專利名稱：光信息記錄媒體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光信息記錄媒體及其制造方法，更具體地說，本發(fā)明涉及一種具有 保護(hù)層的光信息記錄媒體、以及使用濺射法的光信息記錄媒體的制造方法。
背景技術(shù)：
近年來，光信息記錄媒體由于逐漸要記錄高精細(xì)的影像數(shù)據(jù)，所以越來越要求其信 息記錄密度高。因此，提出了一種使用短波長側(cè)的360 450 nm附近(例如405 nm左 右)的短波長激光的可錄式光信息記錄媒體，例如藍(lán)光光盤(以下簡稱為"BD-R")。該 光信息記錄媒體在它的光記錄層中使用偶氮系色素或者花菁系色素等有機(jī)色素化合物， 該有機(jī)色素化合物通過吸收激光而分解或者變質(zhì)，獲得激光的記錄再生波長下的光學(xué)特 性的變化來作為調(diào)制度，借此可以進(jìn)行記錄并且進(jìn)行再生。
這樣的光信息記錄媒體，是于在光入射側(cè)的表面上形成了引導(dǎo)槽(也稱為預(yù)刻槽， 以下簡稱為"槽")的樹脂基板上依次重疊形成了光反射層、光記錄層，并在該光記錄 層上設(shè)置著由透光性樹脂形成的透光層，且形成為與CD-R或者DVD士R相同的直徑和 厚度。而且，為了保護(hù)光記錄層，在所述光記錄層和所述透光層之間設(shè)置著由透光性的 無機(jī)材料構(gòu)成的保護(hù)層。
光記錄層為有機(jī)色素的BD-R的制造順序為，在樹脂基板的形成了槽的表面上使用 真空中的濺射法形成光反射膜，然后暫時取出到大氣中，利用旋轉(zhuǎn)涂布法使有機(jī)色素成 膜，然后，再次利用真空中的濺射法形成保護(hù)膜，最后貼附透光性薄片而形成BD-R。 另外，當(dāng)光記錄層為無機(jī)材料時，通過采用在真空中進(jìn)行搬送并連續(xù)濺射的方法，不用 取出到大氣中即可將光反射層、光記錄層以及保護(hù)層積層。
光反射層等的成膜時所使用的濺射裝置例如像圖5所示那樣，使用光信息記錄媒體 的基板支撐器2和靶壓板6，將作為被處理物的信息記錄媒體的基板1配置成與金、鋁 等的靶5相向，使用高頻濺射法進(jìn)行成膜時，為了不與所濺射的基板或靶導(dǎo)通，而對基 板支撐器2以及靶壓板6使用絕緣性的樹脂材料。
而且，在設(shè)置光信息記錄媒體的基板1時，為了遮蔽基板l的成膜側(cè)，而在其中心
3部和外周部配置內(nèi)掩模3和外掩模4，其掩模材料通常使用金屬構(gòu)件或者合金構(gòu)件。 圖6表示基板支撐器的其他例子， 一般使用同樣的內(nèi)掩模3和外掩模4。 使用濺射法在基板上形成了光反射層之后再設(shè)置保護(hù)層，并不限定于所述的BD-R， 其他光信息記錄媒體中也可以進(jìn)行。
例如，專利文獻(xiàn)l中記載有，在設(shè)置了凹凸信息的圓盤狀合成樹脂制基板上設(shè)置光 反射層和保護(hù)層而形成的再生專用型光盤中，利用濺射來設(shè)置光反射層時，用遮罩將基 板的內(nèi)周邊緣部和外周邊緣部覆蓋。
另外，專利文獻(xiàn)2中記載有，在透光性基板上至少依次形成了含有色素材料的色素 記錄層、含有金屬的反射層以及保護(hù)層的光信息記錄媒體中，使用濺射法等方法使反射 層覆蓋在記錄層上而形成反射層。
此外，專利文獻(xiàn)3中記載有，在具有含有機(jī)色素的記錄層的雙層型光信息記錄媒體 中，使光反射層與含硫元素的保護(hù)層不接觸，且記載有使用濺射法來形成該保護(hù)層。專利文獻(xiàn)1日本專利特開平4-14634號公報專利文獻(xiàn)2U本專利特開平11-134714號公報專利文獻(xiàn)3U本專利特開2005-267670號公報
專利文獻(xiàn)1及2中所記載的光信息記錄媒體中，均是將濺射法僅用于光反射層的形 成步驟中，而保護(hù)層是通過在該光反射層上旋轉(zhuǎn)涂布紫外線硬化性樹脂而形成的，因此 不存在問題。但是，上文所述的BD-R的制造過程中，在形成了光反射層和光記錄層之 后再次利用濺射法形成保護(hù)層時，如果所述內(nèi)掩模和外掩模與已形成的金屬質(zhì)的光反射 層接觸，則有時會導(dǎo)通而產(chǎn)生異常放電。這種情況下出現(xiàn)了如下問題光反射層的外周 端面變成鋸齒狀，或者某些情況下會產(chǎn)生從光反射膜的外周端向內(nèi)周側(cè)延伸的雷狀放電 痕跡等。
專利文獻(xiàn)3中所記載的光信息記錄媒體中，保護(hù)層的形態(tài)雖然例示了多種，但關(guān)于 具體的遮蔽方式等卻并無記載。同時，關(guān)于這類問題并無任何說明。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種光信息記錄媒體及其制造方法，該光信息記錄媒體在形 成于基板上的光反射層的上層具有保護(hù)層，并且解決利用濺射法形成所述保護(hù)層時的所 述問題，防止異常放電的產(chǎn)生，不存在缺陷。
本發(fā)明人等為了實現(xiàn)所述目的而反復(fù)進(jìn)行了努力研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過在利用濺射 法形成保護(hù)層時，使用能夠避免與已成膜的光反射層接觸的掩模，并且使保護(hù)層的區(qū)域比設(shè)置著光反射層的區(qū)域更寬廣，可以解決所述問題。
然而，雖然可以通過使保護(hù)層的區(qū)域比光反射層的區(qū)域更寬廣來防止異常放電的產(chǎn) 生，但是此時，保護(hù)層會與基板直接接觸，由無機(jī)材料形成的保護(hù)層與樹脂制基板的密 著性差，因此產(chǎn)生了保護(hù)層容易從界面處剝離的問題。
因此，本發(fā)明人等進(jìn)一步進(jìn)行研究后發(fā)現(xiàn)，通過使設(shè)置著保護(hù)層的區(qū)域比設(shè)置著光 反射層的區(qū)域更寬廣，并且將透光層設(shè)置成覆蓋保護(hù)層并設(shè)置與基板的一部分密著的部 分，可以解決所述的異常放電和剝離這兩個問題。
本發(fā)明是根據(jù)這些見解而完成的，其內(nèi)容如下。一種光信息記錄媒體，其至少設(shè)置有基板、設(shè)置在該基板的其中一個主面上的光 反射層、設(shè)置在該光反射層的上表面上的光記錄層、設(shè)置在該光記錄層的上表面上的保 護(hù)層、以及設(shè)置在該保護(hù)層的上表面上的透光層，所述光信息記錄媒體的特征在于
所述保護(hù)層是利用濺射法而形成的層，并且設(shè)置有該保護(hù)層的區(qū)域被設(shè)置成比設(shè)置 有所述光反射層的區(qū)域?qū)?，并且直接或者間接地覆蓋所述光反射層的端部。根據(jù)所述[1]的光信息記錄媒體，其特征在于所述透光層覆蓋所述保護(hù)層，且連 續(xù)地設(shè)置到所述基板的外周端為止。根據(jù)所述[1]的光信息記錄媒體，其特征在于所述透光層被連續(xù)地設(shè)置以超過所 述基板的外周端，且被設(shè)置成覆蓋所述外周端的邊緣部。一種光信息記錄媒體的制造方法，其制造根據(jù)所述[1] [3]中任一項的光信息記 錄媒體，所述光信息記錄媒體的制造方法的特征在于利用濺射法形成所述保護(hù)層時所 使用的外掩模的內(nèi)周端部位于與所述光反射層設(shè)置區(qū)域的外周端部相當(dāng)?shù)奈恢玫耐庵?—種光信息記錄媒體的制造方法，其制造根據(jù)所述[1] [3]中任一項的光信息記 錄媒體，所述光信息記錄媒體的制造方法的特征在于利用濺射法形成所述保護(hù)層時所 使用的內(nèi)掩模的外周端部位于與所述光反射層設(shè)置區(qū)域的內(nèi)周端部相當(dāng)?shù)奈恢玫膬?nèi)周 —種光信息記錄媒體的制造方法，其制造根據(jù)所述[1] [3]中任一項的光信息記
錄媒體，所述光信息記錄媒體的制造方法的特征在于利用濺射法形成所述保護(hù)層時所 使用的外掩模的內(nèi)周端部位于與所述光反射層設(shè)置區(qū)域的外周端相當(dāng)?shù)奈恢茫⑶?，?掩模的內(nèi)終端部附近的厚度隨著遠(yuǎn)離和該光反射層的外周端相當(dāng)?shù)奈恢枚B續(xù)或階段 性地增大。本發(fā)明中，在利用濺射法形成保護(hù)層時，通過使保護(hù)層的區(qū)域形成為比已形成的光 反射層的區(qū)域更寬廣，可以防止內(nèi)掩模和外掩模與光反射層接觸，從而不會產(chǎn)生異常放 電。


圖1是表示本發(fā)明的光信息記錄媒體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的部分放大截面圖。
圖2 (A) (C)是表示本發(fā)明的光信息記錄媒體的外周緣的示意圖。
圖3是表示本發(fā)明所使用的外掩模的一個形態(tài)的示意圖。
圖4是表示本發(fā)明所使用的外掩模的其他形態(tài)的示意圖。
圖5是表示濺射裝置的一例的示意圖。
圖6是表示基板支撐器的其他例子的示意圖。<formula>formula see original document page 9</formula>
(式中，A以及A'表示含有一個或多個選自氮原子、氧原子、硫原子、硒原子及碲
原子中的雜原子而形成的彼此相同或者不同的雜環(huán)。R2,至R24分別獨立表示氫原子或者
取代基。Y2I、 Y22表示選自元素周期表的第16族元素中的彼此相同或者不同的雜原子。) [化2]
(式中，①+以及小分別表示假吲哚環(huán)殘基、苯并假吲哚環(huán)殘基或者二苯并假吲哚環(huán)
殘基，L表示用來形成單或二羰花菁色素的連結(jié)基。X—表示陰離子，m為0或者l的整 數(shù)。)
(保護(hù)層)
在本發(fā)明中，所述保護(hù)層15是為了調(diào)整記錄特性等或者提高粘結(jié)性或保護(hù)光記錄 層14等，而形成在所述光記錄層14與后述透光層17之間，是利用濺射法而在光記錄 層14上形成為由Si02、 ZnS-Si02、 ,205-八1203等所形成的透明膜。
在本案發(fā)明中，欲形成保護(hù)層15時，已形成了所述的包含金屬膜或者合金膜的光 反射層13。因此，必須使濺射時所使用的內(nèi)掩模3和外掩模4中至少一個為不與己成膜 的光反射層13接觸的掩模。
以下，對所使用的掩模的具體例進(jìn)行說明。
第1例的掩模是形成為形成保護(hù)層15時所使用的外掩模4和內(nèi)掩模3的遮蔽面 積比形成光反射層13時所使用的外掩模4和內(nèi)掩模3的遮蔽面積更大。
換句話說，形成保護(hù)層15時所使用的外掩模4，其內(nèi)周端部與和已成膜的反射層區(qū) 域的外周端部相當(dāng)?shù)奈恢孟啾任挥谕庵軅?cè)，而且，形成保護(hù)層15時所使用的內(nèi)掩模，其外周端部與和己成膜的反射層區(qū)域的內(nèi)周端部相當(dāng)?shù)奈恢孟啾任挥趦?nèi)周側(cè)。
例如，在光反射層13是使用內(nèi)周直徑為118.0 mm的外掩模4、外周直徑為34.0 mm 的內(nèi)掩模3而成膜的情況下，相對于形成光反射層13時所使用的外掩模4的內(nèi)周，而 對形成保護(hù)層15時所使用的外掩模4的內(nèi)周設(shè)1 mm的直徑差，使遮蔽區(qū)域為距離中心 119.0 mm以上的范圍，由此可以有效地避免與光反射膜的接觸。圖3表示該外掩模4 的例子。另外，將外掩模4的內(nèi)周直徑設(shè)為118.5 mm的情況下，可能會在因基板或裝 置偏芯而使得反射層稍許偏移而形成時或者由于掩模上的膜堆積而與光反射膜13接觸。 形成保護(hù)層15時所使用的內(nèi)掩模3也相同，對其外周相對于形成光反射層13時所 使用的內(nèi)掩模3外周而設(shè)1 mm的直徑差，將其外周設(shè)為33.0 mm，由此可以有效地避 免與光反射膜13的接觸。
第2例是在外掩模4的內(nèi)周端或者內(nèi)掩模3的外周端，設(shè)置以將掩模3、 4的基板 側(cè)的周端部厚度削成傾斜狀或階梯狀的方式而使各掩模的厚度變薄的部分。通過設(shè)置成 此種形狀，光反射膜13與掩模3、 4不會接觸而可以形成保護(hù)層15。同時，也能夠?qū)崿F(xiàn) 不產(chǎn)生異常放電。
圖4表示所述外掩模4的例子。如圖所示，外掩模4的內(nèi)周直徑如上例，為118.0 mm, 且外掩模4的內(nèi)周端部是位于和已成膜的光反射層的外周端部相當(dāng)?shù)奈恢?。而且，在?掩模4的內(nèi)周端部側(cè)，是設(shè)置成其厚度朝向外周傾斜地增加，該傾斜部所形成的空間有 效地避免了與己成膜的光反射膜13的接觸。
內(nèi)掩模3的情況也相同，在其外周端無論是設(shè)置朝向中央部分的傾斜還是設(shè)置階梯 部，均可以有效地避免與光反射膜13的接觸。
另外，圖4中，形成保護(hù)層15時所使用的掩模3、 4例示了在與基板側(cè)接觸的周端 側(cè)具有傾斜的例子，但在本發(fā)明中，為了使所使用的掩模3、 4不與已形成的光反射層 13接觸，只要使掩模的基板側(cè)的厚度隨著遠(yuǎn)離光反射層的形成區(qū)域而增大即可。 (粘結(jié)劑層)
本發(fā)明中，粘結(jié)劑層16是為了提高所述保護(hù)層15與下述薄片狀透明層17的密著 性而形成的任意的層。
此種粘結(jié)劑層16優(yōu)選的是將環(huán)氧系以外的透明反應(yīng)性硬化樹脂、或者紫外線硬化 性透明樹脂作為主成分，利用旋轉(zhuǎn)涂布法或者絲網(wǎng)印刷法等方法而涂布在所述保護(hù)層15 上以及/或者后述厚度約為0.1 mm的薄片狀透光層17的下表面上之后，利用粘結(jié)劑層 16將所述基板11的保護(hù)層15與所述薄片狀透光層17接合，獲得厚度約為1.2mm的圓 盤狀光信息記錄媒體。
10(透光層)
在本發(fā)明中，所述透光層17優(yōu)選的是含有透明樹脂。更具體地說，優(yōu)選的是使用 由例如聚碳酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂等透光性良好的樹脂所形成的薄片，或者利用旋轉(zhuǎn) 涂布法涂布這些樹脂而形成透光層17。
如所述圖2 (A) (C)所說明，所述透光層17形成為比形成了所述由無機(jī)材料 形成的保護(hù)層15的區(qū)域更寬廣，由此，可以防止由無機(jī)材料形成的保護(hù)層15在基板11 的界面處剝離。
特別優(yōu)選的是，透光層17優(yōu)選連續(xù)設(shè)置到光信息記錄媒體的外周緣為止，由此可 以有效地防止高溫高濕環(huán)境下的劣化。
而且，對于所述透光層17的厚度，由于通常是構(gòu)成為照射400 nm 420nm附近的 波長的激光而在所述光記錄層14中記錄數(shù)據(jù)以及/或者從所述光記錄層14中讀出數(shù)據(jù)， 因此通常優(yōu)選0.1 mm。
以下，根據(jù)圖2 (C)所示的實施例的制造方法，對本發(fā)明進(jìn)一步進(jìn)行具體說明。 <基板的制造>
在玻璃母盤上利用旋轉(zhuǎn)涂布法，分別以特定的厚度涂布光阻劑(感光劑)而形成光 阻膜，使用切割裝置的激光進(jìn)行曝光而成為特定的曝光寬度尺寸之后，在所獲得的玻璃 母盤上滴加顯影液，進(jìn)行顯影處理，形成與圓盤狀光信息記錄媒體的基板11的槽12相 對應(yīng)的凹凸光阻圖案。
接著，在該玻璃母盤上利用電鍍處理而使鎳析出，并將其剝離，將外形修整成圓盤 形狀而獲得壓模。
然后，將該壓模安裝在射出成型裝置的模腔內(nèi)，在模腔內(nèi)注入聚碳酸酯樹脂，獲得 在其中一個主面上具有螺旋狀槽12的長徑為120mm的基板11。
<光反射層的形成〉
在所述基板11的其中一個形成了螺旋狀槽12的主面上，利用濺射裝置，使用內(nèi)周 直徑為118.0mm的外掩模4和外周直徑為34.0mm的內(nèi)掩模3,并且使用組成為"Ag-0.65 Cu-1.0 In (wt%)"的Ag合金作為靶材料，在l(T2 torr (托)左右的氣壓下使氬氣成為 等離子體，使Ar+離子撞擊靶而進(jìn)行濺射。在距離圓盤中心的半徑17 mm至59 mm的區(qū) 域中，形成膜厚為100nm的均一厚度的光反射層14。
<光記錄層的形成>
在形成了所述反射層13的基板11的上表面上，在距離圓盤中心的半徑18 mm至60mm的區(qū)域中，形成膜厚為60nm的光記錄層14。具體地說，是將化學(xué)式1所示的偶 氮色素或者化學(xué)式2所示的花菁色素與粘合劑等一起溶解在例如TFP (四氟丙醇)等溶 劑中而制備涂布液。然后，將該涂布液利用旋轉(zhuǎn)涂布法而涂布在所述光反射層上，形成 涂膜之后，在80。C的溫度下干燥30分鐘，由此形成光記錄層14。 <保護(hù)層的形成〉
接著，在形成了該光記錄層14的基板上，利用濺射裝置，使用內(nèi)周直徑為119.0 mm 的外掩模4和直徑為33.0 mm的內(nèi)掩模3，在10—2 torr左右的氣壓下使氬氣成為等離子 體，使Ar+離子撞擊ZnS-Si02而進(jìn)行濺射。通過該濺射，在距離圓盤中心的半徑16.5 mm 至60 mm的區(qū)域中形成了厚度為25 nm的保護(hù)膜15。在保護(hù)膜15的成膜過程中并未產(chǎn) 生異常放電。另外，形成該保護(hù)層15的外掩模4是使用像圖4所示那樣在內(nèi)周側(cè)具有 傾斜部的外掩模4。
<透光層的形成〉
進(jìn)一步，在形成了保護(hù)層15的基板上，在超出距離圓盤中心的半徑9mm至60mm 的區(qū)域、覆蓋保護(hù)層15的外周和內(nèi)周、且外周圍側(cè)到達(dá)基板11的側(cè)面的區(qū)域中，利用 旋轉(zhuǎn)涂布法涂布丙烯酸系樹脂之后，照射紫外線進(jìn)行硬化，形成厚度為O.l mm的透光 層17。通過完成這些步驟，而獲得了厚度約為1.2mm的圓盤狀光信息記錄媒體10。
所獲得的光信息記錄媒體10并無外觀上的不良，電特性也像所設(shè)計的那樣，并無 異常。
(比較例)
在實施例1中，對保護(hù)層15使用內(nèi)周直徑為118.0 mm的外掩模4和直徑為34.0 mm 的內(nèi)掩模3，除此以外，與實施例1同樣地獲得光信息記錄媒體10。在保護(hù)膜15的成 膜過程中可以看見異常放電的產(chǎn)生。所獲得的光信息記錄媒體經(jīng)確認(rèn)，光反射層的最外 周部分沿著周面呈鋸齒狀，外觀上也可看到不良，且抖動(jitter)惡化或者記錄靈敏度 惡化。
另外，本發(fā)明的實施形態(tài)或?qū)嵤├兴f明的構(gòu)成以及動作的說明等并不限定于各 記述，可以在不偏離本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)加以各種變更。
1權(quán)利要求
1. 一種光信息記錄媒體，其至少設(shè)置有基板、設(shè)置在該基板的其中一個主面上的光反射層、設(shè)置在該光反射層的上表面上的光記錄層、設(shè)置在該光記錄層的上表面上的保護(hù)層、以及設(shè)置在該保護(hù)層的上表面上的透光層，所述光信息記錄媒體的特征在于所述保護(hù)層是利用濺射法而形成的層，并且設(shè)置有該保護(hù)層的區(qū)域被設(shè)置成比設(shè)置有所述光反射層的區(qū)域?qū)挘⑶抑苯踊蛘唛g接地覆蓋所述光反射層的端部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄媒體，其特征在于所述透光層覆蓋所述保護(hù)層， 且連續(xù)地設(shè)置到所述基板的外周端為止。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光信息記錄媒體，其特征在于所述透光層被連續(xù)地設(shè)置以 超過所述基板的外周端，且被設(shè)置成覆蓋所述外周端的邊緣部。
4. 一種光信息記錄媒體的制造方法，其制造根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的光信 息記錄媒體，所述光信息記錄媒體的制造方法的特征在于利用濺射法形成所述保 護(hù)層時所使用的外掩模的內(nèi)周端部位于與所述光反射層設(shè)置區(qū)域的外周端部相當(dāng) 的位置的外周側(cè)。
5. —種光信息記錄媒體的制造方法，其制造根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的光信 息記錄媒體，所述光信息記錄媒體的制造方法的特征在于利用濺射法形成所述保 護(hù)層時所使用的內(nèi)掩模的外周端部位于與所述光反射層設(shè)置區(qū)域的內(nèi)周端部相當(dāng) 的位置的內(nèi)周側(cè)。
6. —種光信息記錄媒體的制造方法，其制造根據(jù)權(quán)利要求1至3項中任一項所述的光信息記錄媒體，所述光信息記錄媒體的制造方法的特征在于利用濺射法形成所述 保護(hù)層時所使用的外掩模的內(nèi)周端部位于與所述光反射層設(shè)置區(qū)域的外周端相當(dāng) 的位置，并且，該掩模的內(nèi)終端部附近的厚度隨著遠(yuǎn)離和該光反射層的外周端相當(dāng) 的位置而連續(xù)或者階段性地增大。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光信息記錄媒體及其制造方法，上述光信息記錄媒體在基板上至少依次具有光反射層及保護(hù)層，并且，防止在利用濺射法形成該保護(hù)層時產(chǎn)生異常放電，且防止基板界面處的保護(hù)膜剝離，不存在由異常放電引起的缺陷。本發(fā)明獲得一種光信息記錄媒體，所述光信息記錄媒體在其中一個主面上形成了螺旋狀槽的圓盤狀基板的所述主面上，至少依次具有反射激光的光反射層、含有吸收激光的光吸收物質(zhì)的光記錄層、含有無機(jī)材料的保護(hù)層以及透光層，并且，所述保護(hù)層是利用濺射法而形成的層，通過使設(shè)置著該保護(hù)層的區(qū)域比設(shè)置著所述反射層的區(qū)域更寬廣、且比設(shè)置著所述透光層的區(qū)域更狹窄，而防止了異常放電以及保護(hù)膜的剝離。
文檔編號G11B7/24GK101458941SQ20081018403
公開日2009年6月17日 申請日期2008年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月12日
發(fā)明者佐藤昌司, 加藤真悟, 原風(fēng)美, 大津毅, 松田勛 申請人:太陽誘電株式會社