專利名稱：磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及諸如硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器之類的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，用于通過(guò)在垂直于平面的方向上磁化記錄介質(zhì)來(lái)記錄信息的垂直記錄技術(shù)已被突出為用于增加硬盤(pán)記錄密度的技術(shù)。當(dāng)使用垂直記錄技術(shù)時(shí)，需要控制所謂的側(cè)邊擦除(side erase)以改善磁頭記錄性能。側(cè)邊擦除是磁頭將信息不僅重寫(xiě)到目標(biāo)磁道上而且還重寫(xiě)到相鄰磁道上的現(xiàn)象。一個(gè)原因是當(dāng)磁頭偏轉(zhuǎn)角不為零時(shí)磁場(chǎng)到達(dá)了相鄰磁道。
例如專利文件1披露了用于控制上面現(xiàn)象發(fā)生的技術(shù)。這種技術(shù)改變了寫(xiě)入磁頭中磁極的形狀。
與此同時(shí)，例如專利文件2披露了用于增加記錄密度的技術(shù)。這種技術(shù)以類似于以下的方式記錄磁道例如從內(nèi)磁道開(kāi)始并且以外磁道繼續(xù)，在以相鄰磁道順序執(zhí)行局部重寫(xiě)的同時(shí)進(jìn)行擠壓(shingling)。這確保了作為結(jié)果的磁道的寬度小于磁頭的實(shí)際寫(xiě)入寬度。
專利文件1日本專利JP-A No.2004-9499專利文件2美國(guó)專利No.6,185,06
發(fā)明內(nèi)容如上所述，為了增加硬盤(pán)記錄密度，提議了各種方法。
考慮到上面的情況進(jìn)行了本發(fā)明。本發(fā)明的目的是提供能夠有效控制側(cè)邊擦除的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，所述側(cè)邊擦除表示了當(dāng)使用垂直記錄技術(shù)時(shí)要解決的問(wèn)題。
為了解決上面的問(wèn)題，提供了一種磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，包括垂直記錄介質(zhì)，其上形成有同心或螺旋形的磁道；控制部分，用于將主側(cè)磁道重寫(xiě)到位于離開(kāi)所述主側(cè)磁道一側(cè)的副側(cè)磁道的部分上，所述主側(cè)磁道為所述垂直記錄介質(zhì)上的內(nèi)磁道或外磁道；以及磁頭單元，其圍繞音圈電機(jī)的中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)，其中安裝在所述磁頭單元的一端的垂直磁頭在所述垂直記錄介質(zhì)之上相對(duì)移動(dòng)，并且其中所述垂直記錄介質(zhì)上的主側(cè)的末端磁道處的偏轉(zhuǎn)角基本上為零。


圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的示意圖；圖2是顯示根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁頭單元的示意圖；圖3顯示了為了擠壓寫(xiě)入而進(jìn)行的典型磁頭位置控制操作；圖4顯示了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的典型偏轉(zhuǎn)角設(shè)置操作；圖5顯示了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的典型磁頭形狀；圖6顯示了供根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器之用的典型格式；圖7顯示了供根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器之用的另一個(gè)典型格式。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在參考附圖來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施例。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器是例如硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其包括記錄介質(zhì)1、磁頭單元2、磁頭驅(qū)動(dòng)和控制部分3、讀/寫(xiě)(RW)部分4以及控制部分5，如圖1中指示的那樣。
從表面層一側(cè)到底層一側(cè)，在記錄介質(zhì)1中包括垂直記錄層；軟磁層；以及基底層。記錄介質(zhì)1被設(shè)計(jì)用于垂直記錄。記錄介質(zhì)1以可旋轉(zhuǎn)的方式被支撐，并且固定到外殼基座。如圖2所示，磁頭單元2包括磁頭21，其與記錄介質(zhì)1的記錄表面有關(guān)；浮動(dòng)塊22和臂23，其支撐每個(gè)磁頭21；以及音圈電機(jī)24。以這樣的方式支撐磁頭單元2它能夠以音圈電機(jī)24的旋轉(zhuǎn)中心C為軸心而轉(zhuǎn)動(dòng)。
按照來(lái)自控制部分5的指令，磁頭驅(qū)動(dòng)和控制部分3驅(qū)動(dòng)磁頭單元2的音圈電機(jī)24以控制磁頭21的位置。RW部分4對(duì)磁頭21中包含的讀磁頭從記錄介質(zhì)1讀取的信息進(jìn)行譯碼或其他處理，并且將作為結(jié)果的處理信息輸出到控制部分5。進(jìn)一步，RW部分4對(duì)從控制部分5輸入的寫(xiě)信息進(jìn)行編碼或其他處理，并且經(jīng)由磁頭21中包含的寫(xiě)磁頭將信息寫(xiě)到記錄介質(zhì)1上。
控制部分5連接到起到主機(jī)作用的計(jì)算機(jī)或其他設(shè)備。按照來(lái)自主機(jī)的指令，控制部分5命令磁頭驅(qū)動(dòng)和控制部分3將磁頭21移動(dòng)到記錄主機(jī)所需的信息的位置。控制部分5同樣向主機(jī)輸出從RW部分4輸出的信息。進(jìn)一步，按照來(lái)自主機(jī)的寫(xiě)請(qǐng)求，控制部分5命令磁頭驅(qū)動(dòng)和控制部分3將磁頭21移動(dòng)到信息要被寫(xiě)入的位置。另外，控制部分5將要被寫(xiě)入的寫(xiě)信息輸出到RW部分4。
進(jìn)而，控制部分5在記錄介質(zhì)1的表面上同心地形成信息寫(xiě)入磁道。在這個(gè)實(shí)例中，通過(guò)將為記錄介質(zhì)1的內(nèi)磁道或外磁道的主側(cè)磁道重寫(xiě)到位于離開(kāi)主側(cè)磁道一側(cè)的副側(cè)磁道的部分上，控制部分5進(jìn)行擠壓寫(xiě)入?，F(xiàn)在來(lái)說(shuō)明主外磁道的部分由相鄰副內(nèi)磁道重寫(xiě)的典型擠壓寫(xiě)入。
當(dāng)在信息寫(xiě)入時(shí)進(jìn)行搜索以定位相鄰磁道時(shí)，控制部分5將寫(xiě)磁頭移動(dòng)磁道間距SWP，其小于寫(xiě)磁頭的寫(xiě)入寬度W(不包括側(cè)邊擦除的并且由寫(xiě)磁頭提供的磁道寬度)。
在上面的情況下，如果為了要讀取寫(xiě)到磁道上的信息，讀磁頭的中心被移動(dòng)到寫(xiě)磁頭中心C的位置DHO，如圖3中指示的那樣，則寫(xiě)到重寫(xiě)的相鄰磁道上的信息成為噪聲。因此，在讀取的時(shí)候，控制部分5將讀磁頭移動(dòng)到這樣的位置從DHO向外轉(zhuǎn)移寫(xiě)入寬度W的一半，亦即W/2，然后向內(nèi)轉(zhuǎn)移磁道間距SWP的一半，亦即SWP/2(DHO-W/2+SWP/2)。
如果寫(xiě)入寬度W未知，則用于寫(xiě)入的從寫(xiě)磁頭中心位置DHO的偏移量(理想地為提供-W/2+SWP/2的值)從實(shí)際讀取期間的最小誤碼率條件確定。換言之，控制部分5設(shè)法在每個(gè)步長(zhǎng)中讀取信息，同時(shí)從例如讀磁頭被從中心位置DHO向外移動(dòng)磁道間距SWP的位置開(kāi)始，以預(yù)定的步長(zhǎng)向中心位置DHO連續(xù)地移動(dòng)磁頭。作為這樣的嘗試的結(jié)果，誤碼率在理想的位置C’處被最小化。誤碼率被最小化的位置因而被存儲(chǔ)為偏移量表。
當(dāng)讀取指定的磁道時(shí)，控制部分5將讀磁頭移動(dòng)到由存儲(chǔ)的偏移量校正的位置，所述偏移量與用于寫(xiě)到指定的磁道上的信息的寫(xiě)磁頭中心C的位置DHO有關(guān)?？刂撇糠?然后從磁道讀取數(shù)據(jù)，接收從RW部分4輸入的數(shù)據(jù)，并且將輸入的接收數(shù)據(jù)輸出到主機(jī)。
參考用于寫(xiě)入的磁頭位置(寫(xiě)元件位置)規(guī)定DHO。然而，如果用于讀取的磁頭位置(讀元件位置)能夠例如從伺服信息確定，則可以參考讀元件位置規(guī)定DHO。在這樣的實(shí)例中，用于寫(xiě)入的磁頭位置從基于讀元件位置的DHO偏移到DHO+W/2-SWP/2。
在本實(shí)施例中，相關(guān)于控制部分5的擠壓寫(xiě)入方向如下所述地確定用于在記錄介質(zhì)上擠壓寫(xiě)入的用于主寫(xiě)入側(cè)末端(主橫向末端)的寫(xiě)磁頭角度。換言之，進(jìn)行安裝，以便當(dāng)寫(xiě)磁頭被置于主橫向末端處時(shí)偏轉(zhuǎn)角可以基本上為零。
現(xiàn)在來(lái)說(shuō)明記錄介質(zhì)1的外圓周側(cè)為主側(cè)的情況。如圖4中指示的那樣，磁頭21和浮動(dòng)塊22固定到臂23，或者確定磁頭單元2的旋轉(zhuǎn)中心C的位置，以便外圓周末端處的偏轉(zhuǎn)角θ可以基本上為零。偏轉(zhuǎn)角θ是磁道切線和穿過(guò)磁頭單元2的旋轉(zhuǎn)中心C的臂23的中心線之間形成的角度。
在上面的情況下，當(dāng)磁頭21在內(nèi)磁道上進(jìn)行寫(xiě)入時(shí)，偏轉(zhuǎn)角不為零，從而招致側(cè)邊擦除，其在磁性上影響相鄰磁道。更加具體地，發(fā)生側(cè)邊擦除而影響內(nèi)磁道，亦即，朝向記錄介質(zhì)1的旋轉(zhuǎn)中心發(fā)生側(cè)邊擦除。在本實(shí)施例中，外磁道的內(nèi)部由相鄰磁道重寫(xiě)。因此，側(cè)邊擦除的部分同樣由相鄰磁道重寫(xiě)，所以基本上沒(méi)有側(cè)邊擦除發(fā)生。
類似地，當(dāng)取向擠壓寫(xiě)入以便記錄介質(zhì)的內(nèi)圓周側(cè)可以充當(dāng)主側(cè)時(shí)，磁頭21和浮動(dòng)塊22固定到臂23，或者確定磁頭單元2的旋轉(zhuǎn)中心C的位置，以便偏轉(zhuǎn)角θ在內(nèi)圓周末端處基本上為零，如圖5中指示的那樣。
在上面的實(shí)例中，磁頭21中寫(xiě)磁頭的主磁極靴的空氣承載表面視圖可以是矩形的，因?yàn)榛旧蠜](méi)有側(cè)邊寫(xiě)入發(fā)生。
然而，如上所述，偏轉(zhuǎn)角在稍后進(jìn)行擠壓寫(xiě)入的記錄介質(zhì)1的副橫向末端處被最大化。為了使側(cè)邊寫(xiě)入在副橫向末端處最小化，可以使寫(xiě)磁頭主磁極靴為梯形，并且在記錄介質(zhì)1的旋轉(zhuǎn)方向上寬度增加，如圖5中指示的那樣。圖5給出了磁頭主磁極靴W的側(cè)視圖(S)和磁頭主磁極靴W的空氣承載表面視圖(空氣承載表面形狀B)。在圖5的側(cè)視圖中，符號(hào)R指示讀磁頭，而符號(hào)C則指示線圈。
在本實(shí)施例中，格式化記錄介質(zhì)1，以便能夠在記錄介質(zhì)1的兩個(gè)表面上以相同的方向進(jìn)行擠壓寫(xiě)入。以前，使用的格式化是這樣的，以致于例如以記錄介質(zhì)表面的圓周外末端開(kāi)始，連續(xù)分配LBA(邏輯塊地址)，然后，當(dāng)?shù)竭_(dá)第64個(gè)磁道時(shí)，以記錄介質(zhì)的背表面上的磁道開(kāi)始，順序相反地從內(nèi)圓周側(cè)到外圓周側(cè)連續(xù)地分配LBA。
然而，在本實(shí)施例中，有必要規(guī)定擠壓寫(xiě)入的方向。因此，對(duì)于兩個(gè)表面都從外圓周側(cè)到內(nèi)圓周側(cè)分配LBA。例如，如圖6所示，從記錄介質(zhì)的前表面上的外圓周側(cè)的磁道A連續(xù)分配LBA。當(dāng)?shù)竭_(dá)第64個(gè)磁道時(shí)，從對(duì)應(yīng)于前表面上的磁道A的記錄介質(zhì)的背表面上的磁道B朝著內(nèi)圓周側(cè)的方向(亦即在向后轉(zhuǎn)移64個(gè)磁道之后)連續(xù)分配LBA。在背表面上，進(jìn)一步分配LBA，直到到達(dá)第128個(gè)磁道為止。在返回到記錄介質(zhì)的前表面之后，向后轉(zhuǎn)移64個(gè)磁道，隨后繼續(xù)分配LBA。當(dāng)以這種方式分配LBA時(shí)，磁頭一改變就進(jìn)行搜索。
在圖7中顯示的另一個(gè)例子中，以記錄介質(zhì)的前表面的外圓周側(cè)的磁道開(kāi)始，連續(xù)分配LBA。當(dāng)?shù)竭_(dá)第64個(gè)磁道A時(shí)，則從對(duì)應(yīng)于磁道A的記錄介質(zhì)的背表面上的磁道B朝著內(nèi)圓周側(cè)的方向分配LBA。當(dāng)?shù)竭_(dá)最內(nèi)圓周末端(P)時(shí)，進(jìn)行長(zhǎng)搜索以返回到最外圓周末端(Q)，以便繼續(xù)分配LBA。圖7假設(shè)形成的磁道的數(shù)目是64的奇數(shù)倍。因此，在長(zhǎng)搜索時(shí)改變表面。然而，如果形成的磁道的數(shù)目是64的偶數(shù)倍，則在長(zhǎng)搜索時(shí)不發(fā)生表面改變。
本發(fā)明利用了擠壓寫(xiě)入技術(shù)以有效控制側(cè)邊擦除，其為使用垂直記錄技術(shù)時(shí)的問(wèn)題之一。
前述描述假定同心地布置磁道。然而，本發(fā)明同樣能夠應(yīng)用于螺旋形地布置磁道的情況。
權(quán)利要求
1.一種磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，包括垂直記錄介質(zhì)，其上形成有同心或螺旋形的磁道；控制部分，用于將為所述垂直記錄介質(zhì)的內(nèi)磁道或外磁道的主側(cè)磁道重寫(xiě)到位于離開(kāi)所述主側(cè)磁道一側(cè)的副側(cè)磁道的部分上；以及磁頭單元，其圍繞中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)，其中置于所述磁頭單元一端的垂直磁頭在所述垂直記錄介質(zhì)上相對(duì)移動(dòng)，并且其中所述垂直記錄介質(zhì)上的主側(cè)的末端磁道處的偏轉(zhuǎn)角基本上為零。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，寫(xiě)磁頭的主磁極靴的空氣承載表面視圖為矩形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，寫(xiě)磁頭的主磁極靴的空氣承載表面視圖為梯形，并且沿所述記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)方向?qū)挾仍黾印?br> 全文摘要
提供了一種能夠有效控制側(cè)邊擦除的磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，所述側(cè)邊擦除是使用垂直記錄技術(shù)時(shí)出現(xiàn)的問(wèn)題之一。通過(guò)將為內(nèi)磁道或外磁道的主側(cè)磁道重寫(xiě)到位于離開(kāi)主側(cè)磁道一側(cè)的副側(cè)磁道的部分，來(lái)同心地或螺旋地形成記錄介質(zhì)(1)上的磁道。安裝磁頭單元(2)，以使得置于磁頭單元的一端的磁頭(21)可以在記錄介質(zhì)之上相對(duì)地移動(dòng)，并且記錄介質(zhì)上主橫向末端處的偏轉(zhuǎn)角可以基本上為零。
文檔編號(hào)G11B5/127GK1848244SQ200610073520
公開(kāi)日2006年10月18日 申請(qǐng)日期2006年4月12日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月13日
發(fā)明者佐藤直喜, 土永浩之, 高師輝實(shí) 申請(qǐng)人:日立環(huán)球儲(chǔ)存科技荷蘭有限公司