專利名稱：一種用于探測磁頭浮動塊－磁盤沖突的集成磨損墊的制作方法
技術領域：
本發(fā)明一般地涉及了磁盤驅動器中的磁換能器(transducer)的制作，具體而言，涉及了提高換能器的氣承表面(ABS，Air-Bearing-Surface)在磁盤表面上方的懸置高度的可靠性的一種方法。
背景技術：
在磁記錄磁盤驅動器中，至少具有一磁換能器，該換能器包括一讀磁頭和一寫磁頭，它們被結合在一磁頭浮動塊(slider)中。這樣的一個磁換能器和與它相關聯(lián)的磁盤在圖1a示出。在該圖中，換能器(10)的下表面與磁頭浮動塊(30)的一光滑表面共面并被包含在該光滑表面之內，該光滑表面被稱作氣承表面。注意，磁頭浮動塊被安裝在一磁頭-萬向接頭組件(50)上，它在圖1a中以高度示意的形式被示出。在包括多個磁頭浮動塊和磁盤的磁盤驅動器中，圖1a示出的系統(tǒng)在豎直方向上重復，如(現有技術)圖1b所示。
在磁盤驅動器的工作過程中，磁頭浮動塊精確地懸置在快速旋轉的磁盤表面上方，被空氣流懸浮在磁盤表面上方的一“懸置高度”處。磁頭浮動塊后邊緣(45)，即給定的磁盤部分最后經過的邊緣，與磁盤表面非常接近，以10納米(nm)的量級被懸浮。磁頭浮動塊的前邊緣(47)，即給定的磁盤部分最先經過的邊緣，顯著更高，量級在100納米。盡管低懸置高度是實現換能器的高磁分辨率所希望的，但是它會對磁盤驅動器的可靠性有很顯著的負面影響。具體而言，低懸置高度造成磁頭浮動塊和磁盤之間發(fā)生頻繁且嚴重的沖突，損害了換能器和ABS。
為最大化低懸置高度的益處，換能器被安裝成非常靠近磁頭浮動塊后邊緣。在典型的晶片制作處理中，換能器被定位成距離經拋光的晶片表面的頂部大約20微米。當這樣的晶片被切割成磁頭浮動塊時，換能器距離磁頭浮動塊的后邊緣大約20微米。由于磁頭浮動塊ABS的典型傾斜角(ABS相對于磁盤表面的角度)在100和350微弧度之間，所以對應20微米的換能器-后邊緣距離的懸置高度差在2至7納米之間。當希望得到的懸置高度本身在10納米量級時，這是一個非常大的差值。
因為在制作的過程中很難將換能器移至與后邊緣更靠近，所以通過下面的方法有效地將后邊緣移至與換能器更靠近。在現有技術中，磁頭浮動塊ABS在換能器和磁頭浮動塊后邊緣之間的部分在磁頭浮動塊制作過程中利用刻蝕或者其他手段被凹入。這樣，最低的懸置高度不再位于磁頭浮動塊的實際物理邊緣處，而是現在處于凹入區(qū)域的邊緣處。該凹入被使得更靠近換能器，靠近的量在5微米的量級上。
參照現有技術圖2a，其示出了ABS的示意圖，其中一橫向定向的換能器(10)出現在磁頭浮動塊ABS上，該圖示出了換能器相對于磁頭浮動塊的橫向后邊緣(45)的位置。磁頭浮動塊ABS的包括換能器ABS的部分(20)由鋁形成，磁頭浮動塊在換能器上方的部分(13)(被簡略示出)由碳鈦化鋁(AlTiC)形成。整個圖表示單一平面表面。
參照圖2b，其示出了通過添加一大致矩形的凹入(向圖示的平面內凹入)部分(25)而被修改的圖2a的基本結構，該凹入部分具有兩個橫向邊緣(26)和(27)。為了清晰，凹入部分被以陰影示出，并且它是通過刻蝕形成的、位于ABS平面的平面表面下方的一大致平面的表面。此處被稱作第一邊緣的凹入部分的一橫向邊緣比第二邊緣更靠近換能器(10)，其中第二邊緣也是磁頭浮動塊的后邊緣。
表面上，形成一個凹入區(qū)域的上述方案似乎使得換能器在不產生負面效應的情況下降低大約2納米(即更靠近磁盤表面)懸置。實際上，通過如上所示的使換能器下游的(即向后邊緣方向的)ABS凹入，換能器在不增加磁盤上的機械應力的情況下能降低大約2納米懸置。然而，換能器上的機械應力卻增加了，這可以通過如下的推理來說明。首先，忽略換能器和后邊緣的凹入部分，并認為平面的ABS以一正傾斜角懸置。在一個典型的磁頭浮動塊ABS和磁盤表面之間的沖突中，不論該沖突是因為磁盤的表面粗糙度或者因為磁盤表面上的外來顆粒引起的，隨著降低懸置高度，機械應力會單調升高。這樣，應力在ABS的后邊緣處達到峰值。在ABS包括一換能器表面并且ABS具有一凹入區(qū)域的時候，情況也是這樣。這樣，在相同的后邊緣懸置高度的情況下，更靠近ABS后邊緣的換能器就會承受更大的機械應力。
磁盤驅動器的可靠性受到換能器和磁盤上的機械應力的影響。最先進的GMR(巨磁阻)讀磁頭尤其易受機械應力的影響。這樣，現有技術中的凹入方法并沒有象期望的那樣有效地保持驅動器的可靠性。另外，更為復雜的ABS形狀和設計被提出，以試圖緩解低懸置高度的影響，特別是在低懸置高度涉及磁頭浮動塊的傾斜和擺動的時候。在這個方面，Bolsana等人(美國專利No.5825587)提出了一種有著支撐結構和經刻蝕的側軌的磁頭浮動塊，以使磁盤驅動器工作時的懸置高度最小化。Park等人(美國專利No.6477012)提出了一種磁頭浮動塊ABS，其上形成有多個負壓空氣腔，以實現磁頭浮動塊在磁盤驅動器工作時的穩(wěn)定的懸置高度。Alexopoulos等人提出了一種ABS接觸表面磁頭浮動塊，其中，一可忽略尺寸的磨損墊與磁盤表面接觸并使磁頭浮動塊保持在適當的高度。
本發(fā)明并不針對具有復雜空氣動力學表面結構的磁頭浮動塊或者通過磁盤接觸機構被保持在安裝高度的磁頭浮動塊。本發(fā)明針對的是更為標準和容易制作的磁頭浮動塊，其中該磁頭浮動塊有著必須懸置在通過嚴格的測試機制被保持在給定的容差之內的高度的一大致的ABS平面表面。
然后，回到圖2b所示的凹入的后邊緣浮動塊，應該認識到，后邊緣凹入只會使平均換能器懸置高度下降一有限的量，它不會影響懸置高度分布的標準偏差。眾所周知，具有標稱(平均)懸置高度的磁頭浮動塊很少會失效，但是具有低于平均懸置高度的磁頭浮動塊失效的可能大得多。顯然，這種潛在的失效應該被發(fā)現到并被排除。
現在，篩選產品磁頭浮動塊的懸置高度分布是極為困難的。Wen等人(美國專利No.6317210)提出了用于測量懸置高度的光學裝置的一個示例。光學懸置高度測試器在所感興趣的10納米以及以下的懸置高度范圍是不準確的。通過聲波發(fā)射、摩擦或者回讀(readback)信號調制實現的對磁頭浮動塊和磁盤間沖突的直接探測只有在沖突比較頻繁而且強烈的情況下才有意義。Stimiman等人(美國專利No.6665077)提出了用于測量懸置高度的干涉測量方法的一個示例。
以上提及的已有懸置高度或沖突篩選方法都不能完全地排除“低懸置器”。為在生產水平上確保磁盤驅動器的可靠性，必須將標稱(平均)懸置高度設置成充分地(例如兩個標準偏差)高于最小的可接受懸置高度。
人們非常希望能提高沖突探測方法的靈敏度，以便于標稱懸置高度可以被設置得更接近最小可接受的懸置高度。通過這種方法，換能器的磁分辨率就能在不犧牲磁盤驅動器可靠性的情況下得到提高。本發(fā)明提供了一種新穎、集成的磨損墊，它能在產品的篩選過程中放大磁頭浮動塊-磁盤之間的沖突，使得能排除低懸置器，從而使得標稱懸置高度能被設置在更低的水平。磨損墊在篩選過程后很快就磨損掉了，這樣它本身就不會引起隨后磁盤驅動器工作過程中磁頭浮動塊-磁盤之間沖突。

發(fā)明內容
本發(fā)明的主要目的是提供一種用于在磁盤驅動器測試過程中對安裝在磁頭浮動塊上的換能器的ABS和其下方運動著的磁盤表面之間的沖突進行探測的方法，以便能夠能篩選出懸置高度低于一最小可接受值的磁頭浮動塊，以及能夠設定并監(jiān)視對于磁盤驅動器的可靠性而言的最小懸置高度閾值。
實現本發(fā)明目的的方法是形成與磁頭浮動塊ABS一體的一犧牲磨損墊，該方法將參照圖3a、3b、4a、4b和5被詳細描述。這個磨損墊放大了安裝在磁頭浮動塊上的換能器和磁盤之間的沖突，使得沖突可以被容易的探測到。磨損墊是從ABS伸出的一小突起(大約2納米)，它提高了與磁盤表面的不規(guī)則部分、磁盤粗糙部分或者磁盤上的異物沖突的閾值。由于該突起具有非常小的體積，所以它能很快的磨損掉而不產生過多的殘屑。該較小的體積決定了，突起在測試過程中能被完全的磨損掉。它可以通過有意地讓磁頭浮動塊以一較低的高度懸置而被磨損掉，或者它可以用一激光束去除。
在第一優(yōu)選實施例中，該突起是ABS的一狹窄的條狀體，它被允許保留在磁頭浮動塊ABS的凹入區(qū)域內。狹窄條狀體縱向定向，即垂直于換能器的橫向方向，并大體平分凹入區(qū)域(圖3a)。該狹窄條狀體的另一有利之處在于沖突情況發(fā)生后殘留的殘余部分通過使最大應力集中區(qū)域從讀磁頭處移開，起到減小換能器中的機械應力的作用(圖3b)。
在第二優(yōu)選實施例(圖4a)中，所述的條狀體處于凹入區(qū)域內，垂直于換能器，但是偏離凹入區(qū)域中的中心處。因為該條狀體不是直接處于換能器的下游，所以殘余部分并不會減小機械應力。然而，偏離中心的位置使條狀體能更有效地探測擺動的低懸置磁頭浮動塊。第一和第二實施例中的條狀體可以組合起來形成一包括多個條狀體的磨損墊(圖4b)。然而，對于這樣的情況，條狀體的總體積不應該大得使得在測試結束后它們不能被基本上磨損掉。
在第三優(yōu)選實施例(圖5)中，條狀體不是凹入區(qū)域內的一未刻蝕部分，而是由施加在均勻刻蝕的凹入區(qū)域或者該凹入區(qū)域內的被進一步刻蝕的區(qū)域內的碳覆蓋層構成的條狀體或襯墊。碳覆蓋層構成條狀體相對于刻蝕區(qū)域深度的高度是靈活的。


在如下陳述的具體實施方式
的上下文中可以理解本發(fā)明的目的、特征和優(yōu)點。
具體實施方式
將結合附圖來理解，所述附圖中圖1a和1b是示意性側視圖，其中，圖1a示出了懸置在旋轉的碟盤表面上方的單個現有技術磁頭浮動塊，圖1b示出了多個這樣的系統(tǒng)。
圖2a和2b(傳統(tǒng)技術)是示意性圖示，其中，圖2a示出了安裝在磁頭浮動塊上的(slider-mounted)換能器的ABS，圖2b示出了包括一凹入區(qū)域的安裝在磁頭浮動塊上的換能器的ABS。
圖3a是本發(fā)明的第一實施例磨損墊的示意圖。
圖3b是本發(fā)明的第一實施例磨損墊在被部分磨損掉后的示意圖。
圖4a是本發(fā)明的第二實施例磨損墊的示意圖。
圖4b是本發(fā)明的第一和第二實施例磨損墊的組合的示意圖。
圖5是本發(fā)明的第三優(yōu)選實施例磨損墊的示意圖。
具體實施例方式
本發(fā)明的優(yōu)選實施例設置了與安裝在磁頭浮動塊上的換能器的ABS一體形成的犧牲磨損墊。這樣設置的磨損墊使得在磁盤驅動器測試過程中，當ABS相對于磁盤表面處于一個較低的懸置高度時，能夠探測磁頭浮動塊和移動的磁盤表面之間的沖突，從而能夠設置可以確保磁盤驅動器在之后的正常使用中的可靠性的一較低的懸置高度閾值。
首先參照圖3a，其示出了本發(fā)明的第一實施例，其中，垂直于換能器(10)的橫向方向的一薄的未被刻蝕的鋁條(15)大致平分形成在磁頭浮動塊ABS內的凹入區(qū)域(25)。鋁條(15)的寬度(橫向尺寸)小于10微米，其長度(即凹入區(qū)域從第一邊緣(26)到后邊緣(27)的縱向尺寸)大約在5到20微米之間，而凹入區(qū)域(25)的深度大約在0.05到0.2微米之間。由于ABS的傾斜，鋁條的后邊緣比換能器更靠近磁盤表面約1到2納米。
然后如圖3b，圖示出了現在由于在測試過程中與磁盤的沖突而被部分磨損的圖3a的條狀體(17)。如前面已經提到的，對稱地位于換能器下游的條狀體的殘余部分當其存在時實際上起到應力減小機構的作用，但是，無論如何，在隨后的組裝和使用過程中它將被很快地磨損掉。
然后參照圖4a，其示出了本發(fā)明的第二實施例，其中，兩個未被刻蝕的鋁條(19)現在分別位于磁頭浮動塊ABS中的凹入區(qū)域(25)的兩個相對側邊緣處。在該實施例中，可以有單個條狀體，也可以有多個條狀體，但是相對于磁頭浮動塊寬度(橫向尺度)，這些條狀體將被設置成偏離中心。每一個條狀體的尺寸基本上與圖3a中的單個條狀體的尺寸相同，但是隨著這些條狀體的數量增加(如果形成不止一個條狀體)，總體積不應該增加得超過單個條狀體的體積很多，以便于條狀體的磨損能正常進行。還應注意的是，條狀體的偏離中心的位置使得它們成為非常有效的磁頭浮動塊相對于磁盤表面擺動(橫向上ABS平面之間的角度變化)以及懸置高度的探測器。此外，與圖3b所示的中心條狀體的情況相比，由于這些條狀體的非對稱下游位置，偏離中心的條狀體的部分磨損不會減小換能器的機械應力。
然后參照圖4b，其示出了第一實施例的中心定位的條狀體(15)與第二實施例的偏離中心定位的單個條狀體(19)組合，形成了本發(fā)明的第三實施例。
最后參照圖5，其示出了一沉積得到的磨損墊(35)，該磨損墊并不簡單地是磁頭浮動塊ABS的一未刻蝕部分。該磨損墊被示為具有近似圓形的橫截面，但實際上橫截面形狀是任意的，該磨損墊是通過在靠近磁頭浮動塊后邊緣的磁頭浮動塊表面上沉積一碳覆蓋層而形成的。在這里該磨損墊可以直接被沉積在刻蝕的凹入表面(25)上，或者被沉積在刻蝕表面內的進一步被凹入的區(qū)域內。碳覆蓋層的厚度以及其上形成有該碳覆蓋層的刻蝕區(qū)域的深度相對較靈活，但是覆蓋層磨損墊相對于換能器ABS表面的突起高度應該足以實現本發(fā)明的目的。在這個實施例中，突起高度小于2納米。
在以上優(yōu)選實施例以及本領域技術人員可能想到的變形中的任一個中，應該注意，磨損墊的最大突起出現在它的首次使用中，即，磁頭浮動塊第一次懸置在磁盤表面上方時。在本發(fā)明的任一實施例中，本發(fā)明的應用并不排除同時使用已知的用于減小懸置高度并由此加劇了磁頭浮動塊-磁盤沖突的其他方法。例如，磁頭浮動塊可以有意地以一偏斜角度懸置，磁盤速度可以有意地被改變，或者可以改變氣壓和/或氣體成份。這些方法也可以用于在實現其目的之后去除磨損墊。
在包括多個磁頭浮動塊和相關聯(lián)的磁盤的磁盤驅動器中，磨損墊也可以如下在正常使用過程中被完全磨損掉。當磁盤驅動器被格式化時，磁頭浮動塊應該根據它們遇到的沖突的強度的順序被排序。這可以通過例如在磁盤伺服記錄中記錄位置誤差信號(PES)的方法來實現。有著最少沖突的磁頭浮動塊首先被用于進行讀/寫操作，有著最多沖突的磁頭浮動塊則最后被使用。到磁盤驅動器足夠充滿以至于最后的磁頭浮動塊也已經被使用時，磨損墊則已經被充分的磨損掉，使得它可以正常地、甚至高性能地工作。
為得到類似的結果，在有著多個磁頭浮動塊和磁盤的磁盤驅動器中，磁盤可以按照這樣的順序被格式化，即使得有著最少的磁頭-磁盤沖突的磁盤表面最先被格式化。如果磁盤驅動器的一個表面首先利用一外部設備(即編碼器)被格式化，而剩余的表面在沒有這樣的外部設置的情況下順序地被格式化(即自格式化)，則這種策略尤其有用。
正如本領域技術人員理解的那樣，本發(fā)明的優(yōu)選實施例對本發(fā)明是說明性的，而非限制性的。根據所附權利要求所界定的本發(fā)明的精神和范圍，在用于在測試過程中探測磁盤驅動系統(tǒng)內安裝在磁頭浮動塊上的換能器和旋轉磁盤之間的沖突的集成的犧牲磨損墊的形成中，可以對方法、材料、結構以及尺寸進行修改和變形，而仍然提供這樣一種用于在測試過程中探測磁盤驅動系統(tǒng)內安裝在磁頭浮動塊上的換能器和旋轉磁盤之間的沖突的集成的犧牲磨損墊。
權利要求
1.一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，該換能器具有用于探測所述安裝在磁頭浮動塊上的換能器和磁盤表面之間的沖突的一集成的磨損墊，所述換能器包括一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，所述磁頭浮動塊以兩個平行的側邊緣和一垂直于所述側邊緣的橫向后邊緣為邊界，并且所述磁頭浮動塊具有一氣承表面并進一步包括一平面部分和相對于所述平面部分被凹入的一大致矩形的凹入部分，所述凹入部分以所述側邊緣和分開且平行的第一和第二橫向邊緣為邊界，所述第二橫向邊緣是所述磁頭浮動塊的后邊緣，所述第一橫向邊緣位于所述換能器和所述第二邊緣之間；和在所述凹入表面上被形成為一縱向條狀體的一磨損墊，所述條狀體從所述第一邊緣垂直地延伸至所述第二邊緣，并平分所述矩形凹入區(qū)域，所述條狀體具有一橫向寬度和基本上與所述氣承表面共面的一上表面。
2.根據權利要求1所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述凹入區(qū)域是通過刻蝕所述氣承表面而形成的，而所述縱向條狀體是一未刻蝕區(qū)域。
3.根據權利要求1所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述凹入表面在所述氣承表面的平面部分以下約0.05到0.2微米。
4.根據權利要求1所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述條狀體的橫向寬度小于大約10微米。
5.一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，該換能器具有用于探測所述安裝在磁頭浮動塊上的換能器和磁盤表面之間的沖突的一集成的磨損墊，所述換能器包括一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，所述磁頭浮動塊以兩個平行的側邊緣和一垂直于所述側邊緣的橫向后邊緣為邊界，并且所述磁頭浮動塊具有一氣承表面并進一步包括一平面部分和相對于所述平面部分被凹入的一大致矩形的凹入部分，所述凹入部分以所述側邊緣和分開且平行的第一和第二橫向邊緣為邊界，所述第二橫向邊緣是所述磁頭浮動塊的后邊緣，所述第一橫向邊緣位于所述換能器和所述第二邊緣之間；和在所述凹入表面上被形成為縱向條狀體的多個磨損墊，所述條狀體從所述第一邊緣垂直地延伸至所述第二邊緣，并平分所述矩形凹入區(qū)域，每一個所述條狀體具有一橫向寬度和基本上與所述氣承表面共面的一上表面。
6.根據權利要求5所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述凹入區(qū)域是通過刻蝕所述氣承表面而形成的，而所述縱向條狀體是一未刻蝕區(qū)域。
7.根據權利要求5所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述凹入表面在所述氣承表面的平面部分以下約0.05到0.2微米。
8.根據權利要求5所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，每一個所述條狀體的橫向寬度被選擇為使得所有所述條狀體在測試過程中要被去除的總體積大約在0.05和0.2立方微米之間。
9.根據權利要求5所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述多個條狀體中的一個平分所述凹入區(qū)域。
10.一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，該換能器具有用于探測所述安裝在磁頭浮動塊上的換能器和磁盤表面之間的沖突的一集成的磨損墊，所述換能器包括一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，所述磁頭浮動塊以兩個平行的側邊緣和一垂直于所述側邊緣的橫向后邊緣為邊界，并且所述磁頭浮動塊具有一氣承表面并進一步包括一平面部分和相對于所述平面部分被凹入的一大致矩形的凹入部分，所述凹入部分以所述側邊緣和分開且平行的第一和第二橫向邊緣為邊界，所述第二橫向邊緣是所述磁頭浮動塊的后邊緣，所述第一橫向邊緣位于所述換能器和所述第二邊緣之間；和形成在所述凹入表面上的一磨損墊，所述磨損墊位于橫向的中心處，大體上接觸所述第二橫向邊緣，并且所述磨損墊是一具有規(guī)則幾何橫截面、其上沉積有一覆蓋層的區(qū)域，所述覆蓋層具有一厚度和高出所述平面氣承表面部分的一上表面。
11.根據權利要求10所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述凹入區(qū)域是通過刻蝕所述氣承表面而形成的。
12.根據權利要求10所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述凹入表面在所述氣承表面的平面部分以下約0.05到0.2微米。
13.根據權利要求10所述的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其中，所述磨損墊是半徑約在5到10微米之間的一圓形區(qū)域，在其表面上沉積有一碳覆蓋層，所述碳覆蓋層的厚度足以使其上表面高出所述平面氣承表面部分不到2納米。
14.一包括了多個安裝在磁頭浮動塊上的換能器和相關聯(lián)的磁盤的磁盤驅動器，其中，每一個所述安裝在磁頭浮動塊上的換能器包括用于探測所述換能器和所述相關磁盤表面之間的沖突的一集成的磨損墊，并且其中，每一個所述安裝在磁頭浮動塊上的換能器進一步包括一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，所述磁頭浮動塊以兩個平行的側邊緣和一垂直于所述側邊緣的橫向后邊緣為邊界，并且所述磁頭浮動塊具有一氣承表面并進一步包括一平面部分和一相對于所述平面部分被凹入的大致矩形的凹入部分，所述凹入部分以所述側邊緣和分開且平行的第一和第二橫向邊緣為邊界，所述第二橫向邊緣是所述磁頭浮動塊的后邊緣，所述第一橫向邊緣位于所述換能器和所述第二邊緣之間；和形成在所述凹入表面上的一磨損墊，所述磨損墊位于橫向的中心處，大體上接觸所述第二橫向邊緣，并且所述磨損墊是一具有規(guī)則幾何橫截面、其上沉積有一覆蓋層的區(qū)域，所述覆蓋層具有一厚度和高出所述平面氣承表面部分的一上表面。
15.一種用于在測試磁盤驅動器以確定最小懸置高度閾值的過程中集成的磨損墊已經被使用過之后，在正常使用過程中，從磁盤驅動器內的多個安裝在磁頭浮動塊上的換能器上去除所述磨損墊的方法，其包括在磁盤驅動器測試過程中，按照磁頭浮動塊一磁盤沖突情況的強度順序對每一個所述安裝在磁頭浮動塊上的換能器進行排序，所述強度是利用一位置誤差信號伺服記錄確定的；在磁盤驅動器正常使用過程中，首先使用有著最小沖突強度的安裝在磁頭浮動塊上的換能器進行讀/寫操作，然后按照沖突強度增大的順序使用其余的安裝在磁頭浮動塊上的換能器，最后使用有著最大沖突強度的安裝在磁頭浮動塊上的換能器。
16.一種用于在測試磁盤驅動器以確定最小懸置高度閾值的過程中集成的磨損墊已經被使用過之后，在磁盤格式化過程中，從磁盤驅動器內的多個安裝在磁頭浮動塊上的換能器上去除所述磨損墊的方法，其包括在磁盤格式化過程中，首先使用一外部設備格式化表現出最少量的磁頭-磁盤沖突的磁盤；然后，在不使用這種外部設備的情況下格式化其余的磁盤。
全文摘要
本發(fā)明提供了一安裝在磁頭浮動塊上的換能器，其有一用于確定換能器和磁盤表面之間沖突的一集成磨損墊。所述磨損墊加劇了磁盤驅動器測試過程中的沖突情況，并使得磁頭浮動塊懸置高度的閾值能夠被設置在一更低的水平。這反過來提高了磁盤驅動器在正常使用過程中的可靠性。所述磨損墊可以是沉積在磁頭浮動塊后邊緣附近的一碳覆蓋層，或者可以是磁頭浮動塊的凹入區(qū)域內的一未刻蝕的鋁條。磨損墊在測試期間基本上被磨損掉，因此它不會影響磁盤驅動器隨后的工作。
文檔編號G11B21/21GK1737908SQ20051007372
公開日2006年2月22日 申請日期2005年5月20日 優(yōu)先權日2004年5月25日
發(fā)明者朱立彥 申請人:Sae磁學(H.K.)股份有限公司