專利名稱：光學信息記錄和再現(xiàn)設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及使用記錄介質的光學信息記錄和再現(xiàn)設備，該記錄介質包括諸如藍光光盤的具有單層或多層的信號記錄表面的光盤，本發(fā)明尤其涉及在確定該盤包括單層還是多層的情況下使用的再現(xiàn)功率控制技術。
背景技術：
近年來，隨著其中要記錄的信息的增長，期望諸如CD或DVD的光盤實現(xiàn)更高密度記錄。為了實現(xiàn)與DVD相比的更高密度的記錄，需要比用于DVD中的更小的標記記錄在記錄層上。因此，縮短光源的波長并且增加物鏡的數(shù)值孔徑(以后將稱為“NA”)是必要的。
例如，在DVD情況下，使用波長為660nm的激光作為光源，并且使用NA為0.6的透鏡作為物鏡。當使用波長為405nm的藍色激光作為光源并且使用NA為0.85的物鏡時，可以獲得大約等于DVD的5倍的記錄容量。為了通過使用近來的高功率藍色激光而獲得比具有一個記錄層的所謂的單層盤更高的記錄容量，具有多個記錄層的多層盤正在開發(fā)中?，F(xiàn)在，商業(yè)上生產出雙層盤作為包含在盒內的藍光光盤。
因此，在市場中有兩種盤，單層盤和多層盤，并且期望一種適應這兩種盤的盤設備。
一般來說，當電源接通或當盤插入到光盤設備中時，例如，盤特定信息從盤的最內圓周側中事先設置的預先格式區(qū)域再現(xiàn)。此信息例如是所建議的再現(xiàn)功率或記錄功率?；趶念A先格式區(qū)域獲得的信息執(zhí)行用于確定實際使用的包括最優(yōu)功率的參數(shù)的學習操作?；谧罱K通過學習操作所獲得的各種參數(shù)執(zhí)行實際記錄和再現(xiàn)。
然而，關于如上所述的單層盤和多層盤的每一個，對每層最優(yōu)的再現(xiàn)光量(從物鏡照射到盤上的光的量)很大程度上依賴于諸如透射率和反射率的盤特性。例如，在藍光光盤的情況下，雙層盤的再現(xiàn)光量變得近似為單層盤的再現(xiàn)光量的兩倍。
如果用量等于用于雙層介質的再現(xiàn)光量的光通過物鏡照射單層介質，由于對單層介質的過量再現(xiàn)光量，發(fā)生再現(xiàn)惡化。因此，容易導致所記錄的信息的惡化，或其破壞。例如，當預先格式信息的上述惡化或其破壞發(fā)生時，不可能獲得用于執(zhí)行學習的參數(shù)。此外，不可否認，容易導致所記錄的用戶信息的惡化或其破壞。
關于這樣的問題，例如日本專利申請公開No.H07-029350描述了一種使用設置在包含盤的盤盒中的識別孔來確定盤的記錄層是由單層還是多層組成的技術。換句話說，識別孔設置在盤盒的任意位置。當盤盒保持在盤設備中時，檢測識別孔的打開和關閉狀態(tài)，以執(zhí)行有關盤是單層盤還是雙層盤的確定(此后將稱為“盤類型確定”)。
圖11是用于日本專利申請公開No.H07-029350中描述的盤類型確定的流程圖。首先，當電源接通或當新盤插入并安裝在用于旋轉盤的主軸電機上，且當需要進行關于該盤包括單層還是多層的盤類型確定時(S401)，檢測盒的識別孔的打開和關閉狀態(tài)以確定盤是單層盤還是多層盤(S402)。當確定該盤是單層盤時，將再現(xiàn)光量調整到用于單層盤的再現(xiàn)光量(第一光量)并且再現(xiàn)上述預先格式信息(S403)。
接著，執(zhí)行記錄操作或再現(xiàn)操作(S404)。記錄操作或再現(xiàn)操作完成之后，關斷用作為光源的半導體激光器(S405)。接著，光源關斷，或者盤被彈出(S406)，從而完成處理。
另一方面，當在步驟S402確定盤是多層盤時，將再現(xiàn)光量調整為用于多層盤的再現(xiàn)光量(第二光量)并且如上所述再現(xiàn)預先格式信息(S407)。在此之后，以相似的方式執(zhí)行記錄操作或再現(xiàn)操作(S404)。當操作完成時，半導體激光器關斷(S405)。接著，電源關斷，或者盤被彈出，從而完成處理(S406)。
近年來，為了實現(xiàn)盤設備和記錄介質的每一者的尺寸、厚度和重量的減小，期望使用不包含在盒中的盤本身。這是在未來光盤設備的開發(fā)中不可避免的開發(fā)項目之一。因此，期望與日本專利申請公開No.H07-029350不同的、不使用盒的識別孔而確定盤包括單層還是多層的方法。
作為另一種盤類型確定方法，例如，有一種檢測通過物鏡致動器在垂直于盤表面的方向上移動物鏡而產生的聚焦信號的峰值的方法。在這種方法中，當檢測到信號峰值時，確定該盤包括單層。當檢測到兩個峰值時，確定該盤包括兩層。
然而，如果在用于多層盤的再現(xiàn)光量(第二光量)下對單層盤執(zhí)行盤類型確定，如上所述發(fā)生再現(xiàn)惡化。取決于所聚焦的位置，容易導致所記錄的用戶信息的破壞。
發(fā)明內容
本發(fā)明的一個目的是提供一種光學信息記錄和再現(xiàn)設備，該設備能夠確定記錄介質是單層記錄介質還是多層記錄介質，而不導致再現(xiàn)惡化，同時僅使用記錄介質而不使記錄介質包含在盒中。
具體地，該光學信息記錄和再現(xiàn)設備包括光源；物鏡，用于將來自光源的激光聚焦在光學記錄介質上以執(zhí)行信息記錄或信息再現(xiàn)，該光學記錄介質具有單層或多層的信號記錄表面；確定電路，用于確定光學記錄介質的信號記錄表面的層數(shù)；以及調整電路，用于調整照射到光學記錄介質上的激光的強度，并且在該光學信息記錄和再現(xiàn)設備中，當確定電路確定層數(shù)時，該調整電路將照射到光學記錄介質上的激光的強度設定為用于再現(xiàn)來自該光學記錄介質的信息的強度。
圖1是示出了本發(fā)明的第一實施例的框圖；圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的光學拾取的光學系統(tǒng)的結構視圖；圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的盤類型確定操作的流程圖；圖4是示出了基于反射光量的峰值執(zhí)行盤類型確定的方法的說明圖；圖5是示出了本發(fā)明的第二實施例的框圖；圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的光學拾取的光學系統(tǒng)的結構視圖；圖7是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的盤類型確定操作的流程圖；圖8是示出了本發(fā)明的第三實施例的框圖；圖9是示出了根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的光學拾取的光學系統(tǒng)的結構視圖；圖10是示出了根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的盤類型確定操作的流程圖；以及圖11是示出了常規(guī)盤類型確定操作的流程圖。
具體實施例方式
此后，將參考附圖詳細描述實施本發(fā)明的最佳模式。
(第一實施例)圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的光盤設備的框圖。在圖1中，參考標號1表示作為光學記錄介質的光盤。光盤設備包括用于旋轉其上安裝的光盤1的主軸電機2，以及用于旋轉驅動主軸電機2的主軸電機驅動器3。
該光盤設備進一步包括用于向或從光盤1記錄或再現(xiàn)信息的光學拾取器6。光學拾取器6包括作為光源的半導體激光器7，用于將來自半導體激光器7的光束會聚在光盤1的記錄表面上以形成光斑的物鏡4，物鏡致動器5，用于控制半導體激光器7的光量的激光器驅動器24，其他光學元件(未示出)，以及用于檢測光盤1上的反射光的傳感器。物鏡致動器5以使得光束聚焦在記錄表面上的方式(聚焦，此后稱為“Fo”)，在光束跟隨已經在光盤1中設置有偏轉(runout)和道的光盤1的狀態(tài)下(跟蹤；此后稱為“Tr”)，于垂直于盤表面的方向上和水平方向上二軸地驅動物鏡4。
該光盤設備進一步包括用于控制物鏡致動器5的光學拾取器驅動器8，激光器驅動器24等，用于在光盤1的徑向傳送光學拾取器6的搜尋電機9，用于控制搜尋電機9的搜尋電機驅動器10，以及用于執(zhí)行以下將描述的關于光盤1的記錄層的盤類型確定的盤類型確定裝置27。
該光盤設備進一步包括例如由CPU和存儲器構成的控制器11?？刂破?1執(zhí)行伺服/RF處理，諸如控制每個驅動器的處理以及來自設置在光學拾取器6中的傳感器的輸出信號的處理。此外，控制器11控制整個光盤設備12以作為用于每個序列控制的中心設備。光盤設備12由上述構成部件組成。在此實施例中，用于調整半導體激光器7的輸出功率的激光器驅動器24對應于光量調整電路。
圖2示出了光學拾取器6的光學系統(tǒng)。從半導體激光器7照射的光束被光柵22分離為主光束和兩個子光束。子光束用于產生用于差分推挽(DPP)的伺服信號。
通過光柵22的光束的一部分在偏振光光束分離器13上反射，并且由會聚透鏡14會聚到監(jiān)視器PD 15。監(jiān)視器PD 15的輸出用來控制半導體激光器7的照射功率。
通過偏振光光束分離器13的光束通過λ/4板23并且通過視準透鏡16轉換為平行光束。接著，該光束由物鏡4通過光盤1的透明基底成像在光盤1的信息記錄表面上。在光盤1上反射的光束通過物鏡4、視準透鏡16以及λ/4板23在偏振光光束分離器13上反射。反射的光束通過傳感器透鏡17會聚到RF伺服PD 18上?；赗F伺服PD 18的輸出而獲得信息信號和伺服信號。
接著，將詳細描述光盤設備12的操作。首先，光拾取器驅動器8、搜尋電機驅動器10、以及主軸電機驅動器3由控制器11進行整體控制。接著，主軸電機驅動器3使主軸電機2以所需旋轉速率旋轉。因此，安裝在主軸電機2上的光盤1與其一同旋轉。
作為步進電機的搜尋電機9由搜尋電機驅動器10驅動，以將光學拾取器6傳送到光盤1的徑向方向上的任意位置。激光器驅動器24通過光學拾取器驅動器8被控制，以控制來自光學拾取器6的半導體激光器7的激光。激光由物鏡4會聚到光盤1的記錄表面上，以記錄信息或再現(xiàn)所記錄的信息。
此時，如上所述，物鏡4跟蹤光盤1的記錄表面中設置的道。因此，提供給物鏡致動器5的驅動電流(在Fo方向上流動的電流是Fo電流，且在Tr方向上流動的電流是Tr電流)由光學拾取器驅動器8基于Fo誤差信號和Tr誤差信號控制，如后文所述。注意，F(xiàn)o誤差信號是對應于物鏡4和光盤1之間的垂直方向上的相對距離而獲得的，并且在聚焦狀態(tài)中變?yōu)?。此信號是通過例如像散方法獲得的。
另一方面，Tr誤差信號是對應于在光盤1的記錄表面中設置的道與其上形成光斑的盤表面之間的平行方向上的相對位置獲得的，并且在光斑基本上位于道的中心的情況下變?yōu)?。例如，此信號是通過推挽方法或差分推挽方法獲得的。產生Fo誤差信號和Tr誤差信號的方法是公知的，因而在此省略其說明。在本發(fā)明中，當然也可以應用除了像散方法和差分推挽方法之外的方法。
圖3是示出了根據(jù)此實施例的光盤設備的操作的說明性流程圖。首先，在需要確定光盤1包括單層還是多層的盤類型確定的情況下(S101)，諸如光盤設備的電源接通的情況下，或者光盤1安裝到主軸電機2上的情況下，半導體激光器7響應來自控制器11的指令而通過激光器驅動器24接通。接著，控制半導體激光器7的輸出，使得從物鏡4出射的激光的量變成用于單層盤的再現(xiàn)光量(第一光量)(S102)。用激光照射光盤1。如上所述，第一光量是用于再現(xiàn)來自單層盤的信息的光量。
接著，盤類型確定裝置27在控制器11的控制下確定光盤1的記錄層是由單層還是多層(例如兩層)構成(S103)。后面將描述確定記錄層是由單層還是多層構成的方法。當確定光盤1是單層盤時，執(zhí)行記錄操作或再現(xiàn)操作，而不改變再現(xiàn)光量(S104)。
此時，如前文所述，以第一光量從光盤1再現(xiàn)預先格式的信息，并且基于該預先格式的信息執(zhí)行記錄或再現(xiàn)。在記錄的時刻，設定記錄功率。記錄或再現(xiàn)完成后，激光器驅動器24關斷半導體激光器7(S105)。接著，電源關斷，或光盤1彈出(S106)，從而完成處理。
另一方面，當確定光盤1是雙層盤時，由激光器驅動器24在控制器11的控制下控制半導體激光器7的輸出。因此，將從物鏡4出射的光的量調整為用于雙層盤的再現(xiàn)光量(第二光量，近似等于第一光量的二倍)(S107)，并且執(zhí)行記錄或再現(xiàn)(S108)。在這種情況下，以第二光量從光盤1再現(xiàn)預先格式信息，并且基于該預先格式信息執(zhí)行記錄或再現(xiàn)。在記錄的時刻，設定記錄功率。記錄或再現(xiàn)完成之后，半導體激光器7關斷(S105)。接著，電源關斷，或光盤1彈出(S106)，從而完成處理。如上所述，第二光量是用于再現(xiàn)來自多層盤的信息的光量。
接著，將詳細描述根據(jù)此實施例的用于光盤1的盤類型確定方法。例如，當物鏡4在Fo方向上上下移動，且在光盤1上反射的光量由RF伺服PD 18檢測時，獲得當光聚焦在每層上時其峰值變得最大的信號。因此，可以基于指示聚焦狀態(tài)的峰值數(shù)目來確定盤類型。
因此，如圖4所示，設定任意閾值x。只有當檢測到超過閾值x(由圖4所示的實線表示)的信號峰值時，確定光盤1是單層盤。當由于光量不充足而峰值低于閾值x時，或當檢測到兩個峰值(由圖4所示的虛線表示)時，可以確定光盤1是雙層盤。在這種情況下，可以將光量調整為第二光量，以再次執(zhí)行盤類型確定。
如上所述，即使在空白盤的情況下，當以用于再現(xiàn)來自單層盤的信息的第一光量執(zhí)行盤類型確定時，可以確定光盤1是單層盤還是多層盤，而不導致再現(xiàn)惡化。
(第二實施例)圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的光盤設備的框圖。圖6是示出了用于該光盤設備的光學拾取器6的光學系統(tǒng)的結構圖。在圖5和6中，為與第一實施例的圖1和2中所示的相同的部分設置相同的參考標號，因而省略其說明。
基本結構和基本操作與第一實施例中的相同。在此實施例中，通過使用日本專利申請公開No.2004-199755中描述的光量衰減設備(偏振光光束分離器和液晶元件)將光量調整為第一光量或第二光量。光量調整方法在日本專利公開No.2004-199755中描述，因此在此省略其說明。
在圖5和6中，參考標號19表示液晶元件，且25表示控制液晶元件19的液晶元件驅動器。雖然在圖5中未示出，但圖1中所示的激光器驅動器24被包括在光學拾取器驅動器8中。在此實施例中，偏振光光束分離器13、液晶元件19以及液晶元件驅動器25組成光量調整電路。
與液晶元件19處于電源關斷狀態(tài)的情況相比，在電源接通狀態(tài)中，液晶元件19的分子排列狀態(tài)改變。從物鏡4出射的光量由液晶元件19和偏振光光束分離器13的組合衰減大約50％。因此，在此實施例中，信息再現(xiàn)時刻半導體激光器7的輸出光量被恒定地設定為用于多層盤的再現(xiàn)光量，并且控制液晶元件19的電源接通/關斷狀態(tài)。因而，從物鏡4出射的光量被調整為第一光量或第二光量。
圖7是示出了根據(jù)此實施例的用于光盤的盤類型確定操作的流程圖。當光盤設備的電源接通或當光盤1插入其中時(S201)，控制器11控制液晶元件驅動器25。接著，使液晶元件19進入電源接通狀態(tài)，以改變液晶元件19的分子排列狀態(tài)，使得從物鏡4出射的光量變?yōu)樯鲜龅牡谝还饬?S202)。
接著，半導體激光器7接通(S203)，并且盤類型確定裝置27如在第一實施例中那樣以第一光量執(zhí)行盤類型確定(S204)。當盤類型確定裝置27確定光盤1是單層盤時，不進行任何改變地執(zhí)行記錄或再現(xiàn)(S205)。在這種情況下，以第一光量從光盤1再現(xiàn)預先格式信息，并且基于該預先格式信息執(zhí)行記錄或再現(xiàn)。在記錄時刻，設定記錄功率。記錄或再現(xiàn)完成之后，半導體激光器7關斷(S206)。接著，電源關斷或光盤1彈出(S207)，從而完成處理。
另一方面，當確定光盤1是多層盤(此實施例中是雙層盤)時，由控制器11控制液晶元件驅動器25。使液晶元件19進入電源關斷狀態(tài)以改變其分子排列狀態(tài)，從而將再現(xiàn)光量調整為第二光量(S208)。接著，執(zhí)行記錄或再現(xiàn)(S209)。在這種情況下，以第二光量從光盤1再現(xiàn)預先格式信息，并且基于該預先格式信息執(zhí)行記錄或再現(xiàn)。在記錄時刻，設定記錄功率。記錄或再現(xiàn)完成之后，半導體激光器7關斷(S206)。接著，電源關斷或光盤1彈出(S207)，從而完成處理。
如上所述，當偏振光光束分離器13和液晶元件19用于光量衰減設備時，與第一實施例的情況相比，半導體激光器7的高功率狀態(tài)可以被連續(xù)保持。因此，可能防止作為光源的半導體激光器7的信號質量由于量化噪聲而惡化。這對于使用諸如藍光光盤設備的藍色激光器的光盤設備尤其有效，在藍光光盤設備中，各種壓力余量與DVD設備等相比都很緊。
本發(fā)明不僅限于此實施例的結構。例如，當使用偏振全息圖代替偏振光光束分離器13，并且將其與液晶元件結合時，光量可以如上述情況中那樣被衰減。液晶元件19可以設置在光柵22和偏振光光束分離器13之間。
(第三實施例)圖8是示出了根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的光盤設備的框圖。圖9是示出了用于光盤設備的光學拾取器6的光學系統(tǒng)的結構圖?；窘Y構和基本操作與第一和第二實施例的相同。在圖8和9中，為具有與第一和第二實施例相同的功能的部分設置相同的參考標號，因而在此省略其描述。在此實施例中，通過使用日本專利申請公開No.2003-257072中描述的光量衰減設備將光量調整為第一光量或第二光量。
在圖8和9中，參考標號20表示用作為光量衰減設備的濾光器。由用作為步進電機的濾光器驅動電機26驅動濾光器20。濾光器驅動電機26由電機驅動器21驅動。電機驅動器21由光學拾取器驅動器8控制。雖然未在圖8中示出，第一實施例中描述的激光器驅動器24被包括在光學拾取器驅動器8中。
光量調整方法在日本專利公開No.2003-257072中描述，因此在此省略其描述。在此實施例中，濾光器驅動電機26由電機驅動器21驅動，并且透射率為50％的濾光器20插入到光軸或從光軸移開，從而調整光量。換句話說，如在第二實施例中那樣，將半導體激光器7的輸出光量控制為用于多層盤的再現(xiàn)光量(第二光量)。在單層盤的情況下，濾光器20被設置在光軸上，以衰減光量，從而將再現(xiàn)光量調整為第一光量。在多層盤的情況下，濾光器20在圖9所示的箭頭“A”指示的方向上移動，以將濾光器20從光軸移開，從而將再現(xiàn)光量調整為第二光量。
圖10是示出了根據(jù)此實施例的操作的流程圖。當光盤設備的電源接通或當光盤1插入其中時(S301)，由控制器11控制電機驅動器12，并且濾光器20通過濾光器驅動電機26的驅動而設置在光軸上。因此，從物鏡4出射的光數(shù)量被調整為第一光量(S302)。接著，由控制器11接通半導體激光器7(S303)，并且由盤類型確定裝置27如第一和第二實施例中那樣在光盤1上執(zhí)行盤類型確定(S304)。
作為盤類型確定的結果，當光盤1是單層盤時，不進行任何改變地執(zhí)行記錄或再現(xiàn)(S305)。在這種情況下，以第一光量從光盤1再現(xiàn)預先格式信息，并且基于該預先格式信息執(zhí)行記錄或再現(xiàn)。在記錄時刻，設定記錄功率。記錄或再現(xiàn)完成之后，半導體激光器7關斷(S306)。接著，光盤設備的電源關斷或光盤1彈出(S307)，從而完成處理。
另一方面，當確定光盤1是多層盤(此實施例中是雙層盤)時，由控制器11控制電機驅動器21，并且濾光器20通過濾光器驅動電機26的驅動，在濾光器從光軸移出的方向(由圖9所示的箭頭“A”指示的方向)上移動。從而將再現(xiàn)光量調整為第二光量(S308)。接著，執(zhí)行記錄或再現(xiàn)(S309)。此時，以第二光量從光盤1再現(xiàn)預先格式信息，并且基于該預先格式信息執(zhí)行記錄或再現(xiàn)。在記錄時刻，設定記錄功率。記錄或再現(xiàn)完成之后，半導體激光器7關斷(S306)。接著，光盤設備的電源關斷或光盤1彈出(S307)，從而完成處理。
在此實施例中，可以插入光軸或從光軸移開的濾光器被用作為光量衰減設備，使得與第二實施例的情況相比，可以降低功率消耗。這是因為，當使用液晶元件19時，在第一光量的狀態(tài)下，功率連續(xù)地提供給液晶元件19，以維持液晶元件19的分子排列狀態(tài)。
在此實施例中，例如，當使用步進電機、活塞等將濾光器20插入光軸或從光軸移開時，可以在從第二光量切換到第一光量或從第一光量切換到第二光量所必需的時間以外的時間里維持電源關斷狀態(tài)，使得可降低功率消耗。
在上述實施例中，假設光盤是多層盤，更具體地，層數(shù)目是二。即使在三層或更多層盤(介質)的情況下，也可以使用本發(fā)明。即，即使在三層或更多層的情況下，用于盤類型確定的再現(xiàn)光量也可以設定為第一光量。
此申請要求2005年2月24日申請的日本專利申請No.2005-048993的優(yōu)先權，在此引入該申請作為參考。
權利要求
1.一種光學信息記錄和再現(xiàn)設備，包括光源；用于將來自光源的激光聚焦到光學記錄介質上以執(zhí)行信息記錄或信息再現(xiàn)的物鏡，所述光學記錄介質具有單層或多層的信號記錄表面；用于確定光學記錄介質的信號記錄表面的層數(shù)的確定電路；以及用于調整照射到光學記錄介質上的激光強度的調整電路，其中當確定電路確定層數(shù)時，調整電路將照射到光學記錄介質上的激光強度設定為用于再現(xiàn)來自具有單層的光學記錄介質的信息的強度。
2.根據(jù)權利要求1所述的光學信息記錄和再現(xiàn)設備，其中調整電路控制光源的輸出功率。
3.根據(jù)權利要求1所述的光學信息記錄和再現(xiàn)設備，進一步包括在光源和物鏡之間的光路上設置的光量衰減設備，其中該調整電路控制該光量衰減設備。
4.根據(jù)權利要求3所述的光學信息記錄和再現(xiàn)設備，其中該光量衰減設備包括液晶元件，并且該光量衰減設備由液晶元件的電源接通/關斷狀態(tài)之間的切換來控制。
5.根據(jù)權利要求3所述的光學信息記錄和再現(xiàn)設備，其中該光量衰減設備包括濾光器，且該光量衰減設備是通過將濾光器插入到光路中和從光路中移開來控制的。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光學信息記錄和再現(xiàn)設備，它可以確定盤是單層盤還是多層盤，而不引起再現(xiàn)惡化，同時僅使用不包含在盒內的盤的主體。更具體地，當執(zhí)行盤類型確定時，照射到盤上的激光強度(再現(xiàn)光量)被設定為用于再現(xiàn)來自具有單層信息記錄表面的盤的信息的第一光量。
文檔編號G11B7/125GK1825440SQ20061005144
公開日2006年8月30日 申請日期2006年2月24日 優(yōu)先權日2005年2月24日
發(fā)明者鳥居信之介 申請人:佳能株式會社