出頭輸送工具4102到光帶極值4302的重定向的實(shí)施例。一個(gè)方面可能具有光帶導(dǎo)向系統(tǒng)，無(wú)需在可卸光帶盒卷軸4104和卷帶盤(pán)4108之間安置任何單獨(dú)的導(dǎo)向機(jī)構(gòu)。當(dāng)可以將可卸光帶盒4104插入到光帶驅(qū)動(dòng)器中時(shí)，可以使用卷帶導(dǎo)桿將介質(zhì)拉到卷帶盤(pán)4108上，卷帶導(dǎo)桿附接到介質(zhì)盒中的導(dǎo)桿材料中。頭輸送工具4102可以被定位在盒卷軸4104和卷帶盤(pán)4108之間。頭輸送工具4102可以被定位在允許橫向定位以便從頭組件到介質(zhì)的距離可以被準(zhǔn)確地控制的機(jī)制上。在無(wú)接觸記錄的情況下，可能需要頭與介質(zhì)有某一距離。隨著介質(zhì)可以從盒卷軸4104移到卷帶盤(pán)4108，隨著每個(gè)卷軸上的光帶的量變化，光帶的角度可以不斷地變化。隨著介質(zhì)可以從盒卷軸4104移到卷帶盤(pán)4108，可以針對(duì)到介質(zhì)的變化的距離，調(diào)整頭輸送工具4102。可以針對(duì)介質(zhì)與頭輸送組合件4102的變化的角度，調(diào)整頭輸送工具4102?？梢酝ㄟ^(guò)伺服控制的機(jī)制的補(bǔ)償系統(tǒng)中的算法來(lái)確定頭輸送工具4102的準(zhǔn)確位置。此光帶路徑中的橫向光帶運(yùn)動(dòng)(LTM)只能從供帶卷軸4104和卷帶盤(pán)4108產(chǎn)生。在一個(gè)實(shí)施例中，可以將這兩個(gè)組件的制造公差控制到大于光帶寬度的千分之幾英寸；因此，可以給光帶提供適當(dāng)?shù)囊龑?dǎo)，無(wú)需使用導(dǎo)輥。LTM的頻率可以基本上與卷軸的旋轉(zhuǎn)頻率相同；頻率可以是10到400Hz。此頻率可以比導(dǎo)輥可以引入的頻率小得多；導(dǎo)輥4112LTM頻率可以是數(shù)百赫茲。在較低的頻率時(shí)，通過(guò)使用大約IkHz的帶寬，伺服控制的頭輸送工具4102定位系統(tǒng)可以非常有效。對(duì)于由卷盤(pán)到卷盤(pán)光帶運(yùn)動(dòng)所產(chǎn)生的較低頻率LTM，頭輸送工具4102伺服控制能夠更好地調(diào)整。有效的定位頭輸送工具4102可能具有改善的光帶跟蹤，因此，能夠讀和寫(xiě)高密度光帶光道。
盡管在一個(gè)實(shí)施例中，可以依賴(lài)于旋轉(zhuǎn)引導(dǎo)4112部件的不存在，但是，可以具有用于保持介質(zhì)在頭輸送工具4102中的位置一致性的一個(gè)或多個(gè)固定的不旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)桿4112。在一個(gè)實(shí)施例中，還可在介質(zhì)的兩側(cè)使用頭輸送工具41024110，因?yàn)榭赡軟](méi)有由于引導(dǎo)輥4112所造成的在一側(cè)的過(guò)度的磨損。在介質(zhì)的另一側(cè)使用第二頭輸送工具4110和記錄數(shù)據(jù)還可增大高密度記錄。激光頭跟蹤系統(tǒng)可以跟蹤移動(dòng)的光帶介質(zhì)上的數(shù)據(jù)的位置，以便在介質(zhì)上的相對(duì)于介質(zhì)上以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)的正確位置寫(xiě)入數(shù)據(jù)。參考圖44，可以示出本發(fā)明的實(shí)施例?？梢杂锌砂す庠?404、光束分離器4408、檢測(cè)器4410，以及可移動(dòng)透鏡4412的轉(zhuǎn)換器組合件4402?？梢苿?dòng)的透鏡4412可以獨(dú)立于轉(zhuǎn)換器組合件4402的其余部分移動(dòng)，或者也可以作為完整的單元與轉(zhuǎn)換器組合件4402—起移動(dòng)。激光源4404可以提供可以被可移動(dòng)透鏡4412聚焦于介質(zhì)上的光。光可以通過(guò)可移動(dòng)的透鏡4412反射回到光束分離器4408，該光束分離器4408可以將反射的光引 向檢測(cè)器4410。檢測(cè)器4410可以與能夠解釋從介質(zhì)反射的光的處理器相關(guān)聯(lián)?？梢酝ㄟ^(guò)使用轉(zhuǎn)換器4402來(lái)確定信息在介質(zhì)上的位置，該轉(zhuǎn)換器4402可以測(cè)量以前可能已經(jīng)寫(xiě)入介質(zhì)上的信息的位置。在一個(gè)實(shí)施例中，可以有可以計(jì)算要由寫(xiě)入器4414寫(xiě)入的信息的下一個(gè)正確位置的處理器。寫(xiě)入器4414可包括激光源、光束分離器、檢測(cè)器，以及可移動(dòng)的透鏡。寫(xiě)入器4414可以具有傳動(dòng)器4424，該傳動(dòng)器4424可以將寫(xiě)入器4414定位于要寫(xiě)入數(shù)據(jù)的位置；傳動(dòng)器4424可以移動(dòng)可移動(dòng)的透鏡，或者也可以移動(dòng)整個(gè)寫(xiě)入器4414組合件。寫(xiě)入器4414可以在介質(zhì)上寫(xiě)入新信息。在一個(gè)實(shí)施例中，寫(xiě)入器4414可以通過(guò)錯(cuò)誤校正反饋機(jī)構(gòu)4418從轉(zhuǎn)換器4402接收定位信息。在一個(gè)實(shí)施例中，轉(zhuǎn)換器4402可以讀取以前在介質(zhì)上寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420，并可以將定位信息饋送到糾錯(cuò)機(jī)構(gòu)4418 ;信息的饋送可以是實(shí)時(shí)的。以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420可以由轉(zhuǎn)換器檢測(cè)器4410接收；檢測(cè)器4410可以將以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420位置饋送到錯(cuò)誤校正反饋機(jī)構(gòu)4418。校正反饋機(jī)構(gòu)4418還可從可移動(dòng)的透鏡傳動(dòng)器接收以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420定位信息。在一個(gè)實(shí)施例中，錯(cuò)誤校正反饋機(jī)構(gòu)4418可以包含組合來(lái)自轉(zhuǎn)換器檢測(cè)器4410和可移動(dòng)的透鏡傳動(dòng)器的以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420定位信息的邏輯。在一個(gè)實(shí)施例中，錯(cuò)誤校正反饋機(jī)構(gòu)4418可以計(jì)算要寫(xiě)入信息的下一位置4422 ;可以將下一位置4422饋送到寫(xiě)入器 4414。在一個(gè)實(shí)施例中，寫(xiě)入器4414可以從錯(cuò)誤校正反饋機(jī)構(gòu)4418接收定位信息。在一個(gè)實(shí)施例中，寫(xiě)入器4414可以直接將定位信息接收到寫(xiě)入器傳動(dòng)器4424。在一個(gè)實(shí)施例中，寫(xiě)入器4414可以將定位信息接收到處理器，該處理器可以計(jì)算用于將數(shù)據(jù)寫(xiě)入到介質(zhì)的下一位置4422。在一個(gè)實(shí)施例中，用于寫(xiě)入數(shù)據(jù)的下一位置4422可以相對(duì)于由轉(zhuǎn)換器4402讀取的以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420。在一個(gè)實(shí)施例中，下一個(gè)寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4422可以來(lái)自以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420的設(shè)置的位置；設(shè)置的位置可以是讀/寫(xiě)邏輯的一部分，因此，可能不要求定位信息被寫(xiě)入到寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4422中。在一個(gè)實(shí)施例中，下一個(gè)寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4422可以不是來(lái)自以前寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4420的設(shè)置的位置；數(shù)據(jù)間隔可以作為被寫(xiě)入到介質(zhì)的數(shù)據(jù)的一部分來(lái)寫(xiě)入。
在一個(gè)實(shí)施例中，下一個(gè)寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4422可以是基于系統(tǒng)變量設(shè)置的位置；系統(tǒng)變量可以基于所需的數(shù)據(jù)密度。在一個(gè)實(shí)施例中，位置信息可以不被寫(xiě)入到寫(xiě)入的數(shù)據(jù)4422中。在一個(gè)實(shí)施例中，系統(tǒng)變量可以存儲(chǔ)在轉(zhuǎn)換器4402、寫(xiě)入器4414，錯(cuò)誤校正反饋機(jī)構(gòu)4418等等中。在一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)接收到的信號(hào)的多解調(diào)可以被包括在光帶機(jī)構(gòu)中，用于快速且精確的信號(hào)處理。由多解調(diào)器接收到的已調(diào)制信號(hào)可以表示諸如振幅、相位、頻率等等之類(lèi)的多種信息。信息可以是傳輸?shù)耐ㄐ判盘?hào)、以電子方式接收到的機(jī)電裝置的溫度、位置和速度等
坐寸ο這些已調(diào)制信號(hào)還可標(biāo)識(shí)不同類(lèi)型的產(chǎn)品，以及它們的特性，諸如產(chǎn)品類(lèi)型、產(chǎn)品序列號(hào)、產(chǎn)品區(qū)別因素、可以電子方式或以光學(xué)方式傳輸?shù)膶傩缘鹊取?多解調(diào)器可以基于形狀和載波頻率來(lái)確定接收到的信號(hào)的類(lèi)型以及瞬時(shí)值；此信息可以被提供到主機(jī)設(shè)備。主機(jī)設(shè)備可以基于由解調(diào)器所提供的類(lèi)型和瞬時(shí)值信息來(lái)對(duì)于設(shè)備的操作應(yīng)用一組規(guī)則和決策。此系統(tǒng)的實(shí)時(shí)解調(diào)能力可以對(duì)于通信系統(tǒng)、電動(dòng)機(jī)械控制系統(tǒng)等中的諸如實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)和信號(hào)處理之類(lèi)的應(yīng)用，實(shí)現(xiàn)快速和精確信號(hào)處理。參考圖45，可以示出解調(diào)器4500的高級(jí)別實(shí)施例。解調(diào)器4500可包括接收和調(diào)節(jié)信號(hào)的信號(hào)調(diào)制器輸入設(shè)備4502以及可以將復(fù)合信號(hào)S(t)解調(diào)為單個(gè)輸出的信號(hào)解調(diào)器設(shè)備4504。對(duì)信號(hào)的調(diào)節(jié)可包括信號(hào)放大、信號(hào)濾波、模擬-數(shù)字轉(zhuǎn)換等等。已調(diào)制信號(hào)S(t)可以由解調(diào)器4500接收，并可以是表示帶有不同的載波頻率的許多種已調(diào)制信號(hào)中的一種的單一已調(diào)制信號(hào)，如Eql所描述的。已調(diào)制信號(hào)S(t)可以是這些已調(diào)制信號(hào)的總和，如Eq2所示。S (t) = {SI (t) *sin (wl*t)} Or {S2 (t) *sin (w2*t)} Or {Sk (t) *sin (wk*t)} (Eql)或者S (t) = {SI (t) *sin (wl*t)} + {S2 (t) *sin (w2*t)} +......{Sk (t) *sin (wk*t)} (Eq2)解調(diào)器4500能夠確定在接收到的信號(hào)S(t)中存在多個(gè)Sk (t)信號(hào)，還可解調(diào)S(t)中存在的任何Sk(t)信號(hào)的瞬時(shí)值。參考圖46，可以示出解調(diào)器的比較詳細(xì)的實(shí)施例。在一個(gè)實(shí)施例中，信號(hào)S(t)可以首先被設(shè)備輸入接口(Din) 4502調(diào)節(jié)，然后，可以由信號(hào)解調(diào)器104中的一組互補(bǔ)濾波器來(lái)進(jìn)行處理[FP1&FQ1], [FP2&FQ2],......[FPk&FQk]互補(bǔ)濾波器可以確定不同的信號(hào)Sk (t)在S(t)信號(hào)中的存在和類(lèi)型，并可以通過(guò)一組輸出信號(hào)來(lái)報(bào)告信號(hào)的類(lèi)型。TYPI, TYP2,.......TYPk以及它們的瞬時(shí)(實(shí)時(shí))幅度，通過(guò)Sl(t)，S2(t)，.......Sk(T)解調(diào)過(guò)程可以是模擬或者數(shù)字的。模擬設(shè)計(jì)中的Din 4502的功能可以是調(diào)整用于處理的輸入信號(hào)S(t)的電平和振幅。在數(shù)字設(shè)計(jì)中，Din 4502可以是模擬-數(shù)字轉(zhuǎn)換器(ADC)，稍后可以通過(guò)系統(tǒng)微處理器或?qū)Ｓ眉呻娐?ASIC)調(diào)整S (t) η的電平和振幅(S (t)η=以Ts采樣速率采樣的S(t))。互補(bǔ)濾波器的操作可以是[FP1&FQ1], [FP2&FQ2],......[FPk&FQk]可以用方程組來(lái)描述接收到的信號(hào)S (t)Pl=S(t)*L(t) IQl=S(t)*M(t) IP2=S(t)*L(t)2Q2=S(t)*M(t)2Pk=S(t)*L(t)kQk=S(t)*M(t)k其中，L (t)k可以是帶有與信號(hào){Sk(t)*sin(wk*T)}的載波頻率相關(guān)聯(lián)的頻率wk的矩形函數(shù)。M(t)k可以是帶有頻率wk的矩形函數(shù)，頻率可以與L(t)k信號(hào)有90度相位差。進(jìn)一步處理可以產(chǎn)生FPl=AVE (Pl)FQl=AVE (Ql)FP2=AVE (P2)FQ2=AVE (Q2)FPk=AVE (Pk)FQk=AVE (Qk)其中，AVE(Pk)和AVE Q(k)可以是Pk和Qk信號(hào)的實(shí)時(shí)的運(yùn)行總和平均值。根據(jù)傅里葉變換定理，可以進(jìn)行下列推論SI (t) FPI+FQIS2 (t) a FP2+FQ2Sk (t) FPk+FQk其中，~表示比例。如此，可以以此方法來(lái)確定任何信號(hào)Sk(t)的振幅或其在S(t)中的存在或不存在。在一個(gè)實(shí)施例中，如此處所描述的光帶機(jī)構(gòu)可以被配置成使用與內(nèi)聯(lián)ECC交錯(cuò)的多通道ECC來(lái)進(jìn)行錯(cuò)誤校正。用戶(hù)數(shù)據(jù)可以被格式化為數(shù)據(jù)的邏輯Kbyte塊。對(duì)于數(shù)據(jù)的邏輯Kbyte塊，可以生成ECC符號(hào)塊，以創(chuàng)建ECC實(shí)體，該實(shí)體可包括數(shù)據(jù)的邏輯Kbyte塊和ECC符號(hào)塊。此ECC實(shí)體可以被稱(chēng)為ECC編碼方案(C+D，D)，其中，C+D可以是構(gòu)成ECC實(shí)體的塊的總數(shù)，D可以是可以生成的ECC塊的數(shù)量。D還可是在讀取光帶期間在ECC實(shí)體中可以糾正的塊的數(shù)量。
一旦數(shù)據(jù)可以被格式化為ECC實(shí)體，可以構(gòu)成實(shí)體的數(shù)據(jù)的塊可以利用每個(gè)通道ECC來(lái)編碼，每個(gè)通道ECC可以糾正Kbytes塊數(shù)據(jù)中的差錯(cuò)數(shù)據(jù)的字節(jié)。格式化的數(shù)據(jù)塊可以交錯(cuò)，以創(chuàng)建要記錄在光帶上的ECC塊。ECC塊可以是來(lái)自通道ECC實(shí)體的多個(gè)交錯(cuò)的塊，以構(gòu)成光帶上的多塊記錄的ECC幀。在一個(gè)實(shí)施例中，在讀取過(guò)程中，內(nèi)聯(lián)ECC可以交替數(shù)據(jù)的每邏輯Kbyte塊，糾正高達(dá)10字節(jié)的錯(cuò)誤數(shù)據(jù)。在讀取數(shù)據(jù)時(shí)，可以校正可能錯(cuò)誤的任何塊，高達(dá)大約10字節(jié)。如果ECC不能糾正數(shù)據(jù)，則可以由跨通道ECC來(lái)糾正錯(cuò)誤的塊，跨通道ECC可以使用光帶上的其他光道中記錄的數(shù)據(jù)。在一個(gè)實(shí)施例中，可以描述輸送工具的多個(gè)光學(xué)頭的伺服跟蹤系統(tǒng)，輸送工具可以提供多個(gè)光學(xué)頭的前饋跟蹤信號(hào)。參考圖47，格式化的光帶介質(zhì)4710可以具有多光道區(qū)域4702 (N個(gè)光道區(qū)域)。在多光道區(qū)域4702中的每個(gè)內(nèi)都可以有多個(gè)光道4704 (K個(gè)光道)。
每個(gè)多光道區(qū)域4702都可以具有其自己的專(zhuān)門(mén)的光學(xué)讀/寫(xiě)頭4708。如此，當(dāng)光帶移過(guò)固定的頭4708時(shí)，可以以并行數(shù)據(jù)流式方式在光學(xué)介質(zhì)4710中寫(xiě)入數(shù)據(jù)和從光學(xué)介質(zhì)4710中讀取數(shù)據(jù)。對(duì)于每個(gè)多光道區(qū)域4702的光道位置錯(cuò)誤(TMh)可以由兩個(gè)主要部分管轄。光道位置錯(cuò)誤可以是單個(gè)光道相對(duì)于光學(xué)頭4708的移動(dòng)。橫向光帶運(yùn)動(dòng)(LTM) 4712對(duì)所有頭4708是共同的，每個(gè)頭4708的剩余運(yùn)動(dòng)4714 (RMh)對(duì)每個(gè)頭可以是特定的。LTM 4712可以是光帶介質(zhì)4710相對(duì)于頭輸送工具的運(yùn)動(dòng)。如此TM1=LTM+RM1TM2=LTM+RM2TM3=LTM+RM3'''TMN=LTM+RMN (公式 I)可以與讀/寫(xiě)頭4708相同的每個(gè)多光道區(qū)域4702的伺服感應(yīng)頭只能夠檢測(cè)每個(gè)光道相對(duì)于專(zhuān)用于該多光道區(qū)域4702的特定頭4708的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。伺服感應(yīng)頭只能夠確定特定多光道區(qū)域4702的TMh的總值。TMh可以是相對(duì)運(yùn)動(dòng)信號(hào)，它可以被用作每個(gè)多光道區(qū)域4702的設(shè)備伺服系統(tǒng)中的反饋信號(hào)，設(shè)備伺服系統(tǒng)可能具有預(yù)定的對(duì)于伺服性能的帶寬能力。頭輸送工具可以使用多個(gè)頭4708，并且對(duì)于多光道區(qū)域4702可以由設(shè)備伺服處理器來(lái)計(jì)算所有TMh的總和(SUM)，以幫助伺服系統(tǒng)按如下方式確定TMh和RMh對(duì)每個(gè)頭的總的TMh的貢獻(xiàn)由于LTM 4712對(duì)于所有頭可以相同，因此，從公式1，所有光學(xué)頭的誤讀的總和是SUM=TM1+TM2+TM3+.......+TMN=N 札 TM+ (RM1+RM2+RM3+.......RMN)如此，要確定LTM:LTM=SUM/N+ (RM1+RM2+RM3+......RMn) /N
公式2組合的RMh可以是公式2的項(xiàng)(RM1+RM2+RM3+.......RMn) /N中的組合的TMh貢
獻(xiàn)的非相關(guān)的分量，它的值可以隨著N增大而顯著地縮小。因此，LTM 4712值可以通過(guò)下列公式來(lái)近似LTM=SUM/N (近似) 公式 3LTM 4712可以是相對(duì)于所有頭4708的絕對(duì)和共同值，LTM4712可以獨(dú)立于單個(gè)頭傳感器的運(yùn)動(dòng)。公式3的近似的LTM可以被用作每個(gè)頭4708和多光道區(qū)域4702伺服系統(tǒng)的前饋信號(hào)，以提高每個(gè)頭4708的伺服誤差抑制性能。LTM 4712前饋信號(hào)可以與每個(gè)單個(gè) 光學(xué)頭0708RM信號(hào)相結(jié)合，以便改善光學(xué)頭跟蹤。在一個(gè)實(shí)施例中，可以描述用于讀取、解調(diào)，以及解碼伺服信息的方法和系統(tǒng)。伺服光道信息可以是光帶介質(zhì)上的預(yù)先格式化的信息。此預(yù)先格式化的信息可包括數(shù)據(jù)和編碼同步模式和光道地址?？梢栽诠鈳Ы橘|(zhì)上放置伺服標(biāo)記，以產(chǎn)生正弦曲線(xiàn)圖案，該正弦曲線(xiàn)圖案可以由伺服解調(diào)器從介質(zhì)中檢索。參考圖48，可以示出正弦圖案的相位翻轉(zhuǎn)的實(shí)施例，可以使用該實(shí)施例來(lái)產(chǎn)生涵蓋光道地址和數(shù)據(jù)同步信息的信號(hào)。在一個(gè)實(shí)施例中，正弦曲線(xiàn)的頻率可以確定調(diào)制的載波頻率，并可以為同步解調(diào)器/解碼器提供時(shí)間選擇。圖案的每八個(gè)周期可以表示一個(gè)單元。在一個(gè)實(shí)施例中，任何N周期圖案都可以用于正弦信號(hào)。每個(gè)單元都可以在同步和地址比特中攜帶信息。單元中的正弦曲線(xiàn)的相位的4周期逆可以表示“1-1”比特4802，還可以是同步模式比特。同步模式可以表明地址子字段的開(kāi)始，并可以用于同步。在地址子字段，單元中的頭兩個(gè)正弦曲線(xiàn)周期的倒相可以表示“1_0”4804，對(duì)于地址，可以被解碼為比特“1”，單元中的第二兩個(gè)周期“0-1 ” 4808的倒相，對(duì)于地址，可以被解碼為比特“O ”。解碼器可以使用模擬或數(shù)字延遲4810，以便延遲檢測(cè)到的正弦信號(hào)，并從檢測(cè)到的信號(hào)中減去它。在圖48中，延遲4810可以被示為四個(gè)周期延遲，但是，延遲4810可以是任意數(shù)量的周期。這可以是檢測(cè)相位調(diào)制的圖案中的相位的逆的健壯方法，因?yàn)樗梢允褂孟嘁频恼仪€(xiàn)本身的形狀，而非圖案的時(shí)間特性。另外，同步整流器4812、可停留的積分器4814，以及電平檢測(cè)器4818可以被用來(lái)解碼同步和地址模式，如圖48、圖49，以及圖50所示。參考圖49，示出了 8比特地址字段4902和同步比特4904的實(shí)施例。8比特地址字段4902可以是如圖48中所討論的相位正弦信號(hào)的逆的組合?！?-0”4804可以表示“I”比特4908，“0-1” 4808信號(hào)可以表示“O”比特4910。同步比特4904可以表明地址子字段的開(kāi)始，并可以用于同步。參考圖50，可以示出伺服解調(diào)器/解碼器5000的框圖的實(shí)施例。解調(diào)器/解碼器5000可以將正弦伺服信號(hào)解調(diào)和解碼為同步和地址比特信息。解調(diào)器/解碼器5000可包括延遲濾波器5002、第一閾值檢測(cè)器5004、PLL 5008、同步器5010、同步的整流器5012、同步的可重新設(shè)置的積分器5014，以及第二閾值檢測(cè)器。此處公開(kāi)了用于產(chǎn)生用于創(chuàng)建用于光帶壓花的鎳電鑄成型的墊片的工具的方法。工具也可以叫做PDMS墊片父親。參考圖51，可以利用壓花圖案5112，使用硬相位孔徑光掩模生產(chǎn)蝕刻過(guò)程5114，來(lái)壓花多個(gè)石英毛坯板5110中的一個(gè)，結(jié)果是未經(jīng)處理的母版5116。可以用一種或多種憎水涂料5118來(lái)處理未經(jīng)處理的母版5116，這會(huì)產(chǎn)生5120以化學(xué)方法結(jié)合的烷基硅酮或聚二甲娃氧燒“娃化”表面母版 5122 (United Chemical Technologies Glasscladl8 或Glassclad 6C)。毛坯石英板5110可以通過(guò)氧等離子進(jìn)行清潔5124，生成清潔的石英板5126?？梢詫?duì)原始PDMS 5128 (Dow-Corning Sylgard 184或等效物)去氣5130，生成去氣的PDMS5132?？梢詫⑷獾腜DMS應(yīng)用于硅化的表面母版5122，可以將清潔的石英板5126裝入真空袋中，或針對(duì)去氣的PDMS 5132的暴露表面進(jìn)行氣動(dòng)壓力鍵合5134，導(dǎo)致未固化的板疊層 5135。然后，可以在加熱板5136上固化未固化的板疊層5135。然后，可以分離5140固化的板疊層5138，導(dǎo)致壓花的PDMS薄膜5142，固化的硅化的表面母版5144，以及固化石英板5146。
壓花的PDMS薄膜5142可以是未經(jīng)處理的石英母版5116的接近于零的收縮副本，并可以進(jìn)一步用來(lái)對(duì)鎳墊片(未示出)進(jìn)行電鑄成型。壓花的PDMS薄膜5142相對(duì)于光聚合物或光致抗蝕劑副本具有下列優(yōu)點(diǎn)包括鎳電鑄成型的父親的釋放簡(jiǎn)單，和非常忠實(shí)的圖
案復(fù)制。此處公開(kāi)了用于使用兩個(gè)或更多單獨(dú)的鎳電鑄模型來(lái)產(chǎn)生電鑄成型的鎳壓花鼓的方法。參考圖52，產(chǎn)生使用從包括常規(guī)PVD母版化技術(shù)(激光束記錄器)、光聚合物父親、PDMS父親，以及由蝕刻石英母版制成的光致抗蝕劑父親的集合中選擇的過(guò)程來(lái)產(chǎn)生多個(gè)鎳電鑄模型5210?？梢詫?duì)鎳電鑄模型5210進(jìn)行精確切割，以沿著電鑄成型的格式對(duì)齊它們的邊。切削可以利用研磨機(jī)使用樹(shù)脂粘合劑金剛石砂輪來(lái)進(jìn)行。具有從.003〃到.010〃的可能厚度范圍的不銹鋼或鋁鉆孔的薄墊片庫(kù)(shimstock) 5230，可以被切割為大致鎳電鑄模型寬度以及鎳電鑄模型長(zhǎng)度的倍數(shù)，導(dǎo)致其長(zhǎng)度基本上等于壓花鼓(未示出)的圓周的不銹鋼或鋁墊片5230。可以將薄墊片庫(kù)5230置于測(cè)量顯微鏡上的電磁卡盤(pán)中，并可以將其與載物臺(tái)移動(dòng)的軸平行?？梢詫⒌谝绘嚹Ｐ?210A與前沿5215偏移薄墊片庫(kù)130放置在一起，并可以通過(guò)電磁卡盤(pán)固定就位，調(diào)整磁力以允許鎳電鑄模型5210移動(dòng)?？梢耘c載物臺(tái)移動(dòng)的軸平行地調(diào)整鎳電鑄模型5210?？梢韵螂姶趴ūP(pán)施加全力，以將鎳電鑄模型5210拉到與薄墊片庫(kù)5230密切接觸，并可以使用氰基丙烯酸酯來(lái)釘住鎳電鑄模型5210的邊緣。可以將第二鎳電鑄模型5210B放置在第一鎳電鑄模型5210A旁邊,與第一鎳電鑄模型5210A對(duì)齊，并固定就位?？梢詫㈦S后的鎳電鑄模型5210置于前面放置的電鑄模型5210旁邊并與它們對(duì)齊，并固定?？梢灾貜?fù)這種放置、對(duì)齊、固定過(guò)程，直到可以達(dá)到所希望的數(shù)量鎳電鑄模型5210?？梢栽诿恳浑婅T模型裂縫5250 (該裂縫5250可以垂直于薄墊片庫(kù)5230的長(zhǎng)軸)處激光焊接帶有鍵合的鎳電鑄模型5210的薄墊片庫(kù)5230?？梢栽诰哂羞m當(dāng)?shù)那拾霃降耐闺姶趴ūP(pán)上執(zhí)行前沿5215裂縫對(duì)齊和鍵合。前沿5215裂縫也可以被激光焊接在凸電磁卡盤(pán)處。可以從電磁卡盤(pán)中移除組合件，可以激光焊接薄墊片庫(kù)5230的內(nèi)徑裂縫，并可以向所產(chǎn)生的鼓的內(nèi)徑上的所有穿孔施加氰基丙烯酸酯。此處可以描述用于在光帶系統(tǒng)中輸送光帶介質(zhì)的滾柱導(dǎo)軌設(shè)備。參考圖53，滾輪軸5300在中心標(biāo)桿5330的螺紋端5320附近具有大法蘭5310?？梢詼?zhǔn)確地對(duì)法蘭5310進(jìn)行切削加工，以便提高的環(huán)5340的至少底表面5315可以基本上是垂直的中心標(biāo)桿5330長(zhǎng)軸。用于確保表面5315的垂直度的方法包括切削加工車(chē)削操作。當(dāng)末端5320可以被插入到基板中的預(yù)定的直徑孔中時(shí)，環(huán)5340的表面5315可以接觸到基板表面，結(jié)果是，滾輪軸5300可以垂直于基板。滾輪軸5300可以通過(guò)可以被插入到螺紋端5320中的螺旋釘(未示出)固定到基板。法蘭內(nèi)表面5350可以在適當(dāng)?shù)牧ο率侨彳浀?。由于?nèi)表面5350的柔軟性，可以 精確地調(diào)整滾輪軸5310相對(duì)于基板的高度。由于可以進(jìn)一步擰緊將滾輪軸100固定到基板的螺旋釘，因此，可以進(jìn)一步將中心標(biāo)桿5330拉到基板中的孔中。在環(huán)5340的表面5315放在基板的表面上的情況下，內(nèi)表面5350彎曲，可使中心標(biāo)桿5330的高度被調(diào)整，而同時(shí)保持與基板的準(zhǔn)確的垂直度。法蘭內(nèi)表面5350充當(dāng)內(nèi)嵌的彈簧，可進(jìn)行非常準(zhǔn)確的高度控制，通常好于I微米。對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍以及調(diào)整的準(zhǔn)確性有貢獻(xiàn)的因素包括滾輪軸5300的材料、中心標(biāo)桿5330的直徑、法蘭內(nèi)表面5350的厚度，以及螺紋端5320中的螺紋間距。參考圖54，可以通過(guò)應(yīng)用輥組件5400，降低對(duì)光帶的損壞，并提高控制。輥組件5400包括軋輥輥身5410、制動(dòng)裝置5420、軸承5430，以及滾輪軸5300。在此可能的實(shí)施例中，軋輥輥身5410可以是圓柱形狀和空心的。軋輥輥身5410壁可以制造得盡可能薄，以便最小化轉(zhuǎn)動(dòng)慣量，導(dǎo)致橫向光帶運(yùn)動(dòng)(LTM)降低，光帶磨損降低，以及光帶干擾變少。制動(dòng)裝置5420可以基本上是具有稍微大于軋輥輥身5410的直徑的圓形的盤(pán)，并可以被組裝到軋輥輥身5410的每一末端。制動(dòng)裝置5420可以被拋光以實(shí)現(xiàn)適當(dāng)?shù)钠教剐?。制?dòng)裝置5420對(duì)光帶執(zhí)行垂直引導(dǎo)，可以被用來(lái)降低橫向光帶運(yùn)動(dòng)的影響，并提高光帶驅(qū)動(dòng)器產(chǎn)生稠密數(shù)據(jù)記錄的能力。制動(dòng)裝置5420和軋輥輥身5410之間的過(guò)渡區(qū)域5440可以是精度90度的角。制動(dòng)裝置5420之間的距離可以被設(shè)計(jì)成能比光帶的寬度稍微寬一些(大致5微米)。根據(jù)光帶的本質(zhì)，光帶的一個(gè)邊緣將撞上制動(dòng)裝置5420中的一個(gè)。如此，軋輥輥身5410和制動(dòng)裝置5420會(huì)合的過(guò)渡區(qū)域5440將對(duì)光帶施加影響。過(guò)渡區(qū)域5440中不存在切片(fillet)可使光帶保持平面,消除光帶的變形。這將延長(zhǎng)光帶的邊緣的壽命,如此，保留光帶驅(qū)動(dòng)器的控制LTM的能力。在軋輥輥身5410的對(duì)面被組裝到制動(dòng)裝置5420的軋輥軸承，為軋輥輥身5410和制動(dòng)裝置5420的組合件提供平滑的軸承，以圍繞滾輪軸5300平滑地轉(zhuǎn)動(dòng)。此處描述了螺旋狀的輸送設(shè)備以及在光帶系統(tǒng)中與光帶介質(zhì)一起使用螺旋狀的輸送裝置的方法。參考圖55，本發(fā)明的可能的實(shí)施例包括帶有下面的卷軸5510、上面的卷軸5520的光帶輸送機(jī)構(gòu)，其中，可以在下面的卷軸5510到上面的卷軸5520之間輸送光帶5530?？赡艿膶?shí)施例還包括沿著基本上螺旋狀路徑5550排列的多個(gè)輥5540，以便在光帶5530在下面的卷軸5510和上面的卷軸5520之間輸送時(shí)支持光帶5530，有效地導(dǎo)致光帶5530在基本上螺旋狀路徑中盤(pán)旋。輥5540可以安裝到框架(未示出)上，以便輥5540旋轉(zhuǎn)軸5560可以垂直于螺旋狀路徑5550。下面的卷軸5510和上面的卷軸5520旋轉(zhuǎn)軸也可以基本上垂直于螺旋狀路徑5550。所產(chǎn)生的從下面的卷軸5510到上面的卷軸5520的光帶路徑距離可以依賴(lài)于輥5540的數(shù)量，以及間隔。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，螺旋狀路徑5550的環(huán)路的數(shù)量可以是大于或小于圖55中所示出的數(shù)量。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，可以沿著螺旋狀路徑5550放置接口頭5560，用于執(zhí)行諸如從光帶5530讀取信息或向光帶5530寫(xiě)入信息之類(lèi)的操作。光帶5530可包括來(lái)自包括光學(xué)介質(zhì)、以及磁性介質(zhì)的集合的介質(zhì)，或者可以是另一種類(lèi)型。頭5560的數(shù)量和類(lèi)型可以大于或小于圖55中所示出的那些。參考圖56，可以從頂視圖示出圖55的可能的實(shí)施例，其中，下面的卷軸5510和 上面的卷軸5520可以基本上沿著它們的旋轉(zhuǎn)軸對(duì)齊。然而，在其他實(shí)施例中，下面的卷軸5510和上面的卷軸5520的替換的朝向也是可以的。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，下面的卷軸5510和上面的卷軸5520可以替換為用于輸送的提供光帶5530的其他裝置，包括光帶制造裝置、光帶格式裝置等等。如此處所描述的可調(diào)滾軸導(dǎo)桿可以用于準(zhǔn)確地調(diào)整光帶系統(tǒng)中的光帶介質(zhì)的高度。參考圖57，帶有附著于輥5710頂部和/或底部表面的磁體5720的旋轉(zhuǎn)輥5710，圍繞軸5730滾動(dòng)。輥5710可以自由地沿著軸5730軸向地移動(dòng)。磁體5740或電磁感應(yīng)圈5750可以附接到框架5770，軸5730也可以附接到該框架5770。在軸5730的相對(duì)末端處，可以附接電磁感應(yīng)圈5750或磁體5740。響應(yīng)于傳遞給線(xiàn)圈5750的橫向位置錯(cuò)誤信號(hào)，可以施加改變線(xiàn)圈5750的磁場(chǎng)的電流，導(dǎo)致磁體5720 (因此，附接的輥5710)沿著軸5730移動(dòng)。輥5710的移動(dòng)的目標(biāo)可以是調(diào)整由輥5710所引導(dǎo)的光帶，以補(bǔ)償光帶橫向位置的不希望有的偏移。隨著輥5710補(bǔ)償光帶位置的偏移，可以降低位置誤差信號(hào)。也可以使用本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例以調(diào)整輥5710位置以考慮不同寬度的光帶。在帶有第二固定的輥的一個(gè)實(shí)施例中，輥5710可以沿著軸5730移動(dòng)，以將光帶“俘獲”在輥5710上的頂部或底部法蘭5760之間和第二輥上的底部或頂部法蘭之間。此實(shí)施例也可以適于與窄寬度光帶一起使用?？闪磉x地，對(duì)于寬的寬度光帶，輥5710可以被如此定位，以便頂部或底部法蘭5760可以與固定的輥的頂部或底部法蘭的位置一致。在帶有多個(gè)輥5710的另一實(shí)施例中，可以基于光帶寬度來(lái)定位每個(gè)輥，以便進(jìn)行高密度跟蹤。如此處所描述的在無(wú)縫鼓上寫(xiě)入擺動(dòng)周期可以對(duì)壓花光帶介質(zhì)有用，導(dǎo)致對(duì)經(jīng)修改以使用調(diào)整的光帶系統(tǒng)有益的調(diào)整區(qū)。參考圖58A，具有可以小于外邊緣直徑5860的中心直徑5850的典型的擺動(dòng)周期壓花鼓5800，導(dǎo)致跨光帶介質(zhì)的寬度的變化數(shù)量的壓花擺動(dòng)周期。參考圖58，本發(fā)明的實(shí)施例的擺動(dòng)周期壓花鼓5800包括鼓壓花區(qū)域5810、索引標(biāo)記5830，以及擺動(dòng)周期5840。通過(guò)使用從包括壓花鼓5800最大直徑和壓花鼓5800最小直徑的集合中選擇的信息，可以調(diào)整寫(xiě)入擺動(dòng)周期5840的方法，以確保調(diào)整區(qū)5820可以跨壓花鼓5800的長(zhǎng)度存在。參考圖59，基于沿著其中可以寫(xiě)入每個(gè)擺動(dòng)周期5910到5940的圓周的壓花鼓5800直徑，擺動(dòng)周期5910到5940從鼓5800周?chē)乃饕龢?biāo)記5830延伸，并可以延伸到調(diào)整區(qū)5820，但是將不會(huì)超出調(diào)整區(qū)5820。在圖59的可能的實(shí)施例中，擺動(dòng)周期5910延伸到調(diào)整區(qū)5820的前沿5950，而擺動(dòng)周期5920,5930以及5940所有都延伸到調(diào)整區(qū)5820中。如此處所描述的設(shè)備可以提供位置和平面化支持，以便將光帶介質(zhì)定位在光帶系統(tǒng)中的光學(xué)拾取頭下。圖60示出了光帶介質(zhì)位置和平面化支支持的可能的實(shí)施例。支持6010可包括進(jìn)入表面6020、聚焦溝道6030，以及退出表面6040 ;進(jìn)入表面和退出表面可以基本上是長(zhǎng)形的截?cái)嗟耐残?。進(jìn)入表面和退出表面的筒形可以各自都具有半徑表面；半徑表面可以介于Imm到IOOmm之間。進(jìn)入表面6020可以構(gòu)成光帶介質(zhì)可以在其上面滑動(dòng)以便去除光帶介質(zhì)的平面干擾的表面。光帶介質(zhì)基本上垂直于進(jìn)入表面6020的長(zhǎng)軸移動(dòng)。 聚焦溝道6030可以是將進(jìn)入表面6020與退出表面6040分離的狹窄溝道，形成大致O. Imm和大致3mm之間的可能的分離寬度。當(dāng)光帶介質(zhì)從進(jìn)入表面6020移到退出表面6040時(shí)，它越過(guò)溝道6030，其中，退出表面6040可以去除光帶介質(zhì)的平面干擾。參考圖61，圖60的本發(fā)明的可能的實(shí)施例的端視圖，聚焦溝道6030防止光帶介質(zhì)中的任何較小的缺陷和/或進(jìn)入表面6020中的任何較小的缺陷(這些缺陷可能在光帶介質(zhì)通過(guò)進(jìn)入表面6020時(shí)干擾光帶介質(zhì)的平坦性)在光帶介質(zhì)在被定位于聚焦溝道6030上方的光帶介質(zhì)讀/寫(xiě)磁頭6110下通過(guò)時(shí)影響光帶介質(zhì)的平坦性。參考圖61，進(jìn)入表面6020和退出表面6040可以形成曲線(xiàn)的不連續(xù)的部分，不連續(xù)性是由聚焦溝道6030所形成的。表面的這樣的曲線(xiàn)形狀可以確?；顒?dòng)光帶介質(zhì)6120基本上保持與平面化表面接觸。大致O. Imm和大致3mm之間的聚焦溝道6030可能寬度，確保當(dāng)光帶介質(zhì)6120在光帶介質(zhì)讀/寫(xiě)頭6110下移動(dòng)時(shí)基本上是平的，以平面形式移動(dòng)。圖62示出了光帶介質(zhì)位置和平面化支撐設(shè)備的替換實(shí)施例，其中，聚焦溝道6030縱向長(zhǎng)度可以稍微小于進(jìn)入表面6020或者退出表面6040的縱向長(zhǎng)度。如此處所描述的卷軸可以與光帶系統(tǒng)中的光帶介質(zhì)一起使用，以降低成本并提高光帶運(yùn)動(dòng)的速度。參考圖63，可以示出帶有多個(gè)質(zhì)量降低開(kāi)口 6304的卷軸的單側(cè)6302的實(shí)施例。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例可包括可以產(chǎn)生高速和低成本的卷軸組件的兩塊卷軸?？梢詫?duì)卷軸半?yún)^(qū)(halves) 6302的法蘭進(jìn)行切削加工、澆鑄、注模等等，以降低質(zhì)量，如此，降低卷軸的慣性。卷軸半?yún)^(qū)6302可以由塑料、金屬或其他材料制成。低慣性法蘭可以提供卷軸的提高的加速度，并可以提供對(duì)光帶速度的較好的控制。另外，低慣性法蘭還可準(zhǔn)許使用較小的馬達(dá)，因?yàn)轵?qū)動(dòng)卷軸需要較小的電流。使用較小的馬達(dá)可以對(duì)驅(qū)動(dòng)器中的功率耗散具有積極的影響。旋轉(zhuǎn)卷軸組件所需的功率的縮小可以在光帶區(qū)域提供較小的熱量。除提供低慣性特征之外，質(zhì)量減少開(kāi)口 6304還可產(chǎn)生泄放孔，以便在纏繞過(guò)程中空氣隨介質(zhì)一起進(jìn)入和退出卷軸。隨介質(zhì)一起進(jìn)入和退出卷軸的空氣可以促進(jìn)介質(zhì)在卷軸上的均勻?qū)盈B；這可以積極地影響橫向光帶運(yùn)動(dòng)。質(zhì)量減少開(kāi)口 6304還可提供對(duì)于介質(zhì)在卷軸上的層疊的監(jiān)測(cè)技術(shù)。由于介質(zhì)可以層疊到卷軸上，因此，會(huì)有介質(zhì)不均勻地層疊在卷軸上的趨勢(shì)。如果有不均勻的層疊，可能會(huì)發(fā)生光帶位置在光帶路徑上的漂移，這可能會(huì)降低頭輸送工具的閉環(huán)伺服系統(tǒng)的跟蹤精度。質(zhì)量減少開(kāi)口 6304還允許使用監(jiān)測(cè)技術(shù)以標(biāo)識(shí)是否可以均勻地層疊介質(zhì)?？梢允褂每梢暦椒▉?lái)查看介質(zhì)是否正確地層疊。介質(zhì)層疊可以由諸如光學(xué)傳感器之類(lèi)的光帶驅(qū)動(dòng)器傳感器來(lái)感應(yīng)，以預(yù)測(cè)何時(shí)可能會(huì)發(fā)生不均勻?qū)盈B；可以將此信息饋送到閉環(huán)伺服系統(tǒng)，該閉環(huán)伺服系統(tǒng)可以補(bǔ)償光帶位置變化。在一個(gè)實(shí)施例中，此卷軸設(shè)計(jì)還可具有在驅(qū)動(dòng)器區(qū)域提供正的和負(fù)的壓力條件的能力。正壓力可以被用來(lái)冷卻驅(qū)動(dòng)器中的電子器件，或者可以當(dāng)可以纏繞光帶時(shí)在光帶的各層之間產(chǎn)生氣膜。負(fù)壓力可以被用來(lái)當(dāng)可以退繞卷軸時(shí)從介質(zhì)中抽出空氣。參考圖64，可以示出卷軸組件6402的實(shí)施例。在一個(gè)實(shí)施例中，可以通過(guò)螺旋釘、螺栓、緊固件、機(jī)械連接、滑扣，粘接劑等等來(lái)連接兩個(gè)卷軸半?yún)^(qū)6302。在一個(gè)實(shí)施例中，可以從第一半?yún)^(qū)到第二半?yún)^(qū)對(duì)齊兩個(gè)半?yún)^(qū)6302的質(zhì)量減少開(kāi) 口 6304。在一個(gè)實(shí)施例中，可以不從第一半?yún)^(qū)到第二半?yún)^(qū)對(duì)齊兩個(gè)半?yún)^(qū)6302的質(zhì)量減少開(kāi)口 6304。如此處所描述的，壓模條帶以及跨壓模條帶的裂縫導(dǎo)致準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)的過(guò)程，可以被用來(lái)生成帶有精確跟蹤對(duì)準(zhǔn)的光帶介質(zhì)。參考圖65，可以示出用于將信息壓花到光帶上的鼓組件6500的實(shí)施例?？梢試@鼓底座6502包裝以細(xì)微的表面起伏圖案的形式包含壓花信息的一個(gè)或多個(gè)壓模墊片6504。在一個(gè)實(shí)施例中，壓模墊片6504可以通過(guò)磁力、機(jī)械連接、粘接劑連接等等固定就位。在一個(gè)實(shí)施例中，鼓底座6502可以是磁性的，并可以在光學(xué)上拋光外表面，使其光滑。鼓底座6502可以由磁性材料制成，可以是非磁性的并具有磁性材料的外層；外層可以是施加于鼓底座6502的磁涂層。壓模墊片6504材料可以是諸如鎳或鎳鉻合金之類(lèi)的順磁材料，可使壓模墊片6504以磁性方式附著于鼓底座6502表面。在另一實(shí)施例中，可以將非磁性壓模墊片6504粘接到諸如鎳或鎳鉻合金之類(lèi)的順磁材料，以準(zhǔn)許粘接的壓模墊片6504連接到磁鼓底座6502。在實(shí)施例中，鼓底座6502可以由諸如鎳或鎳鉻合金之類(lèi)的順磁材料制成，或者可以具有順磁材料的外層；外層可以是施加于鼓底座6502的順磁涂層。沖壓墊片6504可以是磁性材料。在另一實(shí)施例中，沖壓墊片6504可以由帶有鍵合的磁性材料的非磁性材料制成，以準(zhǔn)許鍵合的壓模墊片6504連接到順磁鼓底座6502。在一個(gè)實(shí)施例中，可以在完成對(duì)準(zhǔn)之后，使用粘接劑，通過(guò)鼓底座6502中的膠水孔6508，將壓模墊片6504進(jìn)一步固定就位到鼓底座6502?？梢员挥脕?lái)向光帶提供格式的壓花特征可以位于壓模墊片6504的外表面或外徑上。至少一個(gè)壓模墊片6504可以被用來(lái)提供圍繞鼓底座6502的外徑的完整的一套光道。通過(guò)在鼓底座6502周?chē)┘又辽僖粋€(gè)壓模墊片6504，在壓模墊片6504端會(huì)合的地方，將形成至少一個(gè)裂縫。相對(duì)應(yīng)的光道跨裂縫地準(zhǔn)確地對(duì)齊是重要的。由于實(shí)踐的以及制造原因，可以在鼓底座6502的圓周周?chē)褂枚鄠€(gè)壓模墊片6504。在各實(shí)施例中，當(dāng)可以在鼓底座6502周?chē)b多個(gè)壓模墊片6504時(shí)，可以要求光道跨多個(gè)裂縫的準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)。
在一個(gè)實(shí)施例中，壓模條帶6504和鼓底座6502可以通過(guò)磁力連接，橫向地調(diào)整鼓底座6502上的壓模墊片6504端以對(duì)齊壓模墊片的端相對(duì)較容易。參考圖66，可以示出使用差動(dòng)螺釘6602的壓模墊片6504對(duì)準(zhǔn)方法的實(shí)施例。在一個(gè)實(shí)施例中，此對(duì)準(zhǔn)方法可包括對(duì)壓模墊片6504的粗調(diào)，接下來(lái)是微調(diào)。在粗調(diào)步驟中，可以使用諸如立體顯微鏡之類(lèi)的顯微鏡來(lái)聚焦于壓模墊片6504的裂縫6604區(qū)域。在通過(guò)顯微鏡查看時(shí)，壓模墊片6504光道可以被對(duì)齊在大致+/_10微米內(nèi)。沿著外光道以及光道之間的基準(zhǔn)標(biāo)記可以用于此粗調(diào)。在對(duì)于所有壓模墊片6504裂縫6604完成粗調(diào)之后，可以執(zhí)行微調(diào)，以便對(duì)壓花特征進(jìn)行最終對(duì)準(zhǔn)。在此步驟中，鼓可以被安裝在主軸上，并以相對(duì)慢的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)。此步驟可以使用諸如ShibuSoku機(jī)器之類(lèi)的光學(xué)介質(zhì)測(cè)試器來(lái)實(shí)現(xiàn)。測(cè)試器上的光學(xué)拾取頭可以聚焦于沖壓墊片6504的表面特征。光學(xué)拾取頭可以聚焦并鎖定到光道，可以讀取光道，并可以解 碼光道地址。光學(xué)拾取頭可以對(duì)于裂縫兩側(cè)的光道執(zhí)行此過(guò)程。電子線(xiàn)路可以被設(shè)計(jì)成能適應(yīng)壓模裂縫6604的存在。一旦對(duì)于壓模墊片6504裂縫6604兩側(cè)的光道確定了光道地址，就可以對(duì)齊光道。對(duì)于帶有多個(gè)墊片的鼓，可以利用上文對(duì)于每一對(duì)壓模墊片6504裂縫所描述的過(guò)程橫向地調(diào)整每一對(duì)壓模墊片6504裂縫6604的對(duì)準(zhǔn),直到光道被對(duì)齊。繼續(xù)參考圖66，可以示出使用微分計(jì)來(lái)進(jìn)行壓模墊片6504微調(diào)的第一實(shí)施例。至少一個(gè)微分計(jì)6602可以安裝在鼓底座6502的緣邊；微分計(jì)6602可以具有微米水平的調(diào)準(zhǔn)能力。可以使用第一微分計(jì)6602來(lái)在一種方向推壓模墊片6504。第二微分計(jì)6602可以被安裝在對(duì)面一側(cè)以在相反方向上推壓模墊片6504。如此，可以以微米精度在任一方向調(diào)整壓模墊片6504,以對(duì)齊壓模墊片6504的光道。在每個(gè)壓模墊片6504裂縫處可以有至少一個(gè)微分計(jì)6602。由于鼓組件6500的一對(duì)壓模墊片6504,可以對(duì)于每個(gè)裂縫重復(fù)粗調(diào)和微調(diào)的過(guò)程。如上文所描述的，至少一個(gè)微分計(jì)6602可以由來(lái)自拾取頭的電子反饋來(lái)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。參考圖67，可以示出使用壓電轉(zhuǎn)換器6702來(lái)對(duì)齊壓模墊片6504裂縫6604的微調(diào)的第二實(shí)施例。至少一個(gè)壓電轉(zhuǎn)換器6702可以被置于鼓底座6502和每個(gè)裂縫6604處的壓模墊片6502之間。通過(guò)使用至少一個(gè)壓電轉(zhuǎn)換器6702，可以通過(guò)提供電子反饋回路來(lái)自動(dòng)化該過(guò)程，其中，對(duì)準(zhǔn)信息可以通過(guò)介質(zhì)測(cè)試器來(lái)獲取，并可以被用來(lái)驅(qū)動(dòng)壓電轉(zhuǎn)換器6702以對(duì)齊壓模墊片6504?？梢酝ㄟ^(guò)使用拾取頭6704來(lái)開(kāi)發(fā)自動(dòng)化閉環(huán)系統(tǒng)，以讀取壓模墊片6504光道，并將光道信息饋送到處理器6708。處理器6708可以是微處理器、微計(jì)算機(jī)、微控制器等等。處理器6708可以包含用于存儲(chǔ)壓模墊片6504光道位置信息的存儲(chǔ)器。處理器6708還能夠?qū)⒎答佁峁┑綁弘娹D(zhuǎn)換器6702，以便對(duì)準(zhǔn)壓模墊片6502。閉環(huán)系統(tǒng)還可包括放大器6710，以為壓電轉(zhuǎn)換器6702提供適當(dāng)?shù)男盘?hào)電平。拾取頭6704可以被允許跨壓模墊片6504的所有光道移動(dòng)，以確定光道對(duì)準(zhǔn)。由于鼓組件6500可以慢慢地圍繞中心軸旋轉(zhuǎn)，因此，拾取頭6704可以讀取調(diào)整信號(hào)，并將調(diào)整信號(hào)通過(guò)處理器6708發(fā)送到壓電轉(zhuǎn)換器6702中的至少一個(gè)，以對(duì)齊壓模墊片6504的光道。鼓組件6500可以旋轉(zhuǎn)一轉(zhuǎn)或多轉(zhuǎn)以跨壓模墊片6504對(duì)齊光道。在一個(gè)實(shí)施例中，在對(duì)齊跨裂縫的第一對(duì)壓模墊片6504之后，閉環(huán)系統(tǒng)的拾取頭可以移動(dòng)到第二對(duì)壓模墊片6504，以實(shí)現(xiàn)對(duì)準(zhǔn)。在一個(gè)實(shí)施例中，拾取頭6704可以對(duì)齊鼓組件6500的所有墊片。在一個(gè)實(shí)施例中，閉環(huán)系統(tǒng)可以使用所有壓模墊片6504光道的平均來(lái)提供與所有光道的對(duì)準(zhǔn)。在一個(gè)實(shí)施例中，閉環(huán)系統(tǒng)可以要求圍繞整個(gè)鼓周邊的所有墊片6504的幾個(gè)給定光道的精確對(duì)準(zhǔn)。如此處所描述的，測(cè)試設(shè)備可以用于測(cè)試光帶介質(zhì)的各個(gè)方面。參考圖68，可以將圓柱形鼓輪6810安裝到轉(zhuǎn)軸6820上。軸6820又可以耦合到馬達(dá)(未示出)，該馬達(dá)可以被遠(yuǎn)程控制，以便以各種所需要的速度旋轉(zhuǎn)。馬達(dá)可以被組裝到硬片基6830。介質(zhì)的長(zhǎng)度6840，帶有預(yù)定的格式化信息的特征，以連續(xù)循環(huán)的形式，可以被固定到鼓6810的外面。光學(xué)頭6850可以被定位在介質(zhì)6840上方的近距離處,在頭6850的 聚焦范圍內(nèi)。頭6850與介質(zhì)6840的表面的對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)機(jī)械調(diào)整裝置6860來(lái)執(zhí)行。當(dāng)通電時(shí)，鼓6810以所需要的速度旋轉(zhuǎn)，而頭6850讀取介質(zhì)6840上的特征，將從這些特征中讀取的任何信息傳輸?shù)接?jì)算機(jī)(未示出)供分析?？梢詧?zhí)行的一種這樣的分析可以是介質(zhì)的質(zhì)量的度量。修改的光帶驅(qū)動(dòng)器，當(dāng)與光學(xué)介質(zhì)測(cè)試器相結(jié)合時(shí)，導(dǎo)致如此處所描述的測(cè)試系統(tǒng)，該測(cè)試系統(tǒng)可以在基本上類(lèi)似于在光帶系統(tǒng)中發(fā)現(xiàn)的配置的配置中對(duì)測(cè)試光帶有用。參考圖69，可以修改光帶驅(qū)動(dòng)器6910以將介質(zhì)6920水平地呈現(xiàn)到光學(xué)介質(zhì)測(cè)試器6930。在此可能的實(shí)施例中，可以垂直地定向光學(xué)介質(zhì)測(cè)試器6930的光學(xué)頭6940，照射到介質(zhì)6920底表面。光學(xué)頭6940包括從包括聚焦、跟蹤伺服，以及數(shù)據(jù)解釋的集合中選擇的功能?？梢苑治鲈趫?zhí)行一個(gè)或多個(gè)功能時(shí)從光學(xué)頭6940收集的信息，以評(píng)估從包括橫向光帶運(yùn)動(dòng)、張力變化、光帶表面缺陷，以及諸如卷軸6950、輥6960以及光帶伺服系統(tǒng)(未示出)中的非均勻性之類(lèi)的存在于光帶驅(qū)動(dòng)器中的特征的集合中選擇的因素。如此處所描述的對(duì)齊的、裂縫的、壓花鼓以及其生產(chǎn)過(guò)程可以被用來(lái)壓花光帶介質(zhì)。參考圖70，從耐熱玻璃或其他合適的玻璃制造的空心的、經(jīng)修改的真空吸盤(pán)鼓7010將多個(gè)墊片7015保持在其外徑周?chē)?，帶有大致O. 5英寸的壁厚。在吸盤(pán)鼓7010的此可能的實(shí)施例中，可以在鼓7010的壁上形成通孔7020，以便流出粘接劑，以將準(zhǔn)確切割的，蝕刻的，聚碳酸酯墊片7015粘接到鼓7010外表面。在此可能的實(shí)施例中，墊片7015可以大致100微米厚；然而，也可以使用其他適當(dāng)厚度的聚碳酸酯?？梢允褂脧陌ㄣ@石飛刀切肖IJ、噴水切削，以及鉆石砂輪研磨的集合中選擇的切割方法，來(lái)首先將墊片7015從較大的板切割為預(yù)定的大小，以便適合鼓7010?？梢詮氖⒅С值墓饩酆衔镂g刻較大的板，石英支持的光聚合物可以首先從石英蝕刻的母版產(chǎn)生。在其他實(shí)施例中，可以包括沿著吸盤(pán)鼓7010外表面的分配溝道7030，用于從通孔7020分配粘接劑?？闪磉x地，可以省略通孔7020，而可以包括延伸到鼓7010的任一端的分配溝道7030，用于施加粘接劑。通過(guò)通孔7020和/或分配溝道7030施加的粘接劑可以大致是UV固化的粘接劑。然而，也可以使用其他類(lèi)型的粘接劑。
進(jìn)一步參考圖70，鼓7010包括真空溝道7040以及真空口 7050，它們協(xié)作地工作以使鼓真空(未示出)通過(guò)真空封帽7060連接，以通過(guò)真空口 7050導(dǎo)致抽真空動(dòng)作在調(diào)整和粘接劑固化期間臨時(shí)將墊片7015保持就位。參考圖71，可以使用光學(xué)裝置來(lái)檢查粗略地對(duì)齊到端蓋7070并固定就位的一個(gè)或多個(gè)墊片7015是否對(duì)準(zhǔn)?？梢哉{(diào)制真空到真空口 7050，以使得墊片7015沿著鼓7010外表面進(jìn)行類(lèi)似于微米的移動(dòng)，以便進(jìn)行最終的對(duì)準(zhǔn)。可以通過(guò)通孔7020和/或分配溝道7030引入，檢查，并固化粘接劑(未示出)。如果鼓可以是透明的(諸如硼硅酸玻璃)，可以通過(guò)墊片7015或通過(guò)鼓7010執(zhí)行對(duì)粘接劑的檢測(cè)。參考圖72，完整的鼓組件7210可以安裝在蛛網(wǎng)壓花機(jī)(未示出)，在鼓7210中插入了 UV電燈7220，帶有適當(dāng)?shù)淖o(hù)罩7230。這允許暴露UV壓花單體(7240)，無(wú)需將紫外線(xiàn)光穿過(guò)光帶基7250。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，可以從金屬制造空心的、經(jīng)修改的真空吸盤(pán)鼓7010。這要求UV電燈7220安裝在完整的鼓組件7210外部，以便紫外線(xiàn)光穿過(guò)光帶基7250。 在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，對(duì)于每個(gè)墊片，真空調(diào)制和控制可以是分別地可控制的，允許在粘接固化之前同時(shí)調(diào)整無(wú)、一個(gè)或任何數(shù)量的墊片。此處所公開(kāi)的過(guò)程提高了在襯底層上包括單體層的多層光學(xué)介質(zhì)(例如，光帶)的性能。為單體固化所公開(kāi)的過(guò)程包括將單體暴露于紫外光。該過(guò)程可以通過(guò)增強(qiáng)單體與襯底的粘附力，增強(qiáng)固化的單體內(nèi)的內(nèi)聚力，并縮小固化的單體的暴露表面的粘性來(lái)提高性倉(cāng)泛。參考圖73，該過(guò)程包括在分層步驟之后使單體暴露于廣譜紫外光。第一固化步驟7310可以使用來(lái)自發(fā)光二極管的紫外光。第一固化步驟7310可以在介質(zhì)可以仍在壓花鼓上時(shí)執(zhí)行，并可以是有益的，因?yàn)樵趬夯ㄟ^(guò)程中它最小化了對(duì)介質(zhì)的薄襯底的熱輸入。使用來(lái)自發(fā)光二極管的紫外光還可以消除對(duì)壓花鼓的加熱，如此，沒(méi)有必要對(duì)鼓進(jìn)行冷卻。在各實(shí)施例中，寬帶紫外線(xiàn)能量源的使用可以為第一固化步驟7310中的單體固化提供更寬的基礎(chǔ)，而同時(shí)可能會(huì)提高介質(zhì)和壓花鼓的溫度。參考圖73，可以在分層步驟7320中對(duì)介質(zhì)進(jìn)行分層。參考圖73，分層后固化步驟7330可包括使用廣譜紫外光，來(lái)自發(fā)光二極管的紫外光，或其組合。其組合可以降低由于單獨(dú)使用廣譜紫外光所造成的過(guò)熱而引起的介質(zhì)變形風(fēng)險(xiǎn)。(I)Mod2 壓花機(jī)襯底跟蹤機(jī)器的對(duì)準(zhǔn)已經(jīng)表明對(duì)促進(jìn)2密耳和6微米PEN的適當(dāng)蛛網(wǎng)跟蹤有好處。涂敷的空轉(zhuǎn)輥表面可以減少摩擦，并可以促進(jìn)改進(jìn)的蛛網(wǎng)跟蹤，導(dǎo)致折痕變少。例如發(fā)現(xiàn)金屬和塑料上的PTFE，注入了 Ni的特氟隆可以有效地縮小我們的系統(tǒng)中的摩擦；以及涂敷了 TFE的壓花工具(Ni電鑄成型和Hg’ x)可以促進(jìn)改進(jìn)的版本。對(duì)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的序列化而同時(shí)利用6微米襯底來(lái)操作Mod2可以促進(jìn)避免蛛網(wǎng)損壞。例如
在驅(qū)動(dòng)蛛網(wǎng)之前設(shè)置和嚙合蛛網(wǎng)張力；以及機(jī)器的各部分的定值可包括被設(shè)置為26rpm的主驅(qū)動(dòng)(幾乎不會(huì)導(dǎo)致蛛網(wǎng)移動(dòng)，但是，馬達(dá)可以嚙合)；設(shè)置為Ilb的馬達(dá)3重繞張力；設(shè)置為O. 61b的馬達(dá)4退繞張力；在可以設(shè)置張力之后，重繞張力可以以O(shè). 5-0. 75的增量提高到2. 51bs ；退繞張力可以被提高到O. 65-1 Ib ;以及在張力可以被瞄準(zhǔn)之后，主驅(qū)動(dòng)線(xiàn)速度可以以l_2rpm增量而增大對(duì)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的序列化而同時(shí)利用2密耳襯底來(lái)操作Mod2可以促進(jìn)避免馬達(dá)的過(guò) 載。例如在驅(qū)動(dòng)蛛網(wǎng)之前設(shè)置和嚙合蛛網(wǎng)張力；以及機(jī)器的各部分的定值包括被設(shè)置為26rpm的主驅(qū)動(dòng)(幾乎不會(huì)導(dǎo)致蛛網(wǎng)移動(dòng)，但是，馬達(dá)可以嚙合)；設(shè)置為Ilb的馬達(dá)3重繞張力；設(shè)置為Ilb的馬達(dá)4退繞張力；在可以設(shè)置張力之后，重繞張力可以以O(shè). 5-0. 75的增量提高到3. 5_41bs ；退繞張力可以被提高到2_31bs ；以及在張力可以被瞄準(zhǔn)之后，主驅(qū)動(dòng)線(xiàn)速度可以以l_2rpm增量而增大。充分高的重繞張力可以促進(jìn)機(jī)器快速?gòu)闹T如由嚙合壓料輥所導(dǎo)致的張力中的臨時(shí)干擾中恢復(fù)。上面的序列化和操作響應(yīng)可以被嵌入到控制系統(tǒng)邏輯中，降低了在機(jī)器操作期間操作員錯(cuò)誤的可能性。邊緣引導(dǎo)可以修改退繞邊緣引導(dǎo)控制系統(tǒng)，以促進(jìn)緩沖的響應(yīng)時(shí)間和減少的折縫，這可能是由于退繞定位系統(tǒng)的幅度中的快速并且過(guò)度的變化?？梢孕薷闹乩@邊緣引導(dǎo)控制系統(tǒng)，以促進(jìn)緩沖的響應(yīng)時(shí)間和減少的折縫，這可能是由于重繞定位系統(tǒng)的幅度中的快速并且過(guò)度的變化。重繞邊緣引導(dǎo)可以被安裝在馬達(dá)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)上(橫向運(yùn)動(dòng))，這可以促進(jìn)確保邊緣引導(dǎo)可以控制到卷線(xiàn)盤(pán)的邊緣，而并非Mod2的后面板。這可以改進(jìn)卷線(xiàn)盤(pán)的邊緣的均勻性，這對(duì)于隨后的真空涂敷過(guò)程可能是重要的。電暈處理對(duì)于在Mod2上測(cè)試的單體，O. 75kw的功率級(jí)別看來(lái)似乎提供好的粘合性，假設(shè)單體的固化充分。此過(guò)程窗口由電暈處理襯底來(lái)進(jìn)行定義，切除停止動(dòng)作(stop-action)樣本，手動(dòng)與單體層疊樣本，并在Oriel電燈系統(tǒng)中固化3分鐘(已知是充分的固化級(jí)別)。對(duì)于功率級(jí)別>0. 75kw，測(cè)量到的襯底的表面能量 54達(dá)因。單體涂敷使用手動(dòng)注射器的單體涂敷可以適用于對(duì)壓花過(guò)程的初步測(cè)試。在蛛網(wǎng)速度飛fpm時(shí)，滴/秒的頻率時(shí)蛛網(wǎng)上的液滴的正弦圖案可以向壓花過(guò)程提供充足的單體供應(yīng)，以產(chǎn)生一般性的交叉蛛網(wǎng)的壓花CD圖案(帶有CD鼓)。低得多的單體供應(yīng)可以減少交叉蛛網(wǎng)覆蓋。較高的單體供應(yīng)可以導(dǎo)致從鼓的邊緣擠出。作為示例，發(fā)現(xiàn)了使用Anilox到橡膠-到蛛網(wǎng)的涂敷施加技術(shù)，以產(chǎn)生受很好控制的均勻涂敷。襯底防靜電保護(hù)通過(guò)使用防靜電裝置，可以促進(jìn)避免較性能差的區(qū)域。例如，使用防靜電裝置的改進(jìn)可包括對(duì)于6微米PEN，可以改進(jìn)蛛網(wǎng)跟蹤；以及當(dāng)使用注射器時(shí)，液滴可以在單體的蛛網(wǎng)表面涂層上更好地形成?？梢栽?個(gè)位置處利用Po-210核防靜電劑來(lái)實(shí)現(xiàn)上面的效果?？赡艿奈恢冒?
退繞后電暈后處理單元壓花后重繞前也評(píng)估靜電防靜電劑條，發(fā)現(xiàn)與核條同樣有效(除帶來(lái)電擊危險(xiǎn)之外)。壓花過(guò)程以及設(shè)備至少15psi的軋點(diǎn)壓力可以提供充分的力，以使用⑶鼓導(dǎo)致好的分層。使用單一夾輥(僅給進(jìn))看來(lái)似乎可以壓花鼓上產(chǎn)生較高張力的操作點(diǎn)。這可以是下列各項(xiàng)的結(jié)果與設(shè)置的重繞張力級(jí)別的較小的隔離夾輥#2中的慣性，當(dāng)輥嚙合時(shí)，撞擊力可能擴(kuò)大兩個(gè)夾輥的使用(供入和退出)從宏觀上來(lái)講導(dǎo)致可以接受的操作。一些示例包括與常規(guī)的裂縫一起使用裂縫的鼓可以促進(jìn)監(jiān)測(cè)均勻性和流動(dòng)的簡(jiǎn)便性；利用好的壓力匹配將兩個(gè)夾輥嚙合可以促進(jìn)跟蹤；以及蛛網(wǎng)與鼓的更好控制的釋放點(diǎn)；即，在退出夾輥被嚙合的情況下，蛛網(wǎng)的鼓釋放點(diǎn)可由于蛛網(wǎng)上的來(lái)自封閉的夾輥的壓力被更好地“銷(xiāo)住”。下面的輸入夾輥特征可以對(duì)薄蛛網(wǎng)有好處硬度計(jì)(更硬，則更好)，表面拋光(可以通過(guò)薄膜的背面，來(lái)打印圖案)，以及直徑(較大的直徑給供入蛛網(wǎng)提供較小的微分張力)。分層過(guò)程控制對(duì)軋點(diǎn)壓力的準(zhǔn)確的面對(duì)面的分層控制可以促進(jìn)分層。固化過(guò)程以及設(shè)備發(fā)現(xiàn)相當(dāng)?shù)墓袒仍趲讉€(gè)不同的固化系統(tǒng)的操作范圍內(nèi)，例如Oriel “太陽(yáng)能模擬器”，可以是廣譜系統(tǒng)；“皮帶UV系統(tǒng)”，可以是廣譜系統(tǒng)；氙閃光燈系統(tǒng)；以及輸出集中在395nm的窄波長(zhǎng)光分布的Infinilux & UVPS UVLED0對(duì)于所有上面的系統(tǒng)，發(fā)現(xiàn)在光強(qiáng)度設(shè)置以及曝光時(shí)間的一些組合時(shí)有好的固化。使用某些單體組成可以促進(jìn)進(jìn)一步的良好固化。
對(duì)于燈系統(tǒng)，對(duì)于襯底可以有輪廓分明的固化“位置”，該位置可以至少基于燈系統(tǒng)的焦點(diǎn)或均勻曝光點(diǎn)。對(duì)于LED系統(tǒng)，跨與條帶的表面1/2〃和I "距離處的LED “三元組條帶”，測(cè)量UV強(qiáng)度。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在與條帶I"的距離處，存在相對(duì)來(lái)說(shuō)均勻的能量分布曲線(xiàn)；在1/2〃距離處，測(cè)量強(qiáng)度的顯著變化，在LED源之間有大的下降。對(duì)于Oriel系統(tǒng)，使用諸如ACT2_158_1之類(lèi)的可能單體，利用低到5秒或更少的曝光時(shí)間，觀察到好的固化。上面的曝光過(guò)程操作點(diǎn)可能是重要的，因?yàn)槭褂?〃直徑⑶鼓的Mod2曝光時(shí)間，在單元上放置UV LED，可以在大約3秒的量級(jí)(在6fpm時(shí)，大致2英寸曝光窗口)。襯底重繞襯底重繞可以受蛛網(wǎng)的表面粗糙度的影響(一般而言，襯底制造商集成了低級(jí)別 的粗糙度)，以允許夾帶一些空氣，并可以降低表面摩擦和纏繞時(shí)的折皺。通過(guò)適當(dāng)設(shè)置機(jī)器(Mod2或者M(jìn)ill Lane ;對(duì)準(zhǔn)和操作參數(shù))，可以促進(jìn)襯底的良好輥的完成(即，輥可以“硬”，很好地形成，并具有最少的折皺；至少與傳入的襯底同樣好)。取決于處理?xiàng)l件，蛛網(wǎng)重繞質(zhì)量會(huì)有所變化。請(qǐng)注意，下面的所有條件不使用特殊設(shè)備來(lái)幫助重繞(即，施加(lay-on)棍或彎曲的涂膠機(jī)(spreader)棍)沒(méi)有涂敷的2密耳PEN產(chǎn)生好的輥沒(méi)有涂敷的6微米PEN產(chǎn)生好的輥使用均勻的鼓沒(méi)有裂縫，利用聚合物(固化的單體)涂敷的2密耳PEN會(huì)產(chǎn)生好的輥使用帶有裂縫的圖案化的鼓，利用聚合物(固化單體)涂敷的2密耳PEN會(huì)在裂縫的區(qū)域產(chǎn)生顯著的滯留空氣；可能由于在由于裂縫單體涂敷更厚并且在這些位置欠固化的區(qū)域的過(guò)度粘合性。表現(xiàn)(manifestation)位于隨后導(dǎo)致折縫的“纏繞棍上的有氣泡的TD區(qū)域”。使用沒(méi)有裂縫的均勻鼓，6微米PEN，帶有聚合物(固化單體)，在與聚合物涂敷表面一致的纏繞輥產(chǎn)生顯著折縫，在重繞時(shí)，聚合物涂敷表面接觸襯底上的背面。使用帶有裂縫的圖案化的鼓，6微米PEN，帶有聚合物(固化單體)，在與聚合物涂敷表面一致的纏繞輥產(chǎn)生顯著折縫，在重繞時(shí)，聚合物涂敷表面接觸襯底上的背面。帶有2密耳PEN的氣泡看起來(lái)像被折縫問(wèn)題掩蓋，或者也可以由于穿過(guò)分層夾的薄襯底的較低的光束強(qiáng)度而簡(jiǎn)單地不存在。重繞處的非常均勻的X-蛛網(wǎng)張力可以在使用薄膜時(shí)促進(jìn)高質(zhì)量的結(jié)果。(II)真空涂敷器引導(dǎo)輥式涂敷機(jī)設(shè)計(jì)和安裝新的蛛網(wǎng)輸送/導(dǎo)桿組合件，僅背面的空轉(zhuǎn)輪和用于薄蛛網(wǎng)處理的優(yōu)化的彎曲(伸展器)輥。改善軟件機(jī)器控制對(duì)于4串聯(lián)濺射目標(biāo)，升級(jí)的沉積能力(2DC&2RF磁控管)，以使Si02/ZnS沉積速
率翻倍?；诒慌渲贸蓽y(cè)量反射的光纖高度傳感器的使用，設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn)內(nèi)聯(lián)反射測(cè)量能力。每一線(xiàn)性陣列的一排可以位于每一沉積區(qū)域之間。開(kāi)發(fā)硬件以修改每一沉積區(qū)域之間的控制層間混合的分離程度。引導(dǎo)批涂敷器(Sharon)安裝螺旋纏繞裝置，以對(duì)光帶的單獨(dú)的長(zhǎng)度進(jìn)行涂敷添加“自動(dòng)-索引器”以準(zhǔn)確地在目標(biāo)上旋轉(zhuǎn)襯底座單體材料由幾個(gè)自定義配方供應(yīng)商針對(duì)預(yù)定的規(guī)格和特征，開(kāi)發(fā)單體組成。指定的關(guān)鍵參數(shù)包括
光譜靈敏度(用于通過(guò)PEN薄膜來(lái)固化)；粘度(在壓花過(guò)程中，為好的外流，目標(biāo)可以低)，以便低粘度一般會(huì)導(dǎo)致較低的耐化學(xué)性溫度調(diào)制被標(biāo)識(shí)為控制粘度的方法(因此，壓花的層厚度)；固化速率(目標(biāo)可以快速，以增大處理吞吐量);與塑料的粘合性(對(duì)于一些Micon計(jì)劃)；與塑料的低粘合性(對(duì)于其他Micon計(jì)劃)；以及對(duì)于所有Micon計(jì)劃，從“鎳工具”釋放(假設(shè)將來(lái)的Ni工具)。發(fā)現(xiàn)表面處理(在聚合工具的情況下，容量處理)降低工具和復(fù)制聚合物之間的粘合性。使用硅樹(shù)脂脫模劑來(lái)進(jìn)行初步測(cè)試，以改善固化單體與工具表面的分離。另外，可以使用釋放添加劑在重繞期間(參見(jiàn)重繞部分)在固化單體的表面和蛛網(wǎng)的背面之間提供
一些滑動(dòng)。被敏化為藍(lán)色頻譜區(qū)的單體組成可以是高度反應(yīng)性的，避免暴露到室內(nèi)照明是可能的。這可以利用注射器發(fā)放方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，通過(guò)利用帶子(例如，Kapton帶子)來(lái)纏繞注射器，以過(guò)濾環(huán)境藍(lán)光。這避免了使用完全密閉的流體處理系統(tǒng)的復(fù)雜性。聚合物粘合性可以通過(guò)幾個(gè)感應(yīng)(influence)來(lái)修改聚合物粘合性,包括固化的單體與不同表面的固有粘合性；襯底處理(請(qǐng)注意，示出了電暈和火焰處理以提高粘合性)；以及帶有粘合性促進(jìn)層的襯底子涂敷(在大多數(shù)情況下，粘合性促進(jìn)子涂層顯示出改進(jìn)，但是，在一些測(cè)試中，沒(méi)有影響)。真空沉積層WORM層配方使用Al和Sb作為第一層合金層使用Ge2Sb2Te5額定合金外涂層使用ZnS/Si02層為最佳性能，每一層的厚度有變化使用真空沉積層作為背面，使用Al來(lái)評(píng)估抗靜電涂料；光帶輸送中的初步的試驗(yàn)結(jié)果是肯定的離散工具作為開(kāi)發(fā)OT預(yù)先格式化的無(wú)縫鼓的近期能實(shí)現(xiàn)的替代方案，使用這樣的過(guò)程，該過(guò)程包括對(duì)具有所希望的預(yù)先格式化的圖案并將單個(gè)段激光焊接為鼓的多個(gè)Ni電鑄模型(“墊片”)的精確預(yù)先切削。創(chuàng)建原始格式設(shè)計(jì)(通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)CAD過(guò)程)，通過(guò)使用石印技術(shù)來(lái)圖案化玻璃襯底，來(lái)制造原始凹凸表示形式(“母版”)?；鶞?zhǔn)切削標(biāo)記被包括在CAD圖案中，供稍后在圖案工具的精密切削中使用。直接從母版制造玻璃上的聚合物子母版。也從子母版制成反向圖像子母版(“母，，)。從聚合物子母版制造Ni電鑄模型還可從母版制造子母版
在諸如濺射40_70nm NiV之類(lèi)的真空淀積過(guò)程之后，一個(gè)或多個(gè)下列方法可以實(shí)現(xiàn)清潔的分離，方法包括對(duì)聚合物子母版的補(bǔ)充處理以增大硬度；對(duì)聚合物子母版的補(bǔ)充處理，以降低與聚合物表面的粘合性；使用較薄的NiV層；傾斜濺射功率，以降低首次沉積的溫度；以及PassivateNiV (可以在Ni到Ni復(fù)制過(guò)程中進(jìn)行)。在通過(guò)UV過(guò)程在產(chǎn)生預(yù)先格式化圖案的測(cè)試副本時(shí)，聚合物子母版和Ni母版被用作分離的平墊片，包括在50_75psi，利用在分層點(diǎn)注射的UV固化流體(“夾”)[以前所描述的]，通過(guò)壓輥，平坦的分層；以及通過(guò)UV或光學(xué)福射來(lái)固化(4秒到6分)；2-200mw/cm2。鼓工具制造基于與嵌入在Ni墊片中的基準(zhǔn)標(biāo)記的預(yù)定距離，使用碳化物切割刀具，精確切削(“修整”)平坦的Ni墊片，允許通過(guò)此技術(shù)來(lái)制造四個(gè)幾乎相同的墊片。塑料保護(hù)膜被分層為Ni墊片的圖案化表面，臨時(shí)剝離，以在修整之前查看基準(zhǔn)標(biāo)記使用激光焊接來(lái)將4個(gè)墊片連接為鼓所有4個(gè)墊片都被校準(zhǔn)到一個(gè)(底部)邊緣，從背面進(jìn)行3個(gè)焊接，Ni的 75%，那么，焊接的條帶被翻轉(zhuǎn)過(guò)來(lái)，并從正面(圖案化的)面進(jìn)行修整焊接通過(guò)正面來(lái)進(jìn)行最終的焊接光學(xué)測(cè)量結(jié)果示出了，對(duì)于通過(guò)此方法處理的第一鼓，最高焊接精度(跨焊縫的一個(gè)光道的最小偏移)是O. 00015英寸(3. 7微米)。已經(jīng)確定，一組自定義焊接夾具和額外測(cè)試可以促進(jìn)進(jìn)一步降低偏移，并改善焊接過(guò)程的光滑度。Mod2中的安裝和操作將Ni鼓替換為⑶圖案，安裝在Mod2中，進(jìn)行初步處理，以及機(jī)器測(cè)試[參見(jiàn)上文]。通過(guò)在橡皮套上滑動(dòng)鼓，將鼓固定到機(jī)器中，橡皮套又在機(jī)器的驅(qū)動(dòng)軸上滑動(dòng)，通過(guò)在螺紋的驅(qū)動(dòng)軸的末端使用螺母，壓縮綁環(huán)，來(lái)進(jìn)行固定。產(chǎn)品應(yīng)用可包括1/4、1/2、3/4、1，4〃 英寸光帶寬度
可能的可以是1/2〃參考圖74頂部讀取版本(入射到“頂涂層”側(cè)上的激光)7410 頂涂層有機(jī)固化層PML (乙酸乙烯酯聚合物沉積-丙烯酸)平面化UV 固化EBeam 固化
溶劑/水涂料目的可以是保護(hù)結(jié)構(gòu)光學(xué)特性7420W0RM層#3 (也叫做“頂涂層I”)作為疊層的一部分的可選層在制造過(guò)程中保護(hù)提供一些光學(xué)調(diào)節(jié)可能(ZnS/Si02，80/20);還可以是Si02，YF2，其他透明的氧化物和混合物熱特性光學(xué)特性(T，R，A)靈活性粘合性(高)表面粗糙度7430 與 7440W0RM 層可能的可以是Te 合金(GST=Ge2Sb2Te5nom)金屬(可能的可以是Sb，Al)厚度取決于產(chǎn)品性能7450預(yù)先格式化層可能的可以是UV固化聚合物可能的可以是丙烯酸(可能的環(huán)氧樹(shù)脂或聚氨基甲酸乙酯)可能的可以是粘度(〈200)可能的可以是光譜感應(yīng)(400nm)可能的可以是粘接到襯底(高)可能的可以是粘接到工具(低)可能的可以是靈活性(高)層厚度(0.5-lu)預(yù)先格式化層形成過(guò)程(選項(xiàng)單步驟或多步驟序列)7460 襯底材料可能的可以是PENPET
PCCTA (三乙酸纖維素)厚度lu-25u (可能的 4_8u)可能的可以是6u其他特性表面粗糙度次涂層填充物
熱穩(wěn)定性機(jī)械平衡的壓力表面處理和/或化學(xué)處理7470 背涂敷表面粗糙度光學(xué)特性可能的可以是抗靜電防靜摩擦可能的可以是薄的金屬層(Al，Ni, NiCr)炭黑可以是替換的背涂敷(此時(shí)，作為標(biāo)準(zhǔn)行業(yè)實(shí)踐)(作為選項(xiàng)，防卷曲層)通過(guò)壓花或組成和添加劑(微粒)或烘干來(lái)紋理化有目的的網(wǎng)組化其他考慮可能的可以是與入暗和與入売(最后的tbd)將化學(xué)成分調(diào)節(jié)到正確的寫(xiě)入波長(zhǎng)紋理化表面，以改進(jìn)驅(qū)動(dòng)性能存在可以從另一側(cè)讀取第二版本背涂敷頂涂層(？)WORM 層預(yù)先格式化層襯底頂涂層清澈的，保護(hù)性的紋理控制透明(對(duì)于R/W波長(zhǎng))防靜電劑WORM 到 R/W可以具有可擦除的能力可能的可以是相變
可能的可以是結(jié)構(gòu)中的預(yù)先格式化的層帶有重新啟動(dòng)區(qū)域、歸零區(qū)域等等的帶裂縫的鼓，加構(gòu)成帶裂縫的鼓的方法下面的描述引用了本發(fā)明的幾個(gè)可能的實(shí)施例，可以理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以預(yù)見(jiàn)此處所描述的實(shí)施例和方法的變化，這樣的變化和改進(jìn)在本發(fā)明的范圍內(nèi)，因此，本發(fā)明和方法不僅限于下面的實(shí)施例。圖75到78示出了當(dāng)前技術(shù)，并示出了非均勻源分布如何產(chǎn)生非均勻的涂敷。隨后的圖形示出了使用螺旋線(xiàn)路徑以及通過(guò)源的多次操作的本發(fā)明的方法具有改善涂敷均勻度的效果。在典型的配置中，如圖75中的側(cè)視圖以及圖76的普通透視圖所示，要被涂敷的襯底1，此處也根據(jù)慣例被稱(chēng)為蛛網(wǎng)(web)，可以被從供應(yīng)線(xiàn)軸2饋送，在通過(guò)額外的輥3以控制張力和定位等等之后，襯底進(jìn)入涂敷區(qū)域5，該涂敷區(qū)域5包括源6，從該源6，可以沉積第一層7的材料，襯底再進(jìn)入涂敷屏障8，以最小化來(lái)自源的過(guò)剩材料的過(guò)渡涂敷。可以在按 順序定位的涂敷區(qū)域(未示出)沉積額外的材料，在最后一個(gè)涂敷區(qū)域之后，被涂敷的襯底，在通過(guò)額外的張力和定位輥4之后，可以被收到重新纏繞盤(pán)12上。在此已知的技術(shù)中，襯底在基本上線(xiàn)性的方向遍歷涂敷區(qū)域，并且蛛網(wǎng)可以是自由跨度，即，在背面未支撐，或與通?？梢员挥脕?lái)導(dǎo)致蛛網(wǎng)平放和/或從沉積過(guò)程中去除過(guò)多的熱量的支承板13或者輥接觸。在后一種情況下，可以可任選地冷卻支承板或輥。在本發(fā)明的圖形中，為清楚起見(jiàn)，未示出馬達(dá)、速度控制元件、張力控制元件、蛛網(wǎng)導(dǎo)紙等等，但是，這樣的控制系統(tǒng)就當(dāng)前技術(shù)而言是已知的(D. R. Roisum、The Mechanicsof Rollers、TAPPI Press, Atlanta,1996)?，F(xiàn)在參考圖77，可以給出真空淀積過(guò)程中襯底的截面的從機(jī)器方向查看時(shí)對(duì)當(dāng)前技術(shù)通用的實(shí)踐的一般示意圖。此圖形示出了其中材料19的非均勻沉積從來(lái)自源的非均勻通量分布17產(chǎn)生的一個(gè)示例，其中，用材料16填充的坩鍋15可以被蒸發(fā)(例如，通過(guò)由于電阻加熱的坩鍋，未示出)。通常被描述為每單位時(shí)間蒸發(fā)的材料的質(zhì)量或厚度的通量，可以用圖形方式被示為分布17，其中，最高蒸發(fā)率可以通過(guò)最長(zhǎng)的箭頭來(lái)表示(在此示例中，在中心處)。材料19 一般與通量分布成比例地在襯底18上凝結(jié)，如此，可以作為材料層19而分布，厚度大致與通量17成比例。圖78表示可以由非均勻通量分布所產(chǎn)生的類(lèi)似于圖77的非均勻涂敷的垂直入射視圖。這里，退繞線(xiàn)軸24通過(guò)引導(dǎo)/張力/空轉(zhuǎn)輪(此處通過(guò)27來(lái)表示)將襯底25提供到涂敷區(qū)域26。可以從坩鍋28蒸發(fā)材料30，沉積護(hù)罩29最小化雜散涂敷。被涂敷的襯底31通過(guò)額外的引導(dǎo)/張力/空轉(zhuǎn)輪(通過(guò)32來(lái)表示)，并在卷帶軸34上被重繞。如果此襯底最終被制成光帶產(chǎn)品，則水平虛線(xiàn)35表示假設(shè)的狹縫位置。涂層厚度36中的變化可以是來(lái)自坩鍋的非均勻通量的結(jié)果，如前面所示(圖77)。圖79示出了本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的示意圖，其中，帶狀的襯底41 (通常是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、PET或聚萘二酸乙二醇酯，PEN，或聚酰亞胺薄膜等等)可以被退繞線(xiàn)軸40提供到蛛網(wǎng)導(dǎo)紙、張力控制輥，以及額外的空轉(zhuǎn)輪(為清楚起見(jiàn)，未示出)，經(jīng)過(guò)輥42，然后，到輥43，然后，進(jìn)入沉積源材料45的涂敷區(qū)域，然后，到輥42并回到43，等等，沿著基本上螺旋形路徑，并在退出涂敷區(qū)域并在線(xiàn)軸47上重繞之前遍歷涂敷源45多次。通過(guò)源45的各個(gè)部分的多次操作的效果可以是使由非均勻的通量所產(chǎn)生的非涂層厚度非均勻性平均(例如，如圖78所示)。應(yīng)該注意，在此附圖中，光帶圍繞輥42和43的纏繞只為說(shuō)明被寬寬地分離，并在實(shí)際涂敷配置中靠得很近。值得注意的是，線(xiàn)性速度增大將與光帶寬度縮小成比例，相對(duì)于常規(guī)(全寬)涂敷配置，對(duì)于光帶，將保持相當(dāng)?shù)某练e厚度和吞吐量。由于本發(fā)明的方法提供增強(qiáng)的由較高的通量率所產(chǎn)生的源變化的抵抗性，因此，進(jìn)一步的速度增大也是可能的。為了減少來(lái)自沉積過(guò)程的熱負(fù)荷，圖79中的輥42/43也可以通過(guò)冷卻劑的循環(huán)等等來(lái)冷卻。每一遍的較高線(xiàn)性光帶速度和較低沉積速率與涂敷遍數(shù)(pass)之間的[可任選地，冷卻的]輥42/43的180度的纏繞角度相結(jié)合，將起作用以降低光帶上的來(lái)自沉積過(guò)程的熱負(fù)荷?？梢酝ㄟ^(guò)查看圖80中的圖形看到本發(fā)明的多遍平均技術(shù)的有益的效果。短暫地回頭參考圖77，該圖的襯底18現(xiàn)在被替換為通過(guò)圖80中的57所表示的窄寬度襯底。沿著圖79所示出的光帶路徑，此示例中的光帶襯底57進(jìn)行了通過(guò)涂敷區(qū)域50的8個(gè)連續(xù)的遍歷，具有從坩鍋51發(fā)出的材料通量(源也具有與圖77相同的非均勻通量分布52)，其中，襯底57的連續(xù)的遍數(shù)可以通過(guò)位置I到8來(lái)表示(請(qǐng)注意為清楚起見(jiàn)，消除了完全的光帶路 徑的上部遍歷)?？梢苑糯笸繉佣逊e54到55，以示出平均效果。多遍數(shù)平均效果可以與來(lái)自圖77中的相同模型源分布的涂敷材料相比，其中，在切割之后沒(méi)有發(fā)生多遍數(shù)平均。從此例圖可以理解，可以從大多數(shù)源配置實(shí)現(xiàn)均勻性的改進(jìn)，因?yàn)槠骄Ч梢曰谝r底的寬度與源的寬度相比很小，多遍數(shù)對(duì)材料源分布的許多部分進(jìn)行采樣。在圖81所示出的另一實(shí)施例中，圖79的單輥42和43替換為多個(gè)單個(gè)導(dǎo)輥60和61，以便更準(zhǔn)確地引導(dǎo)光帶。這也可以通過(guò)將導(dǎo)軌凹槽切割為輥42和43來(lái)實(shí)現(xiàn)。再次，在實(shí)際操作中，單個(gè)纏繞將靠近，以實(shí)現(xiàn)最大均勻性和產(chǎn)量?？梢蕴峁┯糜趶脑词占嘤?“雜散”)材料的裝置也是本發(fā)明的特征，如圖82所示。來(lái)自源的過(guò)剩材料會(huì)沉積在除襯底以外的區(qū)域可能是大多數(shù)真空涂敷源的不希望有的特征，包括電子串和熱蒸發(fā)器，這不僅要求定期清潔，而且當(dāng)在輥或?qū)U上發(fā)生這樣的不希望有的沉積時(shí)，還會(huì)與涂敷操作干擾，由此改變這些表面，并會(huì)改變這些設(shè)備的性能。此外，過(guò)剩材料還會(huì)污染其他涂料，無(wú)論是通過(guò)存在大量的材料積累的表面的脫皮，或者通過(guò)從加熱的表面的重新蒸發(fā)。在圖82 (可以是圖79或6的方法的側(cè)視圖)中所示出的實(shí)施例中，光帶襯底73可以從供片盒70退繞，并以如前面所描述的相同螺旋線(xiàn)路徑遍歷涂敷區(qū)域75，重繞到卷帶軸71上。此實(shí)施例示出了用于收集否則將穿過(guò)光帶的連續(xù)纏繞之間的間隔并可能潛在地污染涂敷器的其他部分以及光帶的背面的過(guò)剩材料的收集器設(shè)備72。收集器由退繞/重繞輥對(duì)(78/79)構(gòu)成，帶有襯底72的標(biāo)準(zhǔn)蛛網(wǎng)處理輥，或者在輥78/79之間運(yùn)行的薄膜的環(huán)帶。可以是諸如PET或其他材料之類(lèi)的塑料膜的襯底72在光帶涂敷操作累積過(guò)剩材料，并可以在材料積累需要時(shí)輕松地丟棄。圖83所示出的再一個(gè)實(shí)施例，示出了在單遍數(shù)中可以涂敷襯底的兩側(cè)的方法。這里，蛛網(wǎng)路徑通過(guò)沉積區(qū)域84，涂敷襯底的一側(cè)，如圖79所示，然后，進(jìn)料輥80和接收輥82之間，光帶83可以沿著機(jī)器方向圍繞光帶軸而扭曲180度。蛛網(wǎng)路徑持續(xù)到隨后的沉積區(qū)域81，在此，可以施加背面涂敷。這樣的雙面涂敷對(duì)兩側(cè)活躍(可記錄或攜帶信息)或要求用于摩擦和/或靜態(tài)控制的真空背面涂敷的材料有益。利用常規(guī)的涂敷方法，雙面涂敷要求額外的涂敷遍數(shù)或者額外的背面涂敷站，這兩者都會(huì)增大生產(chǎn)時(shí)間和成本。
在圖84中可以看出，光存儲(chǔ)介質(zhì)可以呈現(xiàn)各種形狀，如替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400所示，每一種形狀都提供大小、轉(zhuǎn)移速度、存儲(chǔ)容量，以及成本的不同屬性。替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400包括鼓形的光存儲(chǔ)介質(zhì)8410和8420，軟盤(pán)光存儲(chǔ)介質(zhì)8430，緊湊型卷盤(pán)到卷盤(pán)光存儲(chǔ)器帶8440，以及光存儲(chǔ)器卡8450。鼓形的光存儲(chǔ)介質(zhì)8410,8420可以提供從大致6. 5MB/s到大致13. 5MB/s的傳輸速率，以及從大致5. 6GB到大致102GB的存儲(chǔ)容量。緊湊型盤(pán)式光帶8440形狀的光存儲(chǔ)介質(zhì)(也稱(chēng)為微型光帶)可以提供從大致3. 2MB/s到大致6. 7MB/s的傳輸速率以及從大致255GB到大致1130GB的存儲(chǔ)容量?？梢詫?duì)于特定應(yīng)用從包括替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400的集合中選擇光存儲(chǔ)介質(zhì)，以便物理尺寸、和/或存儲(chǔ)容量，和/或傳輸速率滿(mǎn)足該應(yīng)用的要求。光學(xué)軟盤(pán)8430、緊湊型盤(pán)式8440，以及光卡8450可以被裝入到外殼中，提供方便的便攜性以及對(duì)介質(zhì)的保護(hù)，并可以適用于其中介質(zhì)可以頻繁地被用戶(hù)處理的應(yīng)用。 圖85，光存儲(chǔ)介質(zhì)系統(tǒng)8500的可能實(shí)施例，包括加載到光驅(qū)動(dòng)器8520的替換光學(xué)介質(zhì)形狀8400，光驅(qū)動(dòng)器8520裝入個(gè)人計(jì)算機(jī)(PC)8540的典型DVD驅(qū)動(dòng)器大小的壁凹中。替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400可以由使用紅、藍(lán)或紫外激光的相變光學(xué)介質(zhì)構(gòu)成，帶有用于記錄到替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400并從其中讀取的一個(gè)或多個(gè)拾取頭。諸如對(duì)于WORM的色彩以及對(duì)于可擦除的光學(xué)介質(zhì)的磁光之類(lèi)的其他類(lèi)型的光學(xué)介質(zhì)也可以是合適的。在此實(shí)施例中，光驅(qū)動(dòng)器8520與PC 8540硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8530進(jìn)行通信，使用預(yù)定大小的硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8540的一部分以改善對(duì)替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上的信息的隨機(jī)訪(fǎng)問(wèn)。替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400，通過(guò)光驅(qū)動(dòng)器8520提供可以比光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8530更快的傳輸速率是可能的。這可以以各種方式來(lái)做到，一種方式是增大光驅(qū)動(dòng)器8520中的用來(lái)記錄或讀取替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400的拾取頭的數(shù)量。拾取頭的數(shù)量的增大可以直接實(shí)現(xiàn)來(lái)往于替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400的更快的數(shù)據(jù)傳輸速率。當(dāng)系統(tǒng)8500可以用于音頻或視頻娛樂(lè)應(yīng)用中時(shí)，可以有應(yīng)用于硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8540的一部分的獨(dú)特算法和格式，它們可使用戶(hù)迅速地訪(fǎng)問(wèn)存儲(chǔ)在替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上的信息的某些部分。作為示例，算法可以使用戶(hù)查看位于替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上的不同物理位置的電影場(chǎng)景的縮略圖，然后，訪(fǎng)問(wèn)選定的電影。這些算法和格式可包括與替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上的縮略圖相關(guān)聯(lián)的電影的索引或位置信息，實(shí)現(xiàn)對(duì)所選電影的快速訪(fǎng)問(wèn)。存儲(chǔ)在光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8530上的信息可包括跟蹤數(shù)據(jù)，這些跟蹤數(shù)據(jù)確定什么信息只能在替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上，什么信息已經(jīng)被傳輸?shù)接脖P(pán)驅(qū)動(dòng)器8530上。系統(tǒng)8500的其他用途包括圖像、家庭電影、商業(yè)信息的存檔和備份，或存檔圖書(shū)館服務(wù)。圖86中可以示出光存儲(chǔ)系統(tǒng)的另一種可能的實(shí)施例。獨(dú)立的數(shù)字家庭娛樂(lè)系統(tǒng)8600可以在功能方面類(lèi)似于圖85的可能實(shí)施例。系統(tǒng)8600可以具有與系統(tǒng)8600的所有元件進(jìn)行通信的專(zhuān)用處理器(未示出)，多媒體組件(未示出)、內(nèi)嵌的硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8530、USB接口 8640，或其他通信端口 8650。系統(tǒng)8600進(jìn)一步包含圖85的實(shí)施例的替換光學(xué)介質(zhì)形狀8400和光驅(qū)動(dòng)器8520。系統(tǒng)8600還可以包括諸如DVD 8620之類(lèi)的其他存儲(chǔ)設(shè)備。系統(tǒng)8600中的存儲(chǔ)元件中的每個(gè)都可以通過(guò)通信信道8610或8630或通過(guò)專(zhuān)用處理器進(jìn)行通信。替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400，通過(guò)光驅(qū)動(dòng)器8520提供可以比光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8530更快的傳輸速率是可能的。
系統(tǒng)8600可以通過(guò)有線(xiàn)或無(wú)線(xiàn)LAN來(lái)連接到PC。它也可以允許使用標(biāo)準(zhǔn)TV格式和HDTV格式將多個(gè)節(jié)目記錄到替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上。通過(guò)使用類(lèi)似于圖2的實(shí)施例的裝置，系統(tǒng)8600使用硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8530的一部分來(lái)提高對(duì)存儲(chǔ)在替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上的信息的某些部分(包括電影的縮略圖)的訪(fǎng)問(wèn)速度。存儲(chǔ)在光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器8530上的信息可包括跟蹤數(shù)據(jù)，這些跟蹤數(shù)據(jù)確定什么信息只能在替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上，什么信息已經(jīng)被傳輸?shù)接脖P(pán)驅(qū)動(dòng)器8530上。系統(tǒng)8600的其他用途包括圖像、家庭電影、商業(yè)信息的存檔和備份，或存檔圖書(shū)館服務(wù)。系統(tǒng)8600A也可以用作可擴(kuò)展的存儲(chǔ)器數(shù)字視頻記錄器(DVR)。由于DVR將視頻信息記錄到硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，因此，存儲(chǔ)容量可以基于硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的容量。當(dāng)可以達(dá)到硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的容量極限時(shí)，發(fā)生諸如用戶(hù)丟失記錄的節(jié)目或記錄新節(jié)目的過(guò)程被停止之類(lèi)的不希望有的結(jié)果。通過(guò)在被用作DVR的系統(tǒng)8600的實(shí)施例中包括替換光學(xué)介質(zhì)形狀8400和光驅(qū)動(dòng)器8520，現(xiàn)在可以增強(qiáng)視頻存儲(chǔ)器以超過(guò)硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的極限，以包括替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400。在其中光存儲(chǔ)介質(zhì)可以是可拆卸的系統(tǒng)8600的實(shí)施例中，系統(tǒng)8600的存儲(chǔ)容量的 量可以是無(wú)限的。由于其高容量存儲(chǔ)密度，緊湊型盤(pán)式8440光存儲(chǔ)介質(zhì)可以是替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400的一種可能實(shí)施例。圖87示出了在系統(tǒng)中使用替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400的另一種可能的實(shí)施例。照像機(jī)8700可以集成替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400的緊湊型盤(pán)式8440實(shí)施例。光存儲(chǔ)介質(zhì)可以是可拆卸的。由于緊湊型盤(pán)式8440光存儲(chǔ)介質(zhì)的高容量存儲(chǔ)密度，因此，視頻信息可以以未經(jīng)壓縮的格式存儲(chǔ)。可以從包括DVD和HDVD格式的集合中選擇此實(shí)施例中的替換的光學(xué)介質(zhì)形狀8400上每一記錄的信息的格式。照像機(jī)8700中所使用的光存儲(chǔ)介質(zhì)可以與此處所公開(kāi)的其他系統(tǒng)實(shí)施例中的任何一種可互換地用于記錄或讀取。符合DVD介質(zhì)的電的、物理的以及接口要求的替換光學(xué)介質(zhì)形狀8400的實(shí)施例也可以用于標(biāo)準(zhǔn)PC或家庭娛樂(lè)設(shè)備中。整個(gè)圖形中的流程圖以及框圖中所描繪的元件可以暗示各元件之間的邏輯邊界。然而，根據(jù)軟件或硬件工程實(shí)踐，所描繪的元件以及其功能可以作為單塊軟件結(jié)構(gòu)的組成部分，作為獨(dú)立軟件模塊，或作為使用外部例程、代碼、服務(wù)等等的模塊，或這些的任何組合來(lái)實(shí)現(xiàn)，并且所有這樣的實(shí)現(xiàn)都在本發(fā)明的范圍內(nèi)。如此，盡管前述的附圖以及描述闡述了所公開(kāi)的系統(tǒng)的功能方面，但是，不應(yīng)該從這些描述中推斷用于實(shí)現(xiàn)這些功能方面的軟件的特定配置，除非明確地陳述或上下文以別的方式需要。類(lèi)似地，可以理解，上文所標(biāo)識(shí)和描述的各個(gè)步驟可以改變，并且也可以針對(duì)此處所公開(kāi)的技術(shù)的特定應(yīng)用而修改步驟的順序。所有這樣的變化與修改方案都旨在落在本發(fā)明的范圍內(nèi)。如此，對(duì)各個(gè)步驟的順序的描繪和/或描述不應(yīng)該被理解為要求對(duì)于這些步驟的執(zhí)行的特定順序，除非特定應(yīng)用需要或明確地陳述或以別的方式從上下文可以清楚地看出。上文所描述的方法或過(guò)程，以及其步驟，可以以硬件、軟件，或適用于特定應(yīng)用的這些硬件或軟件的任何組合。硬件可包括通用計(jì)算機(jī)和/或?qū)Ｓ糜?jì)算設(shè)備。過(guò)程可以以一個(gè)或多個(gè)微處理器、微控制器、嵌入式微控制器、可編程數(shù)字信號(hào)處理器或其他可編程裝置，以及內(nèi)部和/或外部存儲(chǔ)器來(lái)實(shí)現(xiàn)。過(guò)程還可或作為替代，以專(zhuān)用集成電路、可編程門(mén)陣列、可編程陣列邏輯，或任何其他設(shè)備或可以被配置成處理電子信號(hào)的設(shè)備的組合來(lái)具體化。還可以進(jìn)一步理解，過(guò)程中的一個(gè)或多個(gè)可以作為使用諸如C之類(lèi)的結(jié)構(gòu)化編程語(yǔ)H、諸如C++之類(lèi)的面向?qū)ο缶幊陶Z(yǔ)目，或任何其他聞級(jí)別的或低級(jí)別的編程語(yǔ)目(包括匯編語(yǔ)言、硬件描述語(yǔ)言，以及數(shù)據(jù)庫(kù)編程語(yǔ)言以及技術(shù))創(chuàng)建的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行代碼來(lái)實(shí)現(xiàn)，這些計(jì)算機(jī)可執(zhí)行代碼可以被存儲(chǔ)，編譯或解釋以在上面的設(shè)備中的一種設(shè)備上以及處理器、處理器體系結(jié)構(gòu)的異質(zhì)的組合，或不同的硬件和軟件的組合上運(yùn)行。因此，一方面，上文所描述的每一種方法以及其組合可以以計(jì)算機(jī)可執(zhí)行代碼具體化，當(dāng)計(jì)算機(jī)可執(zhí)行代碼在一個(gè)或多個(gè)計(jì)算設(shè)備上執(zhí)行時(shí)，執(zhí)行其步驟。在另一方面，方法可以以執(zhí)行其步驟的系統(tǒng)具體化，并可以以許多方式跨多個(gè)設(shè)備分布，或者全部功能可以被集成到專(zhuān)門(mén)的，獨(dú)立的設(shè)備或其他硬件中。在另一方面，用于執(zhí)行與上文所描述的過(guò)程相關(guān)聯(lián)的步驟的裝置可包括上文所描述的硬件和/或軟件中的任何一種。所有這樣的排列與組合旨在落在本發(fā)明的范圍內(nèi)。盡管本發(fā)明的各實(shí)施例是利用某些可能的實(shí)施例來(lái)公開(kāi)的，但是，其他實(shí)施例將 被本領(lǐng)域的技術(shù)人員理解，并被此處涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)，包括 具有缺陷以及位于所述缺陷的每一側(cè)的多個(gè)道的光學(xué)介質(zhì)，所述道表現(xiàn)出(i)緊鄰所述缺陷的表示缺陷位置信息的已調(diào)擺動(dòng)的字段，以及(ii)表示數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段； 被配置成讀取已調(diào)擺動(dòng)的字段的光學(xué)拾取單元；以及 可操作地與所述拾取單元置于一起的至少一個(gè)控制器，所述控制器被配置成響應(yīng)于所述拾取單元在所述缺陷的一側(cè)檢測(cè)到缺陷位置信息，命令所述介質(zhì)在第一方向移動(dòng)，以便在所述缺陷的另一側(cè)上將所述拾取單元定位得與表示數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段相鄰。
2.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)控制器進(jìn)一步被配置成命令所述拾取單元在所述缺陷的另一側(cè)上重新聚焦于表示數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段。
3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，在重新聚焦之后，所述至少一個(gè)控制器進(jìn)一步被配置成命令所述介質(zhì)在與所述第一方向相反的第二方向移動(dòng)，以便所述缺陷接近所述拾取單J Li ο
4.如權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)控制器命令所述介質(zhì)在所述第二方向移動(dòng)，直到所述拾取單元檢測(cè)到缺陷位置信息或所述拾取單元丟失焦點(diǎn)。
5.如權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)控制器進(jìn)一步被配置成如果所述拾取單元檢測(cè)到缺陷位置信息，則記錄所述拾取單元的位置。
6.如權(quán)利要求3到5中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)控制器進(jìn)一步被配置成記錄命令在所述第二方向移動(dòng)時(shí)的時(shí)間段。
7.如權(quán)利要求2到6中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)控制器進(jìn)一步被配置成如果所述拾取單元丟失焦點(diǎn)并且所述拾取單元無(wú)法被重新聚焦，則將所述介質(zhì)標(biāo)識(shí)為有缺陷。
8.如前面的任何一個(gè)權(quán)利要求所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)控制器進(jìn)一步被配置成命令所述介質(zhì)在預(yù)定時(shí)間段內(nèi)在所述第一方向移動(dòng)。
9.一種用于校準(zhǔn)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)的方法，所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)系統(tǒng)包括(i)光學(xué)拾取單元以及(ii)具有缺陷以及位于所述缺陷的每一側(cè)的多個(gè)道的光學(xué)介質(zhì)，所述多個(gè)道表現(xiàn)出緊鄰所述缺陷的表示缺陷位置信息的已調(diào)擺動(dòng)的字段，并表現(xiàn)出表示數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段，所述方法包括 讀取已調(diào)擺動(dòng)的字段； 在所述缺陷的一側(cè)檢測(cè)缺陷位置信息；以及 響應(yīng)于在所述缺陷的所述一側(cè)檢測(cè)到所述缺陷位置信息，定位所述介質(zhì)，以便所述拾取單元與表示所述缺陷的所述另一側(cè)上數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段相鄰。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，還包括命令所述拾取單元在所述缺陷的所述另一側(cè)上重新聚焦于表示數(shù)據(jù)的已調(diào)擺動(dòng)的字段。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中，還包括命令所述介質(zhì)移動(dòng)，以便所述缺陷接近所述拾取單元。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，命令所述介質(zhì)移動(dòng)，直到所述拾取單元檢測(cè)到缺陷位置信息或所述拾取單元丟失焦點(diǎn)。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，還包括如果所述拾取單元檢測(cè)到缺陷位置信息，則記錄所述拾取單元的位置。
14.如權(quán)利要求12或13所述的方法，其中，還包括如果所述拾取單元丟失焦點(diǎn)并且所述拾取單元無(wú)法被重新聚焦，則將所述介質(zhì)標(biāo)識(shí)為有缺陷。
全文摘要
本發(fā)明涉及“跳隙”伺服模式，該模式是為相對(duì)于拾取頭定位光帶介質(zhì)所提供的，以便在伺服光道中在前同步信號(hào)和后同步信號(hào)字段發(fā)生間隙之后可以恢復(fù)跟蹤。由于用來(lái)壓花光帶介質(zhì)上的伺服光道的鼓中的裂縫，這些間隙會(huì)周期性地出現(xiàn)。此處還公開(kāi)了光帶技術(shù)、光帶制造，以及光帶使用的其他方面，包括光帶的配置、組成、標(biāo)記，以及結(jié)構(gòu)；制造方法，系統(tǒng)，以及設(shè)備，包括固化過(guò)程、涂敷方法、壓花、鼓、測(cè)試、跟蹤對(duì)準(zhǔn)壓模條帶；適用于所公開(kāi)的光帶的拾取頭；以及光帶用途，包括用于多媒體應(yīng)用的光存儲(chǔ)介質(zhì)裝置。
文檔編號(hào)G11B7/003GK102834865SQ201080062762
公開(kāi)日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2010年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月16日
發(fā)明者F·馬納德 申請(qǐng)人:甲骨文美國(guó)公司